JPH11322680A - ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレ―トの連続製造方法 - Google Patents
ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレ―トの連続製造方法Info
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- JPH11322680A JPH11322680A JP11113442A JP11344299A JPH11322680A JP H11322680 A JPH11322680 A JP H11322680A JP 11113442 A JP11113442 A JP 11113442A JP 11344299 A JP11344299 A JP 11344299A JP H11322680 A JPH11322680 A JP H11322680A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C213/00—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
- C07C213/06—Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton from hydroxy amines by reactions involving the etherification or esterification of hydroxy groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 メチルまたはエチル（メタ）アクリレートと
アミノアルコールとのエステル交換反応によるジアルキ
ルアミノアルキル（メタ）アクリレートの製造方法。 【解決方法】 エステル交換反応触媒をテトラブチル、
テトラエチルおよびテトラ（2-エチルヘキシル）チタネ
ートから選択し、反応を撹拌反応器で90〜120℃で行
い、その粗反応混合物はテーリングカラム（C1）に送
る。このカラムの上部からの留分はトッピングカラム
（C2）に送り、このカラムの底部からの留分は最終精留
塔（C3）に送り、そこで高純度のジアルキルアミノアル
キル（メタ）アクリレートを得る。
アミノアルコールとのエステル交換反応によるジアルキ
ルアミノアルキル（メタ）アクリレートの製造方法。 【解決方法】 エステル交換反応触媒をテトラブチル、
テトラエチルおよびテトラ（2-エチルヘキシル）チタネ
ートから選択し、反応を撹拌反応器で90〜120℃で行
い、その粗反応混合物はテーリングカラム（C1）に送
る。このカラムの上部からの留分はトッピングカラム
（C2）に送り、このカラムの底部からの留分は最終精留
塔（C3）に送り、そこで高純度のジアルキルアミノアル
キル（メタ）アクリレートを得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、下記化学式(II)の
化合物：
化合物：
【０００２】
【化４】
【０００３】（ここで、Aは直鎖または分岐鎖を有するC
1-C5アルキレン基であり、R2およびR3は各々C1-C4アル
キル基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい）
と、下記化学式(III)の化合物：
1-C5アルキレン基であり、R2およびR3は各々C1-C4アル
キル基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい）
と、下記化学式(III)の化合物：
【０００４】
【化５】
【０００５】（ここで、R1は水素原子またはメチル基で
あり、R4は1個または２個の炭素原子を有する直鎖アル
キル基である）とを、エステル交換反応触媒としてのテ
トラアルキルチタネートの存在下且つ少なくとも一種の
重合抑制剤の存在下で、撹拌反応器で反応させ、反応中
に化合物(III)−R4OHの共沸混合物を連続的に除去す
る、下記化学式(I)で表されるジアルキルアミノアルキ
ル（メタ）アクリレートの連続製造方法に関するもので
ある：
あり、R4は1個または２個の炭素原子を有する直鎖アル
キル基である）とを、エステル交換反応触媒としてのテ
トラアルキルチタネートの存在下且つ少なくとも一種の
重合抑制剤の存在下で、撹拌反応器で反応させ、反応中
に化合物(III)−R4OHの共沸混合物を連続的に除去す
る、下記化学式(I)で表されるジアルキルアミノアルキ
ル（メタ）アクリレートの連続製造方法に関するもので
ある：
【０００６】
【化６】
【０００７】（ここで、A、R1、R2およびR3は上記の意
味を有する）
味を有する）
【０００８】
【従来の技術】フランス特許第1,544,542号には、H2C=C
HCOOCH(CH3)2またはH2C=CHCOOCH2CH(CH3)2とアルコール
とを例えばn-プロピル、イソプロピルまたはイソブチル
チタネートまたはポリブチルチタネート等の触媒の存在
下で反応させてジメチルアミノエチルアクリレートを製
造する方法が記載されている。この方法の欠点はチタネ
ートと反応中に出る軽質アルコールまたは出発材料のア
ルコールとのエステル交換反応によって反応混合物中に
不純物ができ、製造されたアクリルエステルの精製処理
が複雑になる点にある。フランス特許第2,617,840号に
記載の化学式(I)の化合物の製造方法では、上記問題点
を克服するために、少なくとも一種の重合抑制剤の存在
下且つテトラエチルチタネートの存在下で、20〜200℃
且つ大気圧以下の圧力で、エチル（メタ）アクリレート
と上記化学式(II)のアミノアルコールとを、エチル（メ
タ）アクリレート/アミノアルコール(II)モル比の1.5〜
5の範囲にして反応させ、反応中に共沸混合物であるエ
チル（メタ）アクリレート/エタノールを除去し、得ら
れた化合物(I)を反応の終点で分離する。現在の課題は
上記化合物(I)を工業的規模で連続的かつ高純度に製造
することにある。すなわち、例えばエチルアクリレート
（EA）が100ppm以下で、ジメチルアミノエタノール（DM
AE）が300ppm以下であるジメチルアミノエチルアクリレ
ート（DMAEA）を製造することが求められている。ヨー
ロッパ特許第EP-B-0,160,427号には下記工程からなるDM
AEAの製造方法が記載されている： （１）触媒の調製
HCOOCH(CH3)2またはH2C=CHCOOCH2CH(CH3)2とアルコール
とを例えばn-プロピル、イソプロピルまたはイソブチル
チタネートまたはポリブチルチタネート等の触媒の存在
下で反応させてジメチルアミノエチルアクリレートを製
造する方法が記載されている。この方法の欠点はチタネ
ートと反応中に出る軽質アルコールまたは出発材料のア
ルコールとのエステル交換反応によって反応混合物中に
不純物ができ、製造されたアクリルエステルの精製処理
が複雑になる点にある。フランス特許第2,617,840号に
記載の化学式(I)の化合物の製造方法では、上記問題点
を克服するために、少なくとも一種の重合抑制剤の存在
下且つテトラエチルチタネートの存在下で、20〜200℃
且つ大気圧以下の圧力で、エチル（メタ）アクリレート
と上記化学式(II)のアミノアルコールとを、エチル（メ
タ）アクリレート/アミノアルコール(II)モル比の1.5〜
5の範囲にして反応させ、反応中に共沸混合物であるエ
チル（メタ）アクリレート/エタノールを除去し、得ら
れた化合物(I)を反応の終点で分離する。現在の課題は
上記化合物(I)を工業的規模で連続的かつ高純度に製造
することにある。すなわち、例えばエチルアクリレート
（EA）が100ppm以下で、ジメチルアミノエタノール（DM
AE）が300ppm以下であるジメチルアミノエチルアクリレ
ート（DMAEA）を製造することが求められている。ヨー
ロッパ特許第EP-B-0,160,427号には下記工程からなるDM
AEAの製造方法が記載されている： （１）触媒の調製
【０００９】
【式１】
【００１０】（２）メチルアクリレート存在下での交換
反応によるDMAEAの合成
反応によるDMAEAの合成
【００１１】
【式２】
【００１２】次いで、化合物Ｂをフラッシュ蒸留によっ
て粗反応混合物から分離する。この操作で得られるDMAE
Aと未反応の過剰メチルアクリレートとを含む軽質相を
蒸留して純粋なDMAEAを単離する。 （3）化合物Aの再生
て粗反応混合物から分離する。この操作で得られるDMAE
Aと未反応の過剰メチルアクリレートとを含む軽質相を
蒸留して純粋なDMAEAを単離する。 （3）化合物Aの再生
【００１３】
【式３】
【００１４】化合物AはメタノールおよびDMAEを含む軽
質相からフラッシュ蒸留によって単離することができ
る。化合物Aを段階（2）に再循環させ、軽質相を蒸留し
てDMAEからメタノールを分離する。このDMAEは段階
（3）へ再循環される。蒸留温度と圧力のデータが全く
与えられておらず、また、かなり複雑であるにもかかわ
らず、上記特許にはこの方法は連続的に実施可能である
と記載されている。
質相からフラッシュ蒸留によって単離することができ
る。化合物Aを段階（2）に再循環させ、軽質相を蒸留し
てDMAEからメタノールを分離する。このDMAEは段階
（3）へ再循環される。蒸留温度と圧力のデータが全く
与えられておらず、また、かなり複雑であるにもかかわ
らず、上記特許にはこの方法は連続的に実施可能である
と記載されている。
【００１５】ブラジル国特許第PI 87/01337号には軽い
（メチル）アクリレートの連続的なエステル交換反応が
記載されている（DMAEが重質アルコールであるとは記載
されていない）。この方法では管形反応器を蒸発器と組
み合わせて用いる。蒸発器で得られた蒸気の留分は蒸留
塔に送られて下記が分離される： １）軽質アクリレート/軽質アルコール（メタノール）
共沸混合物（頂部） ２）重質アクリレートおよび重質アルコールと少量の軽
質アクリレート（底部） この最後の留分は精製カラムに送られ、このカラムの頂
部から出る重質アルコールを多く含む留分(stream)は反
応器へ再循環される(トッピング）。このカラムの底部
から出るチタネート（触媒）および重質アクリレートは
最終カラムへ送られ、その頂部から純粋な重質アクリレ
ートが得られ、その底部から触媒が回収される。上記の
要求を満たすDMAEAはこの方法では得られない。
（メチル）アクリレートの連続的なエステル交換反応が
記載されている（DMAEが重質アルコールであるとは記載
されていない）。この方法では管形反応器を蒸発器と組
み合わせて用いる。蒸発器で得られた蒸気の留分は蒸留
塔に送られて下記が分離される： １）軽質アクリレート/軽質アルコール（メタノール）
共沸混合物（頂部） ２）重質アクリレートおよび重質アルコールと少量の軽
質アクリレート（底部） この最後の留分は精製カラムに送られ、このカラムの頂
部から出る重質アルコールを多く含む留分(stream)は反
応器へ再循環される(トッピング）。このカラムの底部
から出るチタネート（触媒）および重質アクリレートは
最終カラムへ送られ、その頂部から純粋な重質アクリレ
ートが得られ、その底部から触媒が回収される。上記の
要求を満たすDMAEAはこの方法では得られない。
【００１６】ブラジル国特許第PI 87/01338号では、同
じ反応（同じくアミノアルコールを重質アルコールとし
て特定していない）で、蒸留塔の上部に重質アルコール
と触媒（例：ブチルチタネート）を供給し、底部に軽質
アクリレートを供給している。頂部から出る留分は軽質
アルコールを多く含み且つ軽質アクリレートと重質アル
コールとを含む。軽質アクリレートは分離されて上記カ
ラムに再循環される。底部から出る留分は重質アクリレ
ート（例えば2-エチルヘキシルアクリレート）を多く含
み且つ重質アルコールと軽質アクリレートとを含む。
じ反応（同じくアミノアルコールを重質アルコールとし
て特定していない）で、蒸留塔の上部に重質アルコール
と触媒（例：ブチルチタネート）を供給し、底部に軽質
アクリレートを供給している。頂部から出る留分は軽質
アルコールを多く含み且つ軽質アクリレートと重質アル
コールとを含む。軽質アクリレートは分離されて上記カ
ラムに再循環される。底部から出る留分は重質アクリレ
ート（例えば2-エチルヘキシルアクリレート）を多く含
み且つ重質アルコールと軽質アクリレートとを含む。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】本出願人は、上記定義
のアルキル（メタ）アクリレート(III)と上記定義のア
ミノアルコール(II)とをエステル交換反応させて得られ
た粗反応混合物に対して、最初にテーリング操作（触媒
と重質物の除去）を行い、次いでトッピング操作と最終
精留とを行うことによって高純度の（メタ）アクリレー
ト(I)を工業的に製造できるということを見出した。
のアルキル（メタ）アクリレート(III)と上記定義のア
ミノアルコール(II)とをエステル交換反応させて得られ
た粗反応混合物に対して、最初にテーリング操作（触媒
と重質物の除去）を行い、次いでトッピング操作と最終
精留とを行うことによって高純度の（メタ）アクリレー
ト(I)を工業的に製造できるということを見出した。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明の第一の対象は、
エステル交換反応触媒をテトラブチル、テトラエチルお
よびテトラ（2-エチルヘキシル）チタネートからなる群
の中から選択し、反応を撹拌反応器内で90-120℃の温度
で行い、次いで、下記操作を行うことを特徴とする方法
にある： (a) 所望の重質エステル(I)と、軽質物としての化合物
(II)および未反応の軽質エステル（III）と、重質物と
しての触媒、重合抑制剤および重質反応生成物とを含む
反応粗混合物を減圧下の第1蒸留塔（C1）に送り、この
第1カラム（C1）で蒸留を行って、 1） 触媒を含まないか、ほとんど含まず、重質物を少
量成分として含む、基本的に重質エステル(I)と軽質物
とからなる留分をカラム頂部から取り、 2） 一部の重質エステル(I)および触媒を少量成分とし
て含む、基本的に重質物からなる留分をカラム底部から
取り、次いで、 (b) 第１蒸留塔（C1）の頂部からの留分を減圧下の第2
蒸留塔（C2）へ送り、そこで蒸留を行って、 1） 重質エステル(I) を少量成分として含む、軽質物
留分を頂部で取り、 2） 軽質物、重質反応生成物および痕跡量の重合抑制
剤を含む重質エステル(I)を底部から取り、 (c) 第2蒸留塔（C2）の底部からの留分を減圧下の第3
蒸留塔（C3）へ送り、そこでを精留が行って、所望の重
質エステル(I)を頂部から取り、基本的に重合抑制剤か
らなる成分を底部から取る。
エステル交換反応触媒をテトラブチル、テトラエチルお
よびテトラ（2-エチルヘキシル）チタネートからなる群
の中から選択し、反応を撹拌反応器内で90-120℃の温度
で行い、次いで、下記操作を行うことを特徴とする方法
にある： (a) 所望の重質エステル(I)と、軽質物としての化合物
(II)および未反応の軽質エステル（III）と、重質物と
しての触媒、重合抑制剤および重質反応生成物とを含む
反応粗混合物を減圧下の第1蒸留塔（C1）に送り、この
第1カラム（C1）で蒸留を行って、 1） 触媒を含まないか、ほとんど含まず、重質物を少
量成分として含む、基本的に重質エステル(I)と軽質物
とからなる留分をカラム頂部から取り、 2） 一部の重質エステル(I)および触媒を少量成分とし
て含む、基本的に重質物からなる留分をカラム底部から
取り、次いで、 (b) 第１蒸留塔（C1）の頂部からの留分を減圧下の第2
蒸留塔（C2）へ送り、そこで蒸留を行って、 1） 重質エステル(I) を少量成分として含む、軽質物
留分を頂部で取り、 2） 軽質物、重質反応生成物および痕跡量の重合抑制
剤を含む重質エステル(I)を底部から取り、 (c) 第2蒸留塔（C2）の底部からの留分を減圧下の第3
蒸留塔（C3）へ送り、そこでを精留が行って、所望の重
質エステル(I)を頂部から取り、基本的に重合抑制剤か
らなる成分を底部から取る。
【００１９】
【発明の実施の形態】一般に、反応は反応器（R）内で
アルキル（メタ）アクリレート（III）／アミノアルコ
ール(II)のモル比を1.1〜3、好ましくは1.7〜2.2にして
行う。触媒はアミノアルコール（II）１モル当たりl0-4
〜10-2モル、好ましくはアミノアルコール(II)１モル当
たり1×l0-3〜8×10-3モルの比率で用いられる。反応は
反応器（R）内で650ミリバール〜大気圧の圧力で行われ
る。安定化剤はフェノチアジン、tert−ブチルカテコー
ル、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンお
よびこれらの任意比率の混合物からなる群の中から選択
され、反応原料に対して100〜5000ppmの比率で用いられ
る。フェノチアジン等の安定化剤はカラム(C2)に添加す
ることもできる。アミノアルコール(II)の例としてはジ
メチルアミノエタノール（DMAE）、ジメチルアミノプロ
パノールおよびジエチルアミノエタノールを挙げること
ができる。
アルキル（メタ）アクリレート（III）／アミノアルコ
ール(II)のモル比を1.1〜3、好ましくは1.7〜2.2にして
行う。触媒はアミノアルコール（II）１モル当たりl0-4
〜10-2モル、好ましくはアミノアルコール(II)１モル当
たり1×l0-3〜8×10-3モルの比率で用いられる。反応は
反応器（R）内で650ミリバール〜大気圧の圧力で行われ
る。安定化剤はフェノチアジン、tert−ブチルカテコー
ル、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンお
よびこれらの任意比率の混合物からなる群の中から選択
され、反応原料に対して100〜5000ppmの比率で用いられ
る。フェノチアジン等の安定化剤はカラム(C2)に添加す
ることもできる。アミノアルコール(II)の例としてはジ
メチルアミノエタノール（DMAE）、ジメチルアミノプロ
パノールおよびジエチルアミノエタノールを挙げること
ができる。
【００２０】本発明方法の具体的な特徴は下記の点にあ
る： 1） 第1蒸留塔（C1）は3.73×l03〜1.04×104Pa(28-78
mmHg)の圧力でl00〜115℃の底部温度で運転する。 2） 第2蒸留塔（C2）は9.33×l03〜1.07×l04Pa(70-80
mmHg)の圧力で110〜125℃の底部温度で運転する。 3） 第1蒸留塔（C1）の底部からの留分は薄膜蒸発器を
通して精製した後に、第2蒸留塔（C2）の頂部からの留
分と一緒に反応器（R）へ再循環する。 4） 精留塔（C3）は3.73×10-3〜70.7x103Pa(28-53mmH
g)の圧力で82〜94℃で運転する。 以下、本発明の実施例を説明するが、本発明が下記実施
例に限定されるものではない。各操作の結果はまとめて
示してある。パーセンテージは重量％である。カラム
（C1）、（C2）および（C3）を添付図面の構成に配置
し、反応器（R）およびこれら３つのカラムの上部には
還流ポット（RP）を取付けた。各カラムは上記の圧力お
よび温度条件で運転した。
る： 1） 第1蒸留塔（C1）は3.73×l03〜1.04×104Pa(28-78
mmHg)の圧力でl00〜115℃の底部温度で運転する。 2） 第2蒸留塔（C2）は9.33×l03〜1.07×l04Pa(70-80
mmHg)の圧力で110〜125℃の底部温度で運転する。 3） 第1蒸留塔（C1）の底部からの留分は薄膜蒸発器を
通して精製した後に、第2蒸留塔（C2）の頂部からの留
分と一緒に反応器（R）へ再循環する。 4） 精留塔（C3）は3.73×10-3〜70.7x103Pa(28-53mmH
g)の圧力で82〜94℃で運転する。 以下、本発明の実施例を説明するが、本発明が下記実施
例に限定されるものではない。各操作の結果はまとめて
示してある。パーセンテージは重量％である。カラム
（C1）、（C2）および（C3）を添付図面の構成に配置
し、反応器（R）およびこれら３つのカラムの上部には
還流ポット（RP）を取付けた。各カラムは上記の圧力お
よび温度条件で運転した。
【００２１】
【実施例】実施例1 DMAEAの合成 重合抑制剤としてのフェノチアジンと触媒としてのエチ
ルチタネートとの存在下で、DMAEとエチルアクリレート
とを連続的に反応させて下記重量％の粗反応混合物１を
た： DMAEA 50〜55% エチルアクリレート 20〜30% DMAE 15〜25% 重質反応生成物、触媒およびフェノチアジン 1.2〜2.5% テーリングカラム（C1）へは連続的に供給した。カラム
（C１）のテール留分２は薄膜蒸発器に通して精製した
後に反応器へ送られる。
ルチタネートとの存在下で、DMAEとエチルアクリレート
とを連続的に反応させて下記重量％の粗反応混合物１を
た： DMAEA 50〜55% エチルアクリレート 20〜30% DMAE 15〜25% 重質反応生成物、触媒およびフェノチアジン 1.2〜2.5% テーリングカラム（C1）へは連続的に供給した。カラム
（C１）のテール留分２は薄膜蒸発器に通して精製した
後に反応器へ送られる。
【００２２】触媒を除去した下記重量％の留分3をカラ
ム（C1）上部で回収する： DMAEA 50〜55% エチルアクリレート 20〜30% DMAE 15〜20% 重質反応生成物およびフェノチアジン 1〜5% この留分3はフェノチアジンを用いて安定化させ、トッ
ピングカラム（C2）に送る。
ム（C1）上部で回収する： DMAEA 50〜55% エチルアクリレート 20〜30% DMAE 15〜20% 重質反応生成物およびフェノチアジン 1〜5% この留分3はフェノチアジンを用いて安定化させ、トッ
ピングカラム（C2）に送る。
【００２３】このカラム（C2）からのヘッド留分４は下
記組成（重量％）を有する： DMAEA 5〜10% エチルアクリレート 40〜60% DMAE 25〜45% このヘッド留分4は反応器へ再循環される。このカラム
（C2）からのテール留分5は下記組成（重量％）を有す
る： DMAEA 99.8〜99.9％ エチルアクリレート 0〜10ppm DMAE 50〜150ppm フェノチアジン 500〜600ppm
記組成（重量％）を有する： DMAEA 5〜10% エチルアクリレート 40〜60% DMAE 25〜45% このヘッド留分4は反応器へ再循環される。このカラム
（C2）からのテール留分5は下記組成（重量％）を有す
る： DMAEA 99.8〜99.9％ エチルアクリレート 0〜10ppm DMAE 50〜150ppm フェノチアジン 500〜600ppm
【００２４】このテール留分5はカラム（C3）に送ら
れ、カラム（C3）上部(6)で下記組成（重量％）を有す
る純粋なDMAEAが得られる： DMAEA 99.8% エチルアクリレート <l0ppm DMAE 120〜150 ppm フェノチアジン <１ppm
れ、カラム（C3）上部(6)で下記組成（重量％）を有す
る純粋なDMAEAが得られる： DMAEA 99.8% エチルアクリレート <l0ppm DMAE 120〜150 ppm フェノチアジン <１ppm
【００２５】実施例2（比較例） トッピング操作で同じ操作を行った後、テーリング操作
で下記重量％を有するDMAEA生成物を得た： DMAEA 99.5% EA 500ppm DMAE 1000〜2000ppm
で下記重量％を有するDMAEA生成物を得た： DMAEA 99.5% EA 500ppm DMAE 1000〜2000ppm
【図１】 ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレ
ートの連続製造方法を示す図。
ートの連続製造方法を示す図。
１ 粗反応生成物 ２ カラム(C1)のテール留分 ３ 触媒を除去した留分 ４ カラム(C2)のヘッド留分 ５ カラム(C2)のテール留分 ６ カラム(C3)の上部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シャルル アザン フランス国 75006 パリ リュ ドゥ セーヌ 23 (72)発明者 ノルベール リシャール フランス国 46090 ル モンタ ラコス ト（番地なし)
Claims (10)
- 【請求項１】 化学式(II)の化合物： 【化１】 （ここで、 Aは直鎖または分岐鎖を有するC1-C5アルキレン基であ
り、 R2およびR3は各々C1-C4アルキル基を表し、互いに同一
でも異なっていてもよい）と、化学式(III)の化合物： 【化２】 （ここで、 R1は水素原子またはメチル基であり、 R4は1個または２個の炭素原子を有する直鎖アルキル基
である）とを、エステル交換反応触媒としてのテトラア
ルキルチタネートの存在下且つ少なくとも一つの重合抑
制剤の存在下で、撹拌反応器内で反応させ、反応中に化
合物(III)−R4OH共沸混合物を連続的に除去して、化学
式(I)： 【化３】 （ここで、A、R1、R2およびR3は上記定義のもの）で表
されるジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート
を連続的に製造する方法において、 エステル交換反応触媒をテトラブチル、テトラエチルお
よびテトラ（2-エチルヘキシル）チタネートからなる群
の中から選択し、反応を撹拌反応器内で90-120℃の温度
で行い、次いで、下記操作を行うことを特徴とする方
法： (a) 所望の重質エステル(I)と、軽質物としての化合物
(II)および未反応の軽質エステル（III）と、重質物と
しての触媒、重合抑制剤および重質反応生成物とを含む
反応粗混合物を減圧下の第1蒸留塔（C1）に送り、この
第1カラム（C1）で蒸留を行って、 1） 触媒を含まないか、ほとんど含まず、重質物を少
量成分として含む、基本的に重質エステル(I)と軽質物
とからなる留分をカラム頂部から取り、 2） 一部の重質エステル(I)および触媒を少量成分とし
て含む、基本的に重質物からなる留分をカラム底部から
取り、次いで、 (b) 第１蒸留塔（C1）の頂部からの留分を減圧下の第2
蒸留塔（C2）へ送り、そこで蒸留を行って、 1） 重質エステル(I) を少量成分として含む、軽質物
留分を頂部で取り、 2） 軽質物、重質反応生成物および痕跡量の重合抑制
剤を含む重質エステル(I)を底部から取り、 (c) 第2蒸留塔（C2）の底部からの留分を減圧下の第
3蒸留塔（C3）へ送り、そこでを精留が行って、 所望の重質エステル(I)を頂部から取り、 基本的に重合抑制剤からなる成分を底部から取る。 - 【請求項２】 反応器（R）でアルキル（メタ）アクリ
レート（III）／アミノアルコール(II)のモル比を1.1〜
3にして反応させる請求項1に記載の方法。 - 【請求項３】 触媒をアミノアルコール（II）１モル当
たりl0-4〜10-2モルの比率で用いる請求項1または２に
記載の方法。 - 【請求項４】 反応器（R）で650ミリバール〜大気圧の
圧力で反応を行う請求項1〜３のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項５】 フェノチアジン、tert−ブチルカテコー
ル、ハイドロキノンメチルエーテル、ハイドロキノンお
よびこれらの任意比率の混合物の中から選択される重合
抑制剤を反応原料に対して100-5000ppmの比率で用いる
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項６】 アミノアルコール(II)としてジメチルア
ミノエタノール、ジメチルアミノプロパノールまたはジ
エチルアミノエタノールを用いる請求項１〜５のいずれ
か一項に記載の方法。、 - 【請求項７】 第1蒸留塔（C1）を3.73×l03〜1.04×10
4Paの圧力且つl00〜115℃の底部温度で運転する請求項
１〜６のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項８】 第2蒸留塔（C2）を9.33×l03〜1.7×l04
Paの圧力且つ110〜125℃の底部温度で運転する請求項１
〜７のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項９】 第1蒸留塔（C1）の底部からの留分が薄
膜蒸発器を通して精製した後に、第2蒸留塔（C2）の頂
部からの留分と一緒に反応器（R）へ再循環する請求項
１〜８のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１０】 精留塔（C3）を3.73×10-3〜70.7×10
3Paの圧力且つ82〜94℃で運転する請求項１〜９のいず
れか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9804964 | 1998-04-21 | ||
| FR9804964A FR2777561B1 (fr) | 1998-04-21 | 1998-04-21 | Procede de fabrication en continu de (meth)acrylates de dialkylaminoalkyle |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11322680A true JPH11322680A (ja) | 1999-11-24 |
| JP3009666B2 JP3009666B2 (ja) | 2000-02-14 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11113442A Expired - Lifetime JP3009666B2 (ja) | 1998-04-21 | 1999-04-21 | ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレ―トの連続製造方法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0960877B1 (ja) |
| JP (1) | JP3009666B2 (ja) |
| KR (1) | KR19990083363A (ja) |
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| AT (1) | ATE229494T1 (ja) |
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| BR (1) | BR9901374A (ja) |
| CA (1) | CA2269305A1 (ja) |
| DE (1) | DE69904391T2 (ja) |
| ES (1) | ES2188105T3 (ja) |
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| TW (1) | TWI250140B (ja) |
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| JP2008515861A (ja) * | 2004-10-12 | 2008-05-15 | アルケマ フランス | （メタ）アクリル酸エステル又は無水物を製造する方法 |
| US7411086B2 (en) | 2003-05-28 | 2008-08-12 | Dia-Nitrix Co., Ltd. | Process for the production of n-alkylaminoalkyl (meth)acrylates |
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| JP2011157291A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Toagosei Co Ltd | アミノ基含有（メタ）アクリレートの製造方法 |
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| JP2015504084A (ja) * | 2012-01-23 | 2015-02-05 | アルケマ フランス | エステル交換による２−オクチルアクリレートの生成のための方法 |
| JP2016513132A (ja) * | 2013-03-01 | 2016-05-12 | アルケマ フランス | エステル交換による２−プロピルヘプチルアクリレートを製造するための方法 |
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| FR2811986B1 (fr) * | 2000-07-18 | 2004-02-27 | Atofina | Procede de fabrication en continu de (meth)acrylates de dialkylaminoalkyle |
| DE10127941A1 (de) | 2001-06-08 | 2002-05-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylsäureestern |
| DE10127939A1 (de) * | 2001-06-08 | 2002-05-29 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylsäureestern |
| DE10127938A1 (de) | 2001-06-08 | 2002-07-25 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylsäureestern |
| DE10323699A1 (de) * | 2003-05-22 | 2004-12-09 | Röhm GmbH & Co. KG | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkylamino(meth)acrylamiden |
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| FR2934261B1 (fr) * | 2008-07-25 | 2015-04-10 | Arkema France | Procede de synthese d'esters de l'acide acrylique |
| DE102009002239A1 (de) | 2009-04-07 | 2010-10-14 | Evonik Röhm Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Alkylamino(meth)acrylamiden |
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| RU2745788C2 (ru) | 2016-08-05 | 2021-03-31 | Басф Се | Макромономеры, содержащие полиизобутеновые группы, и их гомо- и сополимеры |
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| FR3104155B1 (fr) | 2019-12-09 | 2021-10-29 | Arkema France | Procede de fabrication en continu d’acrylates d’alkyle lourds |
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-
1998
- 1998-04-21 FR FR9804964A patent/FR2777561B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-04-08 AT AT99400855T patent/ATE229494T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1999-04-08 ES ES99400855T patent/ES2188105T3/es not_active Expired - Lifetime
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- 1999-04-21 AR ARP990101829A patent/AR018192A1/es not_active Application Discontinuation
- 1999-04-21 CN CNB991073851A patent/CN1190412C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-20 TW TW088106384A patent/TWI250140B/zh not_active IP Right Cessation
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