JPS5953836B2 - 高度好熱菌由来の新規プラスミド - Google Patents
高度好熱菌由来の新規プラスミドInfo
- Publication number
- JPS5953836B2 JPS5953836B2 JP57189523A JP18952382A JPS5953836B2 JP S5953836 B2 JPS5953836 B2 JP S5953836B2 JP 57189523 A JP57189523 A JP 57189523A JP 18952382 A JP18952382 A JP 18952382A JP S5953836 B2 JPS5953836 B2 JP S5953836B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasmid
- pnhklol
- dna
- bacteria
- thermus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12N—MICROORGANISMS OR ENZYMES; COMPOSITIONS THEREOF; PROPAGATING, PRESERVING, OR MAINTAINING MICROORGANISMS; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING; CULTURE MEDIA
- C12N15/00—Mutation or genetic engineering; DNA or RNA concerning genetic engineering, vectors, e.g. plasmids, or their isolation, preparation or purification; Use of hosts therefor
- C12N15/09—Recombinant DNA-technology
- C12N15/63—Introduction of foreign genetic material using vectors; Vectors; Use of hosts therefor; Regulation of expression
- C12N15/74—Vectors or expression systems specially adapted for prokaryotic hosts other than E. coli, e.g. Lactobacillus, Micromonospora
Landscapes
- Genetics & Genomics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Zoology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Plant Pathology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高度好熱菌を宿主とする組換えＤＮＡ実験のベ
クターとして有用な新規なプラスミドに関するものであ
り、より詳しくはその分子量が約１．０メガダルトンで
あり、図に示される制御酵素開裂地図により特徴づけら
れる新規なプラスミドに関するものである。
クターとして有用な新規なプラスミドに関するものであ
り、より詳しくはその分子量が約１．０メガダルトンで
あり、図に示される制御酵素開裂地図により特徴づけら
れる新規なプラスミドに関するものである。
従来、組換えＤＮＡ実験は主として大腸菌を宿主とする
系で広く研究がおこなわれインシュリン、インターフェ
ロン、ヒト成長ホルモン等が大腸菌で量産されるなど大
きな成果を挙げている。
系で広く研究がおこなわれインシュリン、インターフェ
ロン、ヒト成長ホルモン等が大腸菌で量産されるなど大
きな成果を挙げている。
大腸菌の宿主・ベクター系はほぼ完成されており、また
大腸菌以外にも酵母、枯草菌などで宿主・ベクター系が
開発され応用への道が検討されつつある。
大腸菌以外にも酵母、枯草菌などで宿主・ベクター系が
開発され応用への道が検討されつつある。
しかし、上記の菌はいずれも生育温度が３０℃〜３７℃
の中温菌である点に問題がある。
の中温菌である点に問題がある。
一方、好熱性細菌は、生育上限温度が５５℃〜７５℃に
ある中等度好熱菌と、生育上限温度が７５℃以上である
高度好熱菌とに大別されるが、いずれについても、その
有する酵素、生体成分が耐熱性、耐溶媒性に優れている
事が知られており、とりわけ好熱菌由来の耐熱性酵素及
び耐熱性生体機能のバイオリアクター等の工業プロセス
への応用という点から注目を集めている。
ある中等度好熱菌と、生育上限温度が７５℃以上である
高度好熱菌とに大別されるが、いずれについても、その
有する酵素、生体成分が耐熱性、耐溶媒性に優れている
事が知られており、とりわけ好熱菌由来の耐熱性酵素及
び耐熱性生体機能のバイオリアクター等の工業プロセス
への応用という点から注目を集めている。
従って、好熱性細菌の育種が重要と考えられるが、その
為の一つの、しかも有力な手段と考えられる好熱性細菌
の宿主・ベクター系の開発研究、とりわけ高度好熱菌の
宿主・ベクター系の開発研究は、これまで全く行なわれ
ていない。
為の一つの、しかも有力な手段と考えられる好熱性細菌
の宿主・ベクター系の開発研究、とりわけ高度好熱菌の
宿主・ベクター系の開発研究は、これまで全く行なわれ
ていない。
しかも、ベクターの開発研究の基礎となるべきプラスミ
ドＤＮＡの検索という点についても、高度好熱菌を材料
とした研究は以下の２報しか知られていない。
ドＤＮＡの検索という点についても、高度好熱菌を材料
とした研究は以下の２報しか知られていない。
（１）高度好熱菌よりの染色体外ＤＮＡの分離ヒシヌマ
、Ｆｏ、タナ力、Ｔ、アンド サカグチ、Ｋ、Ｊ、Ｇｅ
ｎ、Ｍｉｃｒｏｂ、 、 １０４ 、１９３−１９９（
１９７８） （２）サーマス・サーモフィルスから単離されたプラス
ミド（ｐＴＴｌ）の物理的性状 エベルハート、Ｍ、Ｄ、、バスクエズ、Ｃ０、バレンズ
エラ、Ｐ６、ビキュナ、Ｒ，アンド ユデレビツク、Ａ
、 Ｐｌａｓｍｉｄ、 ６． １−６ （１９８１）
上記２報に記載されているプラスミドは、いずれもその
性質が不明ないわゆるクリプテイック・プラスミドであ
り、またそれらの分子量も６メガダルトン程度とやや大
きい。
、Ｆｏ、タナ力、Ｔ、アンド サカグチ、Ｋ、Ｊ、Ｇｅ
ｎ、Ｍｉｃｒｏｂ、 、 １０４ 、１９３−１９９（
１９７８） （２）サーマス・サーモフィルスから単離されたプラス
ミド（ｐＴＴｌ）の物理的性状 エベルハート、Ｍ、Ｄ、、バスクエズ、Ｃ０、バレンズ
エラ、Ｐ６、ビキュナ、Ｒ，アンド ユデレビツク、Ａ
、 Ｐｌａｓｍｉｄ、 ６． １−６ （１９８１）
上記２報に記載されているプラスミドは、いずれもその
性質が不明ないわゆるクリプテイック・プラスミドであ
り、またそれらの分子量も６メガダルトン程度とやや大
きい。
従って、このままの形でベクターとして利用する、或い
はこれらを素材としてベクター開発を行う事には、あま
りに困難が大きいものと考えられる。
はこれらを素材としてベクター開発を行う事には、あま
りに困難が大きいものと考えられる。
そこで、本発明者らは、高度好熱菌より、選択マーカー
（そのプラスミドが宿主内に存在していることを示すマ
ーカー）を有し、しかも分子量の小さいプラスミドの検
索を行った。
（そのプラスミドが宿主内に存在していることを示すマ
ーカー）を有し、しかも分子量の小さいプラスミドの検
索を行った。
その結果カナマイシン耐性を示したサーマス・フラバス
から分子量約１．０メガダルトンのプラスミドを単離す
る事に成功した。
から分子量約１．０メガダルトンのプラスミドを単離す
る事に成功した。
このプラスミドは、前記の制限酵素開裂地図に示される
如く、分子量が極めて小さくしかも数種の制限酵素によ
る切断点を特異的に有している（以下、本プラスミドを
ｐＮＨＫｌｏｌと略称する）。
如く、分子量が極めて小さくしかも数種の制限酵素によ
る切断点を特異的に有している（以下、本プラスミドを
ｐＮＨＫｌｏｌと略称する）。
なお、図に示されている制限酵素の略称は次のとおりで
ある。
ある。
ＢａｍＨＩはバチルス・アミロリクエファシェンス由来
の酵素、ＫｐｎＩはクレブシェラ・ニューモニアエ由来
の酵素、ＢｓｔＮＩはバチルス・ステアロサーモフィル
由来の酵素を示す。
の酵素、ＫｐｎＩはクレブシェラ・ニューモニアエ由来
の酵素、ＢｓｔＮＩはバチルス・ステアロサーモフィル
由来の酵素を示す。
以下、これまでに報告されているサーマス属細菌、即ち
高度好熱菌由来のプラスミドとの相違点を表に示す。
高度好熱菌由来のプラスミドとの相違点を表に示す。
表から明らかなように、ｐＮＨＫｌｏｌは既知のプラス
ミドに較べ、分子量、制限酵素による切断パターンが明
らかに異なっており、新規なプラスミドであることが認
められる。
ミドに較べ、分子量、制限酵素による切断パターンが明
らかに異なっており、新規なプラスミドであることが認
められる。
プラスミドＤＮＡがベクターたり得る為には、そのプラ
スミドが宿主内での自律的増殖能、及び選択マーカー（
そのプラスミドが宿主内に存在していることを示すマー
カー）を有していることが必須である。
スミドが宿主内での自律的増殖能、及び選択マーカー（
そのプラスミドが宿主内に存在していることを示すマー
カー）を有していることが必須である。
しかし、高度好熱菌の様に、その生育環境が栄養源に乏
しくしかも抗生物質が存在しない様な温泉である菌につ
いて考えた場合、薬剤耐性遺伝子等を有するプラスミド
を得る事は容易ではない。
しくしかも抗生物質が存在しない様な温泉である菌につ
いて考えた場合、薬剤耐性遺伝子等を有するプラスミド
を得る事は容易ではない。
従って、性質が不明のいわゆるクリプテイック・プラス
ミドに宿主染色体由来のマー力−を賦与するという方式
でベクター開発を行わなければならないであろう。
ミドに宿主染色体由来のマー力−を賦与するという方式
でベクター開発を行わなければならないであろう。
その際にｐＮＨＫｌｏｌを利用すれば、極めて便利であ
るものと考えられる。
るものと考えられる。
何故ならば、第１にｐＮＨＫｌｏｌは高度好熱菌で複製
が可能なプラスミドであるからであり、第２には、他の
高度好熱菌由来の既知のクリプテイック・プラスミドに
比べてはるかに小さい分子量しか有しないという点から
、本プラスミドの必須領域、例えば複製開始点領域、複
製に関与する遺伝子等の解析が、他の分子量のより大き
なプラスミドよりも、はるかに容易に行えるという利点
を有しているからである。
が可能なプラスミドであるからであり、第２には、他の
高度好熱菌由来の既知のクリプテイック・プラスミドに
比べてはるかに小さい分子量しか有しないという点から
、本プラスミドの必須領域、例えば複製開始点領域、複
製に関与する遺伝子等の解析が、他の分子量のより大き
なプラスミドよりも、はるかに容易に行えるという利点
を有しているからである。
更にｐＮＨＫｌｏｌは図からも明らかなように、Ｋｐｎ
Ｉ、 ＢａｍＨＩなどの制限酵素による開裂部位を特定
のしかも限られた位置に有している。
Ｉ、 ＢａｍＨＩなどの制限酵素による開裂部位を特定
のしかも限られた位置に有している。
このことはｐＮＨＫｌｏｌをベクターとして利用する際
に、挿入すべき異種遺伝子の導入部位を有意に保持でき
るという点で有利である。
に、挿入すべき異種遺伝子の導入部位を有意に保持でき
るという点で有利である。
さて、本プラスミドをベクターとして異種の耐熱性を有
する遺伝子を好熱菌に導入すれば、醗酵工業に於ける冷
却コストの節源が達成されよう。
する遺伝子を好熱菌に導入すれば、醗酵工業に於ける冷
却コストの節源が達成されよう。
また、耐熱性、耐溶媒性等の性質に優れた好熱菌の酵素
の遺伝子を、本プラスミドをベクターとして好熱菌宿主
にクローン化し、その量産を図る事によって、バイオリ
アクター等への応用が可能であり、工業プロセスへの応
用が期待される。
の遺伝子を、本プラスミドをベクターとして好熱菌宿主
にクローン化し、その量産を図る事によって、バイオリ
アクター等への応用が可能であり、工業プロセスへの応
用が期待される。
ｐＮＨＫｌｏｌの入手は、本発明者らが温泉水中から新
たに分離した高度好熱菌、サーマス・フラバスＴＫＩＯ
株をサーマス培地（ディフコ・イーストエキストラクト
０．４％、ポリペプトン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣ
ｌ０．２％）により対数増殖後期迄増殖させて得た菌体
を、リゾチーム、ＳＤＳ処理によって溶菌させる事によ
って達せられる。
たに分離した高度好熱菌、サーマス・フラバスＴＫＩＯ
株をサーマス培地（ディフコ・イーストエキストラクト
０．４％、ポリペプトン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣ
ｌ０．２％）により対数増殖後期迄増殖させて得た菌体
を、リゾチーム、ＳＤＳ処理によって溶菌させる事によ
って達せられる。
また、サーマス・フラバスＴＫ１０株は好気性のダラム
染色陰性の桿菌で、黄色々素を産生じＤＮＡのＧＣ含量
が約７０％、生育至適温度が７０℃の菌株であるがｐＮ
ＨＫｌｏｌを保有する点では従来には認められない新規
な微生物である。
染色陰性の桿菌で、黄色々素を産生じＤＮＡのＧＣ含量
が約７０％、生育至適温度が７０℃の菌株であるがｐＮ
ＨＫｌｏｌを保有する点では従来には認められない新規
な微生物である。
本菌株はカナマイシン耐性株として温泉水中より分離さ
れたが、エリスロマイシン、ストレプトマイシンにも耐
性を示し、アンピシリン、クロラムフェニコール、ネオ
マイシン、テトラサイクリンには感受性であった。
れたが、エリスロマイシン、ストレプトマイシンにも耐
性を示し、アンピシリン、クロラムフェニコール、ネオ
マイシン、テトラサイクリンには感受性であった。
なお、本菌株は微工研菌寄第６７５０号として寄託され
ている。
ている。
以下、実施例により本発明をより具体的に詳述する。
実施例 １
（菌株のスクリーニング）
静岡系の熱用温泉の温泉末的１ｍｌをサーマス培地（デ
ィフコ・イーストエキストラクト０．４％、ポリペプト
ン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣｌ０．２％）１００ｍ
ｌに加え７０℃で約１８時間振盪培養後、カナマイシン
（１０μｇ ／ｍｌ）を含むサーマス寒天平板上で生育
したコロニーの一つからサーマス・フラバスＴＫＩＯ株
（微工研菌寄第６７５０号）が得られた。
ィフコ・イーストエキストラクト０．４％、ポリペプト
ン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣｌ０．２％）１００ｍ
ｌに加え７０℃で約１８時間振盪培養後、カナマイシン
（１０μｇ ／ｍｌ）を含むサーマス寒天平板上で生育
したコロニーの一つからサーマス・フラバスＴＫＩＯ株
（微工研菌寄第６７５０号）が得られた。
実施例 ２
プラスミドｐＮＨＫ１０１のサーマス・フラバスＴＫ１
０株からの分離 サーマス・フラバスＴＫＩＱ株（微工研菌寄第６７５０
号）の生物学的に純粋な培養基から１００ｍ１のサーマ
ス培地（ディフコ・イーストエキストラクト０．４％、
ポリペプトン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣ１０，２％
、ＬＨ７，５）に接種し７０℃で１６〜１８時間振盪培
養する。
０株からの分離 サーマス・フラバスＴＫＩＱ株（微工研菌寄第６７５０
号）の生物学的に純粋な培養基から１００ｍ１のサーマ
ス培地（ディフコ・イーストエキストラクト０．４％、
ポリペプトン（大玉栄養）０．８％、ＮａＣ１０，２％
、ＬＨ７，５）に接種し７０℃で１６〜１８時間振盪培
養する。
この培養液を１１のカナマイシン１０μｇ ／ｍｌを含
有するサーマス培地に接種し、７０℃で５時間培養する
。
有するサーマス培地に接種し、７０℃で５時間培養する
。
菌体を遠心によって集め、ＴＥＳ （２０ｍＭＴｒｉ
ｓ−ＨＣＩ 、 ５ｍＭＥＤＴＡ 。
ｓ−ＨＣＩ 、 ５ｍＭＥＤＴＡ 。
１００ｍＭＮａＣＩＩＨ７，５）で染浄後菌体温重量４
ｇ当り、１０ｍ１の２５％シヨ糖含有ＴＥＳに懸濁する
。
ｇ当り、１０ｍ１の２５％シヨ糖含有ＴＥＳに懸濁する
。
リゾチーム（１０ｍｇ／ｍｌ）を２ｍｌ、０．２５Ｍ−
ＥＤＴＡ（ＩＨ８，０）４ｍｌを加え、０℃で１０分間
静置、続いて３７℃に１０分間保温する。
ＥＤＴＡ（ＩＨ８，０）４ｍｌを加え、０℃で１０分間
静置、続いて３７℃に１０分間保温する。
この細胞混合液に２ｍｌの１０％ＳＤＳ、 ５ ｍｌ
の５Ｍ−ＮａＣ１を加え４℃に１５〜１８時間静置する
。
の５Ｍ−ＮａＣ１を加え４℃に１５〜１８時間静置する
。
これを２８００Ｏｒｐｍ、 １時間の超遠心によって
遠心し、上清を得る。
遠心し、上清を得る。
この上清にポリエチレングリコール６０００を１０％（
Ｗ／Ｖ）加え、２〜３時間０℃に静置、２２０Ｏｒｐｍ
、 ２分の遠心で沈澱を得る。
Ｗ／Ｖ）加え、２〜３時間０℃に静置、２２０Ｏｒｐｍ
、 ２分の遠心で沈澱を得る。
この沈澱を１５ｍ１のＴＢＳに溶解し、ＣｓＣ１及びエ
チジウムブロマイドを加えて密度を１．６１〜１．６２
に調整する。
チジウムブロマイドを加えて密度を１．６１〜１．６２
に調整する。
この試料を３８００Ｏｒｐｍで３０〜４０時間、平衝密
度勾配遠心する。
度勾配遠心する。
生じたプラスミドＤＮＡのバンドを集め、イソアミルア
ルコールでエチジウムブロマイドを除去した後、ＴＥＮ
（２０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣＩ 、 １ｍＭＥＤＴ
Ａ 。
ルコールでエチジウムブロマイドを除去した後、ＴＥＮ
（２０ｍＭＴｒｉｓ−ＨＣＩ 、 １ｍＭＥＤＴ
Ａ 。
２０ｍＭＮａＣ１）に透析する事によってプラスミド溶
液が得られる。
液が得られる。
このプラスミド溶液はｐＮＨＫｌｏｌと分子量約９メガ
ダルトンのｐＮＨＫ１０２との混合物であるが、このプ
ラスミド溶液を１．０％の低融点アガロース（ＢＲＬ社
製）による電気泳動に供し、生ずるｐＮＨＫｌｏｌに相
当するバンドを切り出してＤＮＡを回収する事によって
純粋なｐＮＨＫｌｏｌが得られる。
ダルトンのｐＮＨＫ１０２との混合物であるが、このプ
ラスミド溶液を１．０％の低融点アガロース（ＢＲＬ社
製）による電気泳動に供し、生ずるｐＮＨＫｌｏｌに相
当するバンドを切り出してＤＮＡを回収する事によって
純粋なｐＮＨＫｌｏｌが得られる。
低融点アガロースゲルからのＤＮＡの回収は以下の手順
によった。
によった。
切り出したゲルスライスを６５℃に保温して融解、これ
に２培量の ０、５ｍＭＥＤＴＡを含む５ＱｍＭＴｒｉｓ −ＨＣＩ
緩衝液（Ｊ８． Ｏ）を加え、３７℃に移し保温する。
に２培量の ０、５ｍＭＥＤＴＡを含む５ＱｍＭＴｒｉｓ −ＨＣＩ
緩衝液（Ｊ８． Ｏ）を加え、３７℃に移し保温する。
これに等量（７）０．１ＭＴｒｉｓ−ＨＣＩ緩衝液（ｐ
Ｈ８，０）で飽和させたフェノールを加え混合、遠心（
３０００〜５０００ｒｌ）ｍ、５分）後、上層の水層を
分取する。
Ｈ８，０）で飽和させたフェノールを加え混合、遠心（
３０００〜５０００ｒｌ）ｍ、５分）後、上層の水層を
分取する。
フェノール抽出をもう一度行いエーテルによってフェノ
ールを水層より除去した後、３Ｍ酢酸アンモニウム溶液
を１７１０容加え、３容のエクールによりエタノール沈
澱を行う。
ールを水層より除去した後、３Ｍ酢酸アンモニウム溶液
を１７１０容加え、３容のエクールによりエタノール沈
澱を行う。
得られた沈澱をＴＥＮに溶解してプラスミド溶液とした
。
。
ｐＮＨＫｌｏｌの特性決定の手順
ｐＮＨＫｌｏｌの分子量は、その超らせん構造（ｓｕｐ
ｅｒｃｏｉｌｅｄ ５ｔｒｕｃｔｕｒｅ）のＤＮＡ及び
制限酵素によって切断された断片のアガロースゲル電気
泳動及びポリアクリルアミド・ゲル電気泳動より得られ
た。
ｅｒｃｏｉｌｅｄ ５ｔｒｕｃｔｕｒｅ）のＤＮＡ及び
制限酵素によって切断された断片のアガロースゲル電気
泳動及びポリアクリルアミド・ゲル電気泳動より得られ
た。
この際の分子量マーカーはｐＢＲ３２２ＤＮＡ（，２，
６７ｍｄ ）、Ｃｏ１ＥＩＤＮＡ （４，２ｍｄ）及び
ラムダＤＮＡ （７） Ｈｉｎｄ ＩＩＩ分解断片（１
４，６，５，８４，４，０５゜２．６７、１，３０．１
，１７．０．３４ｍｄ）、ラムダＤＮＡのＥｃｏＲＩ分
解断片（１３，７，４，７４，３，７３，３，４８゜３
．０２．２．１３ｍｄ）、φＸ １７４ＤＮＡ（７）Ｈ
ａｅＩＩＩ分解断片（０，８３６，０，６６６、０，５
３９，０，３７３，０，１９２，０，１７４゜０．１６
７、０．１４５．０，１２０．０，０７３．０．０４４
ｍｄ）を用いた。
６７ｍｄ ）、Ｃｏ１ＥＩＤＮＡ （４，２ｍｄ）及び
ラムダＤＮＡ （７） Ｈｉｎｄ ＩＩＩ分解断片（１
４，６，５，８４，４，０５゜２．６７、１，３０．１
，１７．０．３４ｍｄ）、ラムダＤＮＡのＥｃｏＲＩ分
解断片（１３，７，４，７４，３，７３，３，４８゜３
．０２．２．１３ｍｄ）、φＸ １７４ＤＮＡ（７）Ｈ
ａｅＩＩＩ分解断片（０，８３６，０，６６６、０，５
３９，０，３７３，０，１９２，０，１７４゜０．１６
７、０．１４５．０，１２０．０，０７３．０．０４４
ｍｄ）を用いた。
制限酵素による切断は、プラスミドＤＮＡ溶液からエタ
ノール沈澱によってＤＮＡを沈澱させ、適当な緩衝液に
溶解して行なった。
ノール沈澱によってＤＮＡを沈澱させ、適当な緩衝液に
溶解して行なった。
制限酵素は宝酒造及び、ベーリンガー・マンハイム社よ
りの市販品を用いた。
りの市販品を用いた。
アガロースゲル電気泳動はシーケム社のアガロースを０
．５％又は０．７％の濃度で用い、水平ゲル電気泳動槽
によってゲル長さ１ｃｍ当り１．５ｖの定電圧で１５〜
１７時間行なった。
．５％又は０．７％の濃度で用い、水平ゲル電気泳動槽
によってゲル長さ１ｃｍ当り１．５ｖの定電圧で１５〜
１７時間行なった。
ポリアクリルアミド・ゲル電気泳動は、生化学工業社製
のポリアクリルアミド・ビスアクリルアミドを用い、５
％濃度３０：１の架橋度のゲルによって垂直型スラブゲ
ル電気泳動槽により、ゲル長さ１ｃｍあたり１０ｖの定
電圧によって２〜３時間行った。
のポリアクリルアミド・ビスアクリルアミドを用い、５
％濃度３０：１の架橋度のゲルによって垂直型スラブゲ
ル電気泳動槽により、ゲル長さ１ｃｍあたり１０ｖの定
電圧によって２〜３時間行った。
高度好熱菌のプラスミドとしては、前記の表に示したと
おりであるがｐＮＨＫｌｏｌと他のものでは前述のよう
に明らかに異なっており、ｐＮＨＫｌｏｌは従来認めら
れない新規なプラスミドである。
おりであるがｐＮＨＫｌｏｌと他のものでは前述のよう
に明らかに異なっており、ｐＮＨＫｌｏｌは従来認めら
れない新規なプラスミドである。
図面はｐＮＨＫｌｏｌの制限酵素開裂地図を示し、図中
のＢａｍＨＩはバチルス・アミロリクエファシェンス由
来の酵素、Ｋｐｎ Ｉはクレブシェラ・ニューモニアエ
由来の酵素、ＢｓｔＮ Ｉはバチルス・ステアロサーモ
フィルス由来の酵素をそれぞれ示している。
のＢａｍＨＩはバチルス・アミロリクエファシェンス由
来の酵素、Ｋｐｎ Ｉはクレブシェラ・ニューモニアエ
由来の酵素、ＢｓｔＮ Ｉはバチルス・ステアロサーモ
フィルス由来の酵素をそれぞれ示している。
Claims (1)
- １ 分子量が約１．０メガダルトンであり、図に示され
る制限酵素地図で特徴づけられるサーマス属菌由来のプ
ラスミド
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57189523A JPS5953836B2 (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 高度好熱菌由来の新規プラスミド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57189523A JPS5953836B2 (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 高度好熱菌由来の新規プラスミド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5978689A JPS5978689A (ja) | 1984-05-07 |
| JPS5953836B2 true JPS5953836B2 (ja) | 1984-12-27 |
Family
ID=16242708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57189523A Expired JPS5953836B2 (ja) | 1982-10-28 | 1982-10-28 | 高度好熱菌由来の新規プラスミド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953836B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11848249B2 (en) | 2019-09-26 | 2023-12-19 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method for thermal conductive layer, manufacturing method for laminate, and manufacturing method for semiconductor device |
-
1982
- 1982-10-28 JP JP57189523A patent/JPS5953836B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11848249B2 (en) | 2019-09-26 | 2023-12-19 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method for thermal conductive layer, manufacturing method for laminate, and manufacturing method for semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5978689A (ja) | 1984-05-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Thierbach et al. | Transformation of spheroplasts and protoplasts of Corynebacterium glutamicum | |
| CA1150169A (en) | Broad host range small plasmid rings as cloning vehicles | |
| Löfdahl et al. | A vector for recombinant DNA in Staphylococcus aureus | |
| JPS5953831B2 (ja) | 新規プラスミドを保有する新規微生物 | |
| JPS5953836B2 (ja) | 高度好熱菌由来の新規プラスミド | |
| JPS5953837B2 (ja) | 高度好熱菌に由来する新規プラスミド | |
| JPS5953830B2 (ja) | 新規なプラスミドを保有する新規な微生物 | |
| JPS5978688A (ja) | 高度好熱菌由来の新規なプラスミド | |
| JPS5953832B2 (ja) | 新規なプラスミドを保有する新規微生物 | |
| JPS5978691A (ja) | 高度好熱菌に由来する新規なプラスミド | |
| MacNeil | A flexible boiling procedure for isolating plasmid DNA from gram-positive microorganisms | |
| Lathigra et al. | Organization of the adenyl cyclase (cya) locus of Rhizobium meliloti | |
| JPS5923793B2 (ja) | テトラサイクリン耐性を備えた新規プラスミド及びこれを保有する新規微生物 | |
| JPS5945354B2 (ja) | ネオマイシン、カナマイシン耐性プラスミドを保有する新規な微生物 | |
| JPS5928392B2 (ja) | テトラサイクリン耐性プラスミドを保有する新規な微生物 | |
| JPS5923792B2 (ja) | テトラサイクリン耐性を備えた新規なプラスミド及びこれを保有する新規な微生物 | |
| JPS5945358B2 (ja) | ネオマイシン、カナマイシン耐性を備えた新規なプラスミド | |
| JPS5928396B2 (ja) | テトラサイクリン耐性を備えた新規なプラスミド | |
| KOJIMA et al. | Mutual relation of three pock-forming plasmids resident in Streptomyces noursei | |
| CN117866869A (zh) | 一种针对芽胞杆菌的遗传转化方法 | |
| JPS60186286A (ja) | 嫌気性好熱菌に由来する新規プラスミド | |
| Małek | Mutants of Rhizobium meliloti defective in nodulation | |
| JPS60186277A (ja) | 新規なプラスミドを保有する新規な微生物 | |
| JPH0634725B2 (ja) | 好熱性細菌の染色体に組み込まれる特微を有する変異プラスミド | |
| JPH0220237B2 (ja) |