JPS5917159U - 真空チヤツク装置 - Google Patents

真空チヤツク装置

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JPS5917159U
JPS5917159U JP1982112807U JP11280782U JPS5917159U JP S5917159 U JPS5917159 U JP S5917159U JP 1982112807 U JP1982112807 U JP 1982112807U JP 11280782 U JP11280782 U JP 11280782U JP S5917159 U JPS5917159 U JP S5917159U
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JP
Japan
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suction
vacuum chuck
chuck device
wafer
annular
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Application number
JP1982112807U
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English (en)
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JPS6218362Y2 (ja
Inventor
茂 藤本
Original Assignee
株式会社東芝
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は第１の従来例の平面図、第２図は同じく要部断
面正面図、第３図は第２の従来例の平面図、第４図は同
じく要部断面正面図、第５図は第３の従来例の要部断面
正面図、第６図は第５図Ａ部拡大図、第７図は本考案の
一実施例の要部断面正面図、第８図は第７図のＡ部拡大
図である。 １：ウェハ、１ｂ：ウェハ外周部の裏面、２１：チャッ
ク本体、３１ａ：吸着面、３２：シール体、３３ニ一端
面、３５：吸着溝、３７：弾性シート。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）ウェハを減圧により吸着する平坦な吸着面をもち
    上記ウェハを環状の外周部を残して吸着保持するチャッ
    ク本体と、環状部材からなり上記チャック本体の外周面
    に摺動自在に嵌合し一端面を上記吸着保持されたウェハ
    外周部の裏面に対向した環状のシール体と、上記シール
    体に設けられ上記一端面に沿って環状に開口しかつ減圧
    源に連通し減圧により上記シール体を上記外周部の裏面
    に吸着させる吸着溝とを具備したことを特徴とする真空
    チャック装置。
  2. （２）シール体は一端面にフィルム状の弾性部材からな
    る弾性シートを具えていることを特徴とする実用新案登
    録請求の範囲第１項記載の真空チャック装置。
JP1982112807U 1982-07-27 1982-07-27 真空チヤツク装置 Granted JPS5917159U (ja)

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JP1982112807U JPS5917159U (ja) 1982-07-27 1982-07-27 真空チヤツク装置

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JPS5917159U true JPS5917159U (ja) 1984-02-02
JPS6218362Y2 JPS6218362Y2 (ja) 1987-05-12

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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