JPS63274697A - 銅酸ランタン単結晶の製造方法 - Google Patents
銅酸ランタン単結晶の製造方法Info
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Classifications
-
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- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
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-
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- C30B13/24—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge using electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C30B9/00—Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
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- H10N60/857—Ceramic superconductors comprising copper oxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野]
この発明はLa2Cub4単結晶のフローティングゾー
ン法による製造方法に関するものである。
ン法による製造方法に関するものである。
【従来の技術J
La、Cub、単結晶はLa原子の位置を少量BaやS
「原子で置き換えると30〜40にの低温で超伝導体と
なり、極低温素子としてこれからの応用が期待されてい
る。そのため大型の良質な単結晶が望まれ、その製造方
法の開発が望まれている。
「原子で置き換えると30〜40にの低温で超伝導体と
なり、極低温素子としてこれからの応用が期待されてい
る。そのため大型の良質な単結晶が望まれ、その製造方
法の開発が望まれている。
しかしLa2CuO4は高温にしてゆくと1050℃付
近で分解溶融するため、単結晶と同一組成の原料から単
結晶を製造することができない。そのためフラックス法
や溶液ひきあげ法で結晶育成がされている。フラックス
法においては育成時間が3日で最大8X8X2111の
大きさの単結晶が、溶液ひきあげ法では育成時間が9〜
10時間で9X7X4111111の大きさの単結晶が
現在までに育成されている。
近で分解溶融するため、単結晶と同一組成の原料から単
結晶を製造することができない。そのためフラックス法
や溶液ひきあげ法で結晶育成がされている。フラックス
法においては育成時間が3日で最大8X8X2111の
大きさの単結晶が、溶液ひきあげ法では育成時間が9〜
10時間で9X7X4111111の大きさの単結晶が
現在までに育成されている。
[発明が解決しようとする問題点]
このように、フラックス法では結晶育成に長時間を要し
、育成結晶が小さく、融剤から育成結晶を分離する操作
が必要である。また溶液ひきあげ法ではかなり高度の結
晶成長技術が必要であり、容器に充填した出発原料はご
く少量が単結晶となり、大部分は容器に残り、数回の結
晶成長で純度の低下のため高価な原着を捨てなければな
らない笠の問題点があった。
、育成結晶が小さく、融剤から育成結晶を分離する操作
が必要である。また溶液ひきあげ法ではかなり高度の結
晶成長技術が必要であり、容器に充填した出発原料はご
く少量が単結晶となり、大部分は容器に残り、数回の結
晶成長で純度の低下のため高価な原着を捨てなければな
らない笠の問題点があった。
1問題点を解決するための手段J
この発明は上記実情に鑑み、La203−CuO系の相
平衡図に基づき実際のLa2Cub41結晶製造に通し
たフローティングゾーン法を研究した結果開発されたも
ので、銅酸ランタンの原料棒と種結晶の間に酸化ランタ
ンおよび炭酸ランタンのうちの少なくとも一種が28.
9〜7.1モル%、酸化銅が71.1〜92.9モル%
からなる溶媒を設け、溶媒を1040〜1330℃に加
熱して浮遊溶融帯を形成し、浮遊溶融帯を原料棒方向に
移動させることにより種結晶に単結晶を析出成長させる
ことを特徴とする。
平衡図に基づき実際のLa2Cub41結晶製造に通し
たフローティングゾーン法を研究した結果開発されたも
ので、銅酸ランタンの原料棒と種結晶の間に酸化ランタ
ンおよび炭酸ランタンのうちの少なくとも一種が28.
9〜7.1モル%、酸化銅が71.1〜92.9モル%
からなる溶媒を設け、溶媒を1040〜1330℃に加
熱して浮遊溶融帯を形成し、浮遊溶融帯を原料棒方向に
移動させることにより種結晶に単結晶を析出成長させる
ことを特徴とする。
なお1a2cuO,のLa原子およびCu原子の位置に
何らかの異種元素が少量混入しても、その相平衡図が定
性的にLa20.−CuO系の相平衡図と木質的に変ら
ない場合には、原料棒中に少量の異種元素を混入するこ
とにより、全く同じ方法によって異種元素を混入したL
a2CuO,固溶体単結晶を製造することも可能である
。
何らかの異種元素が少量混入しても、その相平衡図が定
性的にLa20.−CuO系の相平衡図と木質的に変ら
ない場合には、原料棒中に少量の異種元素を混入するこ
とにより、全く同じ方法によって異種元素を混入したL
a2CuO,固溶体単結晶を製造することも可能である
。
[作 用]
まず、この発明の原理について述べる。第1図は示差熱
分析と急冷加熱法の結果から作図したLa203−Cu
O系の相平衡図である。図中、黒点で示すのは測定結果
である。例えばLa20.が5oモル%、 CuOが5
0モル%の組成からなるLa2CuO,を加熱上昇させ
ると1050℃付近で分解溶融してしまう。
分析と急冷加熱法の結果から作図したLa203−Cu
O系の相平衡図である。図中、黒点で示すのは測定結果
である。例えばLa20.が5oモル%、 CuOが5
0モル%の組成からなるLa2CuO,を加熱上昇させ
ると1050℃付近で分解溶融してしまう。
次に、液相線^−B間の組成比、すなわちLa2O5の
28.9〜7.1モル%、 CuOの71.1〜92.
9モル%の範囲に混合した原料を約1330〜1040
℃において加熱融解したのち、融液を徐々に降温させる
と、融液の組成は液相線^−Bに沿って図のCuO側へ
ずれてゆき、La2CuO4が固相となって析出してく
る。
28.9〜7.1モル%、 CuOの71.1〜92.
9モル%の範囲に混合した原料を約1330〜1040
℃において加熱融解したのち、融液を徐々に降温させる
と、融液の組成は液相線^−Bに沿って図のCuO側へ
ずれてゆき、La2CuO4が固相となって析出してく
る。
融液の組成が共晶点BよりCuO側であれば、冷却時に
まずCuOが析出し、融液の組成がA点より1、a 、
O、側であれば、冷却時にまずLa、03側の結晶が
析出し、いずれもLa2CuO4は析出成長することが
できない。
まずCuOが析出し、融液の組成がA点より1、a 、
O、側であれば、冷却時にまずLa、03側の結晶が
析出し、いずれもLa2CuO4は析出成長することが
できない。
この発明においてはフローティングゾーン法においてL
a2CuO4原料棒と種結晶の間に設けられた溶媒の成
分組成を酸化ランタンおよび炭酸ランタンのうちの少な
くとも一種が28.9〜7.1モル%。
a2CuO4原料棒と種結晶の間に設けられた溶媒の成
分組成を酸化ランタンおよび炭酸ランタンのうちの少な
くとも一種が28.9〜7.1モル%。
酸化銅が7!、1〜92.9モル%にし、溶媒を105
0〜1:150℃に加熱溶融し、上記溶融組成を安定に
保ちながら原料棒の方向に移動させ、種結晶にLa2C
uO,−QL結晶を成長させるものである。
0〜1:150℃に加熱溶融し、上記溶融組成を安定に
保ちながら原料棒の方向に移動させ、種結晶にLa2C
uO,−QL結晶を成長させるものである。
[実施例]
以下に実施例によって本発明の詳細な説明する。
衷10I土
La2CuO4R−結晶をフローティングゾーン法によ
って製造した。
って製造した。
第2図に使用したフローティングゾーン単結晶製造装置
を示す8図において、1は原料棒、2は種結晶、3は溶
融帯域(溶媒)、4および5はそれぞれ回転軸、6は石
英管、7はハロゲンランプ、8は回転楕円鏡、9は監視
窓、lOはレンズ、11は監視用のスクリーンである。
を示す8図において、1は原料棒、2は種結晶、3は溶
融帯域(溶媒)、4および5はそれぞれ回転軸、6は石
英管、7はハロゲンランプ、8は回転楕円鏡、9は監視
窓、lOはレンズ、11は監視用のスクリーンである。
La2O3とCuOをモル比にしてl:l に混合した
粉末を900℃で2時間焼成し、その粉末を加圧成形器
で直径6 mtm、長さ7cmの丸棒状にして950℃
で2時間均質に焼成してLa2CuO,原料棒=1とす
る。
粉末を900℃で2時間焼成し、その粉末を加圧成形器
で直径6 mtm、長さ7cmの丸棒状にして950℃
で2時間均質に焼成してLa2CuO,原料棒=1とす
る。
同J!に、La、0.を15モル%、 CuOを85モ
ル%の組成に混合した粉末を900℃で2時間焼成した
後、直径6mmの丸棒状に加圧成形し、 950℃で2
時間均質に焼成して溶媒とする。しかるのち、この円柱
棒状の溶媒を径方向に切断し0.5〜0.99の円板に
してLa2CuO4原料棒に融着する。
ル%の組成に混合した粉末を900℃で2時間焼成した
後、直径6mmの丸棒状に加圧成形し、 950℃で2
時間均質に焼成して溶媒とする。しかるのち、この円柱
棒状の溶媒を径方向に切断し0.5〜0.99の円板に
してLa2CuO4原料棒に融着する。
このようにLa2CuO4原料棒の先端に溶媒を融着し
た円柱棒状試料を、赤外線加熱方式を採用したフローテ
ィングゾーン法単結晶製造装置の上部試着回転軸4に固
定し、同様に下部回転軸5に種結晶2を固定する。なお
、この場合種結晶2と溶媒をつけたLa2CLI04原
料棒1が回転軸に対して偏心しないよう設定する。そし
て、ハロゲンランプ7を用い赤外線を使用して上記溶媒
を加熱融解したのちに種結晶を溶媒に接触させ、液体の
表面張力により原料棒と種結晶の間に溶媒を保持させる
。
た円柱棒状試料を、赤外線加熱方式を採用したフローテ
ィングゾーン法単結晶製造装置の上部試着回転軸4に固
定し、同様に下部回転軸5に種結晶2を固定する。なお
、この場合種結晶2と溶媒をつけたLa2CLI04原
料棒1が回転軸に対して偏心しないよう設定する。そし
て、ハロゲンランプ7を用い赤外線を使用して上記溶媒
を加熱融解したのちに種結晶を溶媒に接触させ、液体の
表面張力により原料棒と種結晶の間に溶媒を保持させる
。
しかる後に原料棒と種結晶とを互いに反対方向に30r
pmで回転させる。
pmで回転させる。
さらに、この融けた溶媒を1〜2si+/hrの速度で
原料棒方向、すなわち上方に移動させて種結晶にL52
cu04 Jl−結晶を育成させる。なおこの育成は大
気圧下および酸素1気圧中で行ってもCuO等の蒸散は
微量であり、問題はなかった。
原料棒方向、すなわち上方に移動させて種結晶にL52
cu04 Jl−結晶を育成させる。なおこの育成は大
気圧下および酸素1気圧中で行ってもCuO等の蒸散は
微量であり、問題はなかった。
原料棒がほぼ消費された時に育成した単結晶と原料棒と
を切り離して室温まで冷却した。この結果、直径5 a
s、長さ5■の円柱棒状のLa2CuO4単結晶が得ら
れた。
を切り離して室温まで冷却した。この結果、直径5 a
s、長さ5■の円柱棒状のLa2CuO4単結晶が得ら
れた。
夫適■ユ
(Lao、 Jao、 +)zcuonなる組成ニツイ
テ70−ティングゾーン法により固溶体単結晶を製造し
た。
テ70−ティングゾーン法により固溶体単結晶を製造し
た。
90モル%La、03 +10モル%2BaCO,なる
組成の混合物とCuOをモル比にしてl:1および15
:85に混合した粉末をそれぞれ原料棒および溶媒とし
、実施例1と同様の操作により同様の経過を経て、直径
5m1m、長さ8IIllの(Lao、 、、Bao、
+)*CuO4固溶体単結晶を得た。
組成の混合物とCuOをモル比にしてl:1および15
:85に混合した粉末をそれぞれ原料棒および溶媒とし
、実施例1と同様の操作により同様の経過を経て、直径
5m1m、長さ8IIllの(Lao、 、、Bao、
+)*CuO4固溶体単結晶を得た。
この発明の製造方法では結晶中のLa原子の位置をBa
で置き換えても第1図のLa203−CuO系の相平衡
図が木質的に変らないため (La(1,*Bao、
+) zcuOa単結晶が製造できた。
で置き換えても第1図のLa203−CuO系の相平衡
図が木質的に変らないため (La(1,*Bao、
+) zcuOa単結晶が製造できた。
Cuの位置に少量の異種元素を混入しても、定性的に上
記の相平衡図が木質的に変らない場合には同様に異種元
素を混入したLa、Cub、固溶体単結晶を得ることが
できる。
記の相平衡図が木質的に変らない場合には同様に異種元
素を混入したLa、Cub、固溶体単結晶を得ることが
できる。
La2CuOa !結晶の作製に際し、酸化ランタン(
Lawns)でなく、炭酸ランタン(Law (COs
) s)を出発物質として用いることもできる。La2
(COs) 3は加熱中に Law (COs) s = La2’m + 3C(
121なる反応を起し、La2O3に変化する。従りて
出発物質としてLa2 (CO3) sとCuOを用い
ても、結果として第1図と全く同様の相平衡図が得られ
、前述した各実施例と同様の操作によってLa1CuO
411結晶およびLaの一部をBaまたはS「で置換し
た単結晶を得ることができた。
Lawns)でなく、炭酸ランタン(Law (COs
) s)を出発物質として用いることもできる。La2
(COs) 3は加熱中に Law (COs) s = La2’m + 3C(
121なる反応を起し、La2O3に変化する。従りて
出発物質としてLa2 (CO3) sとCuOを用い
ても、結果として第1図と全く同様の相平衡図が得られ
、前述した各実施例と同様の操作によってLa1CuO
411結晶およびLaの一部をBaまたはS「で置換し
た単結晶を得ることができた。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明によれば比較的短時間に
任意の結晶軸方向に良質な1a2cuo、単結晶を製造
することができる。しかも製造に使用する原料の大部分
を単結晶化できるので、フラックス法および溶液ひきあ
げ法に比較し、原料コストの節約が可能である。
任意の結晶軸方向に良質な1a2cuo、単結晶を製造
することができる。しかも製造に使用する原料の大部分
を単結晶化できるので、フラックス法および溶液ひきあ
げ法に比較し、原料コストの節約が可能である。
第1図はこの発明の詳細な説明するためのLa203−
CuO系の相平衡図、 第2図はフローティングゾーン単結晶製造装置の断面図
である。 1・・・原料棒、 2・・・種結晶、 3・・・溶融f域、 7・・・ハロゲンランプ。 第1図
CuO系の相平衡図、 第2図はフローティングゾーン単結晶製造装置の断面図
である。 1・・・原料棒、 2・・・種結晶、 3・・・溶融f域、 7・・・ハロゲンランプ。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)銅酸ランタンの原料棒と種結晶の間に酸化ランタン
および炭酸ランタンのうちの少なくとも一種が28.9
〜7.1モル%、酸化銅が71.1〜92.9モル%か
らなる溶媒を設け、該溶媒を1040〜1330℃に加
熱して浮遊溶融帯を形成し、該浮遊溶融帯を前記原料棒
方向に移動させることにより前記種結晶に単結晶を析出
成長させることを特徴とする銅酸ランタン単結晶の製造
方法。 2)前記原料棒が少量の異種元素を含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の銅酸ランタン単結晶の製
造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62109519A JPS63274697A (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 |
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1987
- 1987-05-01 JP JP62109519A patent/JPS63274697A/ja active Granted
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JPS6472905A (en) * | 1987-06-12 | 1989-03-17 | American Telephone & Telegraph | Production of superconductor and device and system comprising same |
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JPH0471877B2 (ja) | 1992-11-16 |
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