JPS5933269A - イミダゾ−ル誘導体およびその製造法 - Google Patents
イミダゾ−ル誘導体およびその製造法Info
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- JPS5933269A JPS5933269A JP57143569A JP14356982A JPS5933269A JP S5933269 A JPS5933269 A JP S5933269A JP 57143569 A JP57143569 A JP 57143569A JP 14356982 A JP14356982 A JP 14356982A JP S5933269 A JPS5933269 A JP S5933269A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイミダゾール誘導体、特に下式(1)で示され
るN−シアノ−a−メチル−1’f’−(4−メチル−
5−イミダゾリルメチル)−f−メルカプトエチルグア
ニジンおよびその製造法に門する。
るN−シアノ−a−メチル−1’f’−(4−メチル−
5−イミダゾリルメチル)−f−メルカプトエチルグア
ニジンおよびその製造法に門する。
C)I 3
/
イミダゾール1ij529体は条理学的に極めて重要な
分野を占める化合物である。本発明に係る上記イミグゾ
ール誘導体は、分子内の矢印(”) riB分の結合の
分断と分子内転(iγ反応とを生起させることができ、
音調、はシメチジ7 (cimetidine)と称さ
れる強力な彎酸分、if/、、抑制作用をもっ抗泗亀剤
の合成に有用な化合物である。
分野を占める化合物である。本発明に係る上記イミグゾ
ール誘導体は、分子内の矢印(”) riB分の結合の
分断と分子内転(iγ反応とを生起させることができ、
音調、はシメチジ7 (cimetidine)と称さ
れる強力な彎酸分、if/、、抑制作用をもっ抗泗亀剤
の合成に有用な化合物である。
本発明によjば。
式〔W〕:
113
/
1
で示されるN−シアノ−d−メチル−1−(4−メチル
−5−イミダゾリルメチル)−5−メチル−イソチオウ
レアと 式(1) : N11□CH2CH25H(1)で示
されるシステアミンもしくはその塩酸塩とを反応させる
ことにより目的とする上dピ化合物(1)を得る。
−5−イミダゾリルメチル)−5−メチル−イソチオウ
レアと 式(1) : N11□CH2CH25H(1)で示
されるシステアミンもしくはその塩酸塩とを反応させる
ことにより目的とする上dピ化合物(1)を得る。
上記反応は、好ましくは、メタノール、エタノール、ジ
エチレングリコール、ジオキサンなどの有機極1生溶媒
中、水素(Bナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メチラート、カリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、カリウムエチラートなどのアルカリ金属塩基のイr
在下、不活11L零団気中で行なわれる。
エチレングリコール、ジオキサンなどの有機極1生溶媒
中、水素(Bナトリウム、水素化カリウム、ナトリウム
メチラート、カリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、カリウムエチラートなどのアルカリ金属塩基のイr
在下、不活11L零団気中で行なわれる。
反応温度は室温が好ましい。反応時間は1〜8時間であ
る。
る。
原料化合物の仕込臓はすべて化学1斤論的に1であるの
が好ましい。
が好ましい。
なお、本発明に使用される原料化合物(1)は本発明者
靜によって見出された化合物であり、このものは、 式〔■〕: で示される4−メチル−5−メチルアミノメチル−イミ
ダゾールと、 式〔Y〕: l13S \ C−N−CN (V)/ c[i3s で示されるジメザルシアノジチオイミドカーボネートを
エタノールなどの有(イナ極性溶媒中、トリエチルアミ
ンなどの有機塩基の存在下に室温で反応させることによ
り得られる。
靜によって見出された化合物であり、このものは、 式〔■〕: で示される4−メチル−5−メチルアミノメチル−イミ
ダゾールと、 式〔Y〕: l13S \ C−N−CN (V)/ c[i3s で示されるジメザルシアノジチオイミドカーボネートを
エタノールなどの有(イナ極性溶媒中、トリエチルアミ
ンなどの有機塩基の存在下に室温で反応させることによ
り得られる。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例
窒素気流下1こおいて、N−シアノ−a−メチル−1’
/−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)−S−メ
チル−イソチオウレア(化合物(I)。このもの\合成
ζ1後記参考例参照。)285tly(9,8X10
モル)をエタノール10yt/に溶かし、一方50%
水素化ナトリウム(Nail) 108り(1,88X
10 モル)をエタノール10tglに溶かし、シス
テアミン・塩酸塩(化合物(I〕)を加えた溶液を調製
し、これを上記エタノール溶液に一度に力りえ、室晶で
1時間攪拌して、目的とするN−シアノ−に−メチル−
I−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)−クーメ
ルカプトエチルグアニジン(1)を得る。
/−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)−S−メ
チル−イソチオウレア(化合物(I)。このもの\合成
ζ1後記参考例参照。)285tly(9,8X10
モル)をエタノール10yt/に溶かし、一方50%
水素化ナトリウム(Nail) 108り(1,88X
10 モル)をエタノール10tglに溶かし、シス
テアミン・塩酸塩(化合物(I〕)を加えた溶液を調製
し、これを上記エタノール溶液に一度に力りえ、室晶で
1時間攪拌して、目的とするN−シアノ−に−メチル−
I−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)−クーメ
ルカプトエチルグアニジン(1)を得る。
目的化合1を+(1)はry、素、熱等に対して極めて
不安定であるので、次のように2.4−ジニトロベンゼ
ンg導体に変換したのち、その構造確teを行った。
不安定であるので、次のように2.4−ジニトロベンゼ
ンg導体に変換したのち、その構造確teを行った。
上Hα反応液を未精製のま\、これに少缶の水と水酸化
ナトリウムおよび2倍モルの2.4−ジニトロクロルベ
ンゼンを加え、[拌する。1時間後、溶媒を留去し、残
漬にIN塩酸を加え、沈殿物を汐去する。汐液に2N7
1<酸化す) I]ウム溶液を加えると、結晶が生成す
る。結晶をエタノールから再結晶させ、融点208℃の
結晶を得る。その赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴スペ
クトルは次のとおりである〇 ’ Rh ’ V′Br(cm ’ ) : 2170
@ 1590 *aX 1580.1480.1408.1840゜1800付
近に吸収を示す。
ナトリウムおよび2倍モルの2.4−ジニトロクロルベ
ンゼンを加え、[拌する。1時間後、溶媒を留去し、残
漬にIN塩酸を加え、沈殿物を汐去する。汐液に2N7
1<酸化す) I]ウム溶液を加えると、結晶が生成す
る。結晶をエタノールから再結晶させ、融点208℃の
結晶を得る。その赤外吸収スペクトル、核磁気共鳴スペ
クトルは次のとおりである〇 ’ Rh ’ V′Br(cm ’ ) : 2170
@ 1590 *aX 1580.1480.1408.1840゜1800付
近に吸収を示す。
NMR,δd、−I)MSO(1?リ :11.85■
)。
)。
8.88(Li)、 8.48(d)、 8.23
((’])、 8.05 、 7.94 。
((’])、 8.05 、 7.94 。
7.45(S)、 4.38. 8.65(Ill)
、 4.48 (d、 m) 。
、 4.48 (d、 m) 。
2.92(8)、 2.21(S)。
参考例(原料化合物〔1〕の合成)
化合物(■)十化合物(V)→化合物(II)4−メチ
ル−5−メチルアミノメチル−イミダ7”−ル(化合4
h (IY) ) 198781 (1,OX 10
’モル)、ジメチルシアノジチオイミドカーボネート(
化合物(V) ) 146M? (1,OX 10 −
Eル)オヨびトリxfルー1’ミy2021v(2,0
X10 ”モル)を、エタノール20 ntlに加え攪
拌する。−夜反応させたのち、溶媒を留去し、lN−H
Clと酢酸エチルで振とうする。水相を分取し、炭酸カ
リウムでアルカリ性に調節したのち、酢酸エチルで振と
つする。酢酸エチル層を分取し、乾燥したのち酢酸エチ
ルを留去すると、粘稠な油状物としてN−シアノ−d−
メチル−に−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)
−5−メチル−イソチオウレア(化合物LM))を得る
。収1169Ill・g(8196)。このものは、薄
層クロマトグラフィ4−1こむいて単一スポットであり
、 hV製することなく次の反応に供することができる
。赤外吸収スペクトルは下紀のように特徴的な波数を示
す。
ル−5−メチルアミノメチル−イミダ7”−ル(化合4
h (IY) ) 198781 (1,OX 10
’モル)、ジメチルシアノジチオイミドカーボネート(
化合物(V) ) 146M? (1,OX 10 −
Eル)オヨびトリxfルー1’ミy2021v(2,0
X10 ”モル)を、エタノール20 ntlに加え攪
拌する。−夜反応させたのち、溶媒を留去し、lN−H
Clと酢酸エチルで振とうする。水相を分取し、炭酸カ
リウムでアルカリ性に調節したのち、酢酸エチルで振と
つする。酢酸エチル層を分取し、乾燥したのち酢酸エチ
ルを留去すると、粘稠な油状物としてN−シアノ−d−
メチル−に−(4−メチル−5−イミダゾリルメチル)
−5−メチル−イソチオウレア(化合物LM))を得る
。収1169Ill・g(8196)。このものは、薄
層クロマトグラフィ4−1こむいて単一スポットであり
、 hV製することなく次の反応に供することができる
。赤外吸収スペクトルは下紀のように特徴的な波数を示
す。
neat −菫 。
IR,y (on )、2180.1fi50
゜aX 1440.1408付近に吸収を示す。
゜aX 1440.1408付近に吸収を示す。
代理人 弁理士 官 崎 新八部
Claims (2)
- (1) 式: で示されるイミダゾール誘導体
- (2) 式: で示される化合物と、 式: N1−12C1l□cii□511で示される
化合物とを反応させることを0徴とす式: で示されるイミダゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57143569A JPS5933269A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | イミダゾ−ル誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57143569A JPS5933269A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | イミダゾ−ル誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5933269A true JPS5933269A (ja) | 1984-02-23 |
JPH033668B2 JPH033668B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=15341797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57143569A Granted JPS5933269A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | イミダゾ−ル誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5933269A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0303570A2 (de) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Ciba-Geigy Ag | Substituierte Isothioharnstoffe |
JP2008034568A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Nippon Mektron Ltd | プリント配線板およびその製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006028956A (ja) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Alps Electric Co Ltd | パッシブキーレスエントリー装置 |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP57143569A patent/JPS5933269A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0303570A2 (de) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Ciba-Geigy Ag | Substituierte Isothioharnstoffe |
EP0303570A3 (de) * | 1987-08-12 | 1990-11-07 | Ciba-Geigy Ag | Substituierte Isothioharnstoffe |
JP2008034568A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Nippon Mektron Ltd | プリント配線板およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH033668B2 (ja) | 1991-01-21 |
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