JPS59137392A - F・z法によるスギライト結晶合成法 - Google Patents
F・z法によるスギライト結晶合成法Info
- Publication number
- JPS59137392A JPS59137392A JP58011817A JP1181783A JPS59137392A JP S59137392 A JPS59137392 A JP S59137392A JP 58011817 A JP58011817 A JP 58011817A JP 1181783 A JP1181783 A JP 1181783A JP S59137392 A JPS59137392 A JP S59137392A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- flux
- sugilite
- bar
- sintered
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
スギライト結晶(rJ 、組成が
+3
(K、Na)(Fe 、 At)2(Li、At、Fe
)3Si+so3゜であり、六方晶系で、分m溶融
型の材′ぼであり、融解淵、四が、140 []〜20
00℃ と埒わ、ている。
)3Si+so3゜であり、六方晶系で、分m溶融
型の材′ぼであり、融解淵、四が、140 []〜20
00℃ と埒わ、ている。
従来、人工的な今度方法として、フラッフ・ス合成法が
主!な方式として、周知である。然しなから、フラッフ
法は5以下の理由 (リ −白金ルツボを必汐とする。
主!な方式として、周知である。然しなから、フラッフ
法は5以下の理由 (リ −白金ルツボを必汐とする。
■ 合成湿度の制御が厳重である。
■ 溶1゛2ユ塩(フラックス)の使用搦が多りである
。
。
■ 結晶欠陥(フェザ−インクルージヨン)の発生防止
が困難である。
が困難である。
■ 結晶成長速度が小さい。
により極めて、製造コストの旨いものである。
本願発明は、前記手法に代る安価な合成方法を提供する
ものである。基本的先進は、周知のF−Z方式全改良さ
せた手法にある。即ち1周知の、赤外締具中加熱単結晶
製造装置(F’・2炉と略称)を使用して1合成条件全
新規に考案したものである。本手法は、 ■ 白金ルツボは不快 ■ フラックスの使用1゛は、極小−階である。
ものである。基本的先進は、周知のF−Z方式全改良さ
せた手法にある。即ち1周知の、赤外締具中加熱単結晶
製造装置(F’・2炉と略称)を使用して1合成条件全
新規に考案したものである。本手法は、 ■ 白金ルツボは不快 ■ フラックスの使用1゛は、極小−階である。
■ 従前のフラックス法には無+へilJ 品叩パラメ
ータにより結晶欠陥が制御卸できる。
ータにより結晶欠陥が制御卸できる。
■ 結晶成長速度が、フラックス法に比較して、大きく
とれる。
とれる。
■ 結晶成長方向が、任意に制イ卸できる。
の特徴があり、結果として、スループットがより、従前
のフラックス法よりも安価なプロセスである。
のフラックス法よりも安価なプロセスである。
以下に、実施例を説明する。
実施例1
1ず、原料粉末の調合全行なり。試薬特級の水酸化リチ
ウム(LiOH) 、水酸化ナトリウム(Na0日)、
水没化カリウム(KOI()、酸化鉄(Fe20a)。
ウム(LiOH) 、水酸化ナトリウム(Na0日)、
水没化カリウム(KOI()、酸化鉄(Fe20a)。
酸化アルミニウム(At203 ) *酸化ケイ素・酸
化クロム(Or203) よシ秤量しで1 .1 1 1 。
化クロム(Or203) よシ秤量しで1 .1 1 1 。
(K−N a−) −(Fe−、At−) 2− (L
L−、A7+、 Fe−)3@511203o・222
2 3 3 30.
0050r203 の組成の混合粉末を作製する。次に、該混合米粉末を、
ボールミルに依り、混合粉砕を50時間以上行なう。こ
の際、ポット及びボールの材′胤は高純厩□アルミナの
焼結材でめる。次に、を亥混合粉末ケ、周知のF・2法
原料棒造法によシ、焼鯖坏徨を作製する。これがF −
Z炉の原料棒となる。
L−、A7+、 Fe−)3@511203o・222
2 3 3 30.
0050r203 の組成の混合粉末を作製する。次に、該混合米粉末を、
ボールミルに依り、混合粉砕を50時間以上行なう。こ
の際、ポット及びボールの材′胤は高純厩□アルミナの
焼結材でめる。次に、を亥混合粉末ケ、周知のF・2法
原料棒造法によシ、焼鯖坏徨を作製する。これがF −
Z炉の原料棒となる。
次[,7ラツクスとして、L i20 、 V205
)組成となる如くに、試薬特級の水酸化リチウム(L
j OH)及び五酸化バナジウム(v2os) i秤量
する。該粉末に、前記 (K Na )・(Fe’ 、
At’ )2・(Li−AtFe−)3*2222
555 Si12030・o、o 05Cr203 の組成の粉
末′fcU 31割合で、20%相当分を加える。
)組成となる如くに、試薬特級の水酸化リチウム(L
j OH)及び五酸化バナジウム(v2os) i秤量
する。該粉末に、前記 (K Na )・(Fe’ 、
At’ )2・(Li−AtFe−)3*2222
555 Si12030・o、o 05Cr203 の組成の粉
末′fcU 31割合で、20%相当分を加える。
然る後混合粉末全成形。焼結全行なって、ディスク状の
焼結ペレットヲ作る。仄に、種子結晶として、フラック
ス法にJ、v合成これた結晶全C州方回に長く切断(−
1所足寸法に加工する。次に、以上のプロセスに−C予
め、用層されたもの2p−z炉にセットして結晶伊成?
行なつ。F、Z炉は、人I□名、第1図に示さh−る林
造であり、例えば、ニチデン機械株式会社J凋の5O−
2型でよい。即ち■は、原料素材棒でめジ、■は、イ重
子結晶、■は回転倒置mH用の2つの焦点でアリ、−万
は、・・ロゲンランプ■で熱源でめり、他の一方は、溶
融(−7とフラックスで′fりる。■−=透明石英チュ
ーブであり、のはレンズ、■ぽスクリーンでめジ、合成
状況のモニタリング全行なり。■、■はよ、下の回転軸
であり、[有]及び■の回転及び、上下動を制御する。
焼結ペレットヲ作る。仄に、種子結晶として、フラック
ス法にJ、v合成これた結晶全C州方回に長く切断(−
1所足寸法に加工する。次に、以上のプロセスに−C予
め、用層されたもの2p−z炉にセットして結晶伊成?
行なつ。F、Z炉は、人I□名、第1図に示さh−る林
造であり、例えば、ニチデン機械株式会社J凋の5O−
2型でよい。即ち■は、原料素材棒でめジ、■は、イ重
子結晶、■は回転倒置mH用の2つの焦点でアリ、−万
は、・・ロゲンランプ■で熱源でめり、他の一方は、溶
融(−7とフラックスで′fりる。■−=透明石英チュ
ーブであり、のはレンズ、■ぽスクリーンでめジ、合成
状況のモニタリング全行なり。■、■はよ、下の回転軸
であり、[有]及び■の回転及び、上下動を制御する。
最初に、セットされた種子結晶■の上に、フラックスペ
レットン載膚し、該ベレット直上に原料緊材棒を接触さ
一+!:″′Lセットラ“る。この状態で、ノ・ロゲン
ランプの電力を上昇させて、フラックスを溶融せしめ、
フラックスが、種子結晶■と原料素材棒(υの間に表面
張力で保持されている状態を維持する。その後、溶融フ
ラックス部付1100℃に保持し、上下軸を逆方向に、
50r、p、mで1i21転させ、10時間保持する。
レットン載膚し、該ベレット直上に原料緊材棒を接触さ
一+!:″′Lセットラ“る。この状態で、ノ・ロゲン
ランプの電力を上昇させて、フラックスを溶融せしめ、
フラックスが、種子結晶■と原料素材棒(υの間に表面
張力で保持されている状態を維持する。その後、溶融フ
ラックス部付1100℃に保持し、上下軸を逆方向に、
50r、p、mで1i21転させ、10時間保持する。
然るに、溶融ゾーンの上下距離を維持する状態で、■及
び■全下方に移動きせる。この場合、移動速度は即結晶
成長速度に対応する。結晶成長速度は、大きすき゛ると
インクルージヨンが発生するため、1llj御されなけ
ればならず、最大17η晶/DA4’″Cある。これ以
下の成長速度で、インクルージヨンの無い結晶が作・嬰
でき、また、低速はど、他の成長条件の制御余裕幅が大
きくとれ、容易に成長させることができる。
び■全下方に移動きせる。この場合、移動速度は即結晶
成長速度に対応する。結晶成長速度は、大きすき゛ると
インクルージヨンが発生するため、1llj御されなけ
ればならず、最大17η晶/DA4’″Cある。これ以
下の成長速度で、インクルージヨンの無い結晶が作・嬰
でき、また、低速はど、他の成長条件の制御余裕幅が大
きくとれ、容易に成長させることができる。
結晶成長は1M融体の結晶の界面で進行するため、下方
の結晶体は、合成完了時には、その上部の7ラツクス固
体を切断すれば、即スギライト結晶犀のみとして利用で
き、特に後処理全必綬としな(ハ。
の結晶体は、合成完了時には、その上部の7ラツクス固
体を切断すれば、即スギライト結晶犀のみとして利用で
き、特に後処理全必綬としな(ハ。
以上の手法によ、す、 0.01〜’0. Sim/
D A Y の4[で、インクルージヨンの無いスギ
ライトが合成できた。結晶の直径は5〜15%でめる。
D A Y の4[で、インクルージヨンの無いスギ
ライトが合成できた。結晶の直径は5〜15%でめる。
冥厖9I12
実施レリ1と同様の前提条件で、原料素材棒■とイ虫子
結晶■の配Ktk土・ト逆転して、甘酸全行なつ1ζ。
結晶■の配Ktk土・ト逆転して、甘酸全行なつ1ζ。
烙らに、戊初の段階で1000℃で保持する間U′こ、
上部4子結晶と溶ばr体と全接触させずに。
上部4子結晶と溶ばr体と全接触させずに。
溶融1本笛下部原相累材棒の上端に表向張力でイ呆持゛
さぜた状態で維持し、101守団仮eこ、種子結晶と接
触゛さぜ、以後結晶成長を行なわせた。この場合は溶融
体の飽和溶解度を市11皿することが容易で、撞子結晶
接触後%直ちに、結晶成長に進めることができる。結晶
の注6は、実7准世」同様i/m、80倍の宝石顕1叔
鏡のa mで、インクルージヨンiIj:認めら丸な炉
った。
さぜた状態で維持し、101守団仮eこ、種子結晶と接
触゛さぜ、以後結晶成長を行なわせた。この場合は溶融
体の飽和溶解度を市11皿することが容易で、撞子結晶
接触後%直ちに、結晶成長に進めることができる。結晶
の注6は、実7准世」同様i/m、80倍の宝石顕1叔
鏡のa mで、インクルージヨンiIj:認めら丸な炉
った。
央流1刑3
実77Oi例1と同様の伜件で、フラックスペレット(
7)m成トL テ、V2O5/Li2O(DモA、比(
r’&化させで、実・験の結果、1〜5の範囲で、イン
クルージヨンの観察されないスギライトが合成でi′ま
た。
7)m成トL テ、V2O5/Li2O(DモA、比(
r’&化させで、実・験の結果、1〜5の範囲で、イン
クルージヨンの観察されないスギライトが合成でi′ま
た。
実施例4
実施例1と同様の条件で、結晶成長温度、即ち溶融体温
度を変化させて実験した。濡匪は、ノ・ロゲンランブの
電力の変動を換算している。この結果、0.5 rlr
jn/D A Yの成長速度では、950〜1200℃
の間で、インクルージヨンの無い成長が可能である。
度を変化させて実験した。濡匪は、ノ・ロゲンランブの
電力の変動を換算している。この結果、0.5 rlr
jn/D A Yの成長速度では、950〜1200℃
の間で、インクルージヨンの無い成長が可能である。
実施例5
実施例1と同等の条件で、フラックスペレットとして、
TJ i20−IAoO3系を実験し1ヒ。この結果。
TJ i20−IAoO3系を実験し1ヒ。この結果。
成長速度:0.01〜02朋/DAY
成長温度ニア50〜950℃
組成モル比:2〜5(MoO3/LizO)の範囲が適
切である。
切である。
実施例6
実7mflIIと同等の条件で、フラツクペ1/ットと
し7て、Li2o WO3系全実験(−7た。この結果
成長速度二〇01〜0.2朋/DAY 成長温度=800〜1000℃ 組成モル比:2〜6 (W OB /L i20 )の
範囲が適切である。
し7て、Li2o WO3系全実験(−7た。この結果
成長速度二〇01〜0.2朋/DAY 成長温度=800〜1000℃ 組成モル比:2〜6 (W OB /L i20 )の
範囲が適切である。
以上、実施例にて説明した如くに、本願発明は、F−Z
方式の新規改質により、極めて有用なる合成法として、
新たな発想を提供するものである。
方式の新規改質により、極めて有用なる合成法として、
新たな発想を提供するものである。
第1図は、本願発明に係るF−Z炉の概要金示す図であ
る。■は、原料素材棒、■Vま種子結晶、■は回転楕円
面鏡の2つの焦へ、■は回転楕円面鏡、■はハロゲンラ
ング、■は透明石英管、■はレンズ、■はスクリーンで
、■、oKより1合成状況の像観察が為される。 以上
る。■は、原料素材棒、■Vま種子結晶、■は回転楕円
面鏡の2つの焦へ、■は回転楕円面鏡、■はハロゲンラ
ング、■は透明石英管、■はレンズ、■はスクリーンで
、■、oKより1合成状況の像観察が為される。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 F・フラックス全使用すること全性徴とする叛 F−Z懇によるスギライト結晶合成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58011817A JPS59137392A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | F・z法によるスギライト結晶合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58011817A JPS59137392A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | F・z法によるスギライト結晶合成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59137392A true JPS59137392A (ja) | 1984-08-07 |
Family
ID=11788343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58011817A Pending JPS59137392A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | F・z法によるスギライト結晶合成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59137392A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945212A (ja) * | 1972-07-26 | 1974-04-30 | ||
JPS5021121A (ja) * | 1973-06-26 | 1975-03-06 | ||
JPS5522609B2 (ja) * | 1972-12-22 | 1980-06-18 |
-
1983
- 1983-01-27 JP JP58011817A patent/JPS59137392A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945212A (ja) * | 1972-07-26 | 1974-04-30 | ||
JPS5522609B2 (ja) * | 1972-12-22 | 1980-06-18 | ||
JPS5021121A (ja) * | 1973-06-26 | 1975-03-06 |
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