JPS5923467B2 - 位置検出方法 - Google Patents

位置検出方法

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JPS5923467B2
JPS5923467B2 JP54045353A JP4535379A JPS5923467B2 JP S5923467 B2 JPS5923467 B2 JP S5923467B2 JP 54045353 A JP54045353 A JP 54045353A JP 4535379 A JP4535379 A JP 4535379A JP S5923467 B2 JPS5923467 B2 JP S5923467B2
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誠治 柏岡
好博 嶋
孝文 宮武
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパターンの位置検出装置に関し、特に撮像装置
を利用して対象物体表面に存在する特定のパターンの位
置を自動的かつ高速に検出するパターンの位置検出装置
に関する。
テレビカメラなどの撮像装置で取り込んだ映像の中から
、ある目標パターンを他のパターンや背景パターンから
区別して抽出し、2次元映像内でツの位置を求める方式
については、既に特公昭52−14112号、あるいは
特開昭52−91331号で提案されている。
これらの方式は、対象物体面の局部的なパターンを標準
パターンとして予じめ記憶しておき、この標準パターン
と撮像装置によつて人力される映像内の各位置で切り出
された部分パターンとを逐次比較し、最も良く合致した
部分パターンを代表する位置座標を抽出することにより
、対象物の特定位置を知るようにしたものである。これ
らの方式は、例えば半導体ペレツト上に形成された電極
と外部リードとの間のワイヤボンデイングを自動的に行
なうとき、半導体ペレツトの位置検出に応用されている
。しかしながら、上記従来方式では映像内で標準パター
ンと最もよく一致するパターンの位置を見つけることに
より目標パターンを識別するものであるから、対象物上
で他にはない固有の特徴を備えたパターンのみが目標パ
ターンとなり得た。
従つて、対象物上にこのような固有の特徴をもつパター
ンが存在しない場合、あるいは対象物の位置ずれや回転
ずれを把握する−hで都合の悪い位置にしか固有の特徴
をもつパターンが存在しない場合、上記従来方式では所
期の目的が達成できず、応用範囲が限定されていた。例
えば、繰り返しパターンをもつ大電力トランジスタの櫛
型電極の一部や、IC(集積回路)やLSI(大規模集
積回路)のチツプ周辺に形成された同一形状の複数個の
電極(パツド)の1つを目標パターンとして位置検出し
ようとすると、上記従来方式を適用するためには、電極
パターンの設計段階で検出目標としたい電極部分を特殊
な形状にしておく必要があつた。
本発明の目的は、検出したい目標パターンと同一の特徴
をもつパターンが対象物上に複数個存在する場合でも、
目標パターンを確実に識別できるようにしたパターンの
位置検出装置を提供することにある。
この目的のために、本発明ではパターンの探索領域にあ
る目標パターンと同一の特徴を備えた全てのパターンに
ついて、位置座標を検出し、これらの中から対象物上の
目標パターンと他のパターンとの間にある固有の位置関
係を満足する位置座標を抽出して目標パターンの位置を
認定する。
これを図によつて説明すると、例えば第1図aは同一形
状の複数個のパターン2a〜2iを含む対象物10を示
している。ここでパターン2bを検出目標とする場合、
予め目標パタ一2bと同一の特徴を備えた第1図bに示
すような標準パターンを用意しておき、対象物の映像か
ら上記標準パターンと同一の大きさをもつ部分パターン
3を画面走査に応じて順次切り出し、各部分パターンを
標準パターンと比較して一致したときの部分パターンの
位置座標を順次記憶する。部分パターンと標準パターン
はそれぞれ複数の絵素からなつており、部分パターンの
位置座標をどの絵素で代表させるかは任意であるが、仮
に部分パターンの右下隅の絵素(黒丸で図示し、以後代
表点と言う)で代表させるものとすると、上記処理によ
り代表点4a〜41の以置座標を求めることができる。
目標パターン2bは例えばパターン2e,2fとの間で
破線で示す三角形の各頂点となる位置関係にあり、この
位置関係は対象物上の他のパターンの間には存在しない
上記1組のパターンに固有のものである。
このような目標パターン2bに固有の位置関係は、上記
2e,2f以外のパターン、例えば2h,41との間で
形成される三角形、あるいは2h,2gとの間で形成さ
れる三角形に着目してもよい。本発明では、標準パター
ンとの一致点として記憶された複数の代表点の中から、
上述した目標パターンに固有の位置関係を満足する1組
の代表点を探し出し、この組における各代表点の相対的
位置関係から目標パターンを識別するものである。
ところで、撮像装置を用いたパターン認識においては、
実際に撮像されたパターンが種々の変動要因により、そ
れが真の目標パターンであつたとしても標準パターンと
完全には一致し難いため、部分パターンと標準パターン
との比較結束には或る程度の誤差を許容せざるを得ない
。この場合、標準パターンとの一致度が所定値以上であ
れば全て部分パターンについて位置座標を記憶するとい
う方式を採ると、最も高い一致度を示す部分パターン位
置を中心にその近傍から切り出される多数の部分パター
ンの位置座標がメモリに記憶されることになり、大きな
記憶容量のメモリが必要となる。また、この方式では一
群の座標データの中からその中心に位置する最も一致度
の高い位置座標を抽出し、対象物上の1つのパターンに
対して1つの位置座標が残るようデータを整理する必要
がある。このような不都合を解消するため、本発明では
局部パターンと標準パターンとの一致度が当該局部パタ
ーンの近傍で極大値となつた場合にのみ、局部パターン
の位置座標が抽出されるようにしたことを特徴とする。
局部パターンと標準パターンとの一致度極大点での座標
を抽出するためには、例えば、パターンの探索領域を複
数の区画(Y方向にn1個、X方向にN2個)に分割し
、各区画毎に標準パターンとの一致度が最大となる部分
パターンの位置座標を求め、一致度が所定値以上のもの
を抽出するようにすればよい。
第2図は、第1図に示した対象物10の撮像画面を5X
6個の区画に分割した例を示している。
各区画の大きさ(縦d1、横D2)は、探索領域に存在
が予定される目標パターンと同一の特徴をもつパターン
の大きさと位置関係によつて決まる。例えば、図に示し
たように、対象物上で縦方向に最も接近したパターンの
各代表点4c,4fの間隔をW1、横方向に最も接近し
たパターンの各代表点4f,4gの間隔をW2とし、撮
像視野に供給される対象物の回転ずれの最大許容角度を
θとすれば、d1〈WlCOSθ D2くW2COSθ となるように区画の寸法Dl,d2を設定することによ
り、対象物に位置ずれ、回転ずれがあつても検出すべき
全てのパターンの代表点をどれかの区画に1つずつ収め
ることができる。
従つて、順次切り出される部分パターンのうち代表点が
同じ区画に属するものの中から標準パターンとの一致度
が最大となるものを抽出するようにすれば、パターンの
位置検出もれは生じない。尚、第2図では第1図の対象
物10との対比を明らかにするため、部分パターン3が
撮像画面に対して傾斜した状態で図示されているが、撮
像画面からの部分パターンの実際の切り出し位置は3′
のようにX−Y軸と一致する。以上は対象物の全体を1
つの視野内に撮像し、同一視野内で検出された位置座標
の中から目標パターンに固有の位置関係にある1組の位
置座標を抽出した例であるが、本発明は以下に述べるよ
うに、対象物の一部分を拡大して撮像し、別々の視野で
検出した位置座標間で目標パターンに固有の位置関係に
ある1組の位置座標を求める場合にも適用できる。
第3図はその1例として回路素子形成領域11の両側に
パツドA,〜AO,Bl〜BOが規則的に形成された半
導体ペレツト10を示す。
上記半導体ペレツトにおいて、例えば、最も遠い距離t
にある2つのパツドA1とB1とを標準パターンとし、
それぞれのパツドをほぼ中央部に含む位置にパターン探
索領域12A,12Bを設定する。最初に探索領域、1
2Aの像を拡大して撮像し、次いで撮像視野を所定距離
移動して探索領域12Bの像を撮像するものとすると、
例えば、ペレツ口0が第3図の位置から右方向に1パツ
ド分だけ位置ずれした場合、探索領域12A,12Bに
は第4図A,bに示すようにパターンが撮し出される。
これとは逆に、ペレツト10が左方向に1パツド分だけ
位置ずれすると、各探索領域内のパターンは第5図A,
bのようになる。これら第4図、第5図を参照すると、
各探索領域には同一の特徴をもつパターンが対象物の位
置ずれに応じてその都度異なつた個数ずつ現われるため
、個々の領域ではどれが目標パツドAl,Blかを識別
することはできない。
探索領域12Aでは最左端、12Bでは最右端のパター
ンがそれぞれ目標パツドであると決めてしまうと、ノイ
ズパターンが含まれたとき誤認識のおそれがある。しか
しながら、上記探索領域12A,12Bに含まれるパツ
ドの位置座標間で距離Lの位置関係にある1組の位置座
標が抽出されれば、そのうち探索領域12Aのものはパ
ツドA1に、探索領域12BのものはパツドBIにそれ
ぞれ該当するものと認定できる。以下本発明によるパタ
ーンの位置検出装置の1実施例について説明する。
第6図はパターンの位置検出装置の全体構成を示すプロ
ツク図であり、40は撮像装置、例えばテレビカメラ、
41はタロツク発生回路を示す。
クロツタ発生回路41から出力されるクロツタ信号41
SはXY座標カウンタ42に入力される。XY座標カウ
ンタ42はタロツタ信号41Sを力ウントして撮像画面
のx座標を得るX座標カウンタと、このX座標カウンタ
のキャリー信号42Cをカウントして撮像画面のY座標
を得るY座標カウンタとからなつている。43は同期信
号発生回路であり、XY座標カウンタ42のカウント値
をもとに撮像装置40の画面走査に必要な同期信号43
Sを発生する。
撮像装置40は同期信号43Sに同期して映像面をラス
タ走査し、映像信号40Sを出力する。
この映像信号40Sは2値化回路44により、絵素の映
像が「白]か「黒」かを示す2値信号44Sに変換され
、映像メモリ45に供給される。映像メモリ45と符号
46で示される部分パターン切り出し回路は特公昭46
−14112号明細書に示された形式のものを適用でき
る。すなわち、映像メモリ45は、走査線数n−1本分
の2値化された画像情報を1時的に記憶するための、互
いに直列接続されたn−1本のシフトレジスタからなり
、これらのレジスタの出力信号と2値信号44Sは、撮
像画面で縦方向にならんだ位置関係にあるn個の絵素に
対応する。
従つて、映像メモリ45から上記のn個の絵素の信号を
並列的に取り出し、これを長さnビツトのn本のシフト
レジスタからなる部分パターン切り出し回路46に導き
、NXnビツトの並列情報として取り出せば、映像の走
査位置に対応したNXn絵素の部分パターンが次々と取
り出されることになる。47は上記部分パターンと照合
すべきNXn絵素の情報からなる標準パターンを保持す
るためのレジスタである。
このレジスタの内容と部分パターン切り出し回路46の
出力は照合加算回路48により対応するビツト毎に比較
照合され、内容的に一致したビツトの合計数が部分パタ
ーンと標準パターンとの一致度を示す信号48Sとして
出力される。回路45,46,48はクロツク信号41
Sに同期して動作するため、一致度信号48Sは映像面
の走査に並行して次々と出力されることになる。50は
領域分割回路(具体的構成は第7図で説明する)であり
、クロツク信号41Sに同期して動作し、XY座標カウ
ンタ42から出力されるXカウンタのキャリー信号42
CとXY座標信号49(49X,49Y)とに基づいて
現在の走査点が探索領域に入つているか否かを判定する
もし探索領域内に入つていれば一致度比較指示信号51
が出力される。また、この回路は探索領域を複数区画に
分割し、上記走査点がどの区画に属するかを示すアドレ
ス信号52(52X,52Y)を発生する。このアドレ
ス信号52は、アドレス切り換え回路55を介して一致
度メモリ56、座標メモリ57に与えられる。一致度メ
モリ56はアドレス信号52に対応する記憶領域を有し
、探索領域における上記アドレスに対応する区画毎に部
分パターンと標準パターンとの現時点までの最大一致度
を記憶できるようになつている。
すなわち、メモリ56のアドレスされた記憶領域の内容
は信号56Sとして読み出され、照合加算回路48から
次々と出力される一致度信号48Sと共に比較回路59
に入力される。比較回路59は新しく求められた一致度
48Sの方が大きいときパルス信号59Sを出力する。
このパルス信号59Sは一致度比較指示信号51により
開閉制御されるANDゲート54に入力されており、比
較指示信号51の出力期間中のみANDゲート54から
出力され、メモリ56,57のデータ更新を可能とする
パルス54Sになる。従つて、一致度メモリ56はパル
ス信号54Sに応答して、アドレス信号52に対応する
記憶領域に信号48Sで与えられる新たな一致度を記憶
できる。一方、座標メモリ57は、上記一致度メモリ5
6と同様に、アドレス信号52に対応する座標記憶領域
を有し、上記パルス信号54Sが与えられたとき、アド
レスされた記憶領域にXY座標カウンタ42から出力さ
れる座標データ49Sを記憶する。画面走査はY方向の
位置をずらしつつX方向に繰り返して行なわれるため、
探索領域内における区画のアトルスも上記画面走査に応
じて次々と変わり、一画面走査終了時点では全ての区画
についての標準パターンと部分パターンとの最大一致度
と部分パターンの位置座標がメモリ56,57に瞥已憶
されることになる。
60は制御装置であり、例えば電子計算機の如く、情報
の人出力、シーケンス制御、数値制御、データの判断機
能を備えた装置である。
制御装置60は外部からの起動信号61Aを受けると、
予めプログラムされた手順に従つて制御動作を開始する
。先ず必要な標準パターン62をレジスタ47に送り込
み、区画の寸法Dl,d2、分割数Nl,n2および探
索領域の開始点XS,Y8などのパラメータを信号線6
3から領域分割回路50に送り込む。また、一致度メモ
リ56と座標メモリ57にクリア信号64,65を与え
てメモリの内容をクリアし、然る後にアドレス切換え回
路55が領域分割回路50からのアドレスを出力できる
よう切換え信号66を出力する。これらの前処理動作が
終わると、制御回路60は領域分割回路50にパターン
検出動作の開始指示信号67を送り込む。
領域分割回路50は上記指示信号57を受けると、撮像
装置40の画面走査が初期位置に戻つたタイミングでパ
ターン検出のための動作を開始し、1画面走査が終了し
た時点で終了信号53を出力し、制御装置にパターン検
出動作の終了を知らせる。上記終了信号53を受けたと
き、制御装置60は切換え信号66を出力し、アドレス
切換え回路55が制御装置から出力されるアドレス信号
68でメモリ56,57をアクセスできる状態にするこ
れによつて、制御装置60は一致度メモリ56に記憶さ
れた各区画の一致度を次々と読み出して所定値以上か否
かを判定し、所定値以上であれば、座標メモリ57から
座標値を読み出して制御装置側のメモリ69に書き込む
尚、対象物上の別々の撮像視野にパターン探索領域を設
定した場合には、第1の探索領域で検出した位置座標デ
ータをメモリ69の第1探索領域データエリアと書き込
み、これが終わると、制御装置60が撮像視野を第2の
探索領域に移動するための制御信号61Bを出力し、上
述した動作を繰り返して領域分割回路50に第2の探索
領域におけるパターン検出動作を行なわせ、座標メモリ
から座標データを読み出してメモリ69の第2の探索領
域データエリアに書き込むようにすれぱよい。
探索領域を対象物上に3ケ所設定した場合には、第3の
探索領域に関して上記同様の動作を繰り返す。制御装置
60は、以上の座標データ抽出処理が終了すると、メモ
リ69内の座標の相対的位置関係を順次チエツクし、所
定の位置関係を満足する1組の座標を見つけ出してこれ
らを目標パターンの位置座標を認定する。
撮像視野を移動することにより1つの探索領域から別の
探索領域へ切り換える形式を採用した場合、各探索領域
で求められたパターンの位置座標は夫々の撮像視野の走
査開始点を原点とした値となつているため、視野の移動
量に応じて第2、第3の探索領域での座標値の補正が必
要となる。これらの座標値の補正は、座標メモリ57か
らメモリ69へデータを移動するとき行なつてもよいし
、座標間の相対的位置関係を判定する段階で行なつても
よい。座標間の相対的位置関係の判定は、例えば第1探
索領域から1番目の座標を選び出し、これと第2探索領
域の各座標との距離を次々と計算することにより、所定
距離tをもつ1組の座標を見つけ出す。
もし見つからなければ、第1探索領域から次の座標を選
び出し、これを基準に第2探索領域の各座標との関係を
判定する手順を繰り返せばよい。第3探索領域を設定し
た場合には、第1、第2の探索領域で所定の位置関係に
ある組についてのみ、第3探索領域の座標との関係を確
認する。尚、撮像視野に対象物が位置精度よく供給され
、各探索領域で抽出される座標の中で目標パターンに対
応する座標の抽出順位がほぼ固定している場合には、先
ずこれらの座標から相対位置関係の判定を行ない、所定
の位置関係にないとき他の座標について判定するよう手
順を組むことにより、丙ータの処理時間を短縮させるこ
とができる。対象物上の2つの定点の位置がわかれば、
対象物の標準位置からのずれ量を計算することができ、
標準被標系において予め知られている他の定点の実際位
置を座標変換により求めることができる。従つて、制御
装置60を半導体ペレツトのワイヤボンデイング装置の
制御用に用いる場合、前記した2つの目標パターンの位
置座標から半導体ペレツトの位置ずれ量とボンデイング
対象となる各パツドの実際の位置を計算し、キヤピラリ
一Q)XYテーブル移動量を制御することができる。領
域分割回路50の具体的構成を第7図により説明する。
この回路はXアドレス制御部とYアドレス制御部とから
なつており、70Xと70Yはそれぞれ探索の開始点の
座標XS,Y8を保持するためのレジスタ、71Xと7
1Yは分割される1つの区画のX方向、Y方向の寸法D
2,dlを保持するためのレジスタ、72X(5r2Y
はX方向、Y方向の区画の数N2,nlを保持するため
のレジスタであり、これらの各レジスタに保持されるパ
ラメータは信号線63を介して制御装置60から送り込
まれる。
また、73X,73Y,74X,74Y,75X,75
Yは一致検出回路、76X,76Y,77X,77Yは
カウンタ、78X,78Y,79はフリツプ・フロツプ
、80X,80Y,81,84はANDゲート、82X
,82Y,83X,83Yは0Rゲートをそれぞれ示し
ている。先ずXアドレス制御部から動作説明すると、致
検出回路73Xは、座標カウンタ42から出力された走
査点のX座標49Xとレジスタ70Xに保持された探索
開始点の座標X8とを比較し、一致したときパルス信号
90Xを出力する。このパルス信号90Xは、フリツプ
・フロツプ78Xをセツトすると共に、0Rゲート82
X,83Xを介してカウンタ76X,77Xの値をそれ
ぞれ零にりセツトする。フリツプ・フロツプ78Xがセ
ツト状態になると、その出力によりANDゲート80X
が開かれ、基本クロツク41Sが次々とカウンタ76X
に入力されてカウント動作が開始される。一致検出回路
74Xは、上記カウンタ76Xの値がレジスタ71Xに
保持された1分割区画の横幅D2に一致したとき、パル
ス信号91Xを出力する。
このパルス信号91XはカウンタJモVXに人力されてカ
ウント値を1進めると共に、0Rゲート82Xを介して
カウンタ76Xのりセツト端子に与えられる。従つて、
カウンタ76Xは、分割区画の横幅に等しいカウンタ値
毎にカウント動作を繰り返し、走査点がX方向の1つの
区画から次の区画に移るたびにカウンタJモVXの値を進
めることになる。また、カウンタJモVXの内容は走査が
横方向に何番目の区画で行なわれているかを示す値とな
つており、この値は区画のXアドレスを示す信号52X
として出力される。一致検出回路75Xは、上記カウン
タJモVXの値とレジスタ72Xに保持された区画のX方
向の指定数N2とを比較し、一致したときパルス信号9
2Xを出力する。
パルス信号92Xは、0Rゲ゛ート83Xを介してカウ
ンタJモVXのりセツト端子に人力され、その値を零に戻
すと共に、フリツプ・フロツプ78Xをりセツトし、A
NDゲート80Xを閉じて基本クロツク41Sの入力を
阻止する。これらの動作は各水平走査線ごとに繰り返さ
れるため、これによつて探索領域内における分割区画の
Xアドレスを示す信号52Xが繰り返して出力される。
次にYアドレス制御部について説明する。
Yアドレス制御部では、制御装置60から検出動作開始
の指示信号67が出力されたとき、フリツプ・フロツプ
79がセツトされANDゲート84が開かれる。一致検
出回路73Yは、座標カウンタ42から出力された走査
点のY座標49Yとレジスタ70Yに保持された探索開
始点の座標Ysとを比較し、一致したときパルス信号9
0Yを出力する。このパルス信号90Yは、0Rゲート
82Y,83Yを介してカウンタ76Y,77Yをりセ
ツトし、もしANDゲート84が開いていれば、これを
介してフリツプ・フロツプ78Yをセツトする。これに
よつて、ANDゲート80Yが開かれ、座標カウンタ4
2から1水平走査線毎に出力されるキャリー信号42C
が次々とカウンタ76Yに入力され、カウント動作が開
始される。一致検出回路76Yは、上記カウンタ76Y
の値がレジスタ71Yに保持された1分割区画の縦の幅
d1に一致したとき、パルス信号91Yを出力する。
このパルス信号はカウンタJモVYに入力されてカウント
値を1進めると共に、0Rゲート82Yを介してカウン
タ76Yのりセツト端子に入力され、その値をりセツト
する。従つて、カウンタ76Yは分割区画の縦幅に等し
いカウント値を周期としてカウント動作を繰り返し、走
査点がY方向の1つの区画から次の区画に移るたびにカ
ウンタJモVYにカウント動作させることになる。カウン
タJモVYの内容は走査が縦方向の何番目の区画で行なわ
れているかを示す値となつており、この値は区画のYア
ドレスを示す信号52Yとして出力される。信号52Y
はXアドレスを示す信号52Xと共に一致度メモリ56
、座標メモリ57に与えられる。一致検出回路75Yは
、上記カウンタ7RYの値とレジスタ72Yに保持され
た区画の縦方向の指定数n1とを比較し、一致したとき
パルス信号92Yを出力する。
このパルス信号92Yは0Rゲート83Yを介してカウ
ンタJモVYをりセツトし、同時にフリツプ・フロツプ7
8Y,79をりセツトする。また、上記パルス信号は指
定されたパターン検出処理の終了信号53として制御回
路60に送られる。フリツプ・フロツプ78Yはちよう
ど探索領域の1回分の走査期間オン状態になつているた
め、その出力信号93とXアドレス制御部のANDゲー
ト80Xの出力信号94とのAND出力をANDゲート
81から取り出すことにより、一致度比較指示信号51
が得られる。
以上の実施例では、目標パターンを検出するために1つ
の標準パターンで部分パターンとの照合を行なうものと
して説明してきた。
しかしながら、本発明によるパターンの位置検出装置で
は複数種の標準パターンを用意することにより高度のパ
ターン認識を行なうことが可能である。例えば、前記制
御装置60からレジスタ47に送り込む標準パターンを
変えることにより、対象物から異なつた特徴の目標パタ
ーンを検出することができる。
第8図はその1例を示すもので、最初の画面走査で同図
bに示す標準パターンを用いることにより、同図aに示
す対象物20上のパターン21a〜21eの位置座標を
抽出でき、次の画走査で同図cの標準パターンを用いる
ことにより、パターン22a〜22eの位置座標を検出
できる。このようにすれば、異種の特徴をもつパターン
間で固有の位置関係にある目標パターン位置を検出する
ことができる。また、対象物の回転方向のずれが或る限
度を越えた場合、正常位置標準パターンとの比較では一
致度が不足するため、一致度判定のしきい値を厳しくと
ると探索領域に実在する目標パターンの検出に失敗する
が、このような場合でも対象物の傾きに対応する複数種
類の標準パターンを予め用意しておき、第1の標準パタ
ーンで検出不能のとき残りの標準パターンと比較するよ
うにすれば、認識能力を高めることができる。
また、第9図aに示すような微小パターンをもつ物体3
0を対象とする場合、目標とするパターン31aおよび
これと固有の位置関係にあるパターン31b,31cの
近傍を拡大して撮像することにより分解能を上げること
ができるが、この場合、目標パターンの全体を標準パタ
ーンと比較しようとすると大きな部分パターンの切り出
しが必要となる。
このような場合、例えば第9図B,cに示すように、目
標パターンの一部の特徴に相当する2種類の小型の標準
パターンを用意し、最初の画面走査では標準パターンb
を用いてこれと一致するパターンの位置座標を求め、次
の画面走査では標準パターンcを用いることによりこれ
と一致するパターンの位置座標を求め、特定の位置関係
で対をなす座標を抽出するようにすれば、パターン31
a,31b,31cを検出することができる。尚、標準
パターンbを用いるときの探索領域の分割区画と標準パ
ターンcを用いるときの探索領域の分割区画を上記特定
の位置関係に合わせて撮像視野内にずらして設定すれば
、対象物上の同一のパターンから検出される1対の位置
座標32aと33a,32bと33b,32cと33c
と同一アドレスの区画に収めることができ、位置関係の
判定が容易になる。また、第6図で説明した映像情報処
理装置は、1つの撮像視野内でパターンの探索領域を任
意に設定できるため、視野を固定したまま画面ごとに異
なつた位置の探索領域からパターンを抽出することがで
き、その都度、標準パターンを変えることもできる。
従つて、対象物に設定した全ての探索領域が撮像装置の
同一視野に収まる場合には、画面走査を繰り返すだけで
異なる探索領域からの位置座標を抽出することができ、
パターン位置を短時間で検出できる。以上説明したよう
に、本発明によれば、目標パターンと同一の特徴を備え
た複数のパターンが形成された物体面を対象とした場合
でも目標とするパターンの位置を確実に検出できるため
、目標パターンの形状、配列に制約がない。
従つて、本発明は半導体製品をはじめとする各種の物体
の位置認識装置に広く応用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図aおよびbは本発明の原理を説明するための対象
物上のパターンと標準パターンとを示す図、第2図は本
発明において標準パターンと合致する複数のパターンの
位置座標の記憶方法の1例を説明するための図、第3図
は位置検出の対象物の他の例を示す図、第4図、第5図
は上記対象物が位置ずれしたときのパターン探索領域1
2A,12Bのパターン状態図、第6図は本発明の実施
例を示すパターンの位置検出装置の全体構成図、第7図
は上記第6図装置における領域分割回路50の詳細構成
図、第8図、第9図は複数種類の標準パターンを用いる
本発明の他の実施例を説明するための図、である。 図において、40は撮像装置、46は部分パターン切り
出し回路、47は標準パターンレジスタ、8は一致度検
出回路、50は領域分割回路、6は一致度メモリ、57
は座標メモリ、60は御装置を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 対象物を走査して時系列的電気信号を発生させ、該
    電気信号からあらかじめ定めた標準パターンに一致する
    複数の一致部分パターンを検出し、該検出された一致部
    分パターンの内、所定の相対的位置関係を有する一組の
    一致部分パターンを選択し、該選択された一組の一致部
    分パターンの位置座標を利用して該対象物の位置を検出
    する方法において、前記走査の領域をあらかじめ複数の
    領域に分け、各領域に位置する複数の部分パターンの内
    、一致度が最大となる部分パターンを各領域について求
    め、該求められた複数の部分パターンを前記一致部分パ
    ターンとして検出することを特徴とする位置検出方法。 2 上記電気信号に基づき走査領域内の部分パターン信
    号を遂次切り出し、上記切り出された各部分パターンの
    代表位置を示す位置座標を遂次発生し、上記切り出され
    た部分パターンを標準パターンと比較して一致度を遂次
    検出し、該走査領域を複数の区画に分割し、切り出され
    た部分パターンが属する区画アドレスを遂次発生し、各
    区画アドレスに対応して記憶されている、最大一致度と
    位置座標からなる最大値データの内、発生された区画ア
    ドレスに対する最大一致度と該検出された一致度を比較
    し、上記検出された一致度が、概に記憶されている最大
    一致度の値を越えたとき上記検出された一致度と上記部
    分パターンの位置座標とを新たな最大値データとして記
    憶し、最終的に各区画に対応して記憶されている位置座
    標の中から所定の位置関係を満足する位置座標の組を抽
    出して対象物の位置を認定することを特徴とする第1項
    の位置検出方法。 3 複数の標準パターンの各々に関して上記部分パター
    ンの遂次切り出し、上記代表位置座標の発生、上記標準
    パターンとの比較、上記記憶されている最大一致度との
    比較に基づく新たな最大値データの記憶を行ない、該複
    数の標準パターンの各各について最終的に得られた最大
    一致度に対する位置データの内、所定の位置関係を有す
    る、異なる標準パターンに対する最大一致度の位置座標
    の組合せを抽出して対象物の位置を検出することを特徴
    とする第2項の位置検出方法。
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