JPH11509358A - 電力分割された電極 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1. プラズマ反応室に適合可能で、このプラズマ反応室内の基板に均一な処 理をもたらすことが可能な電力分割された電極であって、 第1のゾーン部分と第2のゾーン部分にそれぞれ亙って分布した第1の電極と 第2の電極と、 前記プラズマ室内に支持された基板に結合されるプラズマが該基板に均一な処 理をもたらすように、前記第1と第2のゾーン部分における高周波電力の分布を 制御するためのコンデンサ・ネットワークとを具備した電力分割電極。 2. 1枚の半導体ウエーファを支持し、プラズマエッチング室内に位置され た静電気チャックである基板支持部内に組み込み可能であることを特徴とする請 求項1に記載の電力分割電極。 3. 前記第1の電極は、誘電性材料で満たされたギャップだけ前記第2の電 極から離間し、このギャップは、誘電性材料で満たされて、前記コンデンサ・ネ ットワークの電極間コンデンサを形成することを特徴とする請求項1に記載の電 力分割電極。 4. 高周波電力源と、前記高周波ネットワークの一部と電気的グラウンドと を形成する第1コンデンサと第2のコンデンサとをさらに具備し、前記高周波電 力源からの高周波電力が、前記第1のコンデンサ、前記第1の電極と、前記第2 のコンデンサと、前記第2の電極とを順に通過し、そして前記グラウンドに流れ ることを特徴とする請求項1に記載の電力分割電極。 5. 前記第1の電極と第2の電極は、離間し別体である複数の環状電極を構 成する同軸電極構造の一部を形成し、この環状電極は前記コンデンサ・ネットワ ークを形成する可変コンデンサを介して高周波電力源に接続され、前記高周波電 力源からの高周波電力は、前記可変コンデンサの各々を通って前記電極の夫々の 1つに送られることを特徴とする請求項1に記載の電力分割電極。 6. その出力の調整信号が、前記環状電極の夫々の1つに相対する前記基板 の環状ゾーン部分内における、前記基板の処理の均一さからの変動を自動的 に補償するように、前記可変コンデンサの夫々の1つの容量を調整するための電 流検知メカニズムをさらに具備することを特徴とする請求項5に記載の電力分割 電極。 7. 前記コンデンサ・ネットワークは第1コンデンサと第2のコンデンサを 有し、この第1のコンデンサは前記第1の電極に、前記第2のコンデンサは前記 第2の電極にそれぞれ接続され、前記第1のコンデンサと第2のコンデンサは高 周波電力源に並列に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の電力分割 電極。 8. さらに第3の電極を有し、前記第1の電極は前記第2の電極を囲み、前 記第2の電極は前記第3の電極を囲み、これら電極の各々は高周波電力源に電気 的に接続され、前記高周波電力源からの高周波電力は、順に、電力分割器、前記 電極の夫々の1つに伝達されることを特徴とする請求項1に記載の電力分割電極 。 9. 静電気チャック内に組み込まれ、前記第1の電極と第2の電極とは、前 記チャックが基板を静電気的にこの上にチャックすることが可能となるような直 流バイアス電流源に電気的に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の 電力分割電極。 10. 前記第1と第2の電極に対して同相もしくは非同相で供給される高周 波電力の電力源をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載の電力分割電 極。 11. 数値的に順に形成される正弦波を生成する正弦波発生器と、 DCオフセット値を発生するバイアスユニットと、 前記数値的に順に形成された正弦波と前記DCオフセット値とを合わせる加算 ユニットと、 前記加算ユニットからの信号出力をアナログ加算信号に変換するディジタル/ アナログ変換器と、 前記アナログ加算信号の所定の低周波成分をフィルタするローパスフィルタ と、 前記ローパスフィルタによりフィルタされたアナログ加算信号を増幅してこの 増幅信号で前記第1と第2の電極を駆動する電力増幅器とを具備することを特徴 とする請求項1に記載の電力分割電極。 12. 前記第1の電極は前記第2の電気を囲み、 電力が、前記第1の電極に、そして、前記第1と第2の電極間のギャップ内に おかれた誘電性材料で形成された電極間容量に、そして、前記第2の電極に、そ して前記コンデンサ・ネットワークの一部と電気的グラウンドとを形成する直列 接続のコンデンサに、順に供給され、 前記誘電性材料は、前記直列接続のコンデンサの容量よりも小さい電極間容量 を与えることを特徴とする請求項1に記載の電力分割電極。 13. 前記第1の電極または前記第2の電極に接続された電圧分割回路をさ らに具備することを特徴とする請求項1に記載の電力分割電極。 14. 前記第1の電極は第1の能動的電力ドライバにより駆動され、前記第 2の電極は第2の能動的電力ドライバにより駆動され、前記第1と第2の能動的 電力ドライバは互いに独立して動作することを特徴とする請求項1に記載の電力 分割電極。 15. プラズマ処理システムであって、 このプラズマ処理システムのプラズマ反応室内で基板をクランプする基板支持 部であって、前記基板に隣接する、この基板支持部のゾーン部分に関連付けられ た複数の電極を有する基板支持部と、 均一な処理が前記基板の全体表面に亙ってもたらされるように、記基板支持部 の前記ゾーン部分に前記複数の電極を介して供給される電力を制御する電力コン トローラとを具備するプラズマ処理システム。 16. 前記電力コントローラは、前記基板チャックの前記ゾーン部分に電力 を分散させるために、前記複数の電極に接続されたコンデンサ・ネットワークを 有することを特徴とする請求項15に記載のプラズマ処理システム。 17. 前記複数の電極の隣り合う電極はギャップを介して離間し、 そのギャップの各々は前記コンデンサ・ネットワークの電極間コンデンサを形 成するように誘電性材料で埋められ、 前記複数の電極は、前記反応室内の処理ガスの流量を補償して前記基板の均一 な処理をもたらすようなパターンに設けられたことを特徴とする請求項16に記 載のプラズマ処理システム。 18. プラズマ処理システム内で基板を処理する方法であって、 (a)プラズマ反応室内の基板支持部に基板をクランプする工程と、 (b)前記基板のゾーン部分に関連付けられた複数の電極を有する電力分割電 極で、前記プラズマ反応室内にプラズマを生成する工程と、 (c)前記電極に供給される電力の分散を、処理対称の基板の表面に亙って均 一な処理がもたらされるように、制御する工程とを具備する基板処理方法。 19. 前記工程(c)では、前記複数の電極に接続されたコンデンサ・ネッ トワークにより、前記電力を前記基板の前記ゾーン部分に分散することを特徴と する請求項18に記載の基板処理方法。 20. 前記複数の電極の隣り合う電極はギャップを介して離間し、 そのギャップの各々は前記コンデンサ・ネットワークの電極間コンデンサを形 成するように誘電性材料で埋められ、 前記複数の電極は、前記反応室内の処理ガスの流量を補償して前記基板の均一 な処理をもたらすようなパターンに設けられたことを特徴とする請求項18に記 載の基板処理方法。
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