JPS59104500A - 耐レトルト処理性のすぐれたテインフリ−スチ−ルの製造方法 - Google Patents

耐レトルト処理性のすぐれたテインフリ−スチ−ルの製造方法

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JPS59104500A
JPS59104500A JP21367282A JP21367282A JPS59104500A JP S59104500 A JPS59104500 A JP S59104500A JP 21367282 A JP21367282 A JP 21367282A JP 21367282 A JP21367282 A JP 21367282A JP S59104500 A JPS59104500 A JP S59104500A
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JP
Japan
Prior art keywords
chromium
water
oxide film
coated
retort treatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP21367282A
Other languages
English (en)
Inventor
Shunichi Tsugawa
津川 俊一
Keiko Imanaka
今中 恵子
Toshiro Ichida
市田 敏郎
Hajime Ogata
緒方 一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Publication of JPS59104500A publication Critical patent/JPS59104500A/ja
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  • Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属クロムの下層と、クロム水利酸化物の上
層とを有するティンフリースチール、特に接着缶用の材
料として耐レトルト処理性にすぐれたティンフリースチ
ールの製造方法に関するものである。
電解クロメート処理鋼板はティンフリースチール・クロ
ムタイプ(以下、TFSと略称する)と称され、ブリキ
に代る缶用材料としての特性が認め  ”られ、近年そ
の使用量か増大している。TFSは表面に金属クロムと
水利酸化クロム被膜を有するため充分な溶接性能を持た
ず、その製缶に当っては、缶胴はポリアミド系接着剤で
接合される。最近、TFS缶の用途が拡大し、炭酸飲料
やビールなどの内容物の充填が低温状態でなされる低温
パック用のみならず、果汁などのように、内容物を高温
殺菌して充填するいわゆるホットパック用、またはパッ
ク後高温で殺菌処理を行なうレトルト処理が必要な缶に
も使用されるようになって、缶胴が破れるトラブルが発
生した。このホットパック、レトルト処理の際にTFS
接着缶に生じる破胴は、前記接合物のポリアミド系接着
樹脂層を通して浸透する熱水により塗膜とTFSの界面
の接着が悪くなり%塗膜−TFS界面から剥離するため
に発生するものである。
この原因fこついて調査した結果、従来からのりロムめ
っき浴、電解クロム酸浴に添加されていた硫酸が水和酸
化クロム被膜中に共析しており、レトルト処理時に溶出
して塗膜−TFS界面剥離を起こすことがわかり、硫酸
を添加しない方法、めっき前処理として行なう酸洗にも
硫酸を用いない方法が提案されていた。しかし、これら
の方法は製造能率を低下させたり、製品の品質安定性が
悪く歩留りが劣っており、工業的には多くの問題が残っ
ていた。
本願の発明者等は、この欠点を解消する方法について種
々の検討を加え、電解クロム酸処理工程前の鋼板表面被
膜中のオール化酸化膜に対するオキソ化酸化膜の比率を
高くすることにより、耐レトルト処理性のよいTFSを
製造できることを見出し、その具体的方法について追求
した。実験の結果、クロムめっき後の表面クロム酸化膜
に電子線(EB)を照射することにより、オール化酸化
膜はオキソ化酸化膜−へと変質していることが判り、引
き続き電解クロム酸処理を施すことにより、耐レトルト
処理性の優れた品質のものが得られることを見出し、本
発明に至った。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明は、薄鋼板に片面50〜200 W/W?の金属
クロムめっきを施し、該金属クロム層表面に5〜30η
/ぜのクロム水利酸化物被膜を形成したTFSに関する
ものである。金属クロム層は50■/rr?未満では耐
食性が劣り、また2 00 ’l1lf/W?を超えて
も耐食性の更なる向上は望めないので、通常のTFSは
50〜200■゛/W?の金属クロム層を有しtいる。
一方、クロム水利酸化物被膜が5trry/rr?未満
では所望の塗料密着性が得られず、また30719/m
’を超えると外観が悪くなったり、加工時にクロム水利
酸化物被膜にクラックが入って実用的でない。さらに言
えば、クロム水利酸化物被膜量は8〜25η/イが最も
望ましい。
TFSを製造するために用いるクロムめっき浴および電
解クロム酸処理浴には、無水クロム酸、クロム酸塩また
は重クロム酸塩の水溶液に種々の助剤が加えられている
。これらの助剤の中には硫酸イオン、弗素を含むイオン
などの陰イオンを単独または混合で含むものも多いが、
これらの陰イオンはTFSの表面に形成されるクロム水
利酸化物被膜中に多量に共析する。特Iこ被膜中に共析
した硫酸根は、 TFS接着缶のレトルト処理時に溶出
して塗膜−TFS界面剥離を起こし、有害である。また
、硫酸根を含むクロム水利酸化物被膜は、塗装焼付は後
も被膜内部に水和層の高い水可溶性のクロム水利酸化物
が残存し、耐レトルト処理性を低下させる。
そこで、本発明者等は、クロムめっき後のTFS表面の
硫酸根などの有害なイオンを含む水和層の高い水可溶性
のクロム水利酸化物(オール化酸化膜)にEB(電子線
)照射することにより、不溶性の酸化膜(オキソ化酸化
膜)に改質させ、引き続き、硫酸根などの有害イオンを
意図的に添加しない無水クロム酸、−クロム酸塩または
重クロム酸塩を主体とした水溶液中で、電解クロム酸処
理により、塗膜形成時オキソ化し易いクロム水利酸化物
を形成させることにより、耐レトルト処理性が飛開的に
向上することを見出した。
EB照射条件としては% 0.5〜10Mradが良い
(第4図参照)。EB熱照射0.5 M radより少
ないと、クロム水利酸化物のオキソ化の程度が不充分で
あり、10 Mradより多くの照射は処理時間の延長
、照射設備の大型化などの経済的デメリットが大きくな
るためである。
以下、本発明を実施例につき具体的に説明する。
板厚0.22 rrra’の冷延鋼板を、5チホメザソ
ン溶液で、80′c、  15A/dW?の電流密度で
10秒間の電解脱脂を行なった。水洗後、10 % H
gSO4中で5秒間浸漬して水洗した後、表1の条件で
クロムめつき→EB照射照射処理等電解クロム酸処理な
った。なお、金属クロム量については100〜130η
/イ、クロム水和酸化膜量をクロム換算で10〜25 
q/lt?となるような条件とした。
EB照射処理後のTFS表面をESCAにより測定した
ところ、酸素ピーク(01s)については、530、1
 eVのオキソ化酸化膜に相当するピーク(0oxo 
)と、531.4eVのオール化酸化膜に相当するピー
ク(OOL)に分離された。また、クロムピーク(Cr
2p)については、573.8 eVの金属クロムに相
当するピーク(CrM)と、580.5eVの酸化クロ
ムに相当゛するピーク(Cr0X )に分離された。こ
の1例をそれぞれ第1図および第2図に示した。種々の
EB照射後の酸化膜の測定値を、ピーク測定値をピーク
面積比としてooxo/’00L s O(0oxo 
+ OOL ) / CrOxを求め、表1に示した。
得られたTFSの塗料密着性、耐レトルト処理性を調べ
る目的で、塗料密着力の耐レトルト処理性試験を行なっ
た。試験方法は次の通りである。得られた試料表面1に
フェノールエポキシ系塗料を60mf/d塗布し、2.
10℃で12分間焼付けて厚膜IAを形成した。もう一
つの試料表面2に同じ塗料を25η/rr?塗布し、同
じ条件で焼付けて薄膜2人を形成した。この2つの試料
を各々幅7〇−1長さ60霧に切断し、塗膜厚の異なる
2枚の試片の長さ方向の両端を8+o+だけ重ね、その
間に100μmのナイロンフィルム3をはさみ、ホット
プレスを用いて200℃で120秒の予熱を行なった後
、3Kq/c!/lの加圧下で200℃、30秒間圧着
を行なった。この試験片を10組つくり、缶胴のように
半径100℃程度に予め丸めた後、底辺70mのアング
ル5に固定しく第3図参照)。
125〜130℃、1.6〜1.7Kg/c!iのレト
ルト釜中で30分経時した時の剥離の有無を調べた。
10組中の剥離本数で耐レトルト処理性の指標とした。
この結果も表1に示した。また、EB照射条件と耐レト
ルト処理性の関係を第4図に示した。
以上の結果より、クロムめっき後の表面酸化クロム被膜
は0.5〜10 MradのEB照射処理により。
水和度の高いオール化酸化膜から水和度の低いオキソ化
酸化膜fこ変質しており、引き続き硫酸無添加のクロム
酸水溶液中で電解クロム酸処理を施して、適当量のクロ
ム水利酸化物を主体とする被膜を形成させることにより
、耐レトルト処理性のすぐれたティンフリースチールが
得られることが判った。この理由としては、電解クロム
酸処理前に、クロムめっき後の表面の硫酸根を含んだ水
和度の高い水可溶性の酸化被膜を、EB熱照射より不溶
性のオキソ化酸化膜に改質させて水可溶性成分を数少さ
せたため、耐レトルト処理性が向上したと考えられる。
【図面の簡単な説明】
第1図はE13照射処理後の表面クロム酸化膜における
ESCAのO工、ピークを示すグラフ、第2図はEB照
射処理後の表面クロム酸化膜におけるESCAのCrz
pピークを示すグラフ、第3図は塗膜密着力の耐レトル
ト処理性試験方法を示す線図的断面図、第4図はEB照
射争件と耐レトルト処理性の関係を示すグラフである。 符号の説明 ゛ 1.2・・・TFS、  IA・・・厚膜、2人・・・
薄膜、4・・・試料、5・・・アングル 第1図 第2図 B、E。 A

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 鋼板にクロム酸を主体とする水溶液中で片面50〜20
    0岬/m”の金属クロムめっきを施した後、その表面に
    0.5〜10 Mradの電子線(EB)照射処理を行
    ない、ひきつづき無水クロム酸、クロム酸塩才たは重ク
    ロム酸塩を主成分とTる水溶液中で電解クロム酸処理を
    行なって、前記金属クロム層表面に5〜3019/m’
    のクロム水利酸化物被膜を生成させることを特徴とする
    耐レトルト処理性のすぐれたティンフリースチールの製
    造方法。
JP21367282A 1982-12-06 1982-12-06 耐レトルト処理性のすぐれたテインフリ−スチ−ルの製造方法 Pending JPS59104500A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107313086A (zh) * 2017-06-26 2017-11-03 重庆理工大学 一种超细晶/纳米晶Cr涂层的复合制备工艺

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107313086A (zh) * 2017-06-26 2017-11-03 重庆理工大学 一种超细晶/纳米晶Cr涂层的复合制备工艺
CN107313086B (zh) * 2017-06-26 2019-04-05 重庆理工大学 一种超细晶/纳米晶Cr涂层的复合制备工艺

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