JPS6027677A - 浮遊帯溶融法による固溶体単結晶の製造法 - Google Patents

浮遊帯溶融法による固溶体単結晶の製造法

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JPS6027677A
JPS6027677A JP58135786A JP13578683A JPS6027677A JP S6027677 A JPS6027677 A JP S6027677A JP 58135786 A JP58135786 A JP 58135786A JP 13578683 A JP13578683 A JP 13578683A JP S6027677 A JPS6027677 A JP S6027677A
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JP
Japan
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single crystal
solid solution
solution single
crystal
sintered material
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JP58135786A
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English (en)
Inventor
「峰」岸 敬一
Keiichi Minegishi
Tadatoshi Hosokawa
忠利 細川
Kiyoshi Hasegawa
清 長谷川
Hiroyuki Horino
堀野 浩幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiheiyo Cement Corp
Original Assignee
Chichibu Cement Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/32Titanates; Germanates; Molybdates; Tungstates

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  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチタン酸バリウム111.結晶等の半導体製造
研究において開発した浮丸帯溶U′に法による1・′J
溶体単結晶の製造法に閂するものである。
チタン酸バリウムカルシウムl−1a1 + xoax
TI03は、U(x(0,25の範囲で固溶俸給、(り
、となる。
この結晶を育成する場合、その組成の不均一性がないこ
とが要求される。その理由は、若し組成が変化すると、
つまり上記のXが部分毎に耗なると、6予定数が異なる
ため、組成の異なった画部分の境界にff1jができ、
クラックが入り易くなるからである。
従って、そのj1114造法としては均一な組成の固溶
体結晶を育成するものでなければならない。
従来、単結晶の製造法としては30種近くの製造法が知
られている。
しかし乍ら、本発明者等の調査によると、それらの何れ
の方法によっても、従来技術では均一組成の本固溶体結
晶を育成することは困難であり、現在までのところクラ
ックのない単結晶製造の報告を14’1」唱ハてぃない
例えば、代艮的な結晶育成法として下記のようなものが
あるが、伊Jれも欠点があって、チタン酸バリウムカル
シウムの育成には最適ではなかった。
(+) チョクラルスキー法(C2法):るりほに原料
全治かし種子結晶金接触させ、回転しながら引・き上げ
る方法で、大711Jの結晶が育成できるが組成の不拘
−金生じ1.1aI−x(ja、Ti0aの場合にはそ
のためクラックが発生しやすい。そのうえるつばからの
汚染があり純度は亮〈ないO 叩 フラツクス性: 溶剤音用いて結晶全析出させる方
法でヲ)シ大型結晶を育成することが困難であるうえ、
溶剤が結晶に混入するため純度が低い。
(曲 ベルヌーイ法: 原料粉末全火炎により溶融した
のち結晶化させる方法で心り熱歪が生じやすいという欠
点がある。
eV) ブリッジマン法: るつぼに原料を溶かしその
まま結晶比させる方法であるが、るつぼが結晶に固着す
るため歪が生じる。
(V) 浮遊帯溶融法CFZ法): 原料から多結1′
°、木を作製しこの多結晶体の一部を溶t、:rr L
、四ρ1部葡多結晶体Vこ対し相対的に移動させること
により結晶全育成する方法で、高純度結晶?育成できる
が、従来技術では1ial−xOハT i 03ki品
にクラックが生じる。
そこで本すj″33明者、公知の単結晶製造法の−ミン
一つを検討の結果、前記FZ法が原理的には組j・・変
動を生じにくい方法であるという知見?得、更に絣究の
結果、従来困!l#□ILであったチタン酸バリウムカ
ルシウムIlaニーxOax’l’iU3の均一組成固
溶体単結晶の育成全可能としたので、こ\に提案しよう
とするものである。
FZ法について簡単に説B41すると次の通りである。
第1図は公知のFZ炉の−ViIJt−示すもので、石
英管1内に棒状焼結体2と種子単結晶3をセットし、溶
融帯4を熱源5(例え(二し)ロダン2ンゾ)で加熱し
、棒状焼結体2と種子単結晶3ケ互に逆回転させなから
ゆつくりと降下させ、種子単結晶3上に単結晶を育成さ
ぜるものである。
なお、第1図中6は回転楕円面鏡から成る集光〔にで、
熱源5はその一方の焦点に配置され、光はもう一方の焦
点に配置さ7した浴融帯部41C集光され、溶融帯部を
加熱する。またi′、高成長状態はスクリーン丁に映し
出され、スクリーンを見ながら)gワー等を調節する。
FZ法は上記FZP’i使用して単結晶ケ得る方法で、
他の結晶育成法と比較して浴融帯部の量が少なく、溶融
帯部のかくはんが容易であるため溶融417部の組成分
布に起因する結晶の組成の不拘−it生じにくく、かつ
FZ法においては結晶を育成すると同時に一定組成の原
料である焼結体を溶融イ1)部に供給し組成変動を防ぐ
ことになるため、一般に組成変動金起こしやすいといわ
れている固溶体でさえも均一組成の単結晶を育成するの
に適【7た方法である。しかし乍ら単にF’Z法を適用
しただけでは均一組成のBa1−x0aXTt03 f
作ることは出来ず、従って現在までにクラックのない単
結晶の製造に成功したとの報告がなされていない。
本発明は前記FZ炉に供する焼結体の空隙率を596未
満とし、育成速度1rJ、 10 nm/h 〜50 
arm/hとすることにより、従来製造出来なかったり
2ツクのないJP、結晶の製造に成功したものである。
本発明の第1の特長は上記のようにPZ炉に供する焼結
体の空隙率’ft 591;未満とすることである。
その理由は、焼結体音溶融する際空隙が溶融帯部にと9
込まれると、みかけ上溶融帯部の量が増加し、B融帯部
の象の変動(・j4育成の不安定を起こし、結果として
育成した結晶にクラックを生じることになるので、溶融
体に気泡の形で空隙がと多送まれないようにするためで
ある。
原料の焼結体について検討した結果、@1表に示すよう
に、焼結体の空I!l率が5%未満であれば溶融帯部に
気泡が入ることなく、シたがってクラックのなi結晶を
育成することが可能となった。
第 1 艮 10育茂速度は50■/h以上であるとh1結晶は得ら
れない。
本発明の第2の特長は、育成速度t” 10 N1n/
 h〜50+mn/hとすることである。その理由は次
の通pである。
加熱による結晶の融液の粘性は比較的小さいためI’9
1:・・’I帯部の一部はとほれて種子単結晶の表面を
囲い、多結晶体を形成する傾向にあるO この多結晶体
部が多いと冷却時に内側の単結晶に応力を及1・λ′し
結晶に熱歪が入る原因となるので多結晶体を7戊少させ
ねばならない。
検討の結果、種子単結晶の移動速度すなわち結晶育成速
度音大きくすると表面の多結晶本部は少なくなソた。そ
してこの育成速度は、酊1表に示゛J−ように、10 
rm/ hより大きいことが必要であつ7仁。
このようにして、クラックのなめ固溶体結晶を育成した
が、更に種子単4−1晶のまわりを補助加熱1i ii
’(k用いて徐冷することにより、り2ツクの除去は更
に容易と′l辷りた。
なお育成、、’ij度がii Ot、:*/ b以上で
あると、単結晶が得られず多結晶体となってしまう。
次に本発明をチタン酸)々リウムカルシウム(Dal 
−xOaxTiOs 、 ’0<X<0.25 ) の
製造に適用した場合の実施例について説明する。
実施例における製造プロセスのブロックタイアゲ2ムを
示すと第2図に示す通りである。
■ 原料混合 原料としてけ1.laoog 、0aO03及び’J’
 i 0s t”使用し、下記化学式に合致するように
秤量して混合した。
(l −x ) l1aO03+xOaO03+’l’
i02■ 仮焼 上記のように混合した粉末をるつ1・了に入れ1350
℃において2時間加熱した。
次のような反応が起シ、口al −xOaxTiOaの
粉末が得られた〇 (1−x)口a 00B + xoaf303 + T
 l 02→BaI−x(jsxTrOB +002 
t■粉砕 ?−ルミルで粉砕した。
■ 焼結体作製 前記口sI+−xoaxTi03の粉末t−1000に
ダ/C!!の[E力で2パープレス整形し、直径6m、
長さ50■の円柱状のものとし、これを焼結した@実施
例では比較のため、空隙率が059に。
5%、6%及び89gのものを用意した。
V FZPVCよる育成 第1図に示すような)・ロダン2ンプを熱源5としたF
Z炉炉用用、原料の焼結体2と種子結晶3とを所定の位
置にセットし、ランプ′1チ圧奮上昇させ、焼結体2と
種子結晶3の最品温度部金融点(およそ1600℃)に
至らしめ、浮遊溶融体を形成した。
このような状態から種子結晶3と焼結体2t−回転させ
乍ら徐々に移動(第1図において下方に移動させる)さ
せ単結晶を得た。
移動速度、即ち結晶育成速度は15τm/h 、 12
.5胸/11及び10 =、*/hの3極頻について試
みた。
この結果、クラックのない結晶が育成できたの)J: 
、第1表に示す通9、空隙率Q、59にの焼結体を用い
結晶育成速度k 15 rym/hl>るいtit、 
12.5 mmAのときであった。
結晶′育成速度が!30m/hよシ大き匹場合には単結
晶が得られず多結晶状態であった。
なお、種子単結晶のまわりを補助加熱装置を用いて徐冷
すると、クシツクの除去はさらに容易となった。
以上のように、本発明はFZ炉の大きさに制限されるが
、従来の技術常識では考えられないクラックのなi単結
晶を製造することができ、その工業的価値は大である。
なお、と\ではチタン酸パ1ノウムカルシウムの製造に
適用した場合について説明したが、他の結晶の製造にも
適用し得るものであることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は浮遊帯溶融炉の断面図、第2図は本発明実施列
の製造プロセスのブロック図である。 1・・・石英管、2・・・焼結体、3・・・種子単結晶
、4・・・溶融帯、5・・・熱源、6・・・回転楕円面
鏡、7・・・スクリーン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 浮遊帯溶融炉に供する焼結体の空隙率t” 591;未
    、1゛・にとし、育成速度t 10 rtrm/h〜5
    0m/hとして固溶体単結晶の育成を行うことを特徴と
    する浮遊帯1.4融法による固溶体単結晶の製造法。
JP58135786A 1983-07-27 1983-07-27 浮遊帯溶融法による固溶体単結晶の製造法 Pending JPS6027677A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001006042A1 (en) * 1999-06-23 2001-01-25 Ceracomp Co., Ltd. Method for single crystal growth of barium titanate and barium titanate solid solution

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001006042A1 (en) * 1999-06-23 2001-01-25 Ceracomp Co., Ltd. Method for single crystal growth of barium titanate and barium titanate solid solution

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