JPS58164289A - 印刷配線板用基板の製造法 - Google Patents
印刷配線板用基板の製造法Info
- Publication number
- JPS58164289A JPS58164289A JP4836982A JP4836982A JPS58164289A JP S58164289 A JPS58164289 A JP S58164289A JP 4836982 A JP4836982 A JP 4836982A JP 4836982 A JP4836982 A JP 4836982A JP S58164289 A JPS58164289 A JP S58164289A
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- Japan
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- film
- layer
- agent
- heat
- substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
重置ＴｌＩ４は、無電解メツ中に１１叩綱配鱒を形Ｉｉ
Ｌさ４ｔゐ基横Ｖ義造万能に関する％ｌＤでめるＯ無１
１Ｌ解メッキに１９１Ｊ刷配−を形成させる１叡の＃遺
伝として、基材に熱硬化性樹脂ワニスｅｔｅ１．ａ瞭さ
ぜたグリグレグを憲ね付せて熱圧積層して侍らｆＬる曾
取倒側藤板に無電解メツ呼用媛膚剤に戯布し加熱乾脈し
て巌層剤塗編ｔ＄戚する方法か一般的でめる〇 一刀１リグレグを熱圧積層するーにフィルム状基体に予
め一増一展倉形成したのちグリルレグと１１７２甘ゼ熱
圧積層して一体化する方法か提兼ざ１ｔている。（慴１
ｈ’ｌ昭４９〜１０１８６５゜轡開紹４８−２２９６８
）こ■方法に曾成耐脂ホ４ｉＬ（Ｌ）＃壇と飯暦刑−−
化皇楓の形成とを同時に１荻階で行χる利点ｔ−ｎする
甘塩的な製造法であゐ０ しかしながら像層剤ＩＩＩ＃Ｌｔ−建布する工４！ｉ１
に適し７ｔ７４ルム状１体か必らｆＬ％＾―下でＶ熱圧
積層に虐しているとＵ−らｒｌ オた熱圧積層に鳩歯な
２イルム状ｉ体か必らずしも襞庸剤漕准建布性ｒＣ遍す
る−のでもない〇 劉えは１４０℃〜２００℃で熱圧積層する硼曾ＱＪ＠形
性２イルム状轟体としてにフッ化ビニル、２ツ化ビニリ
デン、酢酸セルロースなどの１２ステツク２イルムに有
効であるが、ｃｎらの２イルムに連続して襞看鋼ｍａｒ
形戚する榊せ、２イルムに巻重とり張力が加えらｎた伏
線で嶺看剤＃液１ｍ布し乾燥さｎる時、乾諌龜腋が１０
０℃以下、Ｔｏるいｒｚｉｉｓ状−でＴｏ−＞てｔ２２
イルム状轟の未軟性（フィルムの膿υ物さ）に起因する
ためとみらｎるしわ、７ｔ４みか生じこ（ＩＪ鄭分で豪
層剤ｍ勇向か互φに粘膚してしまうことかＴｏｇ１均一
な皇布が崗−である・また静瞭セルロースＶ楊１！ｒｒ
ｒ耐濤剤性か良くない０で壱ｍｅａｔ使用した像膚剤を
建布することか凶離でめる〇 一万、２イルム状轟体に金属２イルム倉凝用丁ゐことｔ
長藁さｎてい４か（豐−ｍ４ｆｌ−２４２５７、骨Ｍ剛
４９−１５９．脅開陥４９−１０１８６６、）ｃｔＪｓ
ｔ、熱圧横層稜の軸−性か＾くないため一般には化学的
に腐蝕除去する方薩がとられ工１か煩雑となる。箇た予
め離形剤ｔコーティングし几曾ｓｗ１を使用することも
出来るがｌｌＩ形剤か襞看剤塗膜中に移行する九め、し
ばしば無電解メツ中の析出會阻叢することがめる〇 一万僧膚剤５ｓｉｔ皇布する王権に通した膿の彊い１２
ステツク２イルムとしてに、ポリプロピレン、ポリエス
テルなどがめる。ポリグロビＶ７フイルムａ軟化点以下
の謳腋域でにフィルムの麟が強く、またＳ形性も良くｆ
価でめるか耐熱性か十分でないため１４０〜１８０℃で
の熱圧積層＃に７４ルム轟体か軟化溶融してし１いｌ的
とする槓層歇の製造か内盾とｌる◎耐熱性にすぐｎ４ボ
替エステルフイルム０ＪＩｈ曾にに熱田槓虐俊ＩＭ１４
１ｍ性か良くｌい０以上述べた工うに嶽層剤Ｏ麿布、熱
圧横鳩おＬび横層俊Ｏ剥鋤の工糊全てｔ十分に満足する
フィルム状着体に見いたさｎていないと云って↓い。
Ｌさ４ｔゐ基横Ｖ義造万能に関する％ｌＤでめるＯ無１
１Ｌ解メッキに１９１Ｊ刷配−を形成させる１叡の＃遺
伝として、基材に熱硬化性樹脂ワニスｅｔｅ１．ａ瞭さ
ぜたグリグレグを憲ね付せて熱圧積層して侍らｆＬる曾
取倒側藤板に無電解メツ呼用媛膚剤に戯布し加熱乾脈し
て巌層剤塗編ｔ＄戚する方法か一般的でめる〇 一刀１リグレグを熱圧積層するーにフィルム状基体に予
め一増一展倉形成したのちグリルレグと１１７２甘ゼ熱
圧積層して一体化する方法か提兼ざ１ｔている。（慴１
ｈ’ｌ昭４９〜１０１８６５゜轡開紹４８−２２９６８
）こ■方法に曾成耐脂ホ４ｉＬ（Ｌ）＃壇と飯暦刑−−
化皇楓の形成とを同時に１荻階で行χる利点ｔ−ｎする
甘塩的な製造法であゐ０ しかしながら像層剤ＩＩＩ＃Ｌｔ−建布する工４！ｉ１
に適し７ｔ７４ルム状１体か必らｆＬ％＾―下でＶ熱圧
積層に虐しているとＵ−らｒｌ オた熱圧積層に鳩歯な
２イルム状ｉ体か必らずしも襞庸剤漕准建布性ｒＣ遍す
る−のでもない〇 劉えは１４０℃〜２００℃で熱圧積層する硼曾ＱＪ＠形
性２イルム状轟体としてにフッ化ビニル、２ツ化ビニリ
デン、酢酸セルロースなどの１２ステツク２イルムに有
効であるが、ｃｎらの２イルムに連続して襞看鋼ｍａｒ
形戚する榊せ、２イルムに巻重とり張力が加えらｎた伏
線で嶺看剤＃液１ｍ布し乾燥さｎる時、乾諌龜腋が１０
０℃以下、Ｔｏるいｒｚｉｉｓ状−でＴｏ−＞てｔ２２
イルム状轟の未軟性（フィルムの膿υ物さ）に起因する
ためとみらｎるしわ、７ｔ４みか生じこ（ＩＪ鄭分で豪
層剤ｍ勇向か互φに粘膚してしまうことかＴｏｇ１均一
な皇布が崗−である・また静瞭セルロースＶ楊１！ｒｒ
ｒ耐濤剤性か良くない０で壱ｍｅａｔ使用した像膚剤を
建布することか凶離でめる〇 一万、２イルム状轟体に金属２イルム倉凝用丁ゐことｔ
長藁さｎてい４か（豐−ｍ４ｆｌ−２４２５７、骨Ｍ剛
４９−１５９．脅開陥４９−１０１８６６、）ｃｔＪｓ
ｔ、熱圧横層稜の軸−性か＾くないため一般には化学的
に腐蝕除去する方薩がとられ工１か煩雑となる。箇た予
め離形剤ｔコーティングし几曾ｓｗ１を使用することも
出来るがｌｌＩ形剤か襞看剤塗膜中に移行する九め、し
ばしば無電解メツ中の析出會阻叢することがめる〇 一万僧膚剤５ｓｉｔ皇布する王権に通した膿の彊い１２
ステツク２イルムとしてに、ポリプロピレン、ポリエス
テルなどがめる。ポリグロビＶ７フイルムａ軟化点以下
の謳腋域でにフィルムの麟が強く、またＳ形性も良くｆ
価でめるか耐熱性か十分でないため１４０〜１８０℃で
の熱圧積層＃に７４ルム轟体か軟化溶融してし１いｌ的
とする槓層歇の製造か内盾とｌる◎耐熱性にすぐｎ４ボ
替エステルフイルム０ＪＩｈ曾にに熱田槓虐俊ＩＭ１４
１ｍ性か良くｌい０以上述べた工うに嶽層剤Ｏ麿布、熱
圧横鳩おＬび横層俊Ｏ剥鋤の工糊全てｔ十分に満足する
フィルム状着体に見いたさｎていないと云って↓い。
Ｘ発明框こＱＪｊうな点に龜みてなさｎ次ｔ。
で２イルム状轟体ＡＫ１１１ｉ″＃Ｌ解メツ今用像層剤
【麿布し、乾燥してｍ膜を形成したのちフィルム状着体
Ａｊす１熱軟化−ｔが高い２イルム状轟体Ｂとｗｍｍ層
を介して貼９甘ぜ、２イルム状轟体Ａｔ＠醸し、後層剤
層か形成さｎたフィルム状着体Ｂと轟材Ｋｔｒ成りＩｌ
腫ワニスを言浸乾織してなるグリグレグｔ−，ｍ層剤層
かグリルレグと蒙するｊ５ＫＪ［ｔ２曾せ熱圧積層する
ものでろるＯ すなわち本発明は、ｔ＃４電解メッキ用豊膚刑ｔ＃ｌＩ
形性２イルム状基体に形成させ、１リルグと１ね曾ぜ愚
圧槓層して印Ｉｉ１１Ｉｅｌｉｍ！職用轟叡を製造する
工、ｍにおいて、ａｍ性２イルム状ｊ ｉＪ ＫＢ！！
膚剤１１１ＪＩＩｔ形奴させる方法に関する％（ｔ）で
めり、フィルム状基体ＡＫ像１ｍＭ瘤欲【塗布乾録して
遊膿會形成したυち２イルム状轟体Ａ工９％熱軟化ｍＦ
ｊＩＬが＾い２イルム状基俸Ｂと微増剤層を介して貼ｐ
ｖ ４ｔｂ久ｉで２イルム状轟体Ａｅｌｌ（Ｉｊｌｌ
Ｌ、隔軟化装置が尚い２イルム状轟体ＢＶＬ緩層Ｍｌ
−に４δぜる４ｕでめる０こυ層性。
【麿布し、乾燥してｍ膜を形成したのちフィルム状着体
Ａｊす１熱軟化−ｔが高い２イルム状轟体Ｂとｗｍｍ層
を介して貼９甘ぜ、２イルム状轟体Ａｔ＠醸し、後層剤
層か形成さｎたフィルム状着体Ｂと轟材Ｋｔｒ成りＩｌ
腫ワニスを言浸乾織してなるグリグレグｔ−，ｍ層剤層
かグリルレグと蒙するｊ５ＫＪ［ｔ２曾せ熱圧積層する
ものでろるＯ すなわち本発明は、ｔ＃４電解メッキ用豊膚刑ｔ＃ｌＩ
形性２イルム状基体に形成させ、１リルグと１ね曾ぜ愚
圧槓層して印Ｉｉ１１Ｉｅｌｉｍ！職用轟叡を製造する
工、ｍにおいて、ａｍ性２イルム状ｊ ｉＪ ＫＢ！！
膚剤１１１ＪＩＩｔ形奴させる方法に関する％（ｔ）で
めり、フィルム状基体ＡＫ像１ｍＭ瘤欲【塗布乾録して
遊膿會形成したυち２イルム状轟体Ａ工９％熱軟化ｍＦ
ｊＩＬが＾い２イルム状基俸Ｂと微増剤層を介して貼ｐ
ｖ ４ｔｂ久ｉで２イルム状轟体Ａｅｌｌ（Ｉｊｌｌ
Ｌ、隔軟化装置が尚い２イルム状轟体ＢＶＬ緩層Ｍｌ
−に４δぜる４ｕでめる０こυ層性。
像層１ｉ！ＩＩｋｃ写工機では、フィルム状ｉ体Ａυ嵌
圓エネルギーか２イルム状轟％ＢＬりも小である礪曾か
転写乗汗として好ましい・ フィルム状ｊｋ坏Ａに１！嶺溶媒を使用した接層刑浴献
を皇布するニーで、舊俵絣媒に溶解、浸譲さｎないグラ
スチック２イルムか便用さ２′Ｌ１箇’ｆｔフイルム状
ゑ体に連続して’ＩＩｇとり伝力か加えらｎた状纏で余
層剤舒献か鳳布δ扛る工種にンいて、４１嶺＃ｌ媒か乾
燥偉散石ｎるＯに十分な！！１［ψ域（１２０℃以下）
でａ、智自とり伝力に耐えて、伸び、めるい０収ｌｊＡ
貧化の小さいグラスナックフィルムか使用できる・例え
ば、峡買ポリエチレン、ポリグロビレン、エチレンーａ
ｈａビニル共鳳曾体、エチレン−アクリル酸エステル共
Ｊｋｆｔ体の２イルム等か使用できる０２イルム状着体
ＢＥＸグリルグと景膚剤とｔｌね曾ゼ１４０〜１８０℃
Ｖ熱圧槓虐さｎゐがｃｎら＆＋Ｊ加ｌ＠粂件に耐える熱
軟化一度υ＾い２イルムか１１２）？１できる・ 例えＦｉ、弗化ビニリデン、ポリメチルペンテン、靜駿
セルｐ−スなどのグラステックス２イルムか使用できる
。
圓エネルギーか２イルム状轟％ＢＬりも小である礪曾か
転写乗汗として好ましい・ フィルム状ｊｋ坏Ａに１！嶺溶媒を使用した接層刑浴献
を皇布するニーで、舊俵絣媒に溶解、浸譲さｎないグラ
スチック２イルムか便用さ２′Ｌ１箇’ｆｔフイルム状
ゑ体に連続して’ＩＩｇとり伝力か加えらｎた状纏で余
層剤舒献か鳳布δ扛る工種にンいて、４１嶺＃ｌ媒か乾
燥偉散石ｎるＯに十分な！！１［ψ域（１２０℃以下）
でａ、智自とり伝力に耐えて、伸び、めるい０収ｌｊＡ
貧化の小さいグラスナックフィルムか使用できる・例え
ば、峡買ポリエチレン、ポリグロビレン、エチレンーａ
ｈａビニル共鳳曾体、エチレン−アクリル酸エステル共
Ｊｋｆｔ体の２イルム等か使用できる０２イルム状着体
ＢＥＸグリルグと景膚剤とｔｌね曾ゼ１４０〜１８０℃
Ｖ熱圧槓虐さｎゐがｃｎら＆＋Ｊ加ｌ＠粂件に耐える熱
軟化一度υ＾い２イルムか１１２）？１できる・ 例えＦｉ、弗化ビニリデン、ポリメチルペンテン、靜駿
セルｐ−スなどのグラステックス２イルムか使用できる
。
緩着剤層か形Ｗ、さ′ｎたフィルム状基体Ｂと１リグレ
グｔ−像層剤層かグリプレグと−する工うに鳳ね曾ぜ熱
圧積層する嚇ｔｒ、ｉ４Ｑ〜２００℃、 １０〜１２０
分、２０〜１００ｋｇ／（１υ鏑ｔｆか使用される。
グｔ−像層剤層かグリプレグと−する工うに鳳ね曾ぜ熱
圧積層する嚇ｔｒ、ｉ４Ｑ〜２００℃、 １０〜１２０
分、２０〜１００ｋｇ／（１υ鏑ｔｆか使用される。
以上１１１ｔ明し７ｔｚうに本発明に於てσ媛盾剤−ｍ
ｅ形ＩＩＬ場せに醸屡性２イルム轟俸と１リグレグと’
ｔＭｆ２曾ぜ熱圧積層して無ｍｓメッキ用印刷配Ｉｗ嶺
會Ｍ４造する方法する１機にνいて一形性２イルム基体
へｃｔ）豪層剤皇−の形成か藺便蔑好に行わｎる％υで
める・ すなわち、徴層剤ｆＩｓ練り塗布、乾燥１相に遍しπン
イルム着体体ＫＩＩＩ層剤鳩を形成させ、次いでフィル
ムＬす熱軟化ｍ表か高く熱圧積層お工び軸側性に迩した
２イルム暴体へ前配恢増卸ｊ＊Ｓｔライネート転専する
仁とＫＬりＳ疵米方法に＆ける蒙層剤溶液臆布性Ｖ−鐘
さ、おるいに、熱圧積層ν１び一一性υ−鋤名【−埜に
肩決でミるｔりでめる・ 実施側 アクリロニトリルツタジエンゴム、フェノール倒鑵、エ
ポキシ樹脂および亜蛤輌【メチルエテルケト／、トルエ
ンに均−ｌｌ１１ｓ分歓遥せて侍た焦亀解メッキ用轍増
刑層献（固形分５５％）を用い、連続して１１布、￥ｉ
鰻鮎り甘ぜ（２イネ−）））！び巷啓とりかで寝るロー
ルコートライネーター鰻ｗｋ１１２！冷しｓ２イルム状
着体Ａとして４０μＩＩＩＭＬさυポリ１０ピレン２イ
ルムに＃１景層剤Ｉｗ象【−毒した・梃課にでり１＼遜
続炉り中で打い１２０℃で１０分閣浴媒揮畝猿。
ｅ形ＩＩＬ場せに醸屡性２イルム轟俸と１リグレグと’
ｔＭｆ２曾ぜ熱圧積層して無ｍｓメッキ用印刷配Ｉｗ嶺
會Ｍ４造する方法する１機にνいて一形性２イルム基体
へｃｔ）豪層剤皇−の形成か藺便蔑好に行わｎる％υで
める・ すなわち、徴層剤ｆＩｓ練り塗布、乾燥１相に遍しπン
イルム着体体ＫＩＩＩ層剤鳩を形成させ、次いでフィル
ムＬす熱軟化ｍ表か高く熱圧積層お工び軸側性に迩した
２イルム暴体へ前配恢増卸ｊ＊Ｓｔライネート転専する
仁とＫＬりＳ疵米方法に＆ける蒙層剤溶液臆布性Ｖ−鐘
さ、おるいに、熱圧積層ν１び一一性υ−鋤名【−埜に
肩決でミるｔりでめる・ 実施側 アクリロニトリルツタジエンゴム、フェノール倒鑵、エ
ポキシ樹脂および亜蛤輌【メチルエテルケト／、トルエ
ンに均−ｌｌ１１ｓ分歓遥せて侍た焦亀解メッキ用轍増
刑層献（固形分５５％）を用い、連続して１１布、￥ｉ
鰻鮎り甘ぜ（２イネ−）））！び巷啓とりかで寝るロー
ルコートライネーター鰻ｗｋ１１２！冷しｓ２イルム状
着体Ａとして４０μＩＩＩＭＬさυポリ１０ピレン２イ
ルムに＃１景層剤Ｉｗ象【−毒した・梃課にでり１＼遜
続炉り中で打い１２０℃で１０分閣浴媒揮畝猿。
ロールクゼネータ都で２イルム状暴体Ｂと＃ＩＩｔ貼９
もゼシイネートした。２イルム状晶体Ｂとして三Ｕ敏セ
ルμｍスフイルムｋｌｌｌｔｊＬ、 ？イネートロール
ｍｋｉ８０℃に設定し九〇巻きとらｒＬ７を貼９曾ゼ轟
体に、ポリプロヒレンフイルム（ｊｋ捧Ａ）か容易に剥
離することかでき接層剤にミ＃献セルロースＫｋ軍さｎ
てぃ九０法いでボリグロヒレンンイルムｔ＃庫し７℃ｍ
ｍ鋼転４三酢駿セルロースフィルムと、フェノール粥脂
泗ｇｔ−紙に含浸し予惜綾化して得た１リグレグと１豪
層剤−とグｖ７゛レクが緩するように嵐ね曾−ｔｅｓｔ
閾で１７０℃、７０分間８０ｋｇ／ｃｍの圧力で熱圧積
層した・冷＃Ｊ俵４Ｉり出した積増嶺ｒＸ機向の三酢酸
セルロースフィルムが剥■でき、基板弐向Ｖｒ−均一な
接層剤層か形成さｎ友〇こｃＪ基ａｔ−＊川して、無電
鱗メッキパター／形戟υ常法にしたかい、クロム敵−愉
ＩＩＩＩ混液による掴南自化、メツ中触ｍ畝膚、無電解
−メッキ。
もゼシイネートした。２イルム状晶体Ｂとして三Ｕ敏セ
ルμｍスフイルムｋｌｌｌｔｊＬ、 ？イネートロール
ｍｋｉ８０℃に設定し九〇巻きとらｒＬ７を貼９曾ゼ轟
体に、ポリプロヒレンフイルム（ｊｋ捧Ａ）か容易に剥
離することかでき接層剤にミ＃献セルロースＫｋ軍さｎ
てぃ九０法いでボリグロヒレンンイルムｔ＃庫し７℃ｍ
ｍ鋼転４三酢駿セルロースフィルムと、フェノール粥脂
泗ｇｔ−紙に含浸し予惜綾化して得た１リグレグと１豪
層剤−とグｖ７゛レクが緩するように嵐ね曾−ｔｅｓｔ
閾で１７０℃、７０分間８０ｋｇ／ｃｍの圧力で熱圧積
層した・冷＃Ｊ俵４Ｉり出した積増嶺ｒＸ機向の三酢酸
セルロースフィルムが剥■でき、基板弐向Ｖｒ−均一な
接層剤層か形成さｎ友〇こｃＪ基ａｔ−＊川して、無電
鱗メッキパター／形戟υ常法にしたかい、クロム敵−愉
ＩＩＩＩ混液による掴南自化、メツ中触ｍ畝膚、無電解
−メッキ。
レジスト＃Ｊａ、パターン犀つけメツキシよひレジスト
除六工機を行りて呻綱配−板を侍た・祷らｒ′Ｌ几印綱
虻酵叡のパターン部像膚澗さｔス１．８ Ｑｋｇ／ｃａ
、 ２６０℃にんだ浴におけるフクレ発生責でυ時間
に２０＃以上であり皮〇央Ｍ肖２ フィルム４＊暴体ＡＫ、Ｒａｍ伸ボリア０ヒレン２イル
ム（４０μｍ）を使用し、７４ルム伏ｊ＆棒ＢＫ弗化ビ
ニリゾ７２イルム（５５＃ｍ）１に使用し７ｔはか、爽
−宍１と同樟に巌増銅慮布。
除六工機を行りて呻綱配−板を侍た・祷らｒ′Ｌ几印綱
虻酵叡のパターン部像膚澗さｔス１．８ Ｑｋｇ／ｃａ
、 ２６０℃にんだ浴におけるフクレ発生責でυ時間
に２０＃以上であり皮〇央Ｍ肖２ フィルム４＊暴体ＡＫ、Ｒａｍ伸ボリア０ヒレン２イル
ム（４０μｍ）を使用し、７４ルム伏ｊ＆棒ＢＫ弗化ビ
ニリゾ７２イルム（５５＃ｍ）１に使用し７ｔはか、爽
−宍１と同樟に巌増銅慮布。
軌謙、２＜ネートした・ラミネート１棒６．２軸延伸ポ
リグロピレ／フイルムが容易に剥離し、誉／ｉｌ剤か弗
化ビニリデンに転与さｊした０またグリプレグと熱圧積
層して得らｎ次槓ノー板σ弗化ビニリデン２イルムか容
易に刺繍でさ、衆囲α拘−な優膚剤層が形成さｒＬ ７
ｔ 。
リグロピレ／フイルムが容易に剥離し、誉／ｉｌ剤か弗
化ビニリデンに転与さｊした０またグリプレグと熱圧積
層して得らｎ次槓ノー板σ弗化ビニリデン２イルムか容
易に刺繍でさ、衆囲α拘−な優膚剤層が形成さｒＬ ７
ｔ 。
＃考例１
夷ｊｌｌ？１２に便用したフィルム状基体Ｂの弗化ビニ
リデンフィルムに、夷ＪＩｔｌｊｌＫ便用した侵ｍ納＃
１猷を塗布乾燥し尺細釆、１２０℃の乾燥Ｐ内で＠−き
と９万同に張力か屑１えら扛次層性、シワか発生して嶺
看Ｍ市同志か粘層虻台してし１ったｏｌＥ謙−廣ｋｊＯ
℃で打つ友層性もシワ発生り機＊ｒｘ勧諷名ｊＬるか皆
無でになく、シかｔ俊Ｍ剤の溶縄憚散か不充分な沈め巷
きと９か不叫能でめシ、かつグリプレグと熱圧積層し次
暑曾、槓虐権表向状急に不均一となった〇一方４Ｉきと
９彊力を加えないが、筐たに、制限し友礒ｔｔｒｃに、
―布、職貴工糧でタルイ會生じ、十ｒ１９１１に層剤−
か粘層鮎廿し、良好な塗膜か侍らｎｌかつ友◎ ＃考？ＩＩ２
リデンフィルムに、夷ＪＩｔｌｊｌＫ便用した侵ｍ納＃
１猷を塗布乾燥し尺細釆、１２０℃の乾燥Ｐ内で＠−き
と９万同に張力か屑１えら扛次層性、シワか発生して嶺
看Ｍ市同志か粘層虻台してし１ったｏｌＥ謙−廣ｋｊＯ
℃で打つ友層性もシワ発生り機＊ｒｘ勧諷名ｊＬるか皆
無でになく、シかｔ俊Ｍ剤の溶縄憚散か不充分な沈め巷
きと９か不叫能でめシ、かつグリプレグと熱圧積層し次
暑曾、槓虐権表向状急に不均一となった〇一方４Ｉきと
９彊力を加えないが、筐たに、制限し友礒ｔｔｒｃに、
―布、職貴工糧でタルイ會生じ、十ｒ１９１１に層剤−
か粘層鮎廿し、良好な塗膜か侍らｎｌかつ友◎ ＃考？ＩＩ２
Claims (1)
- ｔ フィルム状基体ＡＫ無電解メツ命用費層剤を塗布し
、乾燥して麹Ｗ４會慶成したのちアイルム＃着体Ａ１ｐ
−熱軟化−ｋか＾いフィルム状基体Ｂと豪層剤層會介し
て貼１曾せ、２イルム状暴体Ａｔ＃１Ｉ１１．豪層銅層
か形成さｒした２イルム状基体Ｂとｊ＆＃に曾Ｈ，倒側
ワニスを富攪ＩＥ線してなる１替ルグｔ、像層剤層が１
リグレグと緩する１５Ｋ］［ね曾ゼ熱圧横層する印綱配
１１１１に用基ＩＩ（Ｊａｉｌ達法・２．２イルム状ｉ
体Ａか、２イルム状暴体Ｂ■表−エネルギーよｐ％小暑
ｉ基体＃科で６る骨許−求ａＳＳ藤１積紀瞑む印―配−
権坩基櫂ｔＬ）Ｈｊｌ蔭・
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4836982A JPS58164289A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4836982A JPS58164289A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164289A true JPS58164289A (ja) | 1983-09-29 |
| JPH0348675B2 JPH0348675B2 (ja) | 1991-07-25 |
Family
ID=12801416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4836982A Granted JPS58164289A (ja) | 1982-03-25 | 1982-03-25 | 印刷配線板用基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58164289A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5045971A (en) * | 1989-04-18 | 1991-09-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electronic device housing with temperature management functions |
-
1982
- 1982-03-25 JP JP4836982A patent/JPS58164289A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5045971A (en) * | 1989-04-18 | 1991-09-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electronic device housing with temperature management functions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0348675B2 (ja) | 1991-07-25 |
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