JPH1180452A - 防振ゴム用ゴム組成物 - Google Patents
防振ゴム用ゴム組成物Info
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- JPH1180452A JPH1180452A JP25262197A JP25262197A JPH1180452A JP H1180452 A JPH1180452 A JP H1180452A JP 25262197 A JP25262197 A JP 25262197A JP 25262197 A JP25262197 A JP 25262197A JP H1180452 A JPH1180452 A JP H1180452A
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Abstract
ゴム組成物を提供すること。 【解決手段】 (A)エチレン、炭素数6〜12のα−
オレフィンおよび非共役ポリエンからなり、エチレン
/上記α−オレフィンモル比が5/95〜40/60、
ヨウ素価が5〜45、ムーニー粘度(ML1+4 、1
00℃)が20〜150、ガラス転移温度(Tg)が
−80℃〜−55℃、以上〜の要件を満たすエチレ
ン系共重合体ゴム、ならびに(B)加硫剤および/また
は架橋剤を主成分とする防振ゴム用ゴム組成物。
Description
成物に関し、さらに詳細には、特定のエチレン系ランダ
ム共重合体と加硫剤および/または架橋剤とを含有し、
防振特性、圧縮永久歪みに優れた防振ゴム用ゴム組成物
に関する。
DVDなどの記憶装置として用いられるCD−ROMや
DVD−ROMまたは車載用CDなどには、防振ゴムが
多用されており、従来からこれら防振ゴムとしては、ブ
チルゴムやハロゲン化ブチルゴムが用いられている。し
かしながら、ブチルゴムは、機械的特性や圧縮永久歪み
に劣るという欠点があり、圧縮永久歪みに優れた防振ゴ
ムが望まれている。一方、エチレン/プロピレン/非共
役ジエン共重合体(EPDM)ゴムは、機械特性、圧縮
永久歪み、耐熱性、耐候性などに優れており、従来よ
り、自動車部品や一般工業用部品などに広く用いられて
いる。しかしながら、従来のEPDMは、防振特性に劣
り、また低硬度でないという問題があり、防振用途には
使用されていない。
術の課題を背景になされたもので、防振特性、圧縮永久
歪みに優れた防振ゴム用ゴム組成物を提供することを目
的とする。
ン、炭素数6〜12のα−オレフィンおよび非共役ポリ
エンからなり、下記〜の要件を満たすエチレン系共
重合体ゴム、ならびに(B)加硫剤および/または架橋
剤を主成分とする防振ゴム用ゴム組成物を提供するもの
である。 エチレンと炭素数6〜12のα−オレフィンとのモル
比(エチレン/α−オレフィン)が5/95〜40/6
0 ヨウ素価が5〜45 ムーニー粘度(ML1+4 、100℃)が20〜150 示差走査熱量計(DSC)により求めたガラス転移温
度(Tg)が−80℃〜−55℃
(A)エチレン系共重合体ゴムは、エチレン、炭素数6
〜12のα−オレフィン(以下「α−オレフィン」とも
いう)、および非共役ポリエンからなる共重合体であ
る。上記α−オレフィンとしては、例えば、1−ヘキセ
ン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘプテン、5−メ
チル−1−ヘキセン、1−オクテン、5−エチル−1−
ヘキセン、1−ノネン、1−デセン、1−ドデセンなど
が挙げられ、好ましくは1−ヘキセン、1−オクテンが
用いられる。これらのα−オレフィンは、1種単独で使
用することも、あるいは2種以上を混合して用いること
もできる。(A)エチレン系共重合体ゴムにおけるエチ
レンと上記α−オレフィンとのモル比(エチレン/α−
オレフィン)は、5/95〜40/60、好ましくは1
0/90〜30/70の範囲にある〔上記要件〕。こ
の場合、上記モル比が5/95未満では、粘着が激し
く、工業的生産性の低下やロール加工などの作業性が低
下する。一方、40/60を超えると、制振性能が低下
する。
5−エチリデン−2−ノルボルネン、ジシクロペンタジ
エン、5−プロピリデン−2−ノルボルネン、5−ビニ
ル−2−ノルボルネン、2,5−ノルボルナジエン、
1,4−シクロヘキサジエン、1,4−シクロオクタジ
エン、1,5−シクロオクタジエンなどの環状ポリエ
ン;1,4−ヘキサジエン、1,6−オクタジエン、6
−メチル−1,5−ヘプタジエン、7−メチル−1,6
−オクタジエン、5,7−ジメチル−1,6−オクタジ
エン、1,7−ノナジエンなどの内部不飽和結合を有す
る鎖状ポリエンなどが挙げられ、好ましくは、5−エチ
リデン−2−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、7
−メチル−1,6−オクタジエン、5,7−ジメチル−
1,6−オクタジエンが挙げられる。これらの非共役ポ
リエンは、1種単独で、あるいは2種以上を併用するこ
とができる。
5−ヘキサジエン、2−メチル−1,5−ヘキサジエ
ン、1,7−オクタジエン、1,9−デカジエンなどの
α,ω−鎖状ジエンの1種以上を併用してもよい。上記
α,ω−鎖状ジエンを併用した場合、得られるエチレン
系共重合体ゴムの分子量分布が適度に広くなり、加工性
が良くなる。この場合、分子量分布としては、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定
したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)と数平
均分子量(Mn)との比〔Mw/Mn(分子量分布)〕
で2〜15が好ましく、さらに好ましくは3〜10であ
る。
ウ素価は、5〜45、好ましくは、10〜35、さらに
好ましくは、15〜35の範囲にある〔上記要件〕。
この場合、ヨウ素価が5未満では、機械的強度が劣り、
一方、45を超えると、ゴム弾性が損なわれる。
ムーニー粘度(ML1+4 ,100℃)(以下「ムーニー
粘度」ともいう)は、20〜150、好ましくは、30
〜120の範囲にある〔上記要件〕。20未満では、
得られるゴム組成物の機械的強度が低下する傾向にあ
り、一方、150を超えると、得られるゴム組成物の加
工が困難となる。
示差走査熱量計(DSC)により求めたガラス転移温度
Tgは−80℃〜−55℃、好ましくは、−70℃〜−
58℃の範囲にある〔上記要件〕。
合体ゴムは、気相重合法、溶液重合法、スラリー重合法
などの適宜の方法により製造することができる。これら
の重合操作は、バッチ式でも連続式でも実施することが
できる。上記溶液重合法あるいはスラリー重合法におい
ては、反応媒体として、通常、不活性炭化水素が使用さ
れる。このような不活性炭化水素溶媒としては、例え
ば、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−
オクタン、n−デカン、n−ドデカンなどの脂肪族炭化
水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの
脂環族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類などが挙げられる。これらの炭化水
素溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用するこ
とができる。また、原料モノマーを炭化水素溶媒として
利用することもできる。
する際に用いられる重合触媒としては、例えば、V、T
i、ZrおよびHfから選ばれる遷移金属の化合物と有
機金属化合物とからなるオレフィン重合触媒を挙げるこ
とができる。上記遷移金属の化合物および有機金属化合
物は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用す
ることができる。このようなオレフィン重合触媒の特に
好ましい例としては、メタロセン化合物と有機アルミニ
ウム化合物または該メタロセン化合物と反応してイオン
性錯体を形成するイオン性化合物とからなるメタロセン
系触媒を挙げることができる。以下、(A)エチレン系
共重合体ゴムを製造するための重合触媒について、より
具体的に説明するが、場合により下記以外の重合触媒を
使用することもできる。
下記成分(C)と成分(D)とからなる触媒、または下
記成分(E)と成分(F)とからなる触媒が挙げられ
る。成分(C)は、下記一般式(I)で表される遷移金
属化合物である。 式中、Mは周期律表第4族金属であり、(C5 Rm ) は
シクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニ
ル基であり、各Rは同一でも異なってもよく、水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のア
リール基、炭素数7〜40のアルカリール基または炭素
数7〜40のアラルキル基であるか、あるいは2つの隣
接する炭素原子が結合して4〜8員の炭素環を作ってお
り、Eは非結合電子対を有する原子であり、R′は炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のアリール
基、炭素数7〜40のアルカリール基または炭素数7〜
40のアラルキル基であり、R″は炭素数1〜20のア
ルキレン基、ジアルキルケイ素またはジアルキルゲルマ
ニウムであって、2つの配位子を結合する基であり、s
は1または0であり、sが1のとき、mは4、nはEの
原子価より2少ない数であり、sが0のとき、mは5、
nはEの原子価より1少ない数であり、n≧2のとき各
R′は同一でも異なっていてもよく、また各R′は結合
して環を作っていてもよく、Qは水素原子、ハロゲン原
子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のア
リール基、炭素数7〜40のアルカリール基または炭素
数7〜40のアラルキル基であり、pおよびqは0〜4
の整数であり、かつ0<p+q≦4の関係を満たす。
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、ジ
メチルシリルビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、ジメチルシリルビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、メチレンビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、エチレンビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(イン
デニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、メチレンビス
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(4,
5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス
(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリルビス(4,5,6,7
−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジメチル、エ
チレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチルシクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビス(メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ジメチル
シリルビス(3−メチル−1−シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロリド、メチレンビス(3−メチル−
1−シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(t−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリルビス(3−t−ブチル−1
−シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ビ
ス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、ジメチルシリルビス(2,4−ジメチ
ル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ビス(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス
(2,3,5−トリメチル−1−シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、ビス(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、ジメチルシリルビス(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(フルオレニル)(シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチ
ルシリル(フルオレニル)(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、イソプロピリレン(フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(t−ブチルアミド)(1,2,3,4,5−ペン
タメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリル(t−ブチルアミド)(2,3,
4,5−テトラメチル−1−シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、メチレン(t−ブチルアミド)
(2,3,4,5−テトラメチル−1−シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、(フェノキシ)
(1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリル(oー
フェノキシ)(2,3,4,5−テトラメチル−1−シ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、メチレ
ン(o−フェノキシ)(2,3,4,5−テトラメチル
−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、エチレン(o−フェノキシ)(2,3,4,5−テ
トラメチル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロリド、ビス(ジメチルアミド)ジルコニウムジク
ロリド、ビス(ジエチルアミド)ジルコニウムジクロリ
ド、ビス(ジt−ブチルアミド)ジルコニウムジクロリ
ド、ジメチルシリルビス(メチルアミド)ジルコニウム
ジクロリド、ジメチルシリルビス(t−ブチルアミド)
ジルコニウムジクロリドなどや、これらの化合物におけ
るジルコニウムを、チタニウムあるいはハフニウムに置
換した化合物などが挙げられるが、これらに限定される
ものではない。上記遷移金属化合物は、単独でまたは2
種以上を組合せて使用することができる。
表されるユニットを有するアルミノキサン化合物であ
り、その化学構造は未だ必ずしも明確ではないが、線
状、環状またはクラスター状の化合物、あるいはこれら
の化合物の混合物であると推定されている。 −〔Al(P)−O〕− ・・・・・(II) 式中、Pは炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜4
0のアリール基、炭素数7〜40のアルカリール基また
は炭素数7〜40のアラルキル基で、好ましくは、メチ
ル基、エチル基、イソブチル基、特に好ましくは、メチ
ル基である。上記アルミノキサン化合物は、上記P基を
少なくとも1個有する有機アルミニウム化合物と水との
反応を経る公知の方法によって製造することができる。
上記成分(C)と成分(D)との使用割合は、遷移金属
とアルミニウム原子とのモル比(遷移金属/アルミニウ
ム原子)で、通常、1/1〜1/100,000、好ま
しくは、1/5〜1/50,000の範囲である。
表される遷移金属アルキル化合物である。 式中、Mは周期律表第4族金属であり、(C5 Rm )は
シクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエニ
ル基であり、各Rは同一でも異なってもよく、水素原
子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のア
リール基、炭素数7〜40のアルカリール基または炭素
数7〜40のアラルキル基であるか、あるいは2つの隣
接する炭素原子が結合して4〜8員の炭素環を作ってお
り、Eは非結合電子対を有する原子であり、R′は炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のアリール
基、炭素数7〜40のアルカリール基または炭素数7〜
40のアラルキル基であり、R″は炭素数1〜20のア
ルキレン基、ジアルキルケイ素またはジアルキルゲルマ
ニウムであって、2つの配位子を結合する基であり、s
は1または0であり、sが1のとき、mは4、nはEの
原子価より2少ない数であり、sが0のとき、mは5、
nはEの原子価より1少ない数であり、n≧2のとき各
R′は同一でも異なっていても良く、また各R′は結合
して環を作っていても良く、R″′は炭素数1〜20の
アルキル基、炭素数6〜40のアリール基、炭素数7〜
40のアルカリール基または炭素数7〜40のアラルキ
ル基であり、pおよびqは0〜3の整数であり、かつ0
<p+q≦4の関係を満たす。
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジエチル、ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジイソブチル、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ{ビス(ト
リメチルシリル)メチル}、ジメチルシリルビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシ
リルビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジイソ
ブチル、メチレンビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、エチレンビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、ビス(インデニル)ジルコ
ニウムジメチル、ビス(インデニル)ジルコニウムジイ
ソブチル、ジメチルシリルビス(インデニル)ジルコニ
ウムジメチル、メチレンビス(インデニル)ジルコニウ
ムジメチル、エチレンビス(インデニル)ジルコニウム
ジメチル、ビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス
(4,5,6,7−テトラヒドロ−1−インデニル)ジ
ルコニウムジメチル、エチレンビス(4,5,6,7−
テトラヒドロ−1−インデニル)ジルコニウムジメチ
ル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、ジメチルシリルビス(3−メチル−1−シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(t−
ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ジメチルシリルビス(3−t−ブチル−1−シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(1,3−ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
ビス(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジイソブチル、ジメチルシリルビス(2,4−ジ
メチル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメ
チル、メチレンビス(2,4−ジメチル−1−シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、エチレンビス
(2,4−ジメチル−1−シクロペンタジエニル)ジル
コニウムジメチル、ビス(1,2,4−トリメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシ
リルビス(2,3,5−トリメチル−1−シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(フルオレニ
ル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス(フル
オレニル)ジルコニウムジメチル、(フルオレニル)
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ジメ
チルシリル(フルオレニル)(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、イソプロピリレン(フルオレニ
ル)(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、
(t−ブチルアミド)(1,2,3,4,5−ペンタメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ジ
メチルシリル(t−ブチルアミド)(2,3,4,5−
テトラメチル−1−シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、メチレン(t−ブチルアミド)(2,3,
4,5−テトラメチル−1−シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジメチル、(フェノキシ)(1,2,3,
4,5−ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジメチル、ジメチルシリル(o−フェノキシ)
(2,3,4,5−テトラメチル−1−シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、メチレン(o−フェノ
キシ)(2,3,4,5−テトラメチル−1−シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(ジメチル
アミド)ジルコニウムジメチル、ビス(ジエチルアミ
ド)ジルコニウムジメチル、ビス(ジt−ブチルアミ
ド)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス(メチ
ルアミド)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリルビス
(t−ブチルアミド)ジルコニウムジメチルなどや、こ
れらの化合物中のジルコニウムを、チタニウムあるいは
ハフニウムに置換した化合物が挙げられるが、これらに
限定されるものではない。上記遷移金属アルキル化合物
は、単独でまたは2種以上を組合せて使用することがで
きる。
して使用してもよいし、また上記一般式(III)における
R″をハロゲン原子に置換した遷移金属ハライドと、ト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ジエ
チルアルミニウムモノクロリド、トリイソブチルアルミ
ニウム、メチルリチウム、ブチルリチウムなどの有機金
属化合物とを、反応系内で接触させることにより形成さ
せてもよい。
表されるイオン性化合物である。 式中、[L]k+はブレンステッド酸またはルイス酸であ
り、M′は周期律表第13〜15族元素であり、A1 〜
An はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜2
0のアルキル基、炭素数1〜30のジアルキルアミノ
基、炭素数1〜20のアルコキシル基、炭素数6〜40
のアリール基、炭素数6〜40のアリールオキシ基、炭
素数7〜40のアルカリール基、炭素数7〜40のアラ
ルキル基、炭素数1〜40のハロゲン置換炭化水素基、
炭素数1〜20のアシルオキシ基または有機メタロイド
基であり、kはLのイオン価で1〜3の整数であり、p
は1以上の整数であり、q=(k×p)である。
ニルほう酸トリメチルアンモニウム、テトラフェニルほ
う酸トリエチルアンモニウム、テトラフェニルほう酸ト
リ−n−ブチルアンモニウム、テトラフェニルほう酸メ
チル(ジ−n−ブチル)アンモニウム、テトラフェニル
ほう酸ジメチルアニリニウム、テトラフェニルほう酸メ
チルピリジニウム、テトラフェニルほう酸メチル(2−
シアノピリジニウム)、テトラフェニルほう酸メチル
(4−シアノピリジニウム)、テトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ほう酸トリメチルアンモニウム、テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ほう酸トリエチルアン
モニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ほう
酸トリ−n−ブチルアンモニウム、テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ほう酸メチル(ジ−n−ブチル)ア
ンモニウム、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ほ
う酸ジメチルアニリニウム、テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ほう酸メチルピリジニウム、テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ほう酸メチル(2−シアノ
ピリジニウム)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル
フェニル)ほう酸メチル(4−シアノピリジニウム)、
テトラキス[3,5−ジ−(トリフルオロメチル)フェ
ニル]ほう酸ジメチルアニリニウム、テトラフェニルほ
う酸フェロセニウム、テトラフェニルほう酸銀、テトラ
キス(ペンタフルオロフェニル)ほう酸フェロセニウム
などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。上記イオン性化合物は、単独でまたは2種以上を混
合して使用することができる。
は、モル比〔(E)/(F)〕で、通常、1/0.5〜
1/20、好ましくは1/0.8〜1/10の範囲であ
る。(A)エチレン系共重合体ゴムを製造する際に使用
される上記メタロセン系触媒は、それらの成分の少なく
とも一部を適当な担体に担持して用いることもできる。
担体の種類については特に制限はなく、無機酸化物担
体、それ以外の無機担体、および有機担体の何れも用い
ることができる。また、担持方法についても特に制限は
なく、公知の方法を適宜利用してよい。
よび/または架橋剤のうち、加硫剤としては、例えば粉
末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、不溶性硫黄などの硫
黄;塩化イオウ、セレン、テルルなどの無機系加硫剤;
モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフ
ィド類、チウラムジスルフィド類、ジチオカルバミン酸
塩類などの含硫黄有機化合物などが挙げられる。これら
の加硫剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用する
ことができる。加硫剤の配合量は、本発明においては、
(A)エチレン系共重合体ゴム100重量部に対して、
通常、0.1〜10重量部、好ましくは、0.5〜5重
量部である。
併用することもできる。このような加硫促進剤として
は、例えば、ヘキサメチレンテトラミンなどのアルデヒ
ドアンモニア類;ジフェニルグアニジン、ジ(o−トリ
ル)グアニジン、o−トリル−ピグアニドなどのグアニ
ジン類;チオカルバニリド、ジ(o−トリル)チオウレ
ア、N,N′−ジエチルチオウレア、テトラメチルチオ
ウレア、トリメチルチオウレア、ジラウリルチオウレア
などのチオウレア類;メルカプトベンゾチアゾ−ル、ジ
ベンゾチアゾールジスルフィド、2−(4−モルフォリ
ノチオ)ベンゾチアゾール、2−(2,4−ジニトロフ
ェニル)−メルカプトベンゾチアゾ−ル、(N,N′−
ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾールなど
のチアゾール類;N−t−ブチル−2−ベンゾチアジル
スルフェンアミド、N,N′−ジシクロヘキシル−2−
ベンゾチアジルスルフェンアミド、N,N′−ジイソプ
ロピル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド、N−シ
クロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミドな
どのスルフェンアミド類;テトラメチルチウラムジスル
フィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラ−
n−ブチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラ
ムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラス
ルフィドなどのチウラム類;ジメチルチオカルバミン酸
亜鉛、ジエチルチオカルバミン酸亜鉛、ジ−n−ブチル
チオカルバミン酸亜鉛、エチルフェニルジチオカルバミ
ン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジ
メチルジチオカルバミン酸銅、ジメチルチオカルバミン
酸テルル、ジメチルチオカルバミン酸鉄などのカルバミ
ン酸塩類;ブチルチオキサントゲン酸亜鉛などのキサン
トゲン酸塩類などが挙げられる。これらの加硫促進剤
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。加硫促進剤の配合量は、(A)エチレン系共重合
体ゴム100重量部に対して、通常、0.1〜20重量
部、好ましくは、0.2〜10重量部である。
え、必要に応じて、加硫促進助剤を添加することもでき
る。このような加硫促進助剤としては、例えば、酸化マ
グネシウム、亜鉛華、リサージ、鉛丹、鉛白などの金属
酸化物;ステアリン酸、オレイン酸、ステアリン酸亜鉛
などの有機酸(塩)類などが挙げられ、特に亜鉛華、ス
テアリン酸が好ましい。これらの加硫促進助剤は、単独
でまたは2種以上を混合して使用することができる。加
硫促進助剤の配合量は、(A)エチレン系共重合体ゴム
100重量部に対して、通常、0.5〜20重量部であ
る。
は、例えば、1,1−ジt−ブチルペルオキシ−3,
3,5−トリメチルシクロヘキサン、ジt−ブチルペル
オキシド、ジクミルペルオキシド、t−ブチルクミルペ
ルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチ
ルペルオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(t−ブチルペ
ルオキシ−イソプロピル)ベンゼンなどの有機過酸化物
類などが挙げられる。これらの架橋剤は、単独でまたは
2種以上を混合して使用することができる。架橋剤の配
合量は、(A)エチレン系共重合体ゴム100重量部に
対して、通常、0.1〜15重量部、好ましくは、0.
5〜10重量部である。
用することもできる。このような架橋助剤としては、例
えば、硫黄、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィ
ドなどの硫黄あるいは硫黄化合物;エチレンジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレンジ(メタ)アクリレート、
ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、トリアリルシ
アヌレート、メタフェニレンビスマレイミド、トルイレ
ンビスマレイミドなどの多官能性モノマー類;p−キノ
ンオキシム、p,p′−ベンゾイルキノンオキシムなど
のオキシム化合物などが挙げられる。これらの架橋助剤
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。架橋助剤の配合量は、(A)エチレン系共重合体
ゴム100重量部に対して、通常、0.5〜20重量部
である。
じて、充填剤、軟化剤、発泡剤のほか、可塑剤、滑剤、
粘着付与剤、老化防止剤、紫外線吸収剤などの他の各種
の添加剤を配合することができる。上記充填剤として
は、例えば、SRF、GPF、FEF、HAF、ISA
F、SAF、FT、MTなどのカーボンブラックや、ホ
ワイトカーボン、微粒子ケイ酸マグネシウム、重質炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、クレー、タルクなどの
無機充填剤;ハイスチレン樹脂、クマロンインデン樹
脂、フェノール樹脂、リグニン、変性メラミン樹脂、石
油樹脂などの有機充填剤が挙げられる。これらの充填剤
は、単独でまたは2種以上を混合して使用することがで
きる。充填剤の配合量は、(A)エチレン系共重合体ゴ
ム100重量部に対して、通常、10〜200重量部、
好ましくは、10〜100重量部である。
用いられるアロマティック油、ナフテニック油、パラフ
ィン油などのプロセスオイルや、やし油などの植物油、
アルキルベンゼンオイルなどの合成油などが挙げられ
る。これらのうち、プロセスオイルが好ましく、特にパ
ラフィン油が好ましい。上記軟化剤は、単独でまたは2
種以上を混合して使用することができる。軟化剤の配合
量は、本発明においては、(A)エチレン系共重合体ゴ
ム100重量部に対して、通常、10〜130重量部、
好ましくは、20〜100重量部である。
ニウム、重炭酸ナトリウム、無水硝酸ナトリウムなどの
無機発泡剤、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、
N,N′−ジメチル−N,N′−ジニトロソテレフタル
アミド、ベンゼンスルホニルヒドラジド、p,p′−オ
キシビス(ベンゼンスルホニルヒドラジド)、3,3′
−ジスルホンヒドラジドジフェニルスルホン、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスホルムアミドなどの有機
発泡剤が挙げられる。また、これらの発泡剤とともに、
尿素系、有機酸系、金属塩系などの発泡助剤を併用して
もよい。これらの発泡剤および発泡助剤は、1種単独で
使用することも、あるいは2種以上を混合して用いるこ
ともできる。
および/または樹脂の1種以上を混合して使用すること
もできる。
来から公知の混練機、押出機、加硫装置などを用いるこ
とができる。エチレン系共重合体ゴムと共に混合される
加硫剤および/または架橋剤、充填剤、軟化剤などの配
合方法、配合順序としては、例えば、バンバリーミキサ
ーなどを用いて、エチレン系共重合体ゴム、充填剤、軟
化剤などを混合したのち、ロールなどを用いて加硫剤お
よび/または架橋剤などを加える方法が挙げられるが、
これに限定されるものではない。
法で、例えば、本発明のゴム組成物を金型内に入れて温
度を高めることにより加硫を行うか、あるいは押出成形
機を用いて任意の形状に成形したのち加硫槽内で加熱し
て加硫を行うことにより、加硫ゴムを製造することがで
きる。
久歪みに優れているため、例えば、CD−ROM、DV
D−ROMなどの記憶装置、車載や携帯用CDなどのオ
ーディオ製品などの精密機器の防振ゴム用途に好適に使
用される。また、機械、家電、土木建材、自動車車両な
どの防振ゴムとしても好適である。
的に説明する。ただし、本発明は、これらの実施例に何
ら制約されるものではない。なお、実施例中の%および
部は、特に断らない限り重量基準である。また、実施例
および比較例中の測定・評価は以下の方法により実施し
た。
び比較例におけるエチレン、α−オレフィンの含量(モ
ル%)は、これらの合計量を100モル%としたときの
値を示す。ヨウ素価 赤外線吸収スペクトル法により測定した。ムーニー粘度(ML1+4 、100℃) JIS K6300に準拠し、測定温度100℃、予熱
1分、測定4分の条件で測定した。Mw/Mn o−ジクロロベンゼン中、135℃の条件で、GPCに
より測定した。ガラス転移温度(Tg) デュポン・インスツルメント社(現在;ティ・エイ・イ
ンスツルメント社)製、910型示差走査熱量計を用
い、サンプルを180℃まで昇温し、次いで10℃/分
の速度で−90℃まで冷却し、20℃/分の速度で昇温
しながら測定した。
定温度25℃、引張速度500mm/分の条件で、引張
強さTB(MPa)、引切断時伸びEB(%)を測定し
た。硬さ試験 JIS K6301に準拠し、スプリング硬さ(JIS
A硬度)を測定した。圧縮永久歪 JIS K6301に準拠し、70℃×22時間の条件
で測定した。tanδ (株)岩本製作所製、粘弾性スペクトロメーターを用
い、静的歪5%、動的歪0.5%、15Hz、25℃の
条件で測定した。
造) 充分に窒素置換した内容量3リットルのステンレス製オ
ートクレーブに、精製トルエンを1リットル、1−オク
テンを1リットル、7−メチル−1,6−オクタジエン
を100ミリリットル加え、30℃に昇温したのち、エ
チレンを14ノルマルリットル/分の速度で連続的に供
給しつつ、容器内圧を5kg/cm2 に調整した。これ
とは別に、充分に窒素置換し、磁気攪拌子を入れた内容
量50ミリリットルのガラス製フラスコに、精製トルエ
ン3.0ミリリットル中に溶解したジメチルシリル(t
−ブチルアミド)(2,3,4,5−テトラメチル−1
−シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド2.0
μモル、精製トルエン6.0ミリリットル中に溶解した
トリイソブチルアルミニウム1.0ミリモルを入れて、
室温で30分攪拌して反応させた。次いで、精製トルエ
ン7.2ミリリットル中に溶解したテトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ほう酸ジメチルアニリニウム4.0
μモルを加え、室温で20分攪拌して反応させて、重合
触媒とした。
加して、重合を開始させた。反応中は温度を30℃に保
ち、連続的にエチレンを供給しつつ、容器内圧を5kg
/cm2 に保持して、15分間重合を行った。次いで、
少量のメタノールを添加して反応を停止させたのち、ス
チームストリッピングで脱溶し、6インチロールで乾燥
して、165gのポリマーを得た。このポリマーは、エ
チレン含量33.5モル%、1−オクテン含量66.5
モル%、ヨウ素価17.5、ムーニー粘度27、Mw/
Mn2.4、Tg=−70.1℃のエチレン/1−オク
テン/7−メチル−1,6−オクタジエン共重合体(以
下「ゴム」ともいう)であった。このゴムの分析結
果を、表3に示す。
2)、あるいはα−オレフィンとしてプロピレンを用い
てEPDMを製造する(参考例3)以外は、参考例1と
同様にして、ゴム(参考例2)、ゴム(参考例3)
を得た。分析結果を表3に示す。
硫剤成分を除いた各成分をバンバリー(内容量250ミ
リリットル)を用い、回転数60rpm、60℃で15
0秒間混練して、コンパウンド(i)を得た。次いで、
コンパウンド(i)に表1に示す加硫剤成分を加え、5
0℃に保持した4インチロールで5分間混練して、コン
パウンド(ii)を得た。次いで、このコンパウンド(i
i)を、160℃に加熱した熱プレスにより、プレス圧
150kgf/cm2 の圧力下で30分加熱して、12
0×120×2mmの加硫シートを作製し、各種特性を
評価した。結果を表4に示す。
いる以外は、実施例1と同様にして加硫シートを作製
し、各種特性を評価した。結果を表4に示す。 比較例3 ゴムとして、代表的な防振ゴムであるブチルゴム〔日本
合成ゴム(株)製、IIR 365〕を用い、表2に示
す配合処方に従う以外は、実施例1と同様にして加硫シ
ートを作製し、各種特性を評価した。結果を表4に示
す。
−380 *3)メルカプトベンゾチアゾール *4)テトラメチルチウラムジスルフィド *5)日本合成ゴム(株)製、IIR 365
(実施例1)は、圧縮永久歪みと防振特性に優れてい
る。これに対し、比較例1は、共重合体ゴムとして、エ
チレン/α−オレフィンのモル比が本発明の範囲から外
れている場合であり、防振特性に劣っている。比較例2
は、共重合体ゴムとして、α−オレフィンが炭素数3の
プロピレンを使用したEPDMゴムの場合であり、やは
り防振特性に劣っている。比較例3は、代表的な防振ゴ
ムであるブチルゴムを用いた例であり、防振特性は優れ
ているが、圧縮永久歪みが劣る。
永久歪みに優れており、各種防振ゴム用途に有用であ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)エチレン、炭素数6〜12のα−
オレフィンおよび非共役ポリエンからなり、下記〜
の要件を満たすエチレン系共重合体ゴム、ならびに
(B)加硫剤および/または架橋剤を主成分とする防振
ゴム用ゴム組成物。 エチレンと炭素数6〜12のα−オレフィンとのモル
比(エチレン/α−オレフィン)が5/95〜40/6
0 ヨウ素価が5〜45 ムーニー粘度(ML1+4 、100℃)が20〜150 示差走査熱量計(DSC)により求めたガラス転移温
度(Tg)が−80℃〜−55℃
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---|---|---|---|
JP25262197A JP3852174B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-09-03 | 防振ゴム用ゴム組成物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25262197A JP3852174B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-09-03 | 防振ゴム用ゴム組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1180452A true JPH1180452A (ja) | 1999-03-26 |
JP3852174B2 JP3852174B2 (ja) | 2006-11-29 |
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP3852174B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016143599A1 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 三井化学株式会社 | 架橋体および制振材 |
-
1997
- 1997-09-03 JP JP25262197A patent/JP3852174B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016143599A1 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-09-15 | 三井化学株式会社 | 架橋体および制振材 |
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