DE3872922T2 - Verfahren zur herstellung von lanthankuprat-einkristall. - Google Patents
Verfahren zur herstellung von lanthankuprat-einkristall.Info
- Publication number
- DE3872922T2 DE3872922T2 DE8888104090T DE3872922T DE3872922T2 DE 3872922 T2 DE3872922 T2 DE 3872922T2 DE 8888104090 T DE8888104090 T DE 8888104090T DE 3872922 T DE3872922 T DE 3872922T DE 3872922 T2 DE3872922 T2 DE 3872922T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- single crystal
- lanthanum
- cuprate
- mol
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 101
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- 229910002282 La2CuO4 Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 31
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 16
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 10
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 229910017569 La2(CO3)3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H lanthanum carbonate Chemical compound [La+3].[La+3].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O NZPIUJUFIFZSPW-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 4
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229960001633 lanthanum carbonate Drugs 0.000 claims description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical group [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 15
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Chemical group 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 239000008710 crystal-8 Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002231 Czochralski process Methods 0.000 description 1
- 229910002561 K2NiF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- QHTTXYNXPRHDDD-UHFFFAOYSA-L [Ni](F)F.[K] Chemical compound [Ni](F)F.[K] QHTTXYNXPRHDDD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/225—Complex oxides based on rare earth copper oxides, e.g. high T-superconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
- C30B13/22—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge
- C30B13/24—Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge using electromagnetic waves
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B9/00—Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/80—Constructional details
- H10N60/85—Superconducting active materials
- H10N60/855—Ceramic superconductors
- H10N60/857—Ceramic superconductors comprising copper oxide
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/725—Process of making or treating high tc, above 30 k, superconducting shaped material, article, or device
- Y10S505/729—Growing single crystal, e.g. epitaxy, bulk
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Lanthankuprat-Einkristalls.
- Lanthankuprat (La&sub2;CuO&sub4;) ist ein Oxid mit einer Kalium- Nickelfluorid-(K&sub2;NiF&sub4;-)Struktur und verfügt bei niedrigen Temperaturen über Supraleitfähigkeit, wenn ein Teil der La-Atome durch Br- oder Sr-Atome ersetzt wird. Seine Übergangstemperatur liegt im Bereich von 30 bis 40 K, und somit sind verschiedene Anwendungsmöglichkeiten für Vorrichtungen, die bei einer sehr niedrigen Temperatur arbeiten, für die Zukunft vorstellbar. Aus diesem Grunde ist es erforderlich gewesen, Einkristalle zu erzeugen, die großzügig bemessen sind und eine gute Qualität aufweisen, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Einkristalls zu entwickeln.
- Ein Foto eines solchen Kristalls mit Abmessungen in der Größenordnung 5 x 5 x 1 mm, der nach einem herkömmlichen Verfahren gezogen wurde, ist zwar veröffentlicht worden (Y. Hidaka et al.; J. Appl. Phys., 26, L377 (1987)), Einzelheiten zu dem Verfahren sind jedoch nicht veröffentlicht worden.
- Bislang wurde das Stromverfahren angewendet, um Einkristalle eines Materials zu erzeugen, das sich bei hoher Temperatur aufspaltet und während des Kühlvorgangs peritektische Reaktionen hervorruft und daher keine Einkristalle nach dem üblichen Ziehverfahren (Czochralski-Verfahren) hervorbringen kann. Das Stromverfahren weist im wesentlichen die folgenden Schritte auf: Mischen eines Zielmaterials mit einem Strom, Schmelzen des dabei gewonnenen Gemisches, langsames Abkühlen des geschmolzenen Gemisches, um es in einen übersättigten Zustand zu versetzen und somit Einkristalle eines Zielmaterials aus der Schmelze kristallisieren zu lassen. In diesem Zusammenhang muß Klarheit geschaffen werden über die Art des Stromes zum Kristallisieren des angestrebten Einkristalls und die zum Zielmaterial hinzuzugebende Menge sowie über den für das Wachstum der Einkristalle geeigneten Temperaturbereich, wenn man mit einer gewissen Sicherheit nach dem Stromverfahren Einkristalle wachsen lassen will. Zu diesem Zweck ist es erforderlich, ein Phasendiagramm eines Systems, bestehend aus einem Rohmaterial und einem Fluß, zu erarbeiten.
- Journal of Crystal Growth, Band 85, Hr. 4, Dezember 1987, Seite 581-584, Amsterdam, Holland; Y. Hidaka et al.: "Single crystal growth of (La1-xAx)&sub2;CuO&sub4; (A = Ba or Sr) and Ba&sub2;YCu&sub3;O7-y" offenbart das Einkristallwachstum von (La1-xAx)&sub2;CuO&sub4; (A = Ba oder Sr) unter Verwendung des CuO- Stromverfahrens, bei dem ein Gemisch von 20 Mol-% (La1-xAx)&sub2;CuO&sub4; und 80 Mol-% CuO in einem Platin-Schmelztiegel bei ca. 1300ºC geschmolzen wird und die Schmelze dann mit 2 bis 4 ºC/h langsam abgekühlt wird (siehe Fig. 2). Es wurde ein (La0,95Sr0,05)&sub2;CuO&sub4;-Einkristall durch Kristallwachstum gebildet.
- Dementsprechend ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur schnellen Herstellung eines großzügig bemessenen Lanthankuprat-Einkristalls mit guter Qualität vorzulegen. Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der Patentansprüche gelöst.
- Die obengenannte und weitere erfindungsgemäße Aufgaben, Wirkungen, Merkmale und Vorzüge werden durch die Ausführungsbeispiele im Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen besser veranschaulicht.
- Fig. 1 ist ein Phasendiagramm des La&sub2;O&sub3;-CuO-Systems, das das Mischungsverhältnis von La&sub2;O&sub3; und CuO zeigt und das Wachstum eines Lanthankuprat-Einkristalls erlaubt;
- Fig. 2 ist eine Schnittansicht einer Vorrichtung zur erfindungsgemäßen Herstellung von Einkristallen; und
- Fig. 3 ist eine Schnittansicht einer weiteren Vorrichtung zur erfindungsgemäßen Herstellung von Einkristallen.
- Fig. 1 zeigt ein von den Erfindern hergestelltes Phasendiagramm eines La&sub2;O&sub3;-CuO-Systems.
- Es werden verschiedene Proben mit verschiedenen Zusammensetzungsverhältnissen zwischen La&sub2;O&sub3; und CuO hergestellt, dann die Phasenänderungen der Proben mit Hilfe der Differentialthermoanalyse beobachtet und auch die Zusammensetzung der abgekühlten Proben mittels Röntgen-Diffraktometrie gemessen. Die Meßwerte sind durch schwarze Punkte in Fig. 1 kenntlich gemacht. Das Phasendiagramm wurde aus einer Gesamtbeurteilung auf der Grundlage der oben genannten Ergebnisse erstellt.
- Wie aus den Ergebnissen in Fig. 1 ersichtlich ist, besteht die Vorstellung, daß der La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall sich aus einer Schmelze mit einer Zusammensetzung im Wertebereich der Liquiduslinie AB, bei der die Schmelze 28,9 bis 7,1 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 71,1 bis 92,9 Mol-% CuO aufweist, abscheidet, und zwar bei einer Temperatur im Bereich von 1330 bis 1040 ºC. Mit anderen Worten, wenn die Schmelze, die eine Zusammensetzung im oben genannten Bereich hat, langsam abkühlt, verschiebt sich die Zusammensetzung der Schmelze an der Liquiduslinie zur CuO- Seite hin, die La&sub2;CuO&sub4;-Kristallkeime scheiden sich als feste Phase aus der Schmelze ab und wachsen beim Abkühlen der Schmelze.
- Liegt die Zusammensetzung der Schmelze auf der CuO- Seite vom eutektischen Punkt B, so scheidet sich beim Abkühlen zuerst CuO aus der Schmelze ab. Liegt jedoch die Zusammensetzung der Schmelze auf der La&sub2;O&sub3;-Seite vom Punkt A, so scheidet sich beim Kühlen zuerst ein Kristall mit einer Zusammensetzung der La&sub2;O&sub3;-Seite aus der Schmelze ab. In beiden Fällen kann sich der La&sub2;CuO&sub4;-Kristall nicht aus der Schmelze abscheiden und kann auch nicht wachsen.
- Ein Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung, bei dem ein Teil der La-Atome und/oder Cu-Atome durch Atome eines Fremdelements ersetzt worden sind, kann nach einem Verfahren hergestellt werden, das dem oben erläuterten ähnlich ist, sofern das Phasendiagramm des Systems, bestehend aus La&sub2;O&sub3;, CuO und dem Fremdelement, nicht wesentlich von dem des La&sub2;O&sub3;-CuO- Systems abweicht. Das heißt, der oben erwähnte Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung kann durch Beimischung des Fremdelements in die Schmelze hergestellt werden. Z.B. kann ein Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung, bei dem eine kleine Menge des Fremdelements, z.B. Sr, Ba oder ähnliches, beigemischt ist, hergestellt werden.
- Im folgenden wird auf der Grundlage des in Fig. 1 gezeigten Phasendiagramms ein Verfahren zum Bilden eines La&sub2;CuO&sub4;-Einkristalls erläutert. Das La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall-System wurde nach dem Stromverfahren, dem Ziehverfahren und dem Schwebezonenverfahren hergestellt.
- Zuerst wird das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung des La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall-Systems nach dem Stromverfahren näher erläutert.
- Es wurde ein La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall nach dem Stromverfahren hergestellt.
- La&sub2;O&sub3; und CuO wurden in einem Molverhältnis von 20:80 miteinander vermischt. 100 g des dabei entstandenen Gemisches wurden von einem Platin-Schmelztiegel (Durchmesser = 50 mm, Höhe = 40 mm) aufgenommen, der Schmelztiegel wurde mit einer Abdeckung aus Tonerde verschlossen, dies alles wurde weiter von einem Schmelztiegel aus Tonerde aufgenommen, und die daraus entstandene Behältniskombination wurde in einem feuerfesten Kasten mit einem Deckel untergebracht. Somit war der feuerfeste Kasten dreifach verschlossen, um zu verhindern, daß durch Verdampfung Kupferoxidverluste eintreten. Dann wurde der feuerfeste Kasten in einen Muffelofen gegeben, auf 1350 ºC erhitzt und zwei Stunden lang so aufbewahrt, und dann wurde die Temperatur der Behältniskombination bei einer Temperaturänderung von 8ºC/h auf 1050ºC, danach bei einer Temperaturänderung von 200ºC/h auf Zimmertemperatur abgekühlt. Das Ergebnis war ein La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall mit einer Größe von 8 x 8 x 2 mm im erstarrten Strom.
- Es wurde ein Einkristall aus Festlösung mit einer Zusammensetzung nach der Formel (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4; nach dem Stromverfahren hergestellt.
- Ein Gemisch, bestehend aus 90 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 10 Mol-% 2BaCO&sub3; und CuO, wurde so hergestellt, daß das Molverhältnis von (La&sub2;O&sub3; + 2BaCO&sub3;) zu CuO 20:80 betrug. Dann wurde das entstandene Gemisch auf die gleiche Weise behandelt wie in Beispiel 1. Das Ergebnis war ein Einkristall aus (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4;-Festlösung mit einer Größe von 8 x 8 x 1 mm im erstarrten Strom.
- Es wurde ein Einkristall aus Festlösung mit einer Zusammensetzung nach der Formel (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4; nach dem Stromverfahren hergestellt.
- Ein Gemisch, bestehend aus 90 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 10 Mol-% 2SrCO&sub3; und CuO, wurde mit einem Molverhältnis von 20:80 hergestellt. Dann wurde das entstandene Gemisch auf die gleiche Weise behandelt wie in Beispiel 1. Das Ergebnis war ein Einkristall aus (La0,9Sr0,1)&sub2;CuO&sub4;-Festlösung mit einer Größe von 2 x 4 x 0,5 mm im erstarrten Strom.
- In den Beispielen 2 und 3 wurden die La-Stellen im Gitter durch Atome des Fremdelements (Ba bzw. Sr) ersetzt. Das heißt, wenn das Phasendiagramm eines Systems, das eine kleine Menge Fremdatome aufweist, im wesentlichen identisch ist mit dem des La&sub2;O&sub3;-CuO-Systems in Fig. 1, dann ist es möglich, einen Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung mit einem Fremdelement zu erzeugen, indem ein solches Fremdelement in das Ausgangsgemisch aufgenommen wird. Wenn analog dazu eine kleine Menge eines solchen Fremdelements vorhanden ist, so daß Kupferatome durch Atome des Elements ersetzt werden, sofern das Phasendiagramm des Systems im wesentlichen identisch ist mit dem in Fig. 1 gezeigten, dann ist es auch möglich, einen Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung mit Fremdelementen herzustellen.
- Zur Herstellung von La&sub2;CuO&sub4;-Einkristallen kann anstelle von Lanthanoxid (La&sub2;O&sub3;) auch Lanthancarbonat (La&sub2;(CO&sub3;)&sub3;) als Ausgangsmaterial verwendet werden. La&sub2;(CO&sub3;)&sub3; reagiert beim Erwärmen folgendermaßen:
- La&sub2;(CO&sub3;)&sub3; La&sub2;O&sub3; + 3CO&sub2;
- und wird somit in La&sub2;O&sub3; umgewandelt. Das heißt eindeutig, wenn La&sub2;(CO&sub3;)&sub3; und CuO als Ausgangsmaterialien verwendet werden, dann gelangt man zu dem gleichen Phasendiagramm wie in Fig. 1. Somit wurden nach den gleichen Schritten wie in den vorausgegangenen Beispielen mit Lanthancarbonat als Ausgangsmaterial ebenfalls La&sub2;CuO&sub4;-Einkristalle und Oxideinkristalle, bei denen La-Atome teilweise durch Ba- bzw. Sr-Atome ersetzt wurden, erzeugt.
- Im folgenden wird das Bilden von Einkristallen nach dem Ziehverfahren beschrieben. Anders als beim Stromverfahren, ist beim Ziehverfahren, bei dem ein Keimkristall eingesetzt wird, die Herstellung eines Einkristalls einer bestimmten Orientierung, beliebiger Größe und guter Qualität in einer kurzen Zeit möglich.
- Es wurde ein La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall nach dem Ziehverfahren hergestellt.
- Fig. 2 zeigt eine Schnittdarstellung einer Vorrichtung zur erfindungsgemäßen Erzeugung eines Einkristalls nach dem Ziehverfahren.
- Die Zahlenangaben in Fig. 2 haben jeweils folgende Bedeutung: 1 eine wassergekühlte Welle; 2 eine Platinwelle; 3 ein Material zur Wärmeisolierung; 4 eine HF-Heizspule; 5 ein Thermoelement; 6 eine Schmelztiegelauflage; 7 ein Keimkristall; 8 ein wachsender Einkristall; 9 Ausgangsmaterialien; und 10 ein Platinschmelztiegel.
- La&sub2;O&sub3; und CuO wurden in einem Molverhältnis von 15:85 gemischt. 200 g des Gemisches wurde in den Schmelztiegel 10 aus Platin gegeben (Innendurchmesser = 50 mm; Höhe = 35 mm), der Schmelztiegel 10 dient als Heizelement. Das Gemisch wurde mit dem Induktionsheizsystem unter Verwendung der Heizspule 4 auf etwa 1200ºC erwärmt, um aus dem Gemisch eine Schmelze zu machen. Und dann wurde ein Keimkristall, d.h. ein La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall 7 mit der Oberfläche der Schmelze in Kontakt gebracht. Beim allmählichen Herabsetzen der Temperatur der Schmelze setzte sich La&sub2;CuO&sub4; in Form von feinen Kristalliten aus der Schmelze ab, und zwar an der Grenzfläche zwischen der Schmelze und dem Keimkristall 7, wo die Temperatur in der Schmelze am niedrigsten war, und die feinen Kristalliten kristallisierten und wuchsen auf dem Keimkristall 7. Der dabei gewachsene Einkristall 8 wurde langsam aus der Schmelze gezogen. Mit anderen Worten, der wachsende Kristall wurde gezogen, während die Temperatur der Schmelze abnahm. Dabei wurde der Einkristall 8 mit einer Geschwindigkeit von 0,3 bis 1 mm/h gezogen, die Temperatur der Schmelze wurde mit einer Geschwindigkeit von 0,5 bis 10ºC/h verringert, und die Anzahl der Drehungen des Kristalls lag zwischen 10 und 30 pro Minute. In diesem Beispiel wurde das Kristallwachstum durch die Luft bewirkt. Die Zeit zur Gewinnung eines La&sub2;CuO&sub4;-Einkristalls mit einer Größe von 9 x 7 x 4 mm und einem Gewicht von 1 g betrug lediglich 9 bis 10 Stunden. Das Bilden eines Einkristalls ist auch in einer Sauerstoffatmosphäre möglich.
- Es wurde ein Einkristall aus einer Festlösung mit einer Zusammensetzung nach der Formel (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4; nach dem Ziehverfahren hergestellt. Ein Ausgangsgemisch wurde durch Mischen eines Gemischs, bestehend aus 90 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 10 Mol- % 2BaCO&sub3;, mit CuO in einem Molverhältnis von 15:85 hergestellt, und das daraus entstandene Gemisch wurde nach den gleichen Schritten wie in Beispiel 4 behandelt. Das Ergebnis war ein Einkristall aus (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4;-Festlösung mit einer Größe von 8 x 7 x 3 mm. Der (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4;-Einkristall, bei dem ein Teil der La-Atome im Kristall durch Ba-Atome ersetzt wurden, konnte erfindungsgemäß nach dem Ziehverfahren hergestellt werden, weil das Phasendiagramm des (La0,9Ba0,1)&sub2;O&sub3;- CuO-Systems nicht wesentlich von dem des in Fig. 1 dargestellten La&sub2;O&sub3;-CuO-Systems abweicht.
- Soweit das Phasendiagramm des Systems mit allen Fremdelementen sich nicht von dem in Fig. 1 dargestellten La&sub2;O&sub3;- CuO-System unterscheidet, ist es auch möglich, einen Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung zu erzeugen, bei dem ein Teil der La-Atome und/oder Cu-Atome im Kristall durch Atome des Fremdelements ersetzt werden, und zwar auf die gleiche Weise und unter gleichen Bedingungen, wie oben beschrieben.
- Beim Ziehverfahren kann anstelle von Lanthanoxid (La&sub2;O&sub3;) auch Lanthancarbonat (La&sub2;(CO&sub3;)&sub3;) als Ausgangsmaterial verwendet werden, wie es beim Stromverfahren der Fall ist.
- Im folgenden wird ein Verfahren zur erfindungsgemäßen Herstellung eines Einkristalls nach dem Schwebezonenverfahren näher erläutert. Das Schwebezonenverfahren ermöglicht es, die Ausgaben für die Ausgangsmaterialien zu senken, denn dieses Verfahren ermöglicht es, daß sich die meisten Ausgangsmaterialien in einen Einkristall verwandeln.
- Es wurde ein La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall nach dem Schwebezonenverfahren hergestellt.
- Eine Vorrichtung zum Herstellen von Einkristallen nach dem Schwebezonenverfahren ist als Schnittansicht in Fig. 3 dargestellt.
- Die Zahlenangaben in Fig. 3 haben jeweils folgende Bedeutung: 11 ein Stab aus Ausgangsmaterial (Rohstab); 12 ein Keimkristall; 13 Schmelzzone (Lösungsmittel); 14 und 15 rotierende Wellen; 16 ein Quarzrohr; 17 eine Halogenlampe; 18 ein rotierender Ellipsoidspiegel; 19 ein Beobachtungsfenster; 20 eine Linse; und 21 ein Beobachtungsschirm.
- Der La&sub2;CuO&sub4;-Ausgangsmaterialstab 11 wurde hergestellt, indem ein Pulver aus La&sub2;O&sub3; und CuO in einem Molverhältnis von 1:1 gemischt, das gemischte Pulver bei 900ºC zwei Stunden lang kalziniert, das kalzinierte Pulver mit einer Formpreßvorrichtung zu einem runden, stabähnlichen Material mit einem Durchmesser von 6 mm und einer Länge von 7 cm geformt und der geformte Stab dann bei 950ºC zwei Stunden lang gleichmäßig gesintert wurde.
- Analog dazu wurde ein Rohmaterial für den Strom hergestellt, indem Pulver einer Mischung, bestehend aus 15 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 85 Mol-% CuO, bei 900ºC zwei Stunden lang kalziniert, das kalzinierte Pulver dann nach einem Formpreßverfahren zu einem runden, stabähnlichen Material mit einem Durchmesser von 6 mm geformt und der geformte Stab dann bei 950ºC zwei Stunden lang gleichmäßig gesintert wurde. Danach wurde das runde, stabähnliche Material für den Strom in scheibenähnliche Stücke mit einem Gewicht von 0,5 bis 0,9 g getrennt, und das dabei entstandene scheibenähnliche Stück wurde mit dem Rohmaterialstab für den La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall durch Zusammenschmelzen verbunden.
- Das zylindrische, stabähnliche Probestück, bestehend aus dem La&sub2;CuO&sub4;-Rohmaterialstab und dem mit dem Ende des Stabes verschmolzenen Strom 13, wurde an der oberen rotierenden Welle 14 zum Drehen des Probestücks befestigt, während ein Keimkristall 12 an der unteren rotierenden Welle 15 befestigt wurde. Der Keimkristall 12 und der La&sub2;CuO&sub4;-Rohmaterialstab 11, der mit dem Strom 13 durch Zusammenschmelzen verbunden worden ist, wurden so an der jeweiligen Welle angeordnet, daß beide mit den Wellen koaxial sind. Die Vorrichtung zum Herstellen des Einkristalls ist mit einem Infrarotstrahl-Heizsystem ausgestattet. Der Strom wurde durch Bestrahlung mit Infrarotstrahlen von der Halogenlampe 17 erwärmt und zum Schmelzen gebracht, danach wurde der Keimkristall mit dem geschmolzenen Strom in Kontakt gebracht, so daß der geschmolzene Strom aufgrund der Oberflächenspannung der Schmelze zwischen Rohmaterialstab und Keimkristall gehalten wurde.
- Dann wurden der Rohmaterialstab und der Keimkristall mit einer Geschwindigkeit von 30 U/min jeweils in entgegengesetzter Richtung gedreht.
- Ferner wurden die rotierenden Wellen 14 und 15 nach oben (bzw. nach unten) bewegt, d.h. der geschmolzene Strom wurde mit einer Geschwindigkeit von 0,2 bis 2 mm/h, bezogen auf den Rohmaterialstab, nach oben (bzw. nach unten) bewegt, um dabei einen La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall aus dem Keimkristall zu formen. Das Formen des Einkristalls erfolgte in der Luft und in der Sauerstoffatmosphäre von 1 atm, jedoch war der Verlust an CuO oder ähnlichem vernachlässigbar, da die verdampfte Menge sehr klein und somit kein Problem war.
- Als der Rohmaterialstab fast aufgebraucht war, wurden der geformte Kristall und der Rohmaterialstab voneinander getrennt und auf Zimmertemperatur abgekühlt. Somit war ein zylindrischer, stabähnlicher La&sub2;CuO&sub4;-Einkristall mit einem Durchmesser von 5 mm und einer Länge von 5 mm hergestellt.
- Es wurde ein Einkristall aus einer Festlösung mit einer Zusammensetzung nach der Formel (La0,95Sr0,05)&sub2;CuO&sub4; nach dem Schwebezonenverfahren hergestellt.
- Ein Gemisch mit der Zusammensetzung von 90 Mol-% La&sub2;O&sub3; und 10 Mol-% 2BaCO&sub3; und CuO wurde so gemischt, daß das Mol- Verhältnis von (La&sub2;O&sub3; + 2BaCO&sub3;) zu CuO 1:1 bzw. 15:85 wurde. Aus diesen Gemischen wurde der Rohmaterialstab und der Strom hergestellt. Dann wurden die Schritte in Beispiel 6 wiederholt. Das Ergebnis war ein Einkristall aus (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4;- Festlösung mit einem Durchmesser von 5 mm und einer Länge von 8 mm.
- Der (La0,9Ba0,1)&sub2;CuO&sub4;-Einkristall, bei dem ein Teil der La-Atome im Kristall durch Ba-Atome ersetzt wurden, konnte erfindungsgemäß nach dem Schwebezonenverfahren hergestellt werden, weil das Phasendiagramm des (La0,9Ba0,1)&sub2;O&sub3;-CuO-Systems nicht wesentlich von dem des in Fig. 1 dargestellten La&sub2;O&sub3;- CuO-Systems abweicht.
- Sofern das Phasendiagramm des Systems mit allen Fremdelementen nicht von dem in Fig. 1 dargestellten La&sub2;O&sub3;-CuO-System abweicht, ist es auch möglich, einen Einkristall aus La&sub2;CuO&sub4;-Festlösung zu erzeugen, bei dem ein Teil der La-Atome und/oder Cu-Atome im Kristall durch Atome des Fremdelements ersetzt werden, und zwar auf die gleiche Weise und unter gleichen Bedingungen, wie oben beschrieben.
- Beim Schwebezonenverfahren kann anstelle von Lanthanoxid (La&sub2;O&sub3;) auch Lanthancarbonat (La&sub2;(CO&sub3;)&sub3;) als Ausgangsmaterial verwendet werden, wie es beim Stromverfahren der Fall ist.
Claims (7)
1. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls, gekennzeichnet durch die folgenden
Verfahrensschritte:
Vermischen von 28,9 bis 7,1 Mol-% von Lanthanoxid
und/oder Lanthancarbonat mit 71,1 bis 92,9 Mol-%
Kupferoxid,
Erwärmen des Gemisches auf eine Temperatur von 1040 bis
1330ºC, so daß das Gemisch schmilzt, und
langsames Abkühlen des erhaltenen Gemisches mit einer
Geschwindigkeit im Bereich von etwa 8ºC/h bis 10ºC/h, um
einen Lanthankuprat-Einkristall mit einer
Zusammensetzung nach der Formel La&sub2;CuO&sub4; aus der Schmelze zu bilden.
2. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls mit den folgenden Verfahrensschritten:
Vermischen von 28,9 bis 7,1 Mol-% von Lanthanoxid
und/oder Lanthancarbonat mit 71,1 bis 92,9 Mol-%
Kupferoxid,
Erwärmen des Gemisches zum Ausbilden einer schmelze,
Kontaktieren eines Keimkristalls mit der Schmelze, und
langsames Abkühlen der Schmelze und Ziehen des
Keimkristalls, so daß sich ein Kristallit auf dem Keimkristall
niederschlägt und ein Lanthankuprat-Einkristall mit
einer Zusammensetzung nach der Formel La&sub2;CuO&sub4; aus dem
Kristalliten wächst.
3. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kühlung bei einer Geschwindigkeit im Bereich von 0,5 bis
10ºC/h erfolgt.
4. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls, mit den folgenden Verfahrensschritten:
Einbringen eines Stroms bestehend aus 28,9 bis 7,1 Mol-%
von Lanthanoxid und/oder Lanthancarbonat sowie 71,1 bis
92,9 Mol-% Kupferoxid zwischen einem Rohmaterialstab aus
Lanthankuprat und einem Keimkristall,
Erwärmen des Stroms mit einer Temperatur von 1040 bis
1330ºC, so daß der Strom schmilzt und eine Schwebezone
bildet, und
Ausführen einer Relativbewegung der Schwebezone und des
Rohmaterialstabs in Richtung des Rohmaterialstabs, so
daß beim Durchlaufen der Schwebezone der Rohmaterialstab
schmilzt, kristallisiert und zu einem Einkristall auf
dem Keimkristall wächst.
5. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Lanthankuprat eine geringe Menge eines
Fremdelements enthält.
6. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das
Fremdelement Barium oder Strontium ist.
7. Verfahren zum Herstellen eines
Lanthankuprat-Einkristalls nach Anspruch 4 oder 5 in Abhängigkeit von
Anspruch 4 oder Anspruch 6 indirekt abhängig von Anspruch
4 in Kombination mit Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Geschwindigkeit der Relativbewegung der
Schwebezone und des Ausgangsmaterialstabs im Bereich von 0,2
bis 2 mm/h liegt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62109518A JPS63274696A (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 |
JP62109517A JPS63274695A (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 |
JP62109519A JPS63274697A (ja) | 1987-05-01 | 1987-05-01 | 銅酸ランタン単結晶の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3872922D1 DE3872922D1 (de) | 1992-08-27 |
DE3872922T2 true DE3872922T2 (de) | 1992-12-03 |
Family
ID=27311488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE8888104090T Expired - Lifetime DE3872922T2 (de) | 1987-05-01 | 1988-03-15 | Verfahren zur herstellung von lanthankuprat-einkristall. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4956334A (de) |
EP (1) | EP0288709B1 (de) |
DE (1) | DE3872922T2 (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162297A (en) * | 1987-06-11 | 1992-11-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Liquid phase epitaxial growth of high temperature superconducting oxide wafer |
US5077271A (en) * | 1988-12-02 | 1991-12-31 | Hewlett-Packard Company | Liquid phase epitaxial method for forming single crystal films of high temperature oxide superconductors |
US5444040A (en) * | 1989-12-18 | 1995-08-22 | Seiko Epson Corporation | Superconductive oxide single crystal and manufacturing method thereof |
DE69014437T3 (de) * | 1989-01-14 | 1999-08-19 | Sumitomo Electric Industries | Verfahren zur herstellung eines supraleitfähigen drahts vom keramischen typ. |
JPH04285090A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Tdk Corp | 単結晶育成方法 |
US5308800A (en) * | 1992-03-23 | 1994-05-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Apparatus and method for forming textured bulk high temperature superconducting materials |
JP2794245B2 (ja) * | 1992-04-15 | 1998-09-03 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | Bi系酸化物超電導体単結晶の製造方法 |
JP2740427B2 (ja) * | 1992-05-25 | 1998-04-15 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 酸化物結晶の作製方法 |
EP0624664B1 (de) * | 1993-05-10 | 1999-01-07 | International Superconductivity Technology Center | Verfahren zur Herstellung eines Metalloxid-Kristalls |
JPH06321695A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Kokusai Chodendo Sangyo Gijutsu Kenkyu Center | Y123型結晶構造を有する酸化物結晶膜及び膜積層体 |
DE4324088A1 (de) * | 1993-07-17 | 1995-01-19 | Hoechst Ag | Hochtemperatursupraleitende Massivkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US6937609B1 (en) | 1999-05-25 | 2005-08-30 | Cingular Wireless Ii, Inc. | Method for improving efficiency in a time sharing network |
JP2002005745A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-09 | Nec Corp | 温度測定装置、および温度測定方法 |
JP4751973B2 (ja) * | 2003-10-30 | 2011-08-17 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 電界発光材料及びそれを用いた電界発光素子 |
CN101798103B (zh) * | 2010-01-29 | 2011-12-21 | 北京工业大学 | 一种制备三维大孔结构的正交晶相La2CuO4的胶质晶模板法 |
CN102502767A (zh) * | 2011-11-23 | 2012-06-20 | 陕西科技大学 | 溶胶凝胶-水热法制备铜酸镧(La2CuO4)粉体的方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE811057A (fr) * | 1974-02-15 | 1974-08-16 | Elphiac Sa | Machine universelle pour l'elaboration de monocristaux de materiaux semiconducteurs ou autres suivant les methodes classiques. |
US4235848A (en) * | 1978-06-15 | 1980-11-25 | Apilat Vitaly Y | Apparatus for pulling single crystal from melt on a seed |
-
1988
- 1988-03-14 US US07/168,021 patent/US4956334A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-03-15 DE DE8888104090T patent/DE3872922T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-15 EP EP88104090A patent/EP0288709B1/de not_active Expired
-
1990
- 1990-05-10 US US07/521,624 patent/US5057492A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5057492A (en) | 1991-10-15 |
US4956334A (en) | 1990-09-11 |
DE3872922D1 (de) | 1992-08-27 |
EP0288709A1 (de) | 1988-11-02 |
EP0288709B1 (de) | 1992-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3872922T2 (de) | Verfahren zur herstellung von lanthankuprat-einkristall. | |
DE3887478T2 (de) | Methode zur Herstellung eines Oxid-Supraleiters. | |
DE102017206741A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Galliumoxidkristalls | |
DE69114445T2 (de) | Oxidsupraleiter und dessen herstellung. | |
DE69802581T2 (de) | Verfahren zur Züchtung von Einkristallen | |
DE3781016T2 (de) | Verfahren zur zuechtung eines multikomponent-kristalls. | |
DE69416906T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Materials aus Metalloxydgemischen | |
DE69312582T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Metalloxid-Kristalls | |
DE3025177C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einkristallinen ternären Verbindungshalbleitermaterials | |
DE69608060T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Oxyd-Kristalls | |
DE68926316T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Supraleiters aus supraleitenden Keramiken | |
DE2635373A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen zuechtung von einkristallen bestimmter form | |
DE1592122A1 (de) | Verfahren zum Darstellen grosser Einkristalle hohen Reinheitsgrades der Chalkogenideder Seltenen Erden | |
DE3906499A1 (de) | Supraleitende duennfilmmaterialien auf gitterangepasstem, einkristallinem lanthanorthogallat | |
DE102020114524A1 (de) | Verfahren und aufbau zum züchten von volumeneinkristallen | |
DE69503305T2 (de) | Verfahren zur Zurückbehaltung von Oxydschmelzen und Verfahren zur Herstellung von Oxydkristallen | |
DE2700994A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum ziehen von kristallinen siliciumkoerpern | |
DE3820809A1 (de) | Herstellung orientierter schichten des hochtemperatursupraleiters bi-sr-ca-cu-oxid | |
DE69201849T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Barium-Titanat Einkristallen. | |
JPH0656595A (ja) | チタン酸バリウム光学単結晶ファイバの製造方法 | |
DE2025376C3 (de) | Einkristall-Züchtungsverfahren für Bariumnatriumniobat und verwandte Verbindungen | |
DE69910878T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einkristalliner Oxidmaterialen | |
DE69114803T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines oxideinkristalls. | |
EP0449826B1 (de) | HERSTELLUNG ORIENTIERTER SCHICHTEN DES HOCHTEMPERATURSUPRALEITERS Bi-Sr- BZW. Tl-Ba-Ca-Cu-OXID | |
JP2733197B2 (ja) | 希土類元素含有単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |