JPS58146090A - Cmos型デコ−ダ回路 - Google Patents

Cmos型デコ−ダ回路

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JPS58146090A
JPS58146090A JP57027953A JP2795382A JPS58146090A JP S58146090 A JPS58146090 A JP S58146090A JP 57027953 A JP57027953 A JP 57027953A JP 2795382 A JP2795382 A JP 2795382A JP S58146090 A JPS58146090 A JP S58146090A
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signal
level
fet
voltage
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Toyofumi Takahashi
豊文 高橋
Toshiyuki Araki
俊之 荒木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、読出し専用メモリ C以下ROMと称す)に
おいて読出しの際にメモリセルのワード線を選択するデ
コーダ回路、又はプログラマブルkOM(以下FROM
と称す)若しくは再書込み可能なプログラマブルROM
 (以下EPROMと称す)において書込み及び読出し
の際にメモリセルのワード線を選択するデコーダ回路に
関し、特に回路構成に相補形金属酸化膜半導体c以下及
び特許請求の範囲において0MO8と称す)を含むCM
O8型O8−ダ回路に関する。
ROM、FROM、EFROMにおいては、メモリ容量
が16K、32K、64K、256にビットと順次増加
してきており、それと共にアドレス数も増加し、それを
振り分けるデコーダ回路では、消費電力の減少、スピー
ドの増大、面積の縮小、駆動能力の増大などが重要な課
題となっている。
本発明は、上記のようなデコーダ回路において消費電力
を少なくすることを目的とするものであって、特にメモ
リセルな駆動するドライバ回路に0MO8構成をもつデ
コーダ回路において、その0MO8に貫通電流が全く又
は殆んど流れないような信号電圧を印加することにより
上記目的を達成せんとするものである。
本発明は、第1図に一実施例が示されているように、第
1のアドレス信号(AO〜A5)と制御信号Bとを入力
して第1の信号線1−0〜1−63を選択する第1のデ
コーダ回路2と、第2のアドレス信号(A(3、A7)
と制御信号CEとを入力して上記第1の信号線と交差す
る義弟2の信号線3−0〜3−3を選択する第2のデコ
ーダ回路4と、上記第1の信号線と第2の信号線とのす
べての交点に設けられたゲート回路!MS−1〜5−2
56、ただし5−9以降は図示されていない。)と、こ
のゲート回路5からの信号により制御され、メモリセル
6のワード線を駆動する、CMO5構成をもつドライバ
回路7とを備え、ゲート回路5がドライバ回路7の0M
O8に貫通電流が流れないように0MO8の電源電圧と
等しいか殆んど等しい電圧の信号を供給するように構成
されている点に特徴を有する。本実施例において、各ゲ
ート回路5は、第1のデコーダ回路2の1個の出力端子
とドライバ回路7の1個の入力端子との間にソースとド
レインが接続され第2の信号線3−0〜3−3の1本に
ゲートが接続されたライトデプレッション型のNチャン
ネル電界効果トランジスタ8(以下Nチャンネル電界効
果トランジスタをN−FET、Pチャンネル電界効果ト
ランジスタなP−FETと称す)と、上記ライトデプレ
ッション型N−FET8とドライバ回路7の入力端子と
の間にドレインが接続され電源電圧Vcc(例えば5■
)にソースが接続され上記と同じ第2の信号線の1本に
ゲートが接続されたエンハンスメント型P−FET9と
から構成されている。
ここで、ライトデプレッション型N−FETとは、基板
効果による閾値電圧増加分だけ閾値電圧をマイナス側に
設定し、見掛は上あるいは実効的な閾値電圧を0■にな
るようにしたデプレッション型N−FETをいう。
本実施例においては、第1のデコーダ回路2は6ビツト
の第1の一アドレス信号と制御信号Bとを入力して次段
のデコーダ回路11の入力信号に変換する第1段デコー
ダ回路10と、その第1段デコーダ回路10の出力信号
を入力して64個の出力端子qO〜Qss のいずれか
に選択信号を出力する第2段デコーダ回路J1とから構
成されている。
各出力端子QO−Q6B にはそれぞれ第1の信号線1
−0〜1−63が1本ずつ接続され、各部1の信号線は
4本ずつに分岐して合計254本の信号線となる。また
、第2のデコーダ・回路4は2ビツトの第2のアドレス
信号と制御信号GEとを入力して、4個の出力端子に接
続される第2の信号線3−0〜3−3のいずれかに選択
信号を出力する。
ゲート回路501個とドライバ回路7中に含まれる0M
O8の1個を第2図に示し本実施例の動作を説明する。
第2段デコーダ回路11からの1個の出力信号Xが高レ
ベル(Vcc  レベル。以下Hレベルと称す)で、第
2のデコーダ回路4からの1個の出力信fYもHレベル
のとき、ライトデプレッション型N−FET8が導通状
態、P−FET9が非導通状態となり、N−FET3が
ライトデプレッション型であることによりドライバ回路
7の入力端子への信号Zとしては信号XのHレベル、す
なわちVcc  レベル、が基板効果による電圧降下を
受けずに殆んどそのままの電圧レベルで現れる。次に信
号XがHレベルで、信号Vが低レベル(GNDレベル、
OV2以下Lレベルと称す)のとき、N−FET8が非
導通状態、P−FET9が導通状態となるため信号2は
Vcc  レベルとなる。信号XがLレベルで、信号Y
がHレベルのとき、N−FET3が導通状態、P−FE
T9が非導通状態となるため信号2はLレベル、すなわ
ちGNDレベルとなる。また、信号X及びYが共にLレ
ベルのとき、N−FET8及びP−FET9が共に導通
状態となるが、N−FET3ではゲート電圧が低く高抵
抗状態となっているため、N−FET8の導通抵抗とP
−FET9の導通抵抗との比率により信号ZがVcc 
 に十分近いレベルとなる。
以上の信号X、Y及びZの関係を下表に示す。
ドライバ回路7中のP−FET12とN−FET13と
からなるCMOSインバータは、ゲート回路5からの出
力信号Zを入力信号とし、出力側はメモリセル6のワー
ド線に接続されている。ROMの場合にはドライバ回路
7をCMOSインバータのみで構成することができるが
、PROM及びEPROMの場合には、一般に、書込み
用の高電圧電源回路が追加される。
ところで、上表から信号XがLレベル、信号YがHレベ
ルのときゲート回路5からの信号ZがGNDレベルとな
るので、P−FET12が導通状態、N−FET13が
非導通状態となシワード線にVcc  が印加される。
一方、信号X、Yが上記以外の組合せの場合には信号2
がVcc  レベルあるいは殆んどVcc  に近いレ
ベルとなるので、P−FET12が非導通状態、N−F
ET13が導通状態となりワード線がGNDレベルとな
る。そして、この場合P−FET12が十分非導通状態
に保たれるので0MO8での貫通電流は流れない。
もし、ゲート回路5において、信号X及びYが共にHレ
ベルのとき信号ZのレベルがVcc  がら大きく降下
するような構成であれば、CMO8構成のドライバ回路
7において貫通電流が流れることとなる。
本発明は、ゲート回路5のライトデプレッション型のN
−FET8に代、tてゼロトランジスタを用いたものも
含む。ゼロトランジスタとは閾値電圧がOv近傍にある
FETのことであり、ライトデプレッション型N−FE
Tに比べて基板効果による電圧降下が起シうるが、本発
明の目的を達成することは回部である。
第1図の実施例では、ドライバ回路7への入力信号Zが
GNDレベルのときが選択状態にあたる。
いi、第1の信号線1−0がLレベル、他の1の信号線
1−1〜1−63がHレベルとし、第2の信号線3−0
がHレベル、他の第2の信号線3−1〜3−3がLレベ
ルとすると、ゲート5−1が選択状態となシ、ゲート5
−2〜5−4の3個についてはVcc からP−FET
9及びN−F ET8を経て第2段デコーダ回路11ヘ
リーク電流が流れる。他のゲート5−5〜5−256 
(5−9以降は図示されていない)は第2段デコーダ回
路】1側がHレベルであるのでリーク電流は流れない。
その結果、リーク電流は256本の信号線のうちの3本
に流れるのみであるので、N−FET8のゲート幅を適
度に狭めておけば全体としては微少電流しか流れないこ
とになる。
本発明をFROMやEFROMのデコーダのように、書
込み時は高電圧(例えば20V以上)をワード線に印加
し、読出し時は通常のVcc 電源電圧C例えば5v)
を印加するデコーダに適用した場合の最も好ましい実施
例の具体的な回路の一部を第3図に示す。
第1図と対比させて説明すると、6ビツトの第1のアド
レス信号を入力して64個の出力QO〜Qaa  の中
の1個を選択する例としての第1のデコーダ回路2にお
ける第1段デコーダ回路lOは、 75個のNAND回
路20と各NAND回路20に1個ずつ接続される5個
のインバータ回路21とから構成されている。第1のデ
コーダ回路2中の第2段デコーダ回路11は、第3図に
記号11−1で示した2出力を有する第2段デコーダ回
路を32個配列して構成される。第2段デコーダ回路1
1−1は5個のP−FET22〜26と5個のN−FE
T27〜31とから構成される。5−1は256個のゲ
ート回路の1個で、既に詳しく説明したところのもので
ある。第2のアドレス信号を入力する第2のデコーダ回
路4は4個のNAND回路32と4個のインバータ回路
32とから構成されている。7−1は256個配列され
るドライバ回路7のうちの1個で、電源端子Vcc(5
V)とGND端子間に設けられたP−FET34とN−
FET35とからなる0MO8で読出し時のワード線駆
動を行ない、高電圧(20v以上)電源端子VP120
V以上)に接続される抵抗としてのデプレッション型N
−FET33とGND端子に接続される上記のN−FE
T35とで書込み時のワード線駆動を行なうように構成
されている。
0M08間に設けられているデプレッション型N−FE
T36と、VPP  端子とデプレッション型N−FE
T3Bとの間に設けられているN−FET37とは、後
述第4図のレベル変換回路からの信号G、■により読出
し時と書込み時の切替えを行なうトランジスタである。
なお、デプレッション型N−FET38をワード線に接
続する位置は、ワード線のどこであってもよい。
本実施例において、ゲート回路5−1によりドライバ回
路7−1を駆動状態とするには、第1のアドレス信号A
Q、A5をrl l 1111Jとし、制御信号Bを「
1」とすると共に、第2のアドレス信号A6A7を「1
1」とし制御信号CEを「1」とする。その結果、第1
段デコーダ回路10ノ出カ信号は■〜■がHレベル、■
がLレベルとP−FET23、及びN−FET27.2
9.30.31が導通状態、P−FET22.24.2
5.26、及びN−FET28が非導通状態となって第
1の信号線1−0がLレベル、他の第1の信号線がHレ
ベルとなる。第2のデコーダ回路4においては出力信号
■がHレベル、■〜■がLレベルとなるため、ゲート回
路5−1の信号ZのみがLレベルとなり、ドライバ回路
7−1が駆動状態、他のドライバ回路が非駆動状態とな
る。
ドライバ回路7−1において、書込み時は第4図のレベ
ル変換回路からの信号により、信号Vが高電圧(Vpp
)レベル、信号GがLレベルにされ、N−FET37が
導通状態、デプレッション型N−FET35が非導通状
態となる。このとき、ドライバ回路7−1の入力信号Z
がLレベルであれば、N−FET35が非導通状態とな
り、またデプレッション型N−FET36もソース、ド
レインがそれぞれVPP  レベル、Hレベル、ケート
カムレベルで非導通状態となるため、ワード線に高電圧
が印加されてピット線(図示していない)によシ選択さ
れた位置のメモリセルに書込みが行なわれ、一方、へカ
信号ZがHレベルであればN−FET35が導通状態と
なるためワード線の電圧はデプレッション型N−FET
38とN−FET35の分割抵抗によシ十分GNDレベ
ルに近い値となシ書込みは行なわれない。
また、読出し時は同じく第4図のレベル変換回路からの
信号により、書込み時とは逆に信号■がLレベル、信号
GがHレベルにされ、N−FET37が非導通状態、デ
プレッション型N−FET36が導通状態となり、P−
FET34とN−FET35とでCMOSインバータを
形成する。このとき、入力信号2がLレベルであればP
−FET34が導通状態、N−FET35が非導通状態
となるため、ワード線にVcc  レベルの電圧が印加
されてビット線により選択された位置のメモリセルが読
み出され、一方、入力信号ZがHレベルであればP−F
ET34が非導通状態、N−FE′r35が導通状態と
なるためワード線がGNDレベルとなシ読出しは行なわ
れない。本実施例において、既述の如くドライバ回路7
−1の入力信号ZがHレベルのとき、そのHレベルはV
cc  [等しいか殆んど電圧降下を起していないので
、p−FET34とN−FET35とで構成サレルCM
O5には貫通電流は流れない。
また、本実施例において、第2段デコーダ回路11を第
3図のように構成しているので、同じ機能を果すものと
して後述の第13図で示すような既知のNAND回路を
組み合せた回路に比べて回路構成が簡略になシ、したが
って集積回路化したときにデコーダが占める面積を縮小
する上で効果を発揮することができる。
第3図の実施例で使用されているドライバ回路7−1で
信号V、Gを発生するレベル変換回路を第4図に示す。
このレベル変換回路ハOE / Vpp入力端子とGN
D端子間[P−FET40とN−FET41とからなる
0MO8を設け、このCMO5の入力側にインバータ4
2を介して、OE/VPP 入力電圧がVPP  レベ
ルのときにHレベルの信号を出力し、OE/VPP 入
力電圧がVccレベル以下のときにはLレベルの信号を
出力するレベル検出回路43を接続し、P−FET4Q
とN−FET41とで構成される0MO8の入力信号、
出力信号をそれぞれ第3図のドライバ回路7−1の信号
V、Gとして出力する。第4図において、レベル検出回
路43としては、OE/Vpp入力端子とGND端子間
にデプレッション型N −FET44と0MO5とを設
け、各トランジスタのゲートにVcc  レベルの電圧
を印加したものである。なお、レベル検出回路43にお
ける0MO5は、N−FET45の導通抵抗の方がP−
FET46の導通抵抗より十分大きくなるようにチャン
ネル幅Wとチャンネル長しとの比率W/Lが設定されて
いるものとする。
このレベル変換回路において、書込み時はOE/VPP
 入力電圧をVPP  レベルとする。このとき、デプ
レッション型N−FET44は非導通状態になるがその
ドレインにはVcc  より高電圧が発生するので、P
−FET45が導通状態となり、またN−FET45も
導通状態となっているので、N−FET45とP−FE
T46の導通抵抗の比率からその0MO5の出方がHレ
ベルとなり、インバータ42を経てLレベルに変換され
て、ドライブ回路7−1の信号GをLレベルとすると共
に。
P−FET4Qを導通状態、N−FET41を非導通状
態とするためレベル変換回路の出方側にVPP が現わ
れ、ドライバー回路7−1の信号■をVPP  レベル
とする。一方、読出し時は、OE/VPP 入力電圧を
Vcc  レベル以下とする。このとき、デプレッショ
ン型N−FET44が導通状態となるためP−FET4
5が非導通状態となる。そしてN−FET45が導通状
態であるため。
インバータ42を経た信号レベルはHレベルとなってド
ライバ回路7−1の信号GをHレベルとすると共に、P
−FET4Qを非導通状態、N−FET4 lを導通状
態とするためレベル変換回路の出力側にLレベルが現わ
れ、ドライバ回路7−1の信号■をLレベルとする。
第4図のレベル変換回路に用いうるレベル検出回路43
の変形例として、デプレッションfiN−FET44を
省略したものを第5図に示す。動作れることになり、ラ
ッチアップ現像を起しゃすくなるので、P−FET45
とN−FET45の距離を十分長くし、あるいはNウニ
、ルの内外をガートシてP−FET45の周囲には他の
トランジスタを配置しないようにするなどのパターン上
の配慮が必要である。更に、P−FET45とN−FE
T45の耐圧特性を増すためにチャンネル長を長くする
ことも必要である。
第6図は第4図のレベル変換回路に用いうるレベル検出
回路43の他の例を示すもので、デプレッション型N−
FET44を2個のN−FET47及び48に置き換え
たものである。これはN−FET47及び48の基板効
果による電圧降下を利用してP−FET45及びN−F
ET45に印加N−1’l!、14’/、43のjXL
−名f’L、6 N −r x: 1 G/)数は、必
要な電圧降下の大きさに応じて適宜定めることができる
。このレベル検出回路43も動作は第4図に示されたも
のと同様である。
第7図にはレベル検出回路43の更に他の例を示す。第
4図に示されたレベル変換回路43と比較して、P−F
ET45のゲート電圧を閾値電圧分だけ低下させるため
に、Vcc  電源電圧とP−FET45のゲートとの
間にP−FET49が設けられている。これによりP−
FET45の抵抗が下り、流れ込む電流が増加するため
、P−FET46の立上多速度を大きくすることができ
る。
動作は第4図に示されているレベル検出回路43と同様
であるので省略する。
以上の第4〜7図に示されたレベル検出回路は、メモル
セルの読出し駆動時に貫通電流が流れない利点を有して
いる。そしてレベル検出回路43は本実施例における2
56個のドライバ回路7−1〜7−256に共通に用い
ることができる。
本実施例に用いうるドライバ回路7−1 (7−2〜?
−256についても同じ)の他の例を第8〜12図に示
す。
第8図は第3図に示されたドライバ回路7−1のデプレ
ッション型N−FET38を抵抗50に置き換え、図示
しない回路によシ書込み時は端子CにVPP  レベル
の電圧が印加され、読出し時は端子Cがフロティングに
なるように構成されたものであり、このような端子は第
9図、第10図のBのようにダイオードあるいはトラン
ジスタで容易に構成できる。また、N−FET35の導
通抵抗は抵抗50より十分小さく設定されている。この
ドライブ回路において、書込み時はインノクータ51を
介してデプレッション型N−FET36のケートがLレ
ベルになる。入力信号2がLレベルとなって駆動時に々
ると、N−FET35が非導通状態、またP−FET3
4が導通状態となるためデプレッション型N−FET3
6が非導通状態とカリ、ワード線に高電圧が印加される
。入力信号ZがHレベルと力る非駆動時には、P−FE
T34が非導通状態、N−FET35が導通状態となる
ためワード線はGNDレベルとなる。読出し時はデプレ
ッション型N−FET36のゲートがHレベルになるた
めそのFET36が導通状態となシ、P−FET34と
N−FET35とからなるCMO5がインバータとなっ
て入力信号2により、第3図と同様にワード線を駆動す
る。
第9図は第8図のドライバ回路の端子Cと抵抗50との
間にダイオード52を設けたもので、このようにダイオ
ード52を挿入することにより。
読出し時に端子Cをフローティングにする必要がなく、
単に端子Cの印加電圧を低下させるだけでワード線から
端子Cへの逆流を防ぐことができる。
他の動作は第8図と同様である。
第10図は第9図の抵抗50を第4図のようにデプレッ
ション型N−FET38の導通抵抗に置き換え、ダイオ
ード52をN−FET53に置き換えたもので、動作は
第9図のドライブ回路と同じである。N−FET53を
閾値がO■前後にあるゼロトランジスタに置き換えても
よく、その場合には基板効果による電圧降下が少なくな
る。
第11図は第3図のドライバ回路7−1のN −FET
37をP−FET54に置き換えたものである。P−F
ET54のゲート信号Vは第3図のゲート信号■とは逆
相になり、このような信号は例えば第4図に示されたレ
ベル変換回路の出力信号を反転させて得られる。書込み
時には端子CにVPP  レベルの電圧を印加する。■
信号はGNDレベルとなるのでP−FET5475(導
通状態となる。N−FET55が導通状態となるので2
個のインバータ56及び57を経てデプレッション型N
−FET31のゲート信号がLレベルとなり、第3図で
説明したのと同じ書込み動作を行なう。
読出し時には端子Cの印加電圧をGNDレベルにする。
■信号はVPP  レベルあるいはHレベルとなるので
P−FET54が非導通状態となりワード線から端子C
への逆流を防止することができる。
そしてN−FET55が非導通状態となるためインバー
タ56,57を経てデプレッション型N−FET31の
ゲート信号がHレベルとなり、第3図に示したのと同じ
読出し動作を行なう。
第12図は第8図におけるデプレッション型N−FET
35をゼロトランジスタ58に置き換工、抵抗50をデ
プレッション型N−FET38の導通抵抗に置き換えた
ドライバ回路である。動作は第8図のものと全く同じで
ある。
第12図において、ゼロトランジスタ58のゲートと端
子Cの間のインバータ51と抵抗の回路を除去し、ゼロ
トランジスタ58のゲートにVccレベルの電圧を常時
印加するようにしてもよい。
端子CがVPP  レベルのときはゼロトランジスタ5
8が非導通状態になるので、第8図のドライバ回路と同
じ動作を行なう。更に第12図において、ゼロトランジ
スタ58をエンハンスメント型N−FETに置き換えて
もよい。念だし、この場合には読出し時にワード線に印
加される電圧の降下が大きくなる問題がある。
以上のドライバ回路は、いずれも本発明において読出し
時に貫通電流が流れない点に特徴を有L7ている。
第13図は第3図における第2段デコーダ回路11−1
 (他の11−2〜11−32についても同じ)の他の
例を示すものである。これは2個の4人力NAND回路
60.61を配列したもので、第3図の第2段デコーダ
回路11−1と全く同じ機能を果すものである。しかし
ながら第13図の回路では、各NAND回路60及び6
1が4個のP−FETと4個のN−FETを必要とする
ので全体としては8個のP−FETと81個のN−FE
Tとを必要とする。これを第3図の実施例の第2段デコ
ーダ回路11−1が5個のP−FETと5個のN−FE
Tとから構成されているのと比較すると、集積回路化の
観点からは第3図に示した回路の方が優れている。この
ように第3図の回路でトランジスタ数を減少させること
ができたのは、第13図におけるP−FET24−1と
24−2を共通にして1個のP−FET24で機能させ
るようにし、他のP−FET25−1と25−2.26
−1と26−2、及びN−FET29−1と29−2.
30−1と30−2.31−1と31−2についても同
様に共通に機能させるように構成したからである。
以上の実施例は本発明の一例を示したものにすぎず、本
発明はこれらの実施例に限定されない。
そして例えば、実施例ではメモリセルがN−FETで構
成されているROM、PλOM、又はEPROMを想定
しているが、逆にメモリセルがP−FETからなるもの
に対しても、ドライバ回路の出力信号が実施例と逆相に
なるように、例えばインバータを挿入するなどの既知の
手段を追加するだけで容易に適用しうる。したがってそ
のような実施例の変形は本発明の範囲内のものである。
以上に詳しく説明したように、本発明はCMO5を含む
ドライバ回路を備えたデコーダ回路において、そのドラ
イバ回路を制御するゲート回路を、ドライバ回路のCM
O8の電源電圧に等しいか殆んど等しい電圧の信号を発
生するように構成したので、ドライバ回路のCMO5に
貫通電流が流れるのを制御することが□でき、それによ
り一消費電力を少なくする効果を発揮することができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロック回路図、第2
図は第1図の実施例のゲート回路とドライバ回路の動作
を説明する回路図、第3図は本発明をFROMやEFR
OMに適用した一実施例を詳細に示す回路図、第4図は
第3図におけるドライバ回路に用いるレベル変換回路の
一例を示す回路図、第5図ないし第7図はそれぞれ第4
図のレベル変換回路に用いるレベル検出回路の他の例を
示す回路図、第8図ないし第12図はそれぞれ第3図に
おけるドライバ回路の他の例を示す回路図、第13図は
第3図における第2段デコーダ回路の他の例を示す回路
図である。 1−0〜1−63・・・・・・第1の信号線、2・・・
・・・第1のデコーダ回路、3−0〜3−3・・・・・
・第2の信号線、4・・・・・・第2のデコーダ回路、
5.5−1〜5−8・・・・・・ゲート回路、6・・・
・・・メモリセル、7・・・・・・ドライバ回路、8・
・・・・・ライトデプレッション型N−FET、9・・
・・・・P−FET0特許出願人 株式会社リ コ − 代 埋 人 弁理士青白 葆外2名 第5図 第3図 第6図 第8図 第9図 第10図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1のアドレス信号により第1の信号線を選択す
    る第1のデコーダ回路と、上記第1の信号線と交差する
    第2の信号線を第2のアドレス信号により選択する第2
    のデコーダ回路と、上記第1の信号線と第2の信号線と
    の全ての交点に設けられたゲート回路と、そのゲート回
    路からの信号により制御されメモリセルのワード線を駆
    動するCMO5構成のドライバ回路とを備え、上記ゲー
    ト回路がドライバ回路の0MO3の電源電圧に等しいか
    殆んど等しい電圧の信号をドライバ回路に供給する回路
    であることを特徴とするCMO8型O8−ダ回路。
JP57027953A 1982-02-22 1982-02-22 Cmos型デコ−ダ回路 Granted JPS58146090A (ja)

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