JPS585344A - 変性ポリイミド膜の製造法 - Google Patents
変性ポリイミド膜の製造法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/58—Other polymers having nitrogen in the main chain, with or without oxygen or carbon only
- B01D71/62—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain
- B01D71/64—Polyimides; Polyamide-imides; Polyester-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジア
ミン成分とから重合によって得られる芳香族ポリアミッ
ク酸、−!たけ反応性芳香族残基を有する芳香族ポリイ
ミドなどで形成されている薄膜(平膜状、中空糸状、複
合膜など)を9反応性官能基を有する有機化合物によっ
て一部架橋して。
ミン成分とから重合によって得られる芳香族ポリアミッ
ク酸、−!たけ反応性芳香族残基を有する芳香族ポリイ
ミドなどで形成されている薄膜(平膜状、中空糸状、複
合膜など)を9反応性官能基を有する有機化合物によっ
て一部架橋して。
必要であればイミド環化を完結させて、変性ポリイミド
膜を製造する方法に係る。
膜を製造する方法に係る。
その変性ポリイミド膜は、ガス分離材料のガス分離層と
して使用された場合に、極めて優れたガス分離性能を有
し2例えば、後述のガス透過テストによれば、水素と一
酸化炭素との透過係数の比(PH27POO)で示され
る分離性能が、少なくとも80゜特に90以上を示すの
である。
して使用された場合に、極めて優れたガス分離性能を有
し2例えば、後述のガス透過テストによれば、水素と一
酸化炭素との透過係数の比(PH27POO)で示され
る分離性能が、少なくとも80゜特に90以上を示すの
である。
したがって、前記変性ポリイミド膜は2種々のガス分離
材料においてガス分離層として使用することができるも
のであり、他の多孔質膜の基材の表面に形成された複合
材料としても使用するととができる。
材料においてガス分離層として使用することができるも
のであり、他の多孔質膜の基材の表面に形成された複合
材料としても使用するととができる。
従来、芳香族ポリイミド膜としては、主としてピロメリ
ット酸類と芳香族・ジアミン成分とから得られた芳香族
ポリイミドの均質膜、非対称性膜が。
ット酸類と芳香族・ジアミン成分とから得られた芳香族
ポリイミドの均質膜、非対称性膜が。
ガス分離材料として使用されることが知られていたので
あるが、そのピロメリット酸系の芳香族ポリイミドのガ
ス分離材料は、水素と一酸化炭素との分離性能(PH2
/PCO)が約75以下であり、充分に高いものではな
かった。
あるが、そのピロメリット酸系の芳香族ポリイミドのガ
ス分離材料は、水素と一酸化炭素との分離性能(PH2
/PCO)が約75以下であり、充分に高いものではな
かった。
この発明者らは、芳香族ポリイミド膜において従来公知
のポリイミド系のガス分離材料より高い分離性能を有す
るポリイミド膜を製造する方法について鋭意研究した結
果、芳香族ポリアミック酸。
のポリイミド系のガス分離材料より高い分離性能を有す
るポリイミド膜を製造する方法について鋭意研究した結
果、芳香族ポリアミック酸。
または反応性芳香族残基を有する芳香族ポリイミドの薄
膜に2反応性官能基を有する有機化合物を含浸(含有)
させ、一部架橋し、必要であればイミド環化を完結させ
ることによって、優れた分離性能を有する変性ポリイミ
ド膜が得られることを見出し、この発明を完成した。
膜に2反応性官能基を有する有機化合物を含浸(含有)
させ、一部架橋し、必要であればイミド環化を完結させ
ることによって、優れた分離性能を有する変性ポリイミ
ド膜が得られることを見出し、この発明を完成した。
(ただし、Rは芳香族テトラカルボン酸成分に係る芳香
族残基であり R/は芳香族ジアミン成分に係る芳香族
残基であ!、、F(/は R/のうちで反応性1の芳香
族残基である)で示され゛る反復単位10〜(ただし、
R,R’は前述のとおりである)で示される反復単位O
〜90チからなる芳香族ポリマーで形成されている薄膜
に9反応性官能基を2個以上有する有機化合物を含浸(
含有または付着)させ。
族残基であり R/は芳香族ジアミン成分に係る芳香族
残基であ!、、F(/は R/のうちで反応性1の芳香
族残基である)で示され゛る反復単位10〜(ただし、
R,R’は前述のとおりである)で示される反復単位O
〜90チからなる芳香族ポリマーで形成されている薄膜
に9反応性官能基を2個以上有する有機化合物を含浸(
含有または付着)させ。
前記含浸薄膜を形成しているポリマーを、前記有機化合
物によって、一部架橋し、必要であれば。
物によって、一部架橋し、必要であれば。
そのポリマーのイミド環化を行うことを特徴とする変性
ポリイミド膜の製造法に関する。
ポリイミド膜の製造法に関する。
この発明の方法によって得られる変性ポリイミド膜は、
従来公知のポリイミド分離膜のガス分離性能に対して、
著しく優れた分離性能を有するものであり1例えば、薄
膜の種類と有機化合物とを選べば、水素と一酸化炭素と
の分離性能(PH2/Pc0)が約100以上、さらに
110〜350程度であり、水素と酸素との分離性能(
PH2/po2)が約15以上、さらに20〜50程度
である優れた性能を示すのである。
従来公知のポリイミド分離膜のガス分離性能に対して、
著しく優れた分離性能を有するものであり1例えば、薄
膜の種類と有機化合物とを選べば、水素と一酸化炭素と
の分離性能(PH2/Pc0)が約100以上、さらに
110〜350程度であり、水素と酸素との分離性能(
PH2/po2)が約15以上、さらに20〜50程度
である優れた性能を示すのである。
この発明の方法で得られる変性ポリイミド膜は。
主鎖を形成している反復単位が大部分イミド結合してお
り、一部架橋されている芳香族ポリイミドの変性ポリマ
ーで形成されているので、非常に優れた耐熱性を有して
おり、さらに機械的性質および耐薬品性も優れているの
で、高温での耐久性が優れたものである。
り、一部架橋されている芳香族ポリイミドの変性ポリマ
ーで形成されているので、非常に優れた耐熱性を有して
おり、さらに機械的性質および耐薬品性も優れているの
で、高温での耐久性が優れたものである。
以下、この発明の方法について、さらに詳しく説明する
。
。
(ただし、R,R’およびR//は前述のとおりである
)で示される反復単位10〜100%・特に15〜(た
だし、R,R’は前述のとおりである)で示される反復
単位D〜90%、特に5〜85%からなる芳香族ポリマ
ーで形成されている薄膜である。
)で示される反復単位10〜100%・特に15〜(た
だし、R,R’は前述のとおりである)で示される反復
単位D〜90%、特に5〜85%からなる芳香族ポリマ
ーで形成されている薄膜である。
この発明では、特に、一般式中で示される反復単位10
〜100チ、特に15〜95チ、および。
〜100チ、特に15〜95チ、および。
一般式[相]で示される反復単位0〜90%、特に5〜
85チからなる芳香族ポリマー(ポリアミック酸)が、
アミド−酸結合におけるカルボキシル基を充分に有する
ので好ましい。
85チからなる芳香族ポリマー(ポリアミック酸)が、
アミド−酸結合におけるカルボキシル基を充分に有する
ので好ましい。
また、この発明では、特に、一般式(IDで示される反
復単位10〜100%、特に20〜90%および、一般
式面で示される反復単位0〜90チ。
復単位10〜100%、特に20〜90%および、一般
式面で示される反復単位0〜90チ。
特に10〜80%からなる芳香族ポリマー(芳香族ポリ
イミド)が、芳香族ジアミン成分に係る反応性の芳香族
残基R″を有しているので、好ましい。
イミド)が、芳香族ジアミン成分に係る反応性の芳香族
残基R″を有しているので、好ましい。
すなわち、この発明で使用する芳香族ポリマーの薄膜は
、薄膜を形成しているポリマーが、アミド−酸結合にお
けるカルボキシル基、および/または、芳香族ジアミン
成分に係る反応性の芳香族残基を有している反応性のポ
リマーで形成されて(6) いるのである。
、薄膜を形成しているポリマーが、アミド−酸結合にお
けるカルボキシル基、および/または、芳香族ジアミン
成分に係る反応性の芳香族残基を有している反応性のポ
リマーで形成されて(6) いるのである。
前述の一般式(1)〜面において、芳香族残基Rは。
芳香族テトラカルボン酸成分に係る四価の芳香族残基で
あり、ベンゼン核を1〜5個有するものが好ましく、特
にベンゼン核2個有する四価の芳香族残基が好適である
。
あり、ベンゼン核を1〜5個有するものが好ましく、特
にベンゼン核2個有する四価の芳香族残基が好適である
。
前記芳香族残基Rとしては9例えば
〔ただし、Aは、Co 、 S +、Or IEO
+−CH2−−C(CH3)2−などの二価の基である
〕など、捷たけそれらの置換基を有する基を好適に挙げ
ることができる。
+−CH2−−C(CH3)2−などの二価の基である
〕など、捷たけそれらの置換基を有する基を好適に挙げ
ることができる。
したがって、前記芳香族残基Rを形成する芳香族テトラ
カルボン酸成分としては9例えば。
カルボン酸成分としては9例えば。
3.6′、 4 、4/−ビフェニルテトラカルボン酸
2,3,3箸′−ビフェニルテトラカルボン酸+
3 + 3’+ 444’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸、 2,3.3’、4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸、 2.2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)スルホン、ビス(ろ、4−ジカルボキシフェニル)エ
ーテル、ビス(314−ジカルボキシフェニル)チオエ
ーテル、ピロメリット酸、あるいは、それらの酸無水物
、塩または低級アルキルエステル化物、それらの化合物
の混合物を挙げることができる。
2,3,3箸′−ビフェニルテトラカルボン酸+
3 + 3’+ 444’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸、 2,3.3’、4’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸、 2.2−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)プロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)メタン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル
)スルホン、ビス(ろ、4−ジカルボキシフェニル)エ
ーテル、ビス(314−ジカルボキシフェニル)チオエ
ーテル、ピロメリット酸、あるいは、それらの酸無水物
、塩または低級アルキルエステル化物、それらの化合物
の混合物を挙げることができる。
前述の一般式(I)〜[相]において、芳香族残基R′
およびR“は、芳香族ジアミン成分に係る二価の芳香族
残基であり、ベンゼン核、ピリジン核などの芳香族−を
1〜3個有するものが好ましく、特に芳香族′残基R′
としてはベンゼン核を2個有する二価の芳香族残基、あ
るいはベンゼン核を2個有する二価の芳香族残基と他の
芳香族環1〜2個有する二価の芳香族残基とであっても
よく、芳香族残基R“とじては、ピリジン核を有する二
価の芳香族残基、または、カルボキシル基、2級アミノ
基、スルホン酸基、金属スルホ基などを有するベンゼン
核を有する反応性の芳香族残基であることが好ましい。
およびR“は、芳香族ジアミン成分に係る二価の芳香族
残基であり、ベンゼン核、ピリジン核などの芳香族−を
1〜3個有するものが好ましく、特に芳香族′残基R′
としてはベンゼン核を2個有する二価の芳香族残基、あ
るいはベンゼン核を2個有する二価の芳香族残基と他の
芳香族環1〜2個有する二価の芳香族残基とであっても
よく、芳香族残基R“とじては、ピリジン核を有する二
価の芳香族残基、または、カルボキシル基、2級アミノ
基、スルホン酸基、金属スルホ基などを有するベンゼン
核を有する反応性の芳香族残基であることが好ましい。
前記芳香族残基R’、R“とじては9例えば。
(ただし、Xは置換基で有り、Aは前述のとおりである
)で示される基を好適に挙げることができる。
)で示される基を好適に挙げることができる。
前記芳香族残基Rシを形成する芳香族ジアミンとしては
9例えば 4.4′−ジアミノジフェニルエーテル、3+3’−ジ
メヂルー4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、
3.3’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル、3.3’−ジアミノジフェニルエーテル、
3.4’−ジアミノジフェニルエーテルなどのジフェ
ニルエーテル系ジアミン+ 4,4’−ジアミノジフ
ェニルチオエーテル、 3.3’−ジメチル−4,4
′−ジアミノジフェニルチオエーテル、 3.3’−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノチオエーテル、 3
.3’−ジアミノジフェニルチオエーテルなどのジフェ
ニルチオエーテル系ジアミン、 4.4’−ジアミノ
ベンゾフェノン。
9例えば 4.4′−ジアミノジフェニルエーテル、3+3’−ジ
メヂルー4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、
3.3’−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
エーテル、3.3’−ジアミノジフェニルエーテル、
3.4’−ジアミノジフェニルエーテルなどのジフェ
ニルエーテル系ジアミン+ 4,4’−ジアミノジフ
ェニルチオエーテル、 3.3’−ジメチル−4,4
′−ジアミノジフェニルチオエーテル、 3.3’−
ジメトキシ−4,4′−ジアミノチオエーテル、 3
.3’−ジアミノジフェニルチオエーテルなどのジフェ
ニルチオエーテル系ジアミン、 4.4’−ジアミノ
ベンゾフェノン。
己、3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン。
ン。
6.3′−ジアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン系ジアミン、 3.3’−ジアミノジフェニルメタ
ン、 4.4’−ジアミノジフェニルメタン、 3
.!l’lジートキシー4,4′−ジアミノジフェニル
メタン。
ン系ジアミン、 3.3’−ジアミノジフェニルメタ
ン、 4.4’−ジアミノジフェニルメタン、 3
.!l’lジートキシー4,4′−ジアミノジフェニル
メタン。
6.3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タンなどのジフェニルメタン系ジアミン、2.2−ビス
(4−アミノフェニル)プロパン、 2.2−ヒス(
3−アミノフェニル)プロパンなどのビスフェニルプロ
パン系ジアミン、 4.4’−ジアミノジフェニルス
ルホキシド、3+3’−ジアミノジフェニルスルホキシ
ドなどのジフェニルスルホキシド系ジアミン+4+4’
−ジアミノジフェニルスルホン、 3.3’−ジアミ
ノジフェニルスルホ7などのジフェニルスルホン系ジア
ミン、ベンチジン、 3.3’−ジメチルベンチジン
、 3.3’−ジメトキシベンチジン。
タンなどのジフェニルメタン系ジアミン、2.2−ビス
(4−アミノフェニル)プロパン、 2.2−ヒス(
3−アミノフェニル)プロパンなどのビスフェニルプロ
パン系ジアミン、 4.4’−ジアミノジフェニルス
ルホキシド、3+3’−ジアミノジフェニルスルホキシ
ドなどのジフェニルスルホキシド系ジアミン+4+4’
−ジアミノジフェニルスルホン、 3.3’−ジアミ
ノジフェニルスルホ7などのジフェニルスルホン系ジア
ミン、ベンチジン、 3.3’−ジメチルベンチジン
、 3.3’−ジメトキシベンチジン。
ろ、3′−ジアミノビフェニルなどのビフェニル系ジア
ミン、2,6−ジアミノピリジン、3,6−ジアミノピ
リジン、2,5−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノ
ピリジンなどのピリジ/系ジアミン、0−2m +
”tたはp−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息
香酸など、あるいはそれらの混合物を挙げることができ
る。
ミン、2,6−ジアミノピリジン、3,6−ジアミノピ
リジン、2,5−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノ
ピリジンなどのピリジ/系ジアミン、0−2m +
”tたはp−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息
香酸など、あるいはそれらの混合物を挙げることができ
る。
この発明では、前記芳香族ジアミン成分としてハ、ジフ
ェニルエーテル系ジアミン、ジフェニルチオエーテル系
ジアミン、′ジフェニルメタン系ジアミン、ビフェニル
系ジナミン、あるいは、上記芳香族ジアミン化合物と他
の芳香族ジアミンとの混合物を、特に好適に挙けること
ができる。
ェニルエーテル系ジアミン、ジフェニルチオエーテル系
ジアミン、′ジフェニルメタン系ジアミン、ビフェニル
系ジナミン、あるいは、上記芳香族ジアミン化合物と他
の芳香族ジアミンとの混合物を、特に好適に挙けること
ができる。
また、一般式(IDにおいて2反応性芳香族残基R/1
を形成する芳香族ジアミン成分としては7例えば。
を形成する芳香族ジアミン成分としては7例えば。
ろ、5−ジアミノ安息香酸・ 2,4−ジアミノ安息香
酸、2,5−ジアミノ安息香酸などの安息香酸系ジアミ
ン、2,6−ジアミノピリジン、3,6−ジアミノピリ
ジン、2,5−ジアミノピリジン、ろ、4−ジアミノピ
リジンなどのピリジン系ジアミン、スルホメタフェニレ
ンジアミン、リチウムスルホメタフェニレンジアミンな
どのスルホン酸ベンゼン系ジアミンなどを挙げることが
できる。
酸、2,5−ジアミノ安息香酸などの安息香酸系ジアミ
ン、2,6−ジアミノピリジン、3,6−ジアミノピリ
ジン、2,5−ジアミノピリジン、ろ、4−ジアミノピ
リジンなどのピリジン系ジアミン、スルホメタフェニレ
ンジアミン、リチウムスルホメタフェニレンジアミンな
どのスルホン酸ベンゼン系ジアミンなどを挙げることが
できる。
この発明において使用する芳香族ポリマーの薄膜は、前
記の芳香族ポリアミック酸または芳香族ポリイミドが適
当な有機溶媒に均一に溶解されている芳香族ポリマーの
均一な溶液(ドープ液)を。
記の芳香族ポリアミック酸または芳香族ポリイミドが適
当な有機溶媒に均一に溶解されている芳香族ポリマーの
均一な溶液(ドープ液)を。
乾式製膜法、湿式製膜法などによって、製膜して得られ
た均質膜、非対称性膜などの薄膜であればよく、適当な
多孔質膜の基材の表面に形成された極めて薄い均質膜で
あってもよい。
た均質膜、非対称性膜などの薄膜であればよく、適当な
多孔質膜の基材の表面に形成された極めて薄い均質膜で
あってもよい。
その薄膜の形体は、平膜状、中空糸状、複合膜(平膜状
、中空糸状)の均質層などのいずれであってもよい。
、中空糸状)の均質層などのいずれであってもよい。
前記の芳香族ポリマーの薄膜を製造するためのポリマー
の均一な溶液(ドープ液)は、一般式(I)で示される
反復単位を50−以上、特に60%以上有する芳香族ポ
リアミック酸が、ポリマー濃度約0.3〜40重量%、
特に0.5〜30重量%で。
の均一な溶液(ドープ液)は、一般式(I)で示される
反復単位を50−以上、特に60%以上有する芳香族ポ
リアミック酸が、ポリマー濃度約0.3〜40重量%、
特に0.5〜30重量%で。
適当な有機極性溶媒1例えば、N−メチル−2−ピロリ
ドン+ NUN−ジメチルアセトアミド+ NUN
−ジエチルアセトアミド、 N、N−ジメチルホルム
アミド、 N、N−ジエチルホルムアミド、N−メチ
ルカプロラクタムなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホ
キシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶
媒、テトラメチル尿素、テトラエチル尿素などのアルキ
ル尿素系溶媒などに、均一に溶解されている溶液であれ
ばよく、その溶液の回転粘度(50℃)が1〜10万ポ
アズ、特に5〜5万ポアズ程度であればよいのである。
ドン+ NUN−ジメチルアセトアミド+ NUN
−ジエチルアセトアミド、 N、N−ジメチルホルム
アミド、 N、N−ジエチルホルムアミド、N−メチ
ルカプロラクタムなどのアミド系溶媒、ジメチルスルホ
キシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶
媒、テトラメチル尿素、テトラエチル尿素などのアルキ
ル尿素系溶媒などに、均一に溶解されている溶液であれ
ばよく、その溶液の回転粘度(50℃)が1〜10万ポ
アズ、特に5〜5万ポアズ程度であればよいのである。
前述の均一な溶液中のポリアミック酸は、対数粘度(6
0℃、 0.5 r7100m1N−メチル−2=ピ
ロリドン)が0.1〜7.特に0.2〜5程度であるこ
とが好ましい。
0℃、 0.5 r7100m1N−メチル−2=ピ
ロリドン)が0.1〜7.特に0.2〜5程度であるこ
とが好ましい。
前記の芳香族ポリアミック酸の均一な溶液を使用して、
適当な凝固液9例えば、水、低級アルコール、アセトン
、グリコール類などの中で、低温で、製膜すれば、前記
一般式(1)の反復単位10〜100チおよび一般式[
相]の反復単位0〜90チを有するポリアミック酸の薄
膜を形成することができ、あるいは、前記芳香族ポリア
ミック酸の均一な溶液を使用してその溶液の薄膜を形成
し、比較的低温(100℃以下、特に80℃以下)で必
要であれば減圧下、不活性気体の流通下に、乾燥するこ
とによって、前記のポリアミック酸の薄膜を形成するこ
とができる。
適当な凝固液9例えば、水、低級アルコール、アセトン
、グリコール類などの中で、低温で、製膜すれば、前記
一般式(1)の反復単位10〜100チおよび一般式[
相]の反復単位0〜90チを有するポリアミック酸の薄
膜を形成することができ、あるいは、前記芳香族ポリア
ミック酸の均一な溶液を使用してその溶液の薄膜を形成
し、比較的低温(100℃以下、特に80℃以下)で必
要であれば減圧下、不活性気体の流通下に、乾燥するこ
とによって、前記のポリアミック酸の薄膜を形成するこ
とができる。
前記芳香族ポリアミック酸の均一な溶液においれる反復
単位10〜100%・特に15〜95%有する芳香族ポ
リアミック酸で擲る場合には、前述の湿式製膜法呼たは
乾式製膜法において、ポリマーのイミド環化を行いなが
ら製膜するか、あるいは、一旦前述のポリアミック酸の
薄膜を形成し。
単位10〜100%・特に15〜95%有する芳香族ポ
リアミック酸で擲る場合には、前述の湿式製膜法呼たは
乾式製膜法において、ポリマーのイミド環化を行いなが
ら製膜するか、あるいは、一旦前述のポリアミック酸の
薄膜を形成し。
その薄膜を高温に加熱しイミド環化して、前記一般式(
II’)の反復単位10〜100%および一般式面の反
復単位0〜90チを有する芳香族ポリイミドの薄膜を形
成することができる。
II’)の反復単位10〜100%および一般式面の反
復単位0〜90チを有する芳香族ポリイミドの薄膜を形
成することができる。
なお、一般式■と一般式[相]とからなる芳香族ポリイ
ミドにおいて、それらの一般式における芳香族残基Rが
1例えば、ビフェニルテトラカルボ/酸類、ベンゾフェ
ノンテトラカルポン酸類から形成された芳香族残基であ
って、芳香族残基R′が。
ミドにおいて、それらの一般式における芳香族残基Rが
1例えば、ビフェニルテトラカルボ/酸類、ベンゾフェ
ノンテトラカルポン酸類から形成された芳香族残基であ
って、芳香族残基R′が。
ベンゼン核を2個有する芳香族ジアミン類から主として
形成された芳香族残基であって、一般式[相]の反復単
位50チ以上、特に60〜90%であシ。
形成された芳香族残基であって、一般式[相]の反復単
位50チ以上、特に60〜90%であシ。
一般式(IDの反復単位が50%以下、特に10〜40
チ程度である芳香族ポリイミドは、フェノール系溶媒に
よく溶解するので、その芳香族ポリイミドのフェノール
系溶媒の均一な溶液を調製することができる。
チ程度である芳香族ポリイミドは、フェノール系溶媒に
よく溶解するので、その芳香族ポリイミドのフェノール
系溶媒の均一な溶液を調製することができる。
そのポリイミド溶液は、この発明で使用する芳香族ポリ
マーの薄膜を製造するための製膜用ドープ液として使用
することができる。
マーの薄膜を製造するための製膜用ドープ液として使用
することができる。
製膜用のポリイミド溶液は、一般式(IDの反復単位位
10〜50チおよび一般式[相]の反復単位50〜9゜
チを有する前述の芳香族ポリイミドが、ポリマー濃度約
0.3〜30重量%、特に0.5〜25重量%で。
10〜50チおよび一般式[相]の反復単位50〜9゜
チを有する前述の芳香族ポリイミドが、ポリマー濃度約
0.3〜30重量%、特に0.5〜25重量%で。
フェノール系溶媒9例えば、フェノール、クレゾール、
ろ、5−キシレノール、カルバクロール、チモールなど
のm個フエノール、あるいは、それらの−価のフェノー
ルのベンゼン核の水素をハロゲンで置換したハロゲン化
フェノールに、均一に溶解されている溶液であって、そ
の溶液の回転粘度(100℃)が1〜5万ポアズ、特に
5〜2万ポアズ程度である溶液であることが好ましい。
ろ、5−キシレノール、カルバクロール、チモールなど
のm個フエノール、あるいは、それらの−価のフェノー
ルのベンゼン核の水素をハロゲンで置換したハロゲン化
フェノールに、均一に溶解されている溶液であって、そ
の溶液の回転粘度(100℃)が1〜5万ポアズ、特に
5〜2万ポアズ程度である溶液であることが好ましい。
前記芳香族ポリイミドは、対数粘度(50℃。
0.51/1oo尻lパラクロフエノール)が0.1〜
7・特に0.2〜5程度であり、イミド化率が90チ以
上であることが、ポリイミドの均一な溶液の調製におい
て適当である。
7・特に0.2〜5程度であり、イミド化率が90チ以
上であることが、ポリイミドの均一な溶液の調製におい
て適当である。
前記ポリイミド溶液で使用するハロゲン化フェノールト
シては9例えば、3−クロルフェノール。
シては9例えば、3−クロルフェノール。
4−クロルフェノール、3−ブロムフェノール。
4−ブロムフェノール、2−クロル−4−ヒドロキシト
ルエン、2−クロル−5−ヒドロキシトルエン、3−ク
ロル−6−ヒドロキシトルエン、4−クロル−2−ヒド
ロキシトルエン+ 2−フロム−4−ヒドロキシトル
エン、2−ブロム−5−ヒドロキシトルエン、′zI−
ブロムー5−ヒドロキシトルエン、3−7’ロム−6−
ヒドロキシトルエンなどを挙げることができる。
ルエン、2−クロル−5−ヒドロキシトルエン、3−ク
ロル−6−ヒドロキシトルエン、4−クロル−2−ヒド
ロキシトルエン+ 2−フロム−4−ヒドロキシトル
エン、2−ブロム−5−ヒドロキシトルエン、′zI−
ブロムー5−ヒドロキシトルエン、3−7’ロム−6−
ヒドロキシトルエンなどを挙げることができる。
前述の芳香族ポリイミドの均一な溶液を使用して、凝固
液を使用する湿式製膜法、あるいは、その溶液の薄膜を
直接乾燥する乾式製膜法によって。
液を使用する湿式製膜法、あるいは、その溶液の薄膜を
直接乾燥する乾式製膜法によって。
前記一般式(IDの反復単位10〜50%および一般式
面の反復単位50〜90%を有する芳香族ポリイミドの
薄膜を製造することができる。
面の反復単位50〜90%を有する芳香族ポリイミドの
薄膜を製造することができる。
この発明の方法においては、前述の種々の芳香族ポリマ
ーの薄膜に9反応性官能基を2個以上有する有機化合物
を含浸させ。
ーの薄膜に9反応性官能基を2個以上有する有機化合物
を含浸させ。
前記含浸薄膜を形成しているポリマーを、前記有機化合
物によって一部架橋し、必要であれば。
物によって一部架橋し、必要であれば。
そのポリマーのイミド環化を行って、変性ポリイミド膜
を製造するのである。
を製造するのである。
前記の有機化合物は、前述の薄膜を形成している芳香族
ポリマーのアミド−酸結合のカルボキシル基9反応性芳
香族残基R〃などと反応することができる反応性の官能
基を2個以上有する化合物であって、そのポリマーの薄
膜に含浸(含有または付着)されうるものであれば、ど
のような有機化合物であってもよい。
ポリマーのアミド−酸結合のカルボキシル基9反応性芳
香族残基R〃などと反応することができる反応性の官能
基を2個以上有する化合物であって、そのポリマーの薄
膜に含浸(含有または付着)されうるものであれば、ど
のような有機化合物であってもよい。
芳香族ポリマーが、芳香族ポリアミック酸、または、カ
ルボキシル基を有する反応性芳香族残基R“を有するも
のである場合には、前記有機化合物は、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート。
ルボキシル基を有する反応性芳香族残基R“を有するも
のである場合には、前記有機化合物は、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート。
水素化トリレンジイソシアネート、ナフタレンンイソシ
アネートなどのジイソシアネート化合物。
アネートなどのジイソシアネート化合物。
エチレンクリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ジポリプ口ピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタ
メチレングリコール。
レングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ジポリプ口ピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタ
メチレングリコール。
ヘキサメチレングリコールなどのグリコール化合物、ン
°タンジアミン、ペンタンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、プロパンジアミン、m−、p−フェニレンジア
ミン、m−キシリレンジアミン。
°タンジアミン、ペンタンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、プロパンジアミン、m−、p−フェニレンジア
ミン、m−キシリレンジアミン。
4.4′−ジアミノジフェニルエーテル+ 4,4’
−ジアミノジフェニルメタンなどのジアミン化合物、チ
オニルクロライドなどを挙げることができ、特に。
−ジアミノジフェニルメタンなどのジアミン化合物、チ
オニルクロライドなどを挙げることができ、特に。
ジイソシアネート化合物が好適である。
芳香族ポリマーが、芳香族残基R〃としてピリジン環を
有するものである場合には、前記有機化合物としては、
4級化イオン架橋をすることができる化合物9例えば、
エチレンジブロマイド、エチレンジクロライド、プロピ
レンジブロマイドなどのジハロゲン化合物などを挙げる
ことができる。
有するものである場合には、前記有機化合物としては、
4級化イオン架橋をすることができる化合物9例えば、
エチレンジブロマイド、エチレンジクロライド、プロピ
レンジブロマイドなどのジハロゲン化合物などを挙げる
ことができる。
芳香族ポリマーが、芳香族残基R“として、2級アミン
などを有する場合には、前記有機化合物としては、前述
のジイソシアネート化合物を挙げることができる。
などを有する場合には、前記有機化合物としては、前述
のジイソシアネート化合物を挙げることができる。
さらに、芳香族ポリマーが、芳香族残基R“として、ス
ルホン酸基、ハロゲン化スルホン酸基、金属塩スルホン
酸基などを有する場合には、前記有機化合物としては、
前述のジアミン化合物を挙げることができる。
ルホン酸基、ハロゲン化スルホン酸基、金属塩スルホン
酸基などを有する場合には、前記有機化合物としては、
前述のジアミン化合物を挙げることができる。
この発明の方法において、前述の芳香族ポリマーの薄膜
に前記有機化合物を含浸させるには、前記製膜用のドー
プ液に予め有機化合物を含有させておいて、その有機化
合物が反応しないような製膜をして、薄膜に有機化合物
を含浸させる方法が好ましいが、その場合には、製膜前
に有機化合物が反応してしまわないようにする必要があ
る。
に前記有機化合物を含浸させるには、前記製膜用のドー
プ液に予め有機化合物を含有させておいて、その有機化
合物が反応しないような製膜をして、薄膜に有機化合物
を含浸させる方法が好ましいが、その場合には、製膜前
に有機化合物が反応してしまわないようにする必要があ
る。
また、前記芳香族ポリマーの薄膜に前記有機化合物を含
浸させるには、有機化合物の適当な溶液中に、前記薄膜
を浸漬して、溶媒を乾燥などによって除去することによ
って、薄膜に有機化合物を含浸させる方法が、好適であ
る。
浸させるには、有機化合物の適当な溶液中に、前記薄膜
を浸漬して、溶媒を乾燥などによって除去することによ
って、薄膜に有機化合物を含浸させる方法が、好適であ
る。
前記の有機化合物の溶液としては、前記有機化合物を、
ノ・ロゲン化炭化水素溶媒9例えば、ジクロロメタン、
クロロホルム、テトラクロロエタン。
ノ・ロゲン化炭化水素溶媒9例えば、ジクロロメタン、
クロロホルム、テトラクロロエタン。
ジクロロエタン、トリクロロエタンなど、芳香族化合物
9例えばベンゼン、トルエンなどに、1〜20重量%、
特に2〜15重量%程度、溶解した溶液が好適である。
9例えばベンゼン、トルエンなどに、1〜20重量%、
特に2〜15重量%程度、溶解した溶液が好適である。
この発明において、芳香族ポリマーの薄膜に有機化合物
を含浸させるために薄膜を有機化合物の溶液に浸漬する
際に、浸漬温度が100℃以下。
を含浸させるために薄膜を有機化合物の溶液に浸漬する
際に、浸漬温度が100℃以下。
特に0〜80℃程度であり、浸漬時間が0.1〜10時
間、特に0.1〜5時間程度であることが好ましい。
間、特に0.1〜5時間程度であることが好ましい。
さらに、芳香族ポリマーの薄膜に前記有機化合物を含浸
させるには、その薄膜を、有機化合物の蒸気の中にさら
して、含浸させることもできる。
させるには、その薄膜を、有機化合物の蒸気の中にさら
して、含浸させることもできる。
この発明の方法において、前述のようにして。
有機化合物の含浸(含有、付着)された薄膜を形成して
いるポリマーを、有機化合物で一部架橋するには2例え
ば、その含浸薄膜を、約50〜300℃、特に60〜2
50℃に・、約0.1〜20時間。
いるポリマーを、有機化合物で一部架橋するには2例え
ば、その含浸薄膜を、約50〜300℃、特に60〜2
50℃に・、約0.1〜20時間。
特に0,5〜15時間、加熱することが好ましい。
前記の加熱は、何段口かにわけて、昇温しで行きながら
行ってもよい。
行ってもよい。
なお・芳香族ポリマーの薄膜が、芳香族ポリアミック酸
からなる薄膜である場合には、前述の加熱を、最終的に
150℃以上、特に16(11以上に加熱して、ポリマ
ーのイミド環化を完結することが必要である。
からなる薄膜である場合には、前述の加熱を、最終的に
150℃以上、特に16(11以上に加熱して、ポリマ
ーのイミド環化を完結することが必要である。
この発明の方法においては、特に、ビフェニルテトラカ
ルボン酸成分に係る芳香族残基Rを有する前記一般式(
I)および/または一般式叩の反復単位10〜100%
、および一般式[相]の反復単位0〜90チからなる芳
香族ポリマー、特に、カルボキシル基を有する前記芳香
族ポリマーの薄膜に。
ルボン酸成分に係る芳香族残基Rを有する前記一般式(
I)および/または一般式叩の反復単位10〜100%
、および一般式[相]の反復単位0〜90チからなる芳
香族ポリマー、特に、カルボキシル基を有する前記芳香
族ポリマーの薄膜に。
反応性肴能基を2個以上有する有機化合物、特にジイソ
シアネート化合物を含浸させ。
シアネート化合物を含浸させ。
その含浸薄膜を形成しているポリマーを、前記有機化合
物によって一部架橋し、必要であれば。
物によって一部架橋し、必要であれば。
そのポリマーのイミド環化を行うことによって。
変性ポリイミド膜を製造することが、優れた性能の変性
ポリイミド膜が得られるので最適である。
ポリイミド膜が得られるので最適である。
また、この発明の方法においては、、前記一般式(I)
の反復単位10〜100チ、特に20〜100係、およ
び一般式[相]の反復単位0〜90%、特に0〜80係
からなる芳香族ポリアミック酸の薄膜に。
の反復単位10〜100チ、特に20〜100係、およ
び一般式[相]の反復単位0〜90%、特に0〜80係
からなる芳香族ポリアミック酸の薄膜に。
反応性官能基2個以上有する有機化合物を含浸させ。
その含浸薄膜を形成しているポリマーを、高温に加熱し
て、前記有機化合物によって一部架橋し。
て、前記有機化合物によって一部架橋し。
そのポリマーのイミド環化を行うことによって。
変性ポリイミド膜を製造することが、極めて優れた分離
性能を示す変性ポリイミド膜が得られるので、さらに最
適である。
性能を示す変性ポリイミド膜が得られるので、さらに最
適である。
この発明の方法において、芳香族ポリマーの薄膜は、製
膜用ドープ液の溶媒が50重量φ以下。
膜用ドープ液の溶媒が50重量φ以下。
特に40重量%以下であれば含有されていてもよいので
ある。
ある。
この発明の方法によって得られる変性ポリイミド膜は、
ガス分離材料として使用した場合に、極めて高いガス分
離性能を示し、耐熱性、耐薬品性。
ガス分離材料として使用した場合に、極めて高いガス分
離性能を示し、耐熱性、耐薬品性。
機械的強度が優れているのである。
以下、参考例および実施例と比較例を示す。
参考例1
3.3’、4.4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物23.8ミリモル、 4.4’−ジアミノジフェ
ニルエーテル15.9ミリモル、己、5−ジアミノ安息
香酸7.9ミリモル、およヒバラクロルフエ/ −ル1
022を、攪拌機と窒素ガス供給管とが付設されたセパ
ラブルフラスコに入れて、常温から180℃まで約50
分間で昇温し、窒素ガスを流通し、攪拌しながら、18
0℃で3時間5重合およびイミド環化を1段で行い、芳
香族ポリイミドを生成し。
水物23.8ミリモル、 4.4’−ジアミノジフェ
ニルエーテル15.9ミリモル、己、5−ジアミノ安息
香酸7.9ミリモル、およヒバラクロルフエ/ −ル1
022を、攪拌機と窒素ガス供給管とが付設されたセパ
ラブルフラスコに入れて、常温から180℃まで約50
分間で昇温し、窒素ガスを流通し、攪拌しながら、18
0℃で3時間5重合およびイミド環化を1段で行い、芳
香族ポリイミドを生成し。
ポリイミド溶液を製造した。
そのポリイミド溶液は、ポリマー濃度が約10重量%で
あり、ポリマーの対数粘度(50℃。
あり、ポリマーの対数粘度(50℃。
0.5?/100肩lパラクロルフエノール)が、2.
0であり、イミド化率が95%以上であった。
0であり、イミド化率が95%以上であった。
参考例2
3.3’、4.4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物40ミリモル、 4.4’−ジアミノジフェニル
エーテル40ミリモル、およびN−メチル−2−ピロリ
ドン1782を、参考例1と同様の七ノぐうプルフラス
コ がら,25℃で,7.5時間,重合し,芳香族ポリアミ
ック酸を生成し,ポリアミック酸溶液を製造した。
水物40ミリモル、 4.4’−ジアミノジフェニル
エーテル40ミリモル、およびN−メチル−2−ピロリ
ドン1782を、参考例1と同様の七ノぐうプルフラス
コ がら,25℃で,7.5時間,重合し,芳香族ポリアミ
ック酸を生成し,ポリアミック酸溶液を製造した。
そのポリアミック酸溶液は,ポリマー濃度が約10重量
%であり,対数粘度(60℃,o.sr/100m/+
N−メチル−2−ピロリドン)が1.95であり,イミ
ド化率が5チ以下であった。
%であり,対数粘度(60℃,o.sr/100m/+
N−メチル−2−ピロリドン)が1.95であり,イミ
ド化率が5チ以下であった。
実施例1
参考例1で製造したポリイミド溶液をドープ液として使
用し,ガラス板上に50℃で厚さ0.21111に均一
に流延し,60℃で1時間,100℃で2時間乾燥し,
溶媒を徐々に除去し,約20μの厚さのポリイミド膜を
形成した。
用し,ガラス板上に50℃で厚さ0.21111に均一
に流延し,60℃で1時間,100℃で2時間乾燥し,
溶媒を徐々に除去し,約20μの厚さのポリイミド膜を
形成した。
ヘキサメチレンジイソシアネートがクロロホルムに4.
6重量係溶解している溶液に,前記ポリイミド膜を,2
5℃で,25分間浸漬して,そのポリイミド膜に前記溶
液を含浸させ,その含浸ポリイミド膜を,窒素ガス流通
下,25℃で10時間風乾してす クロロホルムを蒸発
除去した後,そのポリイミド膜を,100℃で2時間,
次いで200℃で2時間,加熱して,ポリイミドを一部
架橋して,変性ポリイミド膜を製造した。
6重量係溶解している溶液に,前記ポリイミド膜を,2
5℃で,25分間浸漬して,そのポリイミド膜に前記溶
液を含浸させ,その含浸ポリイミド膜を,窒素ガス流通
下,25℃で10時間風乾してす クロロホルムを蒸発
除去した後,そのポリイミド膜を,100℃で2時間,
次いで200℃で2時間,加熱して,ポリイミドを一部
架橋して,変性ポリイミド膜を製造した。
その変性ポリイミド膜について,ガス透過テストを行っ
た。その結果を第1表に示す。
た。その結果を第1表に示す。
なお、ガス透過テストは,面積14.65−のステンレ
ス族のセルに,ポリイミド膜を設置し,水素,−酸化炭
素,酸素を,50℃で各々0.5〜1Ky/−に加圧し
て供給し,膜の透過側を約10−4wnH?に減圧して
,膜を透過して来るガス量を流量計で測定した。
ス族のセルに,ポリイミド膜を設置し,水素,−酸化炭
素,酸素を,50℃で各々0.5〜1Ky/−に加圧し
て供給し,膜の透過側を約10−4wnH?に減圧して
,膜を透過して来るガス量を流量計で測定した。
各ガスの透過係数Pは,次の式で算出した。
なお、ポリイミド膜の分離性能は,水素の透過係数PH
2と一酸化炭素との透過係数POOとの比( PH27
PCO )、あるいは水素と酸素との透過係数の比(P
H2/PCO)で示す。
2と一酸化炭素との透過係数POOとの比( PH27
PCO )、あるいは水素と酸素との透過係数の比(P
H2/PCO)で示す。
比較例1
参考例1で製造されたポリイミド溶液をドープ液として
使用し,ガラス板上に50℃で厚さ0.2簡に均一に流
延し,100℃で1時間,200℃で2時間乾燥し,溶
媒を徐々に除去し,約20μの厚さのポリイミド膜を形
成した。
使用し,ガラス板上に50℃で厚さ0.2簡に均一に流
延し,100℃で1時間,200℃で2時間乾燥し,溶
媒を徐々に除去し,約20μの厚さのポリイミド膜を形
成した。
そのポリイミド膜について,ガス透過テストを行った結
果を第1表に示す。
果を第1表に示す。
実施例2
参考例2で製造されたポリアミック酸溶液をドープ液と
して使用して,ガラス板上に30℃で厚さ0.2簡に流
延し,60℃で0.5時間,60℃で減圧下約2時間乾
燥して,約20μの厚さのポリアミック酸の薄膜(凝固
膜)を形成した。
して使用して,ガラス板上に30℃で厚さ0.2簡に流
延し,60℃で0.5時間,60℃で減圧下約2時間乾
燥して,約20μの厚さのポリアミック酸の薄膜(凝固
膜)を形成した。
このポリアミック酸の薄膜中には,溶媒が約30チ残存
していた。
していた。
そのポリアミック酸の薄膜を,ヘキサメチレンジイソシ
アネートがクロロホルムに9重量%溶解している溶液に
、25℃で20分間浸漬し、そのポリアミック酸の薄膜
に前記溶媒を含浸させ、その含浸薄膜を、窒素ガス流°
通下に、25℃で約1時間風乾して、クロロホルムを蒸
発除去し、その後、100℃で一1時間、200℃でろ
時間、加熱して、薄膜中の溶媒を除去し、ポリマーを一
部架橋させると共に、ポリマーのイミド環化を行って。
アネートがクロロホルムに9重量%溶解している溶液に
、25℃で20分間浸漬し、そのポリアミック酸の薄膜
に前記溶媒を含浸させ、その含浸薄膜を、窒素ガス流°
通下に、25℃で約1時間風乾して、クロロホルムを蒸
発除去し、その後、100℃で一1時間、200℃でろ
時間、加熱して、薄膜中の溶媒を除去し、ポリマーを一
部架橋させると共に、ポリマーのイミド環化を行って。
変性ポリイミド膜を製造した。
その変性ポリイミド膜について、ガス透過テストを行っ
た結果を第1表に示す。
た結果を第1表に示す。
比較例2
参考例2で製造されたポリアミック酸の溶液をドープ液
として使用し、ガラス板上に′50℃で厚さ0.2咽に
均一に流延し、そのドープ液の薄膜を。
として使用し、ガラス板上に′50℃で厚さ0.2咽に
均一に流延し、そのドープ液の薄膜を。
窒素ガス流通下に、100℃で1時間、200℃で3時
間、加熱して、溶媒を徐々に除去すると共にポリマーを
イミド環化して、ポリイミド膜を製造した。
間、加熱して、溶媒を徐々に除去すると共にポリマーを
イミド環化して、ポリイミド膜を製造した。
そのポリイミド膜について、ガス透過テストを行った結
果を第1表に示す。
果を第1表に示す。
実施例3
参考例1で製造したポリイミド溶液45.8 rにエチ
レングリコール0.12fを添加して均一に溶解した溶
液を調製し、ドープ液として使用し、このドープ液をガ
ラス板上に50℃で厚さ0.2晒に均一に流延し、ドー
プ液の薄膜を形成し、その薄膜を、窒素ガス流通下に、
10−0℃で1時間。
レングリコール0.12fを添加して均一に溶解した溶
液を調製し、ドープ液として使用し、このドープ液をガ
ラス板上に50℃で厚さ0.2晒に均一に流延し、ドー
プ液の薄膜を形成し、その薄膜を、窒素ガス流通下に、
10−0℃で1時間。
260℃で2時間、加熱して、薄膜を凝固し、その凝固
膜のポリマーを一部架橋すると共に、溶媒を徐々に除去
して、変性ポリイミド膜を製造した。
膜のポリマーを一部架橋すると共に、溶媒を徐々に除去
して、変性ポリイミド膜を製造した。
その変性ポリイミド膜について、ガス透過テストを行っ
た結果を、第1表に示す。
た結果を、第1表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (ただし、Rは芳香族テトラカルボン酸成分に係る芳香
族残基であり R/は芳香族ジアミン成分に係る芳香族
残基であり、R“はR′のうち反応性芳香族残基である
)で示される反復単位10〜100%。 (ただし、 R,R’は前述のとおりである)で示さ
れる反復単位0〜90%からなる芳香族ポリマーの薄膜
に9反応性官能基を2個以上有する有機化合物を含浸さ
せ。 前記含浸薄膜を形成しているポリマーを、前記有機化合
物によって一部架橋し、必要であれば。 そのポリマーのイミド環化を行うことを特徴とする変性
ポリイミド膜の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56101337A JPS585344A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 変性ポリイミド膜の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56101337A JPS585344A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 変性ポリイミド膜の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS585344A true JPS585344A (ja) | 1983-01-12 |
JPS6252604B2 JPS6252604B2 (ja) | 1987-11-06 |
Family
ID=14298018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56101337A Granted JPS585344A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 変性ポリイミド膜の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS585344A (ja) |
Cited By (15)
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- 1981-07-01 JP JP56101337A patent/JPS585344A/ja active Granted
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---|---|
JPS6252604B2 (ja) | 1987-11-06 |
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