JPS6119245U - フオトエツチング用露光装置 - Google Patents

フオトエツチング用露光装置

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Publication number
JPS6119245U
JPS6119245U JP10332684U JP10332684U JPS6119245U JP S6119245 U JPS6119245 U JP S6119245U JP 10332684 U JP10332684 U JP 10332684U JP 10332684 U JP10332684 U JP 10332684U JP S6119245 U JPS6119245 U JP S6119245U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoetching
photoresist
exposure equipment
workpiece
soft
Prior art date
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Pending
Application number
JP10332684U
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English (en)
Inventor
勉 清水
浩治 楊井
Original Assignee
マツダ株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP10332684U priority Critical patent/JPS6119245U/ja
Publication of JPS6119245U publication Critical patent/JPS6119245U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例における露光装置の要部構成
を示す中央縦断面図、第2図は第1図の■部の拡大図、
第3図は減圧吸着装置の変形例を示す要部断面図である

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ワークの変形表面にフォトエッチングを施すための露光
    装置であって、ワーク表面に接着したフォトレジストと
    、該フォトレジストの上に被覆された軟質フオトススク
    と、該軟質フォトマスクとフォトレジストとの間を吸引
    して軟質フォトマスクをフォトレジストに密着させる減
    圧吸着装置とを備えてなることを特徴とするフォトエッ
    チング用露光装置。
JP10332684U 1984-07-09 1984-07-09 フオトエツチング用露光装置 Pending JPS6119245U (ja)

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JP10332684U JPS6119245U (ja) 1984-07-09 1984-07-09 フオトエツチング用露光装置

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JPS6119245U true JPS6119245U (ja) 1986-02-04

Family

ID=30662720

Family Applications (1)

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JP10332684U Pending JPS6119245U (ja) 1984-07-09 1984-07-09 フオトエツチング用露光装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015021185A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 和百エンジニアリング株式会社 曲面状の内周面上に微細形状の凹部を形成する装置及びその方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015021185A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 和百エンジニアリング株式会社 曲面状の内周面上に微細形状の凹部を形成する装置及びその方法

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