JPH1152575A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH1152575A5 JPH1152575A5 JP1997208864A JP20886497A JPH1152575A5 JP H1152575 A5 JPH1152575 A5 JP H1152575A5 JP 1997208864 A JP1997208864 A JP 1997208864A JP 20886497 A JP20886497 A JP 20886497A JP H1152575 A5 JPH1152575 A5 JP H1152575A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- solution
- resin
- synthesis example
- synthesis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9208864A JPH1152575A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9208864A JPH1152575A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152575A JPH1152575A (ja) | 1999-02-26 |
| JPH1152575A5 true JPH1152575A5 (OSRAM) | 2005-03-17 |
Family
ID=16563392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9208864A Pending JPH1152575A (ja) | 1997-08-04 | 1997-08-04 | 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1152575A (OSRAM) |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3844322B2 (ja) * | 1998-07-02 | 2006-11-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物 |
| US6852466B2 (en) * | 1998-12-23 | 2005-02-08 | Shipley Company, L.L.C. | Photoresist compositions particularly suitable for short wavelength imaging |
| KR100670090B1 (ko) * | 2000-11-29 | 2007-01-17 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 아민 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
| JP3915650B2 (ja) * | 2001-10-15 | 2007-05-16 | 三菱化学株式会社 | 青紫色レーザー感光性レジスト材層を有する画像形成材及びそのレジスト画像形成方法 |
| US7932334B2 (en) | 2005-12-27 | 2011-04-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Resin suitable for an acid generator |
| TWI438182B (zh) | 2007-07-25 | 2014-05-21 | Sumitomo Chemical Co | 適用於酸產生劑之鹽以及含有該鹽之化學放大正型抗蝕劑組成物 |
| TWI452432B (zh) | 2008-03-03 | 2014-09-11 | Sumitomo Chemical Co | 化學放大型光阻組成物及浸漬式微影用之化學放大型光阻組成物 |
| JP2010077228A (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Fujifilm Corp | インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| CN101735390A (zh) | 2008-11-14 | 2010-06-16 | 住友化学株式会社 | 聚合物及包含该聚合物的抗蚀剂组合物 |
| CN101898988A (zh) | 2009-05-28 | 2010-12-01 | 住友化学株式会社 | 盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物 |
| TWI491600B (zh) | 2009-06-12 | 2015-07-11 | Sumitomo Chemical Co | 鹽類及含有其之光阻組合物 |
| KR101827695B1 (ko) | 2009-06-12 | 2018-03-22 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 염 및 이를 함유하는 감광성 내식막 조성물 |
| JP5783687B2 (ja) | 2009-06-23 | 2015-09-24 | 住友化学株式会社 | 樹脂及びレジスト組成物 |
| JP5689253B2 (ja) | 2009-06-24 | 2015-03-25 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5580674B2 (ja) | 2009-07-14 | 2014-08-27 | 住友化学株式会社 | 新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP5658932B2 (ja) | 2009-07-14 | 2015-01-28 | 住友化学株式会社 | 新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| KR101726444B1 (ko) | 2009-08-31 | 2017-04-12 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 수지, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법 |
| JP2011074365A (ja) | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| WO2011037036A1 (ja) * | 2009-09-24 | 2011-03-31 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
| JP2011170151A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | レジスト組成物 |
| TWI513678B (zh) | 2010-06-29 | 2015-12-21 | Sumitomo Chemical Co | 鹽、酸產生劑及光阻組成物 |
| TWI499581B (zh) | 2010-07-28 | 2015-09-11 | Sumitomo Chemical Co | 光阻組成物 |
| JP5763463B2 (ja) | 2010-08-03 | 2015-08-12 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| TWI521302B (zh) | 2010-08-30 | 2016-02-11 | 住友化學股份有限公司 | 阻劑組成物及阻劑圖案的產生方法 |
| JP2012087294A (ja) | 2010-09-21 | 2012-05-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法 |
| JP5824321B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-11-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5824320B2 (ja) | 2010-10-26 | 2015-11-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5879834B2 (ja) | 2010-11-15 | 2016-03-08 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6088133B2 (ja) | 2010-12-15 | 2017-03-01 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5947051B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-07-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5898520B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6034025B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-11-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6034026B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-11-30 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5829939B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5829941B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5829940B2 (ja) | 2011-02-25 | 2015-12-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5898521B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5947053B2 (ja) | 2011-02-25 | 2016-07-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5977594B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5977595B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6013798B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-10-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5996944B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-21 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5985898B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6130630B2 (ja) | 2011-07-19 | 2017-05-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5977593B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-08-24 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP6130631B2 (ja) | 2011-07-19 | 2017-05-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5990041B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-09-07 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP5912912B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-04-27 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| TWI629560B (zh) * | 2013-10-30 | 2018-07-11 | 富士軟片股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、硬化膜的製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機el顯示裝置及觸控面板顯示裝置 |
| WO2016027546A1 (ja) | 2014-08-22 | 2016-02-25 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス |
| JP2016089085A (ja) * | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 株式会社Adeka | 組成物 |
| JP7276180B2 (ja) * | 2019-02-27 | 2023-05-18 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
| TWI833992B (zh) | 2019-10-15 | 2024-03-01 | 美商羅門哈斯電子材料有限公司 | 光致抗蝕劑組成物及圖案形成方法 |
| JP7605056B2 (ja) * | 2020-08-13 | 2024-12-24 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JPWO2024034422A1 (OSRAM) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3208602B2 (ja) * | 1992-06-30 | 2001-09-17 | 富士通株式会社 | α,β−不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体 |
| DE4222968A1 (de) * | 1992-07-13 | 1994-01-20 | Hoechst Ag | Positiv-arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| JP3297272B2 (ja) * | 1995-07-14 | 2002-07-02 | 富士通株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 |
| JPH0922115A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 化学増幅型ポジレジスト組成物 |
| JP3345869B2 (ja) * | 1995-12-01 | 2002-11-18 | ジェイエスアール株式会社 | 感放射線性組成物 |
-
1997
- 1997-08-04 JP JP9208864A patent/JPH1152575A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH1152575A5 (OSRAM) | ||
| US6368773B1 (en) | Photoresist cross-linker and photoresist composition comprising the same | |
| KR100301354B1 (ko) | 레지스트조성물및레지스트패턴형성방법 | |
| KR100520148B1 (ko) | 신규한바이시클로알켄유도체와이를이용한포토레지스트중합체및이중합체를함유한포토레지스트조성물 | |
| JP5687442B2 (ja) | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | |
| TWI236578B (en) | Chemically amplified positive resist composition | |
| JP3859353B2 (ja) | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 | |
| JP2000122294A (ja) | 感光性組成物及びパタ―ン形成方法 | |
| JPH05249683A (ja) | 感放射線性組成物 | |
| JP2002363225A (ja) | 化学増幅型レジスト用重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト組成物 | |
| KR100557609B1 (ko) | 신규의 포토레지스트 가교제 및 이를 이용한 포토레지스트 조성물 | |
| TWI311235B (OSRAM) | ||
| KR100520183B1 (ko) | 두 개의 이중결합을 가지는 가교제를 단량체로 포함하는 포토레지스트용 공중합체 | |
| JP2759079B2 (ja) | 高エネルギー照射線硬化可能な組成物及び高エネルギー照射線記録法 | |
| JP4347179B2 (ja) | 新規の重合体及びこれを含有した化学増幅型レジスト | |
| JP3793453B2 (ja) | 新規な感酸性重合体及びこれを含有するレジスト組成物 | |
| KR100362937B1 (ko) | 신규의포토레지스트가교제,이를포함하는포토레지스트중합체및포토레지스트조성물 | |
| US6482565B1 (en) | Photoresist cross-linker and photoresist composition comprising the same | |
| WO1994010608A9 (en) | Chemically amplified photoresist | |
| US20010001703A1 (en) | Method for the formation of resist patterns | |
| JP3587770B2 (ja) | フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 | |
| JP3022412B2 (ja) | ネガ型フォトレジスト材料、およびそれを用いたパターン形成方法 | |
| JPH10115928A (ja) | ポジティブフォトレジスト製造用樹脂及びこれを含有する化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物 | |
| JP4144957B2 (ja) | レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 | |
| JPH09235326A (ja) | アセタール基を含有するアルコキシ−スチレン重合体とその製造方法及びアルコキシ−スチレン重合体を主要成分とする化学増幅型フォトレジスト材料 |