JPS585356U - 抵抗素子 - Google Patents
抵抗素子Info
- Publication number
- JPS585356U JPS585356U JP9900881U JP9900881U JPS585356U JP S585356 U JPS585356 U JP S585356U JP 9900881 U JP9900881 U JP 9900881U JP 9900881 U JP9900881 U JP 9900881U JP S585356 U JPS585356 U JP S585356U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- substrate
- resistor element
- resistance element
- utility
- Prior art date
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- Pending
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は、従来方法で抵抗が形成された半導体基板の上
面図、第2図は本考案抵抗素子を用いてインバータ回路
を構成した際の要部断面向、第3図は、第2図に示した
構造のインバータ回路の電気回路図、第4図乃至第6図
は、本考案抵抗素子の形成工程を示す要部断面図である
。 3.13・・・・・・シリコン基板、4.14・・曲不
純物拡散層、5,15・・・・・・シリコン酸化膜、6
゜16・・・・・・コンタクトホール、7.17・・・
・・・多結晶シリコン、8・・・・・・シリサイドを形
成するための金属、9.19・・・・・・シリサイド層
、11.20・・開維縁膜、12.21・・・・・・電
極、18・・間モリブデン。
面図、第2図は本考案抵抗素子を用いてインバータ回路
を構成した際の要部断面向、第3図は、第2図に示した
構造のインバータ回路の電気回路図、第4図乃至第6図
は、本考案抵抗素子の形成工程を示す要部断面図である
。 3.13・・・・・・シリコン基板、4.14・・曲不
純物拡散層、5,15・・・・・・シリコン酸化膜、6
゜16・・・・・・コンタクトホール、7.17・・・
・・・多結晶シリコン、8・・・・・・シリサイドを形
成するための金属、9.19・・・・・・シリサイド層
、11.20・・開維縁膜、12.21・・・・・・電
極、18・・間モリブデン。
Claims (2)
- (1)基板上に形成する抵抗素子に於いて、多結晶シリ
コンと、該シリコンと熱処理する事に依ってシリサイド
を形成する金属ムを基板上に被゛ 着した後、熱処理
を施こして得られるシリサイド層を抵抗体として用いる
事を特徴とした抵抗素子。 - (2)実用新案登録請求の範囲第1項に於いて、前記抵
抗体を基板に作られたコンタクト・ホール龜形成する事
を特徴とした抵抗素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9900881U JPS585356U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 抵抗素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9900881U JPS585356U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 抵抗素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS585356U true JPS585356U (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=29893755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9900881U Pending JPS585356U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 抵抗素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS585356U (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55165649A (en) * | 1979-06-13 | 1980-12-24 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPS5740967A (en) * | 1980-08-22 | 1982-03-06 | Seiko Epson Corp | Integrated circuit device |
JPS5745967A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-16 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
-
1981
- 1981-07-02 JP JP9900881U patent/JPS585356U/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55165649A (en) * | 1979-06-13 | 1980-12-24 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPS5740967A (en) * | 1980-08-22 | 1982-03-06 | Seiko Epson Corp | Integrated circuit device |
JPS5745967A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-16 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
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