JPS58207050A - 円筒状電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、円筒状基板表面に光導電性化合物を含む塗工
液を塗布乾燥して形成した被膜を有する電子写真感光体
の改良に関するものである。

現在用いられている電子写真感光体の製造方法とし、て
、Ｓｅ、　Ｓｅ　　Ｔｅ、　ＡｓｔＳｅ３．５ｂ２ｓ３
．　Ｓｂ２Ｓｅ３゜ＣｄＳ又はＳｉ等を導電性基板上に
各種の手１法、例えば蒸着する手段、或いは無機又は有
機の光導電性顔料の分散溶液や、有機光導電性化合物の
溶解液の必要なら結着樹脂を含む塗工液を導電性基板上
に塗布し、乾燥する工程を経て感光体を製造する手段が
採用されている。

特に、後者の塗布−乾燥の手段による製造方法は、連続
生産が可能であり、工程上有利と言える。

この工程に適用できる感光体としては、従来よりｃｃｉ
ｓ　、ＺｎＯ＋　ＴｌＯ２等の必要なら増感剤を添加し
た樹脂分散溶液や、ポリビニルカルバゾールの如き有機
光導電性化合物に適切な増感剤を含む溶液を塗布したも
のが知られている。又、最近では塗布系の感光体として
フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、アゾ系化
合物、キナクリドン系化合物、或いはその他の各種有機
系染料や顔料の分散溶液を塗布、乾燥ｌ〜て電荷発生層
を形成し、次いでピラゾリン誘導体、ヒドラゾン誘導体
、ジフェニルメタン誘導体、トリフェニルメタン誘導体
、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体
、ペンゾオキサゾール誘導体、スチリル染料ペース誘導
体等の化合物を含む樹脂溶液を塗布、乾燥して電荷輸送
Ｔ＠金影形成た所浦、有機系の機能分離型感光体や、染
料と樹脂の普分子共晶錯体の溶液を塗工した感光体が開
発されており、これらの感光体は感度や耐久性に優れて
いるばかりでなく、加工性、コスト等の生産面での利点
も合いまって、一段とその用途範囲が拡大されている。

丙午ら、塗布系の感光体は連続生産が可能である等の利
点を有する反面、乾燥工程に於ける加熱の不均一さが特
性上の問題である感度ムラや帯電ムラを惹き起し、収率
低下の主因となっている。乾燥工程のバラツキが電子写
真特性上の欠陥となる理由としては、不均一加熱が溶剤
の気化速度を部分的に異ならしめ、そのため結着樹脂中
に含まれる光Ａ電性化合物や増感剤の分子或いは粒子・
ハ濃度が不一ニとなったり、又光導電性化合物や増感剤
の分子や粒子のミクロブラウン連動に部分的な差が生じ
、その結果不均一な凝集状態を惹き起す等の問題が考え
ら九この様な部分的不均一が生じた状態で乾燥が終ると
すると、電子写真感光体に特性上のムラが発生するもの
と思われる。従来では、感光体の製造工程で、乾燥工程
に関しては装置上の工夫を凝らしたり、乾燥条件を厳密
に設定し細心の注意を払つ゛て行なっているが、それで
も乾燥工程は不良品の発生原因となっているのが現状で
ある。

特に、この傾向は、前述した機能分離型感光体や高分子
共晶錯体の感光体では顕著となっている。即ち、この機
能分離型感光体に於いては、電荷発生層で用いる顔料粒
子が極く微細で、そのだめブラウン運動の影響を犬きく
受けて、凝集を起し易くなり、又共晶錯体の場合には、
錯体形成の熱平衡に影響を与え易くなり、乾燥工程が感
光体に特性上のムラ発生を惹き起こす原因となっている
。

現在、これらの塗布系感光体、特に乾澤工程での問題が
生じ易い所の機能分離型感光体、或いは、高分子共晶錯
体型感光体に関して、乾燥ムラの防止対策の一例として
シート状基板を用いる方法がある。シート状基板は、コ
ール状に巻き付けた原板を連続的に塗布工程、乾燥工程
および裁断工程を経て感光体に加工されるが、°乾燥工
程に於いては比較的長時間の乾燥を行なえ得る様な乾燥
炉の設計が可能であり、除熱と徐冷により均一な乾燥を
行なう事ができる。更に、乾燥熱風を塗工面に一様に吹
きつける構成が可能となり、不均一加熱を避けることが
できる。

一方、シート状感光体を複写機に適用する場合に、ベル
ト状或いはドラム状の駆動支持体に取り付けて複写工程
を行なうものであるが、この時ノート状感光体の継ぎ目
が存在するため、複写機本体にコピ一時の位置合せ機構
を設ける必要があり、又シート状感光体の交換時の操作
が複雑とな°す、又更にシート状感光体の表面積がコピ
ーサイズ′ソ、上Ｇ′こ必要であり、そのため複写機本
体が大型となる等の榎写機設計上の間部を内在している
。

複写機の設計上で以上の諸点を考えると、感光体は、円
筒状のもので継ぎ目がなくしかも均一に塗布された形状
のものが望ましいと言える。

丙午ら、円筒状基体に塗工された光導電性化合物を含む
浴液は、先に述べたシート状基体と異なり、均一乾燥が
困難である。例えば、塗工された円筒状感光体が連続的
に乾燥炉内を移動する乾燥機構造を考えた場合、工程上
除熱と徐冷は可能であるが個々の感光体表面のどの部分
に対しても均一な乾燥熱風を吹きつける事は出来ない。

父、一台の乾燥炉で一個の感光体を静置して乾燥する構
成の装置に於いては感光体全表面に対して周囲から一様
な加熱が可能であるが、乾燥時間は比較的長時間を要し
、連続生産の面では実用的でない。

本発明者らは、以上の諸点に鑑み、円筒状基体の熱的特
性を改良する事により、感光体の製造時の乾燥工程での
欠陥のない円筒状感光体を得る事を見いだした。

従って、本発明の目的は、生産収率の高い塗布乾燥して
なる円筒状電子写真感光体を提供する事にある。又、更
に安定品質で大量生産が可能な電子写真感光体を提供す
る事にある。別な目的として、複写機本体の設計上或い
はコスト従来、塗布および乾燥工程からなる電子写真感
光体の製造工程に於いて、塗工技術に関し種々の検討が
なされ、基板形状或いは材質に依らず、塗布厚みの一定
なムラのない均質被膜が得られている。一方、乾燥工程
はシート状基板はともかく、円筒状基板を用いる場合は
、−慣した噴射がなされている訳ではなく、工程に合せ
て条件を調整しているのが現状で、むしろノウ・ハウラ
自域の技術と言える。又、乾燥工程での均一性は、単に
視覚的に良、不良が判定出来るものではなく、電位特性
上、良品であり、内部欠陥も含めて均一である事が要求
される。

本発明者らは、円筒状基板を用いる場合の乾燥条件、例
えば（１）乾燥機構成、（２）基板の材質、（３）基板
の熱的特性、或いは（４）塗布溶剤、等の検討を行なっ
た結果、基板の熱的特性が一定の条件を満足している事
が必要である事を見いだした。もちろん、他の諸条件も
均一乾燥には不可欠の因子であるが、例えこれらの条件
が好ましいものであっても　基板の熱的特性が不十分で
ある場合には、乾燥による良品率の低下をもたらすこと
になる。特に、乾燥工程で収率低下を起し易い感光体と
して、顔料の分散系や砺分子共晶錯体系等の感光層が物
質的に不連続である場合、又塗布被膜が薄層であＺ場合
程より顕著であった。

これら感光体の乾燥工程に於けるムラの発生と基板の熱
的特性の相関を以下の概要に示す。

即ち、乾燥工程で欠陥の発生し易い感光体としては、後
述する実施例１の如き、機能分離型有機電子写真感光体
の電荷発生層を用いて、基板の熱的特性と乾燥ムラの発
生原因について澗べた。この電荷発生層の塗工液は、β
ｍ羽・フタロシア二ノをポリビニルブチラール樹脂中１
１Ｃシクロヘキサノンとメチルエチルケトンを溶媒とし
て、サンドミルにより分散して調整したものでＰ／Ｂ　
　比（Ｐ（顔料〕とＢ〔バインダー〕の重量比）は１．
０であり、溶媒に対する固形分比は重量で４パーセント
である。準備した塗工液は、各種の熱的−特性の異なる
円筒状基板の表面に、湿潤時膜厚で５μｍとなる様に浸
漬引き上げ法により塗布した。次いで、１３０°Ｃの熱
風乾燥機で基板温度が１２０°Ｃまで上昇させてから１
０分間乾燥した。乾燥後の膜厚け０．２１〜０．２２μ
ｍであった。こうして得た電荷発生層の上に、電荷輸送
層として、Ｐ−ジエチル、アミノベンズアルデヒド−Ｎ
、Ｎ−ジフェニルヒドラゾンを溶解したポリメチルメタ
クリレート溶液を乾燥膜厚が１５μｍとなる様に塗布乾
燥して、感光体を作製し、澤。電荷輸送層は別に単独で
導電基板に作農して、乾燥ムラの無い墨を確認した。

電荷輸送層は、物質的に均質であり、膜厚も肉厚のだめ
に乾燥の影響を受は帷いものと考えられる。従って、こ
の様にして作製した感光板の電位ムラは、電荷発生層の
乾燥時に於ける基板の熱的特性の差であると判断出来る
。

ここで用いた円筒状基板は外径８０８φ長さ４００Ｂで
材質および肉厚を変化させたもので、各々の熱的特性は
ｉ１表に示すものである。

第　　１　　茨 ■　　　　アルミニウム　　　　０．０２９　　　　　
０．５３（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　　　０．０
５６　　　　　０．５３（（１”）　　　　　　　　　
　　　　　　０．１１６　　　　　０．５３０）　　　
　　　　　　　　　　　　０．１７５　　　　　０．５
３■　　　　　　　銅　　　　　　　０．１７０　　　
　　　０．９４■　　　　　クロムステンレス　　　　
　０．０８５　　　　　　　０．０６（Ｇ）　　　　ス
テンレス　　　０．０８７　　　　０．１５（財）　　
上玉＠　＠０．０７７　　　０．２７単位表面積当りの
熱容量Ｃ（基準温度２５℃）は円筒状基板を一定面積に
切り取り、常法により測定した。基板ＩＡＩ〜’ＤＪは
同一材質を用いているが、厚みが異なるため単位面積当
りの熱容量が異なる。この際、厚みは、約０．５〜３．
０１１１１である。

これらの基板上に、前述の如く電荷発生層を作成するが
、この際の乾燥条件や、乾燥機構成の影響を出来るだけ
少なくするため、第１図に略断面図を示す乾燥機を試作
して用いた。第１図の乾燥機は円筒状感光体の全表面に
均一加熱が施される様に工夫した構成としたものである
０、即ち、ヒーター１０１で加熱された空気が、ブロワ
−１０２で送風ダクト１０３を通して乾燥炉の外壁１０
４と内壁１０５の間の中空部に吹き込まれる。乾燥熱風
は内壁１０５に設けられた開口部１０６と１０７を通っ
て、炉内１１３に送られる、この時、炉内１１３の熱風
が常に一様に循環される様に送風ダクト口部１１４の付
近に、ファン１０８をモーター１０９で回転せしめる一
炉内１１３には支持台１１０が設けられ、その上に被乾
燥感光体１１１を装着する。

支持台１１０はモーター（図示せず）で回転可能であり
、内壁１０５の周囲から送られた熱風は均等に感光体１
１１の表面に吹きつけられる。

乾燥に使用された熱風は排気ダクト１１２を通って炉外
に放出される。第１図の乾燥機の特徴は、常に一定温度
の熱風が円筒状感光体の全表面に送られる構造としたも
のであり、又乾燥条件はヒーター電源の出力およびブロ
ワ−の風量、ファンの回転数、支持台の回転数やダクト
の随所に設けられたダンパーにより調整できる。乾燥条
件設定の一方法として、感光体溶液を塗布しない基板を
用い、その内面に熱電対温度計のプローブを第１図のａ
、ｂ、、ｃ、ｄの如く、場所を変えてセットし、各々の
場所間で温度差が最つとも少ない条件を選ぶ。又、風量
は、乾燥時間内で溶剤蒸気が排気されるのに必要量で出
来るだけ穏かな条件とした。前述の電荷発生層の適正乾
燥条件は、炉内容積０．１５７７！’乙プロワ−風量１
　ｍ’″／ｍｉｎ、熱風温度１３０℃、および基板支持
台の回転数１５　ｒｐｍであった。その時の基板の昇温
曲線は第２図に示すものである。

第２図に示す昇温曲線２１は円筒状基板（４〜に、曲線
２２′Ｉ′ｉ基板ｆＢｌに、曲線２３は基板（Ｃ）に、
曲°線２４は基板ＩＤ）にそれぞれ対応している。曲線
上のプロットは、測定箇所ａ、ｂｓ　ｃ、、ｄの平均値
と最大値および最小値を示した。かかる条件下で作製し
た感光板の電位ムラは、電荷発生層の乾燥工程に於ける
基板の熱的特性の違いに依るものと言える。

第１表の円筒状基板サンプルｉＢｌおよびｆＤｌを用い
て作製した感光体の電位特性針筒３図に示す。

電位特性は、感光体を測定用に改造した複写機に装填し
感光体を回転駆動しながら、印加電圧−６ＫＶのコロナ
帯電器で帯電し、次いで露光と行なって、測定した。測
定箇所は、円筒状感光体の軸方向に対して第１図の温度
測定箇所ａ１ｂ、ｃ、ｄに相応する位置で、その周方向
に沿って行った。第′（図の横軸は感光体の長手方向の
位置を表わし、図中のプロットは、左側よりａ、ｂＳｃ
、ｄの位置に対応する。又、縦軸は感光体の表面電位で
ある。

第３図のプロットは、円筒状感光体の長手方向の一点を
基準にして、その−周の表面電位の平均値と最大値およ
び最小値を示す。即ち、これらの電位のバラツキが電位
ムラとして評価できる。第３図の曲線３１と３１′はそ
れぞれ、基板サンプルｊ３１の上に作成した感光体の暗
部電位と明部電位を、又、曲線３２と３２′はそれぞれ
基板ｔＤ）の上に作成した感光体の暗部電位と明部電位
を示すものである。

この結果から判断出来る事は、基板サンプルｉＢｌを用
いた感光体は円筒状の長手方向および周方向に対して、
電位変動が少なく、わずかに暗部電位で２０Ｖ程度の差
かある程度である。これに対し、基板ザンプルｆＤｌを
使用した場合には、暗部電位で１３０Ｖ、明部電位で４
３Ｖの電位ムラが生じた。特に、明部電位のムラは画像
の地力ブリや汚れの原因となり、複写工程上好ましくな
いものである。この電位ムラの発生原因は、前述した如
く、電荷発生層の乾燥工程に於ける基板の熱的特性に依
るものであると考えらえる。又、現象としては乾燥時に
於けるβ−銅？タロシアニンの分散粒子が不均質な凝集
状態を起し光り、部分的な濃度変化が発生したためと考
えられる。基板サンプルｊ１３１およびＩＤ）の熱的特
性の差は、単位表面積当りの熱容量が異なるもので、第
２図の昇温曲線に示す如く、熱容量の大きな基板（旬で
は昇温初期に僅かな温度バラツキが観察される。＠２図
の曲線は基板単体の昇温を示すものであるが、この上に
感光体溶液を塗工した場合には、乾燥初期段階での温度
バラツキが感光層の形成に微妙な影響を与えるものと推
定される。

即ち、感光層が分散系の如く物質的に不連続な場合、乾
燥初期では未だ塗工層に十分な溶媒を含んでおり、低粘
性であるため、分散粒子は熱的に自由運動をしており、
この時基板に部分的な温度分布が生じると、不均一な凝
集状態や部分的な濃度変化をもたらすことが理解される
０乾燥籾期段階では、溶媒のさかんな気化過程にあシ、
感光体と周囲温度の差が最包とも大きな状態である事を
考えると、第２図に示した基板単体の昇温時の温度分布
よりも、もつと複雑な熱的過程を経ていると言える。例
えば、塗布層感光層が、分散系や共晶錯体系の如き物質
的に不連続な場合には、乾燥工程に於いて、基板の熱的
特性が電位ムラの発生に重要な因子を与えている事が理
解出来よう。特に、この様な観点では基板の熱伝導率が
高く、与えられた乾燥熱が部分的に不均一であっても、
速やかに拡散して、温度分布の少ない状態が達成されれ
ば良いと考えがちであるが、これまでの結果から判る様
に、比較的熱伝導率の高いアルミニラムノ基板サンプル
（ＡＪ〜（Ｄ）を用いた場合でも、その単位表面積当り
の熱容量の違いが、分散系被膜に影響と与えている事を
示している。これは、温度分布が生じた時の熱的過程、
例えば基板の厚み方向への熱対流、溶剤の気化潜熱或い
は分散粒子やポリマーの熱的自由運動等を考慮する必要
があり、それらの相互関係で乾燥が進むものである。基
板の熱的特性に関しては、理想的には、非常に熱伝導率
が高く、基板内での厚み方向への温度勾配の生じない様
な極く小さな熱容量である事が望ましい。熱容量が大き
な場合には乾燥初期段階の溶剤の気化或いは粒子の熱運
動等の感光層形成上の重要な因子に対して一増大して影
響する。

以上の考え方から、先に第１表に示した各種材質の異な
る基板サンプル（ＡＪ〜（印の熱的特性と、電荷発生層
の乾燥工程で生じた、電位ムラの関係を整理した。その
結果、基板の単位表面積当りの熱容量Ｃｃａｌ！／ｃｔ
ｒｔパＣおよび熱伝導率ρｃａｔ／ｃＩｒＬ−８ｅｃ℃
とじ、 Ｃ／ρ≦０．２５０　　ｓｅｅ／ｃＸ＋！の熱的特性を
満足する基板では非常に乾燥が均一に行なわれる事が確
められた。例えば先に述べたβ〜鋼フタロシアニンを分
散溶液を塗工乾燥した場合のＣ／ρと電位ムラの測定結
果を第４図に示す。第４図の横軸は基板のＣ／ρであり
、縦軸は複写画像に影響し易い明部電位の同一感光体で
の最大値と最小値の差分てあり、所謂電位ムラである。

第４図のプロット点Ａ−Ｈは第１表に示し九基板サンプ
ル＾〜＋Ｈｌに相当する。第４図から判る様にＣ／ρ＞
　（１，２５０以上では、大きな電位ムラが生じ好まし
くない。又基板材質に依存しないものであった。

以上の検討で明らかな様に、物質的に不連続な感光層を
薄膜に形成する場合、基板の熱的特性は、Ｃ／ρ≦０．
２５’　Ｏｓｅｅ／Ｃｍである事が収率向上に必要であ
る。Ｃ／、０はその単位から判る様に、乾燥工程で不均
一な温度分布が感光体に生じた時に、如何に早く補償す
るかを表わしており、基板の熱伝導率と単位面積当りの
熱容量で定められる。又、円筒状基板の材質の熱伝導率
ρは０．０２　ｃａｌ　／　Ｃｒｒｔ−ｓｅｅ　・’Ｑ
以上であることが好ましい。

これまでの概要説明は、感光体としてβ−銅フタロンア
ニンを含む電荷発生層を用いて、基板の熱的特性の影響
について行なった一例であるが、説明で明らかな様に、
基板の熱的特性が乾燥工程で生じる温度分希の補償に本
質的な役割を担っている事から、本発明は、各種の感光
体に適用しても有効である。

本発明で用いる光導電性化合物、特に前述の電荷発生層
で用いる電荷発生物質としては、広範なものから選択す
ることかできる。例えば、下記に示す化合物が好適であ
る。

Ｑ 罠 １０　＠フタロ／アニン 崗　硫化カドミウム ＋ｉｉ　　スクエアリックぼ呆科（ＵＳＰ３８２４ｔｌ
ＪＱ号公報に開示のもの） また、高分子共晶錯体は、例えばＵＳＰ３６８４５０２
号公報に開示された方法で得られるっ高分子共晶錯体を
形成するビリリウム染料として、直、ｊすえば下記のも
のが好適であるう （１）　　　　　　Ｎ　（、ＣＨｓ　）！Ｃ！々 （５） これらビリ１７ウム系染料と共晶錯体を形成するアルキ
リデンジアリーレン部分の繰り返し単位を有する重合体
としては、例えば □１ この様な高分子共晶錯体を含む被膜・伏、光導電層又＃
ｉ機能分離型感光層の電荷発生層として用いることがで
きる。

電荷発生層は、前述の電荷発生物質を適当な結着剤に分
散させ、これ全基体の上に塗工することによって形成で
きるっこの時、電荷発生層は５ミクロン以下、好ましく
ＵＯ，０Ｌ−１ミクロンの膜厚で形成される。電荷発生
層を塗工によって形成する際に用いうる結着剤としては
広範な絶縁性樹脂から選択でき、またボ’）−Ｎ７ビニ
ルカルバゾール、ポリビニルアントラセンやポリビニル
ピレンなどの有機光導電性ポリマーから選択できる。好
ｉＬ＜は、ポリビニルブチラール、ボリアリレート（ビ
スフェノールＡと７タル酸の縮重合体など）、ポリカー
ボネート、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリア
ミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイ／、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドンなどの絶縁性樹脂を挙げるこ
とができる。電荷発生層中に含有する樹脂は、８０重量
−以下、好ましくは４０重量−以下が適している。塗工
の際Ｖこ用いる有機溶剤としては、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツールなどのアルコール類、アセトン
、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン
類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドな
どのスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテ
ル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、りｃ
ＩＩ：ｒホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四
塩化炭素、トリクロルエチレンなどの脂肪族ノ・ロゲン
化炭化水素類あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、
リグロイン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンな
どの芳香族類などを用いることができる。

塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法
、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、
マイヤーノく−コーティング法、ブレードコーティング
法、ローラーコーティング法、カーテンコーチ−ｆフグ
法などのコ−ティ７グ汰ヲ用いて行なうことができる。

電荷輸送層は、前述の電荷発生層と電気的に接続されて
＞す、電界の存在下で電荷発生層から注入された電荷キ
ャリアを受は取るとともに、これらの電荷キャリア七表
面まで輸送できる機能金有している。この際、この電荷
輸送層は、電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
たその下に積層されていてもよい。しかし、電荷輸送層
は、電荷発生層の上に積層されていることが望ましい。

電荷輸送層における電荷キャリアを輸送する物質（以下
、単に電荷輸送物質という）は、前述の電荷発生層が感
応する電磁波の波長域に実質的に非感応性であることが
好ましい。ここで言う「電磁及」とは、γ線、Ｘ線、紫
外線、可視光線、近赤外線、赤外線　遠赤外線などを包
含する広義の１光線」の定義を包含する。

電荷輸送物質としては電子輸送性物質と正孔輸送性物質
があり、電子輸送性物質としては、クロルアニル、ブロ
モアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジ
メタン、２．４．７−ドリニトロー９−フルオレノン、
谷、　４．５．７−テトラニトし−９−フル丁レノン、
２．４．７　　！’リニトロー９−／シアノメチレ／フ
ルすレノン、２、４．５．７−チトラニトロキサ７トン
、２．４．８−ある。

正孔輸送性物質としては、ピレン、Ｎ−エチルカルバゾ
ール、Ｎ−イングロビル力ルバソール、Ｎ−メチル−Ｎ
−フェニルヒドラジノ−３−メｆ　ＩＪ　テン−９−エ
チルカルバゾール、Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３
−メチリデン−９−エチルカルバソール、　Ｎ、Ｎ−ジ
フェニルヒドラジノ−３−メチリデン−１０−エチルフ
ェノチアジン、Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒドラジ、／　　３
−メチリデン−１Ｏ−エテルフェノキサシン、Ｐ−ジエ
チルアミノベンズアルデヒド−Ｎ、　Ｎ−ジフェニルヒ
ドラジノ、Ｐ−ジエ・チ・レアミノベンズアルデヒド−
Ｎ−α−ｆ　７　チ、ル−Ｎ−フェニルヒドラゾン、Ｐ
−ピロリジノベンズアルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒ
ドラゾン、１．３．３−トリメチルインドレニン−ω−
アルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジフェニルヒト２シン、Ｐ−ジエ
チルベンズアルデヒド−３−メチルベンズチアゾリノン
−２−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、２，５−ビス（Ｐ
−ジエチルアミノフェニル）　−１，３，４−ｔキサジ
アゾール、１−フェニル−３−（Ｐ−ジエチルアミノス
チリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾ
リン、１−〔キノリルＬ２）　）　−３−（、Ｐ−ジエ
チルアミノスチリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）ピラゾリン、ｉ−（ピリジル＜２））　　３　　
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（、Ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル）ピラゾリン、１−（，６−メドキシ
ーピリジルｆ２）　）　−３−（Ｐ−ジエチルアミノス
チリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾ
リン、■−〔ピリジル（３〕）−３−”（Ｐ−ジエチル
アミノスチリル）　−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）ピラゾリン、１−（レピジル（２Ｊ）　−３−（ｐ
−ジエチルアミノスチリル）−５−（：Ｐ−ジエチルア
ミノフェニル）ピラゾリン、１−〔ピリジル鰺））−３
−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５−
（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−（ピ
リジル（２）　）　−３−（α−メチル−Ｐ−ジエチル
アミノステリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノ７　ｘ　
二＃　）　ヒ９　：／”　’Ｊン、１−フェニル−３−
（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−４−メチル−５−（
ｐ−シｘチルアミノフェニル）ビ＞　ソＩＪ　ｙ、■−
フェニルー３−（α−ベンジル−Ｐ−ジエチルアミノス
チリル）−５−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾ
リン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン類、２−（Ｐ
−ジエチルアミノスチリル）−６−ジニチルアミノベン
ズオキサソール、２−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
−４−（Ｐ−ジメチルアミノフェニル）−５−（２−ク
ロロフェニル）オキサゾール等のオキナソール系化合物
、２−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−６−ジエチル
アミノベンゾチアゾニル等のチアゾール系化合物、ビス
（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）−フェニ
ルメタ７等のドリア−リールメタン系化合物、１，１−
ビス（４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−２−メチルフェニ
ル）へブタン、１．．１，２．２−ｆ　トラキス（４Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）エタン等
のポリアリールアルカン類、トリフェニルアミン、ボ＋
）−Ｎ−ビニルカルバソール、ポリとニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９
−ビニルフェニルアントラセン、ヒレンーホルムアルデ
ヒトｗ　＆　、エチルカルバノールホルムアルデヒド樹
脂等がある。

また、これらの電荷輸送物質は、１種または２種以上組
合せて用いることができろう電荷輸送物質に成膜性を有
していない時には、適当なバインダーを選択することに
よって被膜形成できる。バインダーとして使用できる樹
脂は、例えばアクリル樹脂、ボリアリレート、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニト
リル−スチレンコポリマー、アクリロニトリル−ブタジ
ェンコポリマー、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール　、ｌ−’　ＩＪスルホン、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、塩。素化ゴムなどの絶縁性樹脂、ある
いはポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアント
ラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマー
金挙げることができる。

電荷輸送層は、電荷キャリアを輸送できる限界があるの
で、必要以上に膜厚を厚くすることができない。一般的
には、５ミクロン〜３０ミクロンであるが、好ましい範
囲岐８ミクロン〜２０ミクロンである。塗工によって電
荷輸送層を形成する際には、前述した様な適当なコーテ
ィング法を用いることができる。

前述の円筒状基板と感光層の中間に、バリヤー機能と接
着機能をも、；つ下引層を設けることもできる。下引層
は、カゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロー
ス、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリアミド（ナ
イロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０　、共重合ナ
イロン、アルコキンメチル化ナイロンなど）、ポリウレ
タン、ゼラチン、酸化アルミニウムなどによって形成で
きる。

下引層の膜厚は０．１ミクロン〜５ミクロン、好ましく
は０．５ミクロン〜３ミクロンが適当である。

本発明の円筒状電子写真感光体は、乾燥工程で発生する
電子写真的欠陥を、特殊な乾燥装置や、微妙な乾燥条件
全設定する事なく、高収率で生産可能であり、各種の塗
布系感光体に適用できる。これらの有効性は以下の実施
例で更に明白である。

実施例１゜ 各種熱的特性の異なる円筒状基板を準備し、これに機能
分離型肩磯感九体層を作製し、基板の熱的特性と乾燥工
程で生じる電位ムラを調べ囚〜Ｉで、切削加工により、
外径３　Ｑ　ｗφ、長さ４０　Ｑ　＃Ｉｎで各５本づつ
作製した。基板の単位表面積当の熱容量Ｃｃａｊｌ１７
讐パＣおよび熱伝導率ρｃａｌ／ＣＭＬ−ｓｅｃ　・’
Ｃ／　とすると、基板ｆＡ）−（Ｅｌ）のＣａｐ　ｓｅ
ｅ／ｃｍは第２表に示すものである。

第２表 ■　　　　　　　　アルミニウム　　　　　　　０．０
５５（Ｂ）　　　　　　　　　アルミニウム　　　　　
　　０．１０６ｆｃ）　　　　　　　　　アルミニウム
　　　　　　　０．２２０（Ｄ）　　　　　　　　アル
ミニウム　　　　　　　０．３３０（ｎ　　　　　　　
　　　　鋼　　　　　　　　０．１８１（Ｆ）　　　　
　　　　　クロムステンレス　　　　　１．４１７（Ｇ
）　　　　　　　　ステ／レス　　　　　　　０．５８
ｒｌ（「Ｊ）　　　　　　上玉黄祠　　　　Ｏ４２８５
塗工した感光層は、電荷発生層と電荷輸送層の２層構成
からな９、各々の塗工液組成は次に示すものである。

１１　　電荷発生層溶液 （２）電荷輸送層溶液 電荷発生層溶液は、サンドミル分散機で２０時間分散し
て用い″た。塗工は）、）浸漬引き上げ法により、乾燥
膜厚で電荷発生；ｉｔｏ、２１〜０．２２μおよび電荷
輸送１１１５μとなる様にした。

更に乾燥は、第１図に示す乾燥機を用い、前述の条件で
行なった。この時、電荷発生層は分散系のため、物質的
に不連続であり、又、膜厚も薄いために乾燥工程でのム
ラが発生し易く、電荷輸送層は物成的に均質のため乾燥
時の欠陥が生じない事を電子写真的に別に確認した。従
って、本倉では電荷発生層の乾燥工程で生じる電位ムラ
を評価するものである。

こうして、円筒状基板囚〜■）を用いて作製した桑、感
光体各５本を前述の手段で電位ムラとして、測定した。

電位ムラは、１本の感光体内の明部電位の最大値と最小
値の差分をとり、５本間の平均値で評価したその結果を
第３表て示す。

又、Ｃ／ρと電位ムラの相関を第４図に示す。

第　　３　　表 以上の結果より、基板の熱的特性として、Ｃ／ρが０．
２５０以上の場合、材質に依らず電荷発生層の乾燥工程
で成立ムラが発生し易いことが判明した。

実施−１２゜ 実施例１６に於ける電荷発生層の溶剤組成を変えたンよ
かは実権例１．と同様にして、基板の熱的特性と電位ム
ラを評価した。用いた智板は、第１表と第２表に示した
囚〜（６）である。

電荷発生層溶液（Ｉ）：実施例１．に於ける混合溶剤を
メチルエチルケトン 単独に変えた。

電荷発生１容液；２）：実施例１．に於ける混合溶剤ヲ
シクロヘキサノン単 醜１ｃ変えた。

これらの感光体の′Ｘ立ムラは第４及に示すものであ−
）た。

第　　４　　表 以上の結果から、Ｃ／ｐ　＞　０．２５　ｓｅｃ／ＣＩ
ＩＬの場合、電位ムラが発生し易いことが判る。又、溶
液（２）の如く、気比し難い溶剤の方が乾燥工程の電位
ムラは少なくなる順向にあるが、面／戸ら基板の熱特性
の影響の方が大きいと言える。

実施例３゜ 実施例１．に於ける電荷発生層の乾燥条件を変化さぞて
、基板の熱「ソ特注と電笹ムラの関係を調べた。乾燥条
件は、第５表に示すもので乾燥熱風の温度およびブロワ
−の風量を変えた。用いた基板は、第１表と第２表のサ
ンプル（Ａ）〜０である。その時の電位ムラを第５表に
併記した。

第　　５　　表 この結果より、風量が極端に多い程、又、熱風温度が高
すぎる程、電位ムラの原因となり易いが、その傾向は基
板の熱的特性Ｃ／ρが（１２５０以上で顕著であること
が判る。

実施例４゜ 定した。

下引き層は、１０重量％のカゼインのアンモニア性水溶
液を用いて、乾燥膜厚１μとなる様に塗布乾燥した。こ
の時の電位ムラの測定結果を第６表に示す。

第　　６　　表 この結果は、実施例１．と同様の頌同を示した。

実施例＆ 実施例１．で用いた電荷発生層の代わ９に、次の電荷発
生層溶液を調製した。分散は、す／ドミルにて行なった
。

電荷発生ノー浴ＶｆＬ１３） 電荷発生層溶液！４１ 各々の溶液を、第１表と第２表に示す蟇板囚〜（ＤＪに
実施例１．と同様１・（シて、機能分４型感元体を作製
した。それぞれの感光体に於ける。に位ムラは第７表に
示すものである。

第　　７　　表 この結果より、電荷発生層の種類が異なっても、基板の
熱的特性の影響を受けて、電位ムラの程度が変化するこ
とが判る。

実施例６゜ 次の処方で高分子共晶錯体感光層の塗工液を調製した。

との溶液を丈／ドミルで５時間攪拌した後、４．４′−
べ／ジリデンビス（Ｎ、Ｎ−ジエチル−ｍ−トルイジン
）８重量部を３（）咳破部のモノクロルベンゼンに溶解
した溶液を添叩１−で、均一になる様に混合して、＠布
溶液とした。この溶液を、実施例１．の基板囚〜■）に
乾燥膜厚が１２μとなる様に塗布した。乾燥は、熱風温
度１００℃でブロワ−風量２　ｒｒｔ　／　ｍｉ　ｎで
、１０分間行なったつ各々の感光体の明部電位のバラツ
キ（ムラ）は槙８表に示すものである。但し帯電な→６
　ｋＶ印加のコロナ帯電器で行なった。

第　　８　　表 高分子共晶錯体を用いた感光体に於ても、基板の熱的特
性の影響は実施例１．と同様の傾向を示した。この場合
でも、基板のＣ／ρは０．２５０以丁である事が望まし
いものであった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施列で用いた乾＋＃妄、僕の；斤面図であ
るっ第２図は、円筒状基板ｉＡ）　、　ｔＢ）　、　＋
（：、）および０）の昇温特性を示す税調図である。倉
３．苫・、工、円筒状基板０３）およびＣＤ）を用いて
作成した感光体の覗位特性を示す説明図である。第４図
は、円筒状基板■〜■を用いて作成した感光体の変動変
位と円筒状基板のＣ７０との関係を示す説明図である。 特許出願人　　キャノン株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光導電性化合物を含む塗工液を円筒状基板に塗布した後
   虜燥して形成した被膜を有する円筒状電子写真感光体に
   おいて、前記円筒状基板の単位表面積当りの熱容量をＣ
   ｃｏ＋／／〜・°Ｃとし、且つ前記円筒状基板の材質の
   蓋上導率をρｃａＬ／ｃｍ・式パＣとした時、前記円筒
   状基板のＣ／ρが０．２５０以下であることを特徴とす
   る円筒状電子写真感光体。