JPS5948951A - 半導体保護装置 - Google Patents

半導体保護装置

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JPS5948951A
JPS5948951A JP57159956A JP15995682A JPS5948951A JP S5948951 A JPS5948951 A JP S5948951A JP 57159956 A JP57159956 A JP 57159956A JP 15995682 A JP15995682 A JP 15995682A JP S5948951 A JPS5948951 A JP S5948951A
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Katsuji Fujita
藤田 勝治
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
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    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は単棚体装置に係り、特に外部ピンと内部素子と
の間に形成され外来サージ入力から内部素子を保護する
ための半う体保護装置に関する。
〔発明の技術的背景とその間融点〕
この種の半導体保護装置としては、M. O S 一F
ETの入力保護ダイオードなどが知られているが、バイ
ポーラトランジスタが形成される半娘体装置においてバ
イポーラトランジスタを川いた保護装置が必要である。
〔発明の目的〕
本発明は上記のり情に鋭みてなされたもので、バイポー
ラトランジスタを用いて正体性お・よび負極性のいずれ
の外来サージ入力に苅し′Cも内部素子を保護し得る半
導体保護装置なII、!供するものである。
〔発明の概要〕
すなわち、本発明の半導体保護装置は、−製電形の半櫨
体基板上に形成された逆櫨電形の第1の領埴土に前記裁
板と同−見重形の第2の領域、を形成し、この第2の領
域内で互いに独立して菌濃度で逆貌電形の第3の領域お
よび第4の領域を設け、この第4の領域と前記第2の領
域とを2個所でそrしぞれコンタクトによりa続し、こ
れらのコンタクトのうち前記第3の領域までの抵抗がよ
シ大きい方のコンタクトと上記第3の領域とを接続して
外部ピンに取シ出し、前記残りのコンタクトを半導体装
置の内部素子に接続するようにしたものである。
これにより、負韓性の外来サージが入力して内部素子側
にある程度以上のπi流が流れると、(基板、第1のf
IjI域、第2の領域)、iニジなるトランジスタおよ
び(第1の領域、第2の領域、第3の領域)よシ斤るト
ランジスタによりサージ電流が吸収されるようにカシ、
正極慴の外来せ一ジ入力に対1〜ては(第2の領域、第
1の領域、基板)より段るトランジスタによシサージ1
N、流が吸収されると共に内部素子41411へのサー
ジ入力は前記第4の領域の抵抗によシ制限されるので、
いずれの極性の外来サージ入力から内部素子が保護され
る。
〔発明の実がq例〕
以下、図面を8照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
m I Fal(al 、 thlにおいて、1にたと
えばP形の半導体基板、2は上冗P形ハ椴1上に形成さ
れたN影領域、3は上記N影領域2上に形成されたP影
領域、4卦よび5は上記P形領婚3上で互いに独立して
形成された第1のN4形側誠および紀2のN4形領檀、
6は絶縁)I奥、71ti 6it記第1ON4形領緑
4に対するコンタクト、8啄前記f4.2ON+形領域
5のうち上記Pf!1のN4形領ゆに4に近い位置で前
記P影領域、3に接合したt3合部に対するコンタクト
、9は同じ4.前記第2のN+形領領域5うち前記第1
ON1形領J俵4に遠い位置で前記P形領域3に接合し
た接・8′部に苅するコンタクトである。すカわち、第
1のN+形領領域4前記P形6自熾3内で独立し、第2
のN4形領慧5は前記P影領域3と2個所で接続されて
おり、その2個のコンタクト8゜9から前記第1のN4
形領域4の直下までの抵抗の大きさが異なっている。そ
して、上紀糖1のN+形領(8jl/4−ilでの抵坑
外が大きい方のコンタクト9とh’J 配kZ 1のN
+形碩域4上のコンタクト7とはたとえばアルミニウム
配ffH10にょυ材糾されて半導体装置の外部ピンに
取り出されている。また、前記第1ON4形領域4−1
:での11\:坑外が小さい方のコンタクト8は、アル
ミニウム配線11により半導体装置の内部素子に接続さ
え1ている。なお、12は分離領域である。
したがって、上記半導体装1iqの回路接続は第2図に
示すようになり、Qlは(N形飴城2、P形llI工l
J成3、第1のN+フヒ憧iJ成4)が(コレクタ、ベ
ーン、エミッタ)に相当するNPN形トランジスタ、Q
、は(P影領域93、N形17i:j第2゜P形基板1
)が(エミッタ、ペース、コレクタ)に相当するPNP
形トランジスタsQsは(P形基板1、N形@城2、P
影付j城3)が(エミッタ、ベース、コレクタ)に七目
当するPNPN上形ンジスタである。ここで、P形基板
11d接地質位であり、N影領域2には低インピーダン
スのバイアス電源2oに接続される。また、R,、lよ
コンタクト8,9間の第2のN1形領域5の抵抗である
而して、上記格成の半導体保護装置イにおいて、外部ピ
ン仙)から負1色・4件のサージ軍、圧が加わった場合
(看よ、トランジスタQ2は非動作状態となシ、第3図
に示すようにトランジスタ。! 。
Q3および抵抗1(1,よりなる回路部分にょシ内スク
Q++q、が共にオン動作して内部素子側に入ろうとす
るサージ1に流を吸」1.Vする。な尤>、V” (Q
s) ij: )ランジスタQIのペース・エミッタ間
電圧である。
これに対して、外部ビン側から正極性のサージ電圧が加
わった場合には、トランジスタQ1およびQ、が非動作
状態となシ、第4図に示すようにサージ入力はトランジ
スタQ、を通って吸収され、内部素子側に入ろうとする
サージ電流は抵抗R6により制限されるので、内部素子
が保護される。
々お、本発明は上記実施例に限られるものではなく、基
板、各領域の導電形を上記実施例の逆にしてもよい。
〔発明の効果〕
上述したように本発明の半導体保護装置によれば、バイ
ポーラトランジスタおよび抵抗の組み合せ回路により外
来サージ入力が正極性、負極性のいずれであってもそれ
を吸収して内部素子を保護することができるので、内部
素子にバイポーラトランジスタを有する半導体装置に好
適である。
【図面の簡単な説明】
第1図ta+ 、 (b)は本発明に係る半導体保護装
置の一実施例を示す平面図および断面図、第2図は第1
図の装置の回路図、第3図および第4図はそれぞれ第2
図の回路に負極性、正極性の外来サージが入力したとき
の回路動作を説明するために示す回路図である。 1・・・P形基板、2・・・N影領域、3・・・P影領
域、4.5・・・N+形領領域7,8.9・・・コンタ
クト、10.11・・・配線。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第1図 (a) (b) P   □1 第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 +1)  ’−4−4単形半導板と、この基板上に形成
    され上記基板とは逆導電形の第1の領域と、この第1の
    領域上に形成され前記基板と同−蜘電形の第2の領域と
    、この第2の領域内で互いに独立して形成された高濃度
    で逆鍾宮形の第3の領域訃よび第4の領域と、上記第4
    の領域と第1.2の領域とを2個所で」”I′r、続す
    る第1コンタクトおよび第2コンタクトと、これらのコ
    ンタクトのうち前記第3の舶載までの抵抗がより大きい
    方のコンタクトと上記第3の領域とを接続し、さらに半
    導体装置の外部ピンに接続される配線と、前記2個のコ
    、ンタクトのうち前記側3の饋ta tその賎抗が小さ
    い方のコンタクトを半導体装rり1の1′1部素子に接
    続する配線とを具備することを仕1f徴とする半導体保
    護装置。 (2)前記基板はP形、第1の領域はN形、@2の領域
    はP形、第3の領域および第4の領域はそれぞれN”形
    であることを特徴とする特許 置。
JP57159956A 1982-09-14 1982-09-14 半導体保護装置 Granted JPS5948951A (ja)

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