JPS59199518A - 非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方法 - Google Patents
非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方法Info
- Publication number
- JPS59199518A JPS59199518A JP7307483A JP7307483A JPS59199518A JP S59199518 A JPS59199518 A JP S59199518A JP 7307483 A JP7307483 A JP 7307483A JP 7307483 A JP7307483 A JP 7307483A JP S59199518 A JPS59199518 A JP S59199518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- photosensitive material
- amorphous silicon
- silicon compound
- compound layer
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は、７）！子写真の感光体や太陽電池に用いら
れる非晶質シリコン系化合物層の剥離除去技術に関づ−
る。
れる非晶質シリコン系化合物層の剥離除去技術に関づ−
る。
従来技拝し
感光体に使用されＣいるアルミニウム基体は高価な月利
であるので、従来例えばセレン系感光体では、使用済に
なったもの、あるいは製ｊ告後何らかの欠点をもつもの
は感光層を剥離除去して基体を再使用している。レレン
は低融点であり、かつ、機械的強度も小さいから、真空
中で加熱溶融蒸発さけて除去したり、急冷にＪ、る収縮
を利用して基体から剥離している。
であるので、従来例えばセレン系感光体では、使用済に
なったもの、あるいは製ｊ告後何らかの欠点をもつもの
は感光層を剥離除去して基体を再使用している。レレン
は低融点であり、かつ、機械的強度も小さいから、真空
中で加熱溶融蒸発さけて除去したり、急冷にＪ、る収縮
を利用して基体から剥離している。
しかし、非晶質シリ−１ン系感光体は畠融点、高硬度で
あるため、セレンのにうに上記方法で感光層を除去１′
ることは回動である。
あるため、セレンのにうに上記方法で感光層を除去１′
ることは回動である。
現在知られている非晶質シリコン系感光層の除去方法は
、ブラ゛ズマエッチングにＪ、っ−（感光層を気化ざし
て、基体表面から除去する方法であるが、この方法では
装置が高価で１ツチングに要する時間（８）長いのが欠
点である。
、ブラ゛ズマエッチングにＪ、っ−（感光層を気化ざし
て、基体表面から除去する方法であるが、この方法では
装置が高価で１ツチングに要する時間（８）長いのが欠
点である。
１三ｌ 的
本発明は、非晶質シリコン系化合物の感光層を効率よく
基体から剥離し、基体を損傷しないで回収できる基体再
生法を提供するものである。
基体から剥離し、基体を損傷しないで回収できる基体再
生法を提供するものである。
構 成
本発明は、基体上の非晶質シリコン化合物層を除去する
ために、微細な研１話材を空気あるいは水の如き媒体に
混合して上記化合物層に吹きイ・１【プることを’Ｍｊ
徴どりる非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方
法を要旨とする。
ために、微細な研１話材を空気あるいは水の如き媒体に
混合して上記化合物層に吹きイ・１【プることを’Ｍｊ
徴どりる非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方
法を要旨とする。
本発明に用いる（１ｊ］磨４Ａとしては、アルミナ、シ
リカ、カラスビーズ等があり、感光層の硬度に応じたｌ
ｌ１１！度、粒度等の材質を選択して用−いる。
リカ、カラスビーズ等があり、感光層の硬度に応じたｌ
ｌ１１！度、粒度等の材質を選択して用−いる。
また、ノ′ラスデックも研磨材とじて使用できる。
本発明を実施するには、例えば第１図に示づＪ、うに、
スプレー万ン１からドラム状感光体２に向（）て、ｒＪ
ｌ磨月を懸濁した流体のスプレー３を囁（ＡＪ 号る。
スプレー万ン１からドラム状感光体２に向（）て、ｒＪ
ｌ磨月を懸濁した流体のスプレー３を囁（ＡＪ 号る。
この時ドラム状感光体２は毎分１０回り９、位の速さで
回転さけ、同時にスプレーガン１をドラム状感光体の軸
方向の全長にわたって上下動さけ、表面の感光層を除去
する。
回転さけ、同時にスプレーガン１をドラム状感光体の軸
方向の全長にわたって上下動さけ、表面の感光層を除去
する。
以下実施例と比較例によって本発明を具体的に説明１」
る。
る。
実施例
厚さ２０μの非晶質シリコン感光層を気体ホーニングに
より除去した。その条件は下記のとおりである３゜ 吹イζ１空気圧 ３ｋ（１噴出空気量
０．５ｍ ３ 、／分カラスヒース
′径 ＃８００メツシュ吹付（プ吊
５μｇ ７分ノズル径
８．３３ｍ口１その結果は、第２図にｄ３いて実線で
示したＪ：うに約７分で感光層を完全に除去することが
でき、感光層を除去した後の基体の面ｉ１’ｌＪさく谷
と頂との高低差）は０，５μであった。
より除去した。その条件は下記のとおりである３゜ 吹イζ１空気圧 ３ｋ（１噴出空気量
０．５ｍ ３ 、／分カラスヒース
′径 ＃８００メツシュ吹付（プ吊
５μｇ ７分ノズル径
８．３３ｍ口１その結果は、第２図にｄ３いて実線で
示したＪ：うに約７分で感光層を完全に除去することが
でき、感光層を除去した後の基体の面ｉ１’ｌＪさく谷
と頂との高低差）は０，５μであった。
比較例
実施例と同じく、厚さ２０μの非晶質シリコン層をＣＦ
、ｌプラズマエツヂレグ法によっ°て除去した。その条
件は下記のとおりである。
、ｌプラズマエツヂレグ法によっ°て除去した。その条
件は下記のとおりである。
圧力 ５ｔＯ１’ｒＩＲＦパワー
１３．５６ Ｍ Ｈｚ 、２０Ｗその結果は第
２図において点線で示したとおり、完全に感光層を除く
のに約２０分を必要としｌこ 。
１３．５６ Ｍ Ｈｚ 、２０Ｗその結果は第
２図において点線で示したとおり、完全に感光層を除く
のに約２０分を必要としｌこ 。
効 果
本発明は以上のとおり極めて効率よく非晶質シリコン系
合物の層を剥離除去することができる。しかも本発明に
よって化合物１※が除去された後のツノルミニウム等の
基体表面は無光沢の状態（あり、そのままでは感光体の
基体どし使用りることはでき・ないが、アルカリ液によ
る表面Ｉ゛ツチングより低コストで再使用ぐきる状態に
なる。
合物の層を剥離除去することができる。しかも本発明に
よって化合物１※が除去された後のツノルミニウム等の
基体表面は無光沢の状態（あり、そのままでは感光体の
基体どし使用りることはでき・ないが、アルカリ液によ
る表面Ｉ゛ツチングより低コストで再使用ぐきる状態に
なる。
第１図は本発明の方法でドラム状感光体の表面の感光層
を除去する一例を示したもので、第２図（よ本発明の実
施例および比較例にＪ３ける各処理時間と残留する感光
層の厚みとの関係を示ずグーツノである。 １・・・・・・スプレーカン ２・・・・・・ドラム状感光体 ３・・・・・・スプレー 特６′Ｆ出願人 株式会社 リ コ −代理人 井理士
小 松 禿 岳 ２２図 ■台間（ブナ） 手続ネ１１１正占（自発） 昭和５８年６月２８日 特許庁長官 若杉和夫 グＱ ′１．事件の表示 昭和５８年特６′１願第０
７３０７ ／１号２、発明の名称 非晶質シリ］ン化合物層を基体から除去する方法３、補
正をり′る者 事件どの関係 特許出願人 名 称 （６７４） 株 式 会 社 リ
コ −５）、補正命令の日付 （自 発） ６、補正の対象 ゛ 明細湯中発明の詳細な説明の欄、及び図面（第２図
）。 ７、補正の内容 （１）明細書第３頁第１７行及び第４頁第１０行の「２
ｏμ」を１２μ」に訂正する。 （２）図面第２図を別紙の通り訂正する。
を除去する一例を示したもので、第２図（よ本発明の実
施例および比較例にＪ３ける各処理時間と残留する感光
層の厚みとの関係を示ずグーツノである。 １・・・・・・スプレーカン ２・・・・・・ドラム状感光体 ３・・・・・・スプレー 特６′Ｆ出願人 株式会社 リ コ −代理人 井理士
小 松 禿 岳 ２２図 ■台間（ブナ） 手続ネ１１１正占（自発） 昭和５８年６月２８日 特許庁長官 若杉和夫 グＱ ′１．事件の表示 昭和５８年特６′１願第０
７３０７ ／１号２、発明の名称 非晶質シリ］ン化合物層を基体から除去する方法３、補
正をり′る者 事件どの関係 特許出願人 名 称 （６７４） 株 式 会 社 リ
コ −５）、補正命令の日付 （自 発） ６、補正の対象 ゛ 明細湯中発明の詳細な説明の欄、及び図面（第２図
）。 ７、補正の内容 （１）明細書第３頁第１７行及び第４頁第１０行の「２
ｏμ」を１２μ」に訂正する。 （２）図面第２図を別紙の通り訂正する。
Claims (1)
- Ｍ体、１−の非晶質シ゛リコン化合物層を除去覆るため
に、微細な研磨材を空気あるいは水の如き媒体に混合し
て上記化合物層に吹ぎイ」（プることを袖徴どする非晶
質シリコン化合物層を基体から除去Ｊ−る方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7307483A JPS59199518A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7307483A JPS59199518A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59199518A true JPS59199518A (ja) | 1984-11-12 |
Family
ID=13507813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7307483A Pending JPS59199518A (ja) | 1983-04-27 | 1983-04-27 | 非晶質シリコン化合物層を基体から除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59199518A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6177760A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-21 | Daicel Chem Ind Ltd | 分離剤 |
| KR101179181B1 (ko) | 2010-12-06 | 2012-09-03 | 한국타이어 주식회사 | 타이어 정련공정에서의 실리카 고무조성물 생산시 발생하는 롤 부착 원인물질의 제거방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53132432A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method and apparatus for descaling control |
| JPS5479892A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-26 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | Method of removing plating layer of zinc plated steel plate* etc* |
-
1983
- 1983-04-27 JP JP7307483A patent/JPS59199518A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53132432A (en) * | 1977-04-26 | 1978-11-18 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Method and apparatus for descaling control |
| JPS5479892A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-26 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | Method of removing plating layer of zinc plated steel plate* etc* |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6177760A (ja) * | 1984-09-26 | 1986-04-21 | Daicel Chem Ind Ltd | 分離剤 |
| JPH0475892B2 (ja) * | 1984-09-26 | 1992-12-02 | Daicel Chem | |
| KR101179181B1 (ko) | 2010-12-06 | 2012-09-03 | 한국타이어 주식회사 | 타이어 정련공정에서의 실리카 고무조성물 생산시 발생하는 롤 부착 원인물질의 제거방법 |
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