JPS60103831U - 半導体の露光装置 - Google Patents

半導体の露光装置

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Publication number
JPS60103831U
JPS60103831U JP19680483U JP19680483U JPS60103831U JP S60103831 U JPS60103831 U JP S60103831U JP 19680483 U JP19680483 U JP 19680483U JP 19680483 U JP19680483 U JP 19680483U JP S60103831 U JPS60103831 U JP S60103831U
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JP
Japan
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semiconductor exposure
exposure equipment
pen
semiconductor
photomask
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Pending
Application number
JP19680483U
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English (en)
Inventor
敏樹 森
Original Assignee
関西日本電気株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、従来の半導体の露光装置の縦断面図、第２図
〜第４図は、それぞれ、同半導体の露光装置におｋｉｔ
ホトマスクと半導体ウェハとのギャップおよび真空度の
違いによる異なる状態の縦断面図である。第５図は、こ
の考案の実施例である半導体の露光装置の縦断面図、第
６図〜第８図は、それぞれ、同半導体の露光装置におｔ
ｔｊる異なる階段におけるホトヤ支クと半導体ウェハト
ノ縦断面図である。 １・・・半導体の露光装置、２・・・ホトマスク、４・
・・半導体ウエハ、１０・・・ペングー。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ホトマスクの下面に半導体ウエハを近接させ、このホト
    マスクと半導体ウエハとの間の雰囲気を減圧することに
    より、ホトマスクと半導体ウエハとを密着させる半導体
    の露光装置において、ホトマスクの上面にこのホトマス
    クの上方の雰囲気を気密に覆うペングーを取り付けると
    ともに、このペングー内を気圧調節装置に接続したこと
    を特徴とする半導体の露光装置。
JP19680483U 1983-12-20 1983-12-20 半導体の露光装置 Pending JPS60103831U (ja)

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JP19680483U JPS60103831U (ja) 1983-12-20 1983-12-20 半導体の露光装置

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JPS60103831U true JPS60103831U (ja) 1985-07-15

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ID=30422019

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