JPS58115091A - F・z法によるベリル結晶合成法 - Google Patents
F・z法によるベリル結晶合成法Info
- Publication number
- JPS58115091A JPS58115091A JP56210439A JP21043981A JPS58115091A JP S58115091 A JPS58115091 A JP S58115091A JP 56210439 A JP56210439 A JP 56210439A JP 21043981 A JP21043981 A JP 21043981A JP S58115091 A JPS58115091 A JP S58115091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- flux
- synthesis
- beryl
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/02—Zone-melting with a solvent, e.g. travelling solvent process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ベリル結晶は、組成が5B@0−At雪01・6810
゜であり、六方晶系で、分解溶融型の材質であり、融解
温度が、1410Cとされている。従来、人工的な合成
方法として、水熱合成法とフラックス合成法が主要な方
式として、周知であり、特にフラックス法は、実用に供
せられており、クロム(Cr)元素をドーピングして、
エメラルド結晶として、世に、販売されている。然しな
から、フラッフ法は、以下の理由 ■ 白金ルツボを必要とする。 ′■ 合成温度の
制御が厳密である。
゜であり、六方晶系で、分解溶融型の材質であり、融解
温度が、1410Cとされている。従来、人工的な合成
方法として、水熱合成法とフラックス合成法が主要な方
式として、周知であり、特にフラックス法は、実用に供
せられており、クロム(Cr)元素をドーピングして、
エメラルド結晶として、世に、販売されている。然しな
から、フラッフ法は、以下の理由 ■ 白金ルツボを必要とする。 ′■ 合成温度の
制御が厳密である。
■ 溶融塩(フラックス)の使用量が多量である。
■ 結晶欠陥(フエザーイソクルージョ/)の発生防止
が、困難である。
が、困難である。
■ 結晶成長速度が小さい。
Kより、極めて、製造コストの筒いものである。
本願発明は、前記手法に代る安価な合成方式を提供する
ものである。基本的発想は、周知のF・2方式を改良−
変形させた手法にある。即わち、周知の、赤外線集中加
熱単結晶製造装置(F・2炉と略称)を使用して、合成
条件を新規に考案したものである0本手法は、 ■ 白金ルツボは不要 ■ フラッフの使用量は、極小量である。
ものである。基本的発想は、周知のF・2方式を改良−
変形させた手法にある。即わち、周知の、赤外線集中加
熱単結晶製造装置(F・2炉と略称)を使用して、合成
条件を新規に考案したものである0本手法は、 ■ 白金ルツボは不要 ■ フラッフの使用量は、極小量である。
■ 従前の7ラツクス法にば無い制御パラメータにより
、結晶欠陥が制御できる。
、結晶欠陥が制御できる。
■ 結晶成長速度が、フラックス法に比較して、大きく
とれる。
とれる。
■ 結晶成長方向が、任意に制御で茂る。
の%黴があり、結果として、スルーブツトが上り、従前
のフラックス法よりも安価なプロセスである。
のフラックス法よりも安価なプロセスである。
以下に、実施例を説明する。
実施例1
まず、原料粉末の調合を行なう、試薬特級の酸化ペリリ
クム(B・0)、酸化アルイニウム(A4Qs)、酸化
ケイ素(810,)、酸化クロム(C、r gos)よ
り、秤量して、5B・0・*z、o3 ・6S魚08・
α005CrlO1の組成の混合粉末を作製する0次に
、鋏混合粉末を、ボールミルに依り、混合粉砕を5θ時
間以上行なう、この際、ポット及びボールの材質は高純
度アルずすの焼結材である1次に、皺混合粉末を、周知
のy−z法原料棒製造法により、焼結体欅な作製する。
クム(B・0)、酸化アルイニウム(A4Qs)、酸化
ケイ素(810,)、酸化クロム(C、r gos)よ
り、秤量して、5B・0・*z、o3 ・6S魚08・
α005CrlO1の組成の混合粉末を作製する0次に
、鋏混合粉末を、ボールミルに依り、混合粉砕を5θ時
間以上行なう、この際、ポット及びボールの材質は高純
度アルずすの焼結材である1次に、皺混合粉末を、周知
のy−z法原料棒製造法により、焼結体欅な作製する。
これがF−Z炉の原料棒となる。
次に1フラツクスとして、Li@ 0@V、 osの組
成となる如くに、試薬特級の水酸化リチウム(LIOH
)及び五酸化バナジウム(VmOs)を秤量する。
成となる如くに、試薬特級の水酸化リチウム(LIOH
)及び五酸化バナジウム(VmOs)を秤量する。
α00 s c r HOaの組成の粉末をfi ′I
IkIIIJ合で、20饅相当分を加える。
IkIIIJ合で、20饅相当分を加える。
然る後の混合粉末を、成形、焼結を行なって、ディスク
状の焼結ベレットを作る0次に、種子結晶として、フラ
ックス法により合成されたベリル結晶をC軸方向に長く
切断し、所定寸法に加工する。。
状の焼結ベレットを作る0次に、種子結晶として、フラ
ックス法により合成されたベリル結晶をC軸方向に長く
切断し、所定寸法に加工する。。
次に、以上のプロセスにて予め、用意されたものを、F
−2炉にセットして、結晶合成を行なう。
−2炉にセットして、結晶合成を行なう。
F@Z炉は、大略、第1図に示される構造であり、例え
ば、ニチデン機、械株式会社製の8C−2型でよい、即
わち、■は、原料素材棒であり、■は、種子結晶、■は
、回転楕円面縫用の2つの焦点であり、−力は、ハロゲ
ンランプ0で熱源であり、他の電力は、溶融したフラッ
クスである。■は透明石英チューブであり、■はレンズ
、[株]はスクリーンであり、合成状況のモニタリング
を行なう。
ば、ニチデン機、械株式会社製の8C−2型でよい、即
わち、■は、原料素材棒であり、■は、種子結晶、■は
、回転楕円面縫用の2つの焦点であり、−力は、ハロゲ
ンランプ0で熱源であり、他の電力は、溶融したフラッ
クスである。■は透明石英チューブであり、■はレンズ
、[株]はスクリーンであり、合成状況のモニタリング
を行なう。
■、@は、上、下の1転軸であり、■及び■の一転及び
、上下動を制御する。
、上下動を制御する。
*?77に、セットされた種子結晶■の上に、フラック
スベレットを載置し、該ベレット直上に原料素材棒を接
触させて、セットする。この状態で、ハロゲンランプの
電力を上昇させて、フラックス法材棒■の間に表面張力
で保持されている状態を維持する。その後、溶融フラッ
クス法を1100″CK保持し、上下軸を逆方向に、5
0r、p、mで回転させ10時間、保持する。然る後に
1溶融ゾーンの上下距離を維持する状態で、■及び・を
下方に移動させる。この場合、移動速度は即結晶成長達
1ILK対応する。結晶成長速度は、大きすぎるとイン
クルージヨンが%生ずるため、制御1されなければなら
ず、最大1■/DAYである。これ以下の成長速度で、
インクルージヨンの無い結晶が作製でき、また、低速は
ど、他の成長条件の制御余裕−が大まくとれ、容易に成
長させることができる。
スベレットを載置し、該ベレット直上に原料素材棒を接
触させて、セットする。この状態で、ハロゲンランプの
電力を上昇させて、フラックス法材棒■の間に表面張力
で保持されている状態を維持する。その後、溶融フラッ
クス法を1100″CK保持し、上下軸を逆方向に、5
0r、p、mで回転させ10時間、保持する。然る後に
1溶融ゾーンの上下距離を維持する状態で、■及び・を
下方に移動させる。この場合、移動速度は即結晶成長達
1ILK対応する。結晶成長速度は、大きすぎるとイン
クルージヨンが%生ずるため、制御1されなければなら
ず、最大1■/DAYである。これ以下の成長速度で、
インクルージヨンの無い結晶が作製でき、また、低速は
ど、他の成長条件の制御余裕−が大まくとれ、容易に成
長させることができる。
結晶成長は、溶融体と結晶の界面で進行するため、下方
の結晶体は、合成完了時には、その上部のフラックス固
体を切断すれば、即エメラルド結晶体のみとして利用で
き、特に後処理を必要としない。
の結晶体は、合成完了時には、その上部のフラックス固
体を切断すれば、即エメラルド結晶体のみとして利用で
き、特に後処理を必要としない。
以上の手法により、α01〜CL 51111/DAT
の速度テインクルージョ/の無いエメラルドか合成でき
た。結晶の直径は、大略、5〜10%である。
の速度テインクルージョ/の無いエメラルドか合成でき
た。結晶の直径は、大略、5〜10%である。
実施例2
実施例1と同様の前提条件で、原料素材棒■と種子結晶
0の配置を上・王道転して、合成を行なった。さらに、
最初の段階でl100Cで保持する間に、上部種子結晶
と溶融体とを接触させずに、溶融体を下部原料素材棒の
上*に表面張力で保持させた状態で維持し、10時間後
に、種子結晶と接触させ、以後結晶成長を行なわせた。
0の配置を上・王道転して、合成を行なった。さらに、
最初の段階でl100Cで保持する間に、上部種子結晶
と溶融体とを接触させずに、溶融体を下部原料素材棒の
上*に表面張力で保持させた状態で維持し、10時間後
に、種子結晶と接触させ、以後結晶成長を行なわせた。
この場合は溶融体の飽和溶解度を制御することが容易で
、種子結晶接触後、直ちに、結晶成長に進めることがで
きる。結晶の品質は、実施例同様に、80倍の宝石顕微
鏡の観察で、インクルージヨンは認められなかった。
、種子結晶接触後、直ちに、結晶成長に進めることがで
きる。結晶の品質は、実施例同様に、80倍の宝石顕微
鏡の観察で、インクルージヨンは認められなかった。
実施例3
一*施例1と同様の帯性で、フラックスベレットの組成
として、vt Os / L I HOのモル比を変化
させて、実験の結果、1〜5の範囲で、インクル−ジョ
ンの駿察されないエメラルドが合成された。
として、vt Os / L I HOのモル比を変化
させて、実験の結果、1〜5の範囲で、インクル−ジョ
ンの駿察されないエメラルドが合成された。
実施例4
実施viJ1と一様の条件で、結晶成長温度、即わち溶
融体温度を変化させて実験した。温度は、ハロゲンラン
プの電力の変動を換算している。この結果、a 5 m
/ D’A Y、の成長速度では、950〜1200C
の間で、インクルージヨンの無い成長が可能である。
融体温度を変化させて実験した。温度は、ハロゲンラン
プの電力の変動を換算している。この結果、a 5 m
/ D’A Y、の成長速度では、950〜1200C
の間で、インクルージヨンの無い成長が可能である。
実施例5
1!施例1と同等の条件で、フラックスベレットとして
、Li、 O−MuO,系を実験した。この結果、成長
速度:a(M〜α2mm/DAT 成長温wILニア50〜950C 組成モル比:2〜5 (M6o、 /Li、 0)の範
囲が適切である。
、Li、 O−MuO,系を実験した。この結果、成長
速度:a(M〜α2mm/DAT 成長温wILニア50〜950C 組成モル比:2〜5 (M6o、 /Li、 0)の範
囲が適切である。
実施例6
実施例1と同等の条件で、7ラツクベレツトとして、L
llo−WOa系を実験した。その結果成長速度:α0
1〜α2■/DAY 成長温度:800〜1000C 組成モル比: 2−6 (WOa/L11O)の範囲が
適切である。
llo−WOa系を実験した。その結果成長速度:α0
1〜α2■/DAY 成長温度:800〜1000C 組成モル比: 2−6 (WOa/L11O)の範囲が
適切である。
実施例7
実施例1とfWJ等の条件で、楊子結晶の結晶力位と結
晶成長の信頼性、品質の相関を実験した。エメラルドは
、六方晶系であり、実施例1はC@刀向内部ち、(00
01)方向に結晶成長させている・他の特徴的な方位は
、a軸方内部わち(2110)である、そして、a面峻
び・而は、典形的な自然面である。
晶成長の信頼性、品質の相関を実験した。エメラルドは
、六方晶系であり、実施例1はC@刀向内部ち、(00
01)方向に結晶成長させている・他の特徴的な方位は
、a軸方内部わち(2110)である、そして、a面峻
び・而は、典形的な自然面である。
本実験では、(00ml)方向と<zt’i’o>方向
の間710°きざみで、カットした種子結晶により、同
一結晶成長4I!汗即わち、 (ロ)転速度; 50R,P、M、(上/)°逆回転)
成長速度:α5箇/DAT の条件で成長させた結果、低面指数面〔例えば、(00
01)、(2110)、(1011)、(1121)。
の間710°きざみで、カットした種子結晶により、同
一結晶成長4I!汗即わち、 (ロ)転速度; 50R,P、M、(上/)°逆回転)
成長速度:α5箇/DAT の条件で成長させた結果、低面指数面〔例えば、(00
01)、(2110)、(1011)、(1121)。
(1122)面〕から、2〜10c′撮られた面上に成
長させる場合の力が、インクルージヨンが入りにくいこ
とが判明した。この結果、結晶成長速度として、最大2
5wm/DAYまで、インクルージヨンのない状態で、
速くすることができ、顕著な効果である。
長させる場合の力が、インクルージヨンが入りにくいこ
とが判明した。この結果、結晶成長速度として、最大2
5wm/DAYまで、インクルージヨンのない状態で、
速くすることができ、顕著な効果である。
以上、実施例にて、説明した如くに、本願発明は、F@
z方式の新規改質により、極めて、有用なるベリル合成
法として、新たな発想を提供するものである。41)K
%種子結晶方位を制御することにより、結晶の品質が良
好な状態で、成長速度をあげることができる点は、きわ
めて有用な技術である。
z方式の新規改質により、極めて、有用なるベリル合成
法として、新たな発想を提供するものである。41)K
%種子結晶方位を制御することにより、結晶の品質が良
好な状態で、成長速度をあげることができる点は、きわ
めて有用な技術である。
第1図は、本願発明に係るF・2炉の概要を示す図であ
る。■は、原料素材棒、■は検子結晶、■は回転楕円面
一の2つの焦点、■は回転楕円面鏡、0はハロゲンラン
プ、■は透明石英管、■はレンズ、■はスクリーンで、
■、■により、合成状況の像観察が為される。
る。■は、原料素材棒、■は検子結晶、■は回転楕円面
一の2つの焦点、■は回転楕円面鏡、0はハロゲンラン
プ、■は透明石英管、■はレンズ、■はスクリーンで、
■、■により、合成状況の像観察が為される。
Claims (1)
- y−zrlcよりベリル結晶を合成する方法において、
7ラツクスを使用することにより、種子結晶の結晶方位
を、低面指数面から、2乃至10度ずらせた面上に結晶
合成せしめることを特徴とするベリル結晶合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56210439A JPS58115091A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | F・z法によるベリル結晶合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56210439A JPS58115091A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | F・z法によるベリル結晶合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58115091A true JPS58115091A (ja) | 1983-07-08 |
Family
ID=16589342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56210439A Pending JPS58115091A (ja) | 1981-12-25 | 1981-12-25 | F・z法によるベリル結晶合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58115091A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6077200A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Seiko Epson Corp | ベリル単結晶の合成方法 |
-
1981
- 1981-12-25 JP JP56210439A patent/JPS58115091A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6077200A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Seiko Epson Corp | ベリル単結晶の合成方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2634554A (en) | Synthetic gem production | |
JPS58115091A (ja) | F・z法によるベリル結晶合成法 | |
CN115504480B (zh) | 化合物硼酸锌钡和硼酸锌钡双折射晶体及其制备方法和用途 | |
JPS58115092A (ja) | F・z法によるベリル結晶合成法 | |
JPS58115089A (ja) | F・z法によるベリル結晶合成法 | |
JPH0317800B2 (ja) | ||
JPS59137391A (ja) | タ−フエアイト鉱物結晶 | |
JPS58120596A (ja) | F・z法によるベリル結晶合成法 | |
JPS59141491A (ja) | スポジウメン鉱物 | |
JPS59137392A (ja) | F・z法によるスギライト結晶合成法 | |
JPS59141489A (ja) | F・z法によるサフアイヤキヤツツアイ結晶合成法 | |
JPS59141492A (ja) | ガ−ネツト鉱物 | |
JPS59137390A (ja) | ゾイサイト鉱物 | |
JP3548910B2 (ja) | ZnO単結晶の製造方法 | |
JPS59137389A (ja) | トルマリン鉱物 | |
JPS6042195B2 (ja) | クリソベリル単結晶製造法 | |
JPS58115095A (ja) | 人工ベリル単結晶の合成方法 | |
JPS6027677A (ja) | 浮遊帯溶融法による固溶体単結晶の製造法 | |
JP2004091222A (ja) | 酸化物半導体単結晶の製造方法 | |
JPS59174591A (ja) | F・z法によるルビ−人工結晶合成法 | |
JPS59116196A (ja) | F・z法によるルビ−キヤツツアイ結晶合成法 | |
JPH04243998A (ja) | β−メタホウ酸バリウム単結晶の製造方法 | |
JP2794245B2 (ja) | Bi系酸化物超電導体単結晶の製造方法 | |
JPH08295507A (ja) | 光学結晶及びその製造方法 | |
JPS63274697A (ja) | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 |