JPH1153761A - 光学記録材料 - Google Patents
光学記録材料Info
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- JPH1153761A JPH1153761A JP9210592A JP21059297A JPH1153761A JP H1153761 A JPH1153761 A JP H1153761A JP 9210592 A JP9210592 A JP 9210592A JP 21059297 A JP21059297 A JP 21059297A JP H1153761 A JPH1153761 A JP H1153761A
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Abstract
性、保存安定性及び溶媒への溶解性が良好であり、且
つ、感度の高い光学記録材料を提供すること。 【解決手段】 本発明の光学記録材料は、下記〔化1〕
の一般式(I)で表される化合物からなることを特徴と
する。 【化1】
Description
より熱的情報パターンとして付与することにより記録す
る光学記録媒体に使用される光学記録材料に関し、詳し
くは、可視及び近赤外領域の波長を有し且つ低エネルギ
ーのレーザ等により高密度の光学記録及び再生が可能な
光学記録媒体に使用される光学記録材料に関する。
に、光学記録媒体は、媒体と書き込みまたは読み出しヘ
ッドが接触しないので記録媒体が摩耗劣化しないという
特徴を有しており、特に、情報を熱的情報として付与す
る光学記録媒体は暗室による現像処理が不要である利点
を有することからその開発が活発に行われている。
て利用するものであり、例えば、基体の上に設けた薄い
記録層に、光学的に検出可能なピットを形成させること
により情報を高密度に記録することができる。
表面に集束したレーザを走査し、照射されたレーザエネ
ルギーを吸収した記録層にピットを形成させることによ
って行われる。この記録媒体に記録された情報は、形成
されたピットを読み出し光で検出することができる。
は、これまでアルミニウム蒸着膜等の金属薄膜、酸化テ
ルル薄膜、ビスマス薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラ
ス膜等の無機物質が主に用いられていた。
とが困難であり、スパッタリングや真空蒸着法により形
成する必要があるが、この方法はその操作が煩雑である
欠点があった。しかも、上記の無機物質を用いた場合
は、レーザ光に対する反射率が高い、熱伝導率が大き
い、レーザ光の利用率が低い等の欠点があった。
ザによってピットを形成することのできる、光学記録材
料としての色素を主体とする有機化合物を記録層として
用いる方法が提案されている。
ニン系、チアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール
系、キノリン系、セレナゾール系等のシアニン色素が知
られている。これらの色素は、シアニン色素カチオンと
ハロゲンアニオン、過塩素酸アニオン等の各種のアニオ
ンとの塩であり、特に、インドレニン系の色素は感度が
高いので好ましく用いられている。
ンパクトディスク(CD)規格に対応した波長770〜
830nmの近赤外半導体レーザによって書き込み再生
の可能な光記録媒体(CD−R)が実用化されている。
0〜690nmの赤色半導体レーザが開発され、ビーム
スポットをより小さくすることで記録密度を上げ、また
データの圧縮技術などを使って、動画が記憶できるほど
の大容量光記録媒体(デジタルバーサティリティーディ
スク、DVD)も実用化されている。
記または記録が可能な光記録媒体(DVD−R)に最適
なシアニン色素に関するものである。
み出しに650nmの波長を利用する光記録媒体に用い
る色素では、635nmに書き込みのための感度を持
ち、かつ650nmに高い反射率を持つもの、すなわち
分子吸光係数の大きいものが望ましい。
レーザによる書き込みに対応した色素としては、例え
ば、特開昭59−55795号公報に、記録層にインド
カルボシアニン色素を用いた光記録媒体が提案されてい
る。
VD−Rの規格の吸収波長に対して正確に合致している
とはいえず、また反射率についても充分とはいえなかっ
た。
記録層に使用される、光安定性、保存安定性及び溶媒へ
の溶解性が良好であり、且つ、感度の高い光学記録材料
を提供することを目的とする。
を重ねた結果、インドレニン系のシアニン色素に特定の
置換基を持たせた化合物が、上記目的を達成し得ること
を知見した。
ので、下記〔化2〕(前記〔化1〕と同じ)の一般式
(I)で表される化合物からなることを特徴とする光学
記録材料を提供するものである。
いて詳細に説明する。
化合物は、光学記録媒体の記録層に使用される色素であ
る。上記一般式(I)で表される化合物において、A、
B、R1、R2およびR5で表される炭素原子数1〜8のアル
キル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、
アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチ
ルヘキシル等があげられ、R1,R2およびR5で表される炭
素原子数3〜8のアルケニル基としては、直鎖および分
岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、
ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙
げられ、炭素原子数1〜14のアラルキル基としては、
ベンジル、フェネチル、p−メチルベンジル、p−エチ
ルベンジル、p−イソプロピルベンジル、p−クロルベ
ンジル、p−メチルフェネチル、p−エチルフェネチ
ル、p−イソプロピルフェネチル、p−クロルフェネチ
ル等が挙げられ、Yで表される炭素原子数2〜4のアル
キレン基としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブ
チレンなどの直鎖あるいは分岐のアルキレン基があげら
れる。A、BおよびZで表されるハロゲン原子として
は、弗素、塩素、臭素、沃素などがあげられる。
炭化水素基としては、二価の脂肪族基あるいは芳香族基
であり、例えば、二価の脂肪族基としては、メチレン、
エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシ
レン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、
ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレン、テトラデシ
レン、ペンタデシレン、ヘキサデシレン、ヘプタデシレ
ン、オクタデシレン、ノナデシレン、エイコシレンなど
の直鎖あるいは分岐のアルキレン基があげられ、これら
は分子中に不飽和結合あるいは環状構造を有してもよ
く、二価の芳香族基としては、例えば、フェニレン、ナ
フチレンなどの基があげられ、これらは置換基を有して
もよく、さらに一種以上のアルキレン基と一種以上の芳
香族基が相互に結合したものであってもよいが、特に炭
素原子数1〜10のアルキレン基であるものが溶剤への
溶解性に一層優れるため好ましい。
-NR4- (R4は水素原子、-(Y−O)r−R3─Z)を表す
が、特に-C(CH3)2- であるものが溶剤への溶解性に優れ
るため好ましい。
は、例えば、塩素アニオン、臭素アニオン、沃素アニオ
ン、弗素アニオン等のハロゲンアニオン;過塩素酸アニ
オン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、
六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化硼素アニオンな
どの無機系アニオン、または、ベンゼンスルホン酸アニ
オン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタ
ンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン;オ
クチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オク
タデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノ
ニルフェニルリン酸アニオン等の有機リン酸アニオンな
どの有機系アニオン、あるいは、例えば、クエンチャー
アニオンとして、特開昭60−234892号公報に記
載されたようなものがあげられる。該クエンチャーアニ
オンの代表例としては、下記〔化3〕の一般式(A)お
よび(B)で表されるアニオンがあげられる。
ある化合物が、書き込みおよび再生の620〜690n
mの波長に対して感度に優れるため好ましい。
例としては、下記〔化4〕〜〔化10〕に示すΦ−1〜
Φ−7などが挙げられる。尚、以下の例示では、アニオ
ンを省いたシアニン色素カチオンで示している。
Bのうち一方がニトロ基でもう一方がニトリル基である
化合物、またはAおよびBの両方がニトロ基である化合
物が分子吸光係数が大きく好ましい。
る本発明の光学記録材料は、上記シアニン色素カチオン
とアニオンとの塩であり、従来周知の方法に準じて製造
することができる。
の具体的な合成例を挙げる。
メチル−5−ニトロ−5−シアノ−インドレニン−2−
トリメチンシアニン過塩素酸塩(Φ−1の過塩素酸塩)
の製造
2−〔2−アニリノ−エテン(1)−イル〕−3,3−
ジメチル−5−ニトロインドレニン過塩素酸塩を次のよ
うに合成した。
0mlフラスコに1−イソアミル−2,3,3−トリメ
チル−5−ニトロインドレニン過塩素酸塩(Mw=374)3
7.4gとN,N’−ジフェニルホルムアミジン(Mw=1
96)21.6gとを加え、ピリジン79gを溶媒として
窒素気流下、116℃で2時間反応させた。反応終了
後、ピリジンを脱溶媒除去しアセトン200gに溶解し
た後200gのシリカゲルに吸着させ乾燥した。これを
2kgシリカゲルを充填したカラム上部に仕込み、酢酸
エチル─ヘキサンの混合溶媒を展開液としてカラム分離
したところ目的物36g(収率76%)を得た。
−アニリノ−エテン(1)−イル〕−3,3−ジメチル
−5−ニトロインドレニン 過塩素酸塩(Mw=477)1
4.3gと1−イソアミル−2,3,3−トリメチル−
5−シアノインドレニン 過塩素酸塩(Mw=354)11.
2gを200ml丸底フラスコに仕込み、ピリジン4
7.4gを溶媒として116℃で2時間反応させた後、
無水酢酸(Mw=102)3.1gを加えさらに116℃で1
時間反応した。反応終了後上記と同様にしてカラム分離
を行い、目的物16g(収率72%)を得た。λmax =
575nm(クロロホルム溶液、以下同じ)ε=2.1
0×105 であった。
ラメチル−5−ニトロ−5’−クロロインドレニン−2
−トリメチレンシアニン過塩素酸塩(Φ−2の過塩素酸
塩)の製造
n−プロピル−2−〔2−アニリノ−エテン(1)−イ
ル〕−3,3−ジメチル−5−ニトロインドレニン 過
塩素酸塩を一旦合成し、つぎに1−n−プロピル−2,
3,3−トリメチル−5−クロロ−インドレニン 過塩
素酸塩と反応させて合成した。λmax =574nm、ε
=1.79×105 であった。
用いる以外は合成例1と同様に行い、下記に示す化合物
を合成した。
3’−テトラメチル−5−ニトロ−5’−ブロモインド
レニン−2−トリメチレンシアニン過塩素酸塩(Φ−3
の過塩素酸塩) λmax = 576nm,ε= 1.81×105
3,3,3’,3’−テトラメチル−5−ニトロ−5’
−メチルインドレニン−2−トリメチレンシアニン過塩
素酸塩(Φ−4の過塩素酸塩) λmax = 574nm,ε= 1.75×105
ノキシ)エチル〕−3,3,3’,3’−テトラメチル
−5,5’−ジニトロインドレニン−2−トリメチレン
シアニン過塩素酸塩(Φ−5の過塩素酸塩) λmax = 581nm,ε= 1.95×105
3,3’,3’−テトラメチル−5,5’−ジニトロイ
ンドレニン−2−トリメチレンシアニン過塩素酸塩(Φ
−6の過塩素酸塩)の製造
0mlフラスコに1−〔1−(2−フェノキシ)エチ
ル〕−2,3,3−トリメチル−5−ニトロインドレニ
ン過塩素酸塩(Mw=424)127gとオルトギ酸トリメチ
ル(MW=142) 22.7gとを加え、ピリジン284gを
溶媒として窒素気流下、100℃まで1時間で昇温し、
その後110℃で加熱還流を2時間行った。さらに分水
器を取りつけ、生成するエタノール除きながら、115
℃で加熱還流を2時間行った。反応終了後ピリジンを留
去し、メタノール80gを加え加熱溶解し、蒸留水80
gを50℃において1時間で滴下した。2時間攪拌後、
20℃でろ過し、乾燥して81gの目的物を得た。収率
71%、λmax =583nm、ε=1.99×105 で
あった。
メチル−5,5’−ジニトロインドレニン−2−トリメ
チレンシアニン過塩素酸塩(Φ−7の過塩素酸塩)の製
造
エチル〕−2,3,3−トリメチル−5−ニトロインド
レニン過塩素酸塩のかわりに、1−イソアミル−2,
3,3−トリメチル−5−ニトロインドレニン過塩素酸
塩(Mw=374)112gを用いる以外は同様に反応を行
い、目的物76gを得た。収率77%、λmax = 582
nm,ε= 2.09×105 であった。
記録層として適用され、その形成にあたっては従来周知
の方法を用いることができる。一般には、メタノール、
エタノール等の低級アルコール類、メチルセルソルブ、
エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、ブチルジグリコ
ール等のエーテルアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジアセトンアルコール等のケトン類、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸メトキシエチル等のエステル類、アク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル等のアクリル酸エステ
ル類、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等
のフッ化アルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の炭化水素類、メチレンジクロライド、ジクロロエタ
ン、クロロホルム等の塩素化炭化水素類等の有機溶媒に
溶解した溶液を基体上に塗布することによって容易に形
成することができる。
10μであり、好ましくは0.01〜5μの範囲が適当
である。上記記録層の形成方法は特に制限を受けず、例
えばスピンコート法等の通常の方法を用いることができ
る。
記録層に含有させる際の該記録層に対する使用量は、好
ましくは50〜100重量%である。
料の他に、必要に応じて、ポリエチレン、ポリエステ
ル、ポリスチレン、ポリカーボネート等の樹脂類を含有
してもよく、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、
安定剤、分散剤、酸化防止剤、架橋剤等を含有してもよ
い。
ンチャーとして芳香族ニトロソ化合物、遷移金属キレー
ト化合物等を含有してもよい。これらの化合物として
は、例えば、特開昭59−55795公報に提案されて
いるような公知の化合物が用いられる。該化合物は、記
録層に対して好ましくは0〜50重量%の範囲で使用さ
れる。
質は、書き込み光及び読み出し光に対して実質的に透明
なものであれば特に制限はなく、例えば、ポリメチルメ
タクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカー
ボネート等の樹脂、ガラス等が用いられる。また、その
形状は、用途に応じ、テープ、ドラム、ベルト等の任意
の形状のものが使用できる。
ウム、銅などを用いて蒸着法あるいはスパッタリング法
により反射膜を形成させることもできるし、アクリル樹
脂、紫外線硬化樹脂等による保護層を形成すこともでき
る。
VD、CD−R、DVD−R等の光ディスク用の色素と
して使用することができ、特に書き込み再生に620〜
690nmの波長の光を用いるDVD−Rに好適であ
る。
明する。しかしながら、本発明は下記の実施例によって
制限を受けるものではない。
布、加水分解して下地層(0.01μ) を設けた直径1
2cmのポリカーボネートディスク基板上に、下記〔表
1〕に示す色素及び芳香族ニトロソ化合物(DQ−2
4:旭電化工業(株)製)の1:0.1(重量比)のエ
チルセルソルブ溶液をスピンコーティング法にて塗布し
て、厚さ100nmの記録層を形成した。
膜を蒸着法により形成した。
m/sで回転させながら半導体レーザー (635nm、集
光部出力7mW、周波数2KHz)を用いて基板裏面側から書
き込みを行った。
部出力0.1mW) を読み出し光とし、基板をとおしての
反射光を検出してスペクトラムアナライザーにて、バン
ド巾30KHz でC/N比を測定した。
し、1μ秒巾、3KHz のパルスとして、静止状態で5分
間照射した後及び40℃、相対湿度88%の条件下に2
500時間保存した後の、基体裏面側からの反射率の変
化(%)を測定した。
体を作成し、分光エリプソメーター(M−150、日本
分光(株)製)を用いて屈折率(n)と消衰係数(k)
を測定した。それらの結果を下記〔表2〕に示す。
係る前記一般式(I)で表される化合物(ニトロ基を有
するシアニン色素)を用いた場合(実施例1−1〜1−
9、2−1〜2−9)は、従来のシアニン色素を用いた
場合(比較例1−1、1−2、2−1、2−2)と比較
して、書き込み感度に優れ、照射後及び保存後の反射率
の低下が著しく小さく、またnとkのバランスが優れる
ことから、極めて信頼性の高い記録が可能となる。
存安定性及び溶媒への溶解性が良好であり、且つ感度の
高いものである。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記〔化1〕の一般式(I)で表される
化合物からなることを特徴とする光学記録材料。 【化1】 - 【請求項2】 上記一般式(I)において、AおよびB
のうち一方がニトロ基、もう一方がニトリル基である請
求項1記載の光学記録材料。 - 【請求項3】 上記一般式(I)において、AおよびB
がともにニトロ基である請求項1記載の光学記録材料。 - 【請求項4】 上記一般式(1)において、pが1であ
る請求項1〜3の何れかに記載の光学記録材料 - 【請求項5】 波長620〜690nmにおいて書き込み
再生が可能な光学記録媒体に用いられる請求項1〜4の
何れかに記載の光学記録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21059297A JP3859312B2 (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | 光学記録材料 |
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---|---|---|---|
JP21059297A JP3859312B2 (ja) | 1997-08-05 | 1997-08-05 | 光学記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1153761A true JPH1153761A (ja) | 1999-02-26 |
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ID=16591882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335662A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Mitsui Chemicals Inc | トリメチン二量体化合物及びこれを用いた光記録媒体 |
JP2007131818A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Adeka Corp | シアニン化合物及び該シアニン化合物を用いた光学フィルター |
WO2007135924A1 (ja) | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Adeka Corporation | 光学記録材料及びシアニン化合物 |
-
1997
- 1997-08-05 JP JP21059297A patent/JP3859312B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2007131818A (ja) * | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Adeka Corp | シアニン化合物及び該シアニン化合物を用いた光学フィルター |
WO2007135924A1 (ja) | 2006-05-23 | 2007-11-29 | Adeka Corporation | 光学記録材料及びシアニン化合物 |
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---|---|
JP3859312B2 (ja) | 2006-12-20 |
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