JPH11319465A - 過弗化化合物からｃｆ４およびｃ２ｆ６を分離する方法 - Google Patents

過弗化化合物からｃｆ４およびｃ２ｆ６を分離する方法

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JPH11319465A
JPH11319465A JP11109169A JP10916999A JPH11319465A JP H11319465 A JPH11319465 A JP H11319465A JP 11109169 A JP11109169 A JP 11109169A JP 10916999 A JP10916999 A JP 10916999A JP H11319465 A JPH11319465 A JP H11319465A
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Yao-En Li
ヤオ−エン・リ
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LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
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Air Liquide SA
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＦＣ混合物からＣＦ４および／またはＣ２
Ｆ６を分離することが出来る方法を提供すること。 【解決手段】 （ａ）（ｉ）ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少
なくとも１種、（ｉｉ）ＮＦ３、ＣＨＦ３、およびＮ２
の少なくとも１種、および（ｉｉｉ）ＳＦ６を含むガス
混合物を、 ＳＦ６、およびＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少
なくとも１種に富む残留流と、ＮＦ３、ＣＨＦ３、およ
びＮ２の少なくとも１種に富む透過流とを得るに有効な
条件で、膜と接触させる工程、および（ｂ）ＳＦ６を吸
着し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種に富む生
成流を生成するに有効な条件で、残留流を吸着剤と接触
させる工程を具備する、ガスからＣＦ４およびＣ２Ｆ６
の少なくとも１種を分離する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般にガス分離方
法に関する。本発明は、特に、膜と吸着分離技術を含む
ハイブリッドシステムにより、過弗化化合物のガス混合
物からＣＦ４およびＣ２Ｆ６を分離する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】テトラフルオロエタン（ＣＦ４）および
ヘキサフルオロエタン（Ｃ２Ｆ６）を含む様々な弗素化
炭化水素ガスが、集積回路に使用されるシリカ材料をエ
ッチングするために、半導体産業に用いられている。例
えば、ＣＦ４の主要な用途は、半導体装置の製造におけ
るプラズマエッチャントである。この用途には、高純度
のガスが必須である。エッチャントガス内の少量の不純
物さえも、これらの集積回路の製造において、欠陥率を
増加させてしまうことが見出されている。このように、
極く微量の不純物を有するエッチャントガスを製造する
ための、比較的簡単な、経済的な方法を提供するため
に、この分野における連続した努力が続けられてきた。
【０００３】そのようなエッチャントガスの１つのソー
スは、もちろん、半導体のプラズマエッチングプロセス
からの排気ガスまたはベントガスである。排気ガスは、
しばしば、Ｎ２とともに、未反応のＣＦ４および／また
はＣ２Ｆ６、およびＳＦ３、ＮＦ３、およびＣＨＦ３の
ような他の過弗化化合物を含有している。排気ガスは、
通常、プラズマエッチングプロセスから回収され、ＰＦ
Ｃ回収段階において数ｐｐｍから約９０容量％に濃縮さ
れる。この濃縮された排気ガスは、時々、ＰＦＣ混合物
またはＰＦＣスープと呼ばれている。ＰＦＣ混合物は、
通常、約９０容量％のＣＦ４および／またはＣ２Ｆ６、
および約１０容量％のＳＦ３、ＮＦ３、およびＣＨＦ３
を含有している。
【０００４】実質的に純粋なＣＦ４および／またはＣ２
Ｆ６を得るためにＰＦＣ混合物を精製する１つの方法
は、極低温蒸留である。しかし、そのようなプロセスに
は、幾つかの欠点がある。極低温蒸留は、しばしば、特
別の装置を必要とし、高い設備コストがかかる。加え
て、ＰＦＣ混合物は、それらのガス成分自身の物理特性
のため、例えばＣＦ４とＮＦ３、およびＣ２Ｆ６とＣＨ
Ｆ３は、相互に共沸混合物を形成するので、極低温蒸留
による分離は困難である。
【０００５】Ｃ２Ｆ６からクロロトリフルオロメタン
（ＣＣｌＦ３）および／またはフルオロホルム（ＣＨＦ
３）を除去するために、活性炭またはゼオライトを用い
ることもまた、公知である。例えば、米国特許第５，５
２３，４９９号を参照のこと。しかし、この吸着プロセ
スは、ＰＦＣスープのようなガス混合物からＮ２、ＳＦ
６、および／またはＮＦ３を除去出来るとは言われてい
ない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ＰＦＣ混合物からＣＦ４および／またはＣ２Ｆ６を
分離することが出来る方法を提供することにある。
【０００７】本発明の他の目的は、以下の明細書の記
載、特許請求の範囲、および添付図面から明らかとなる
であろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガスから、Ｃ
Ｆ４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種を分離する方法に
関する。この方法は、（ａ）（ｉ）ＣＦ４およびＣ２Ｆ
６の少なくとも１種、（ｉｉ）ＮＦ３、ＣＨＦ３、およ
びＮ２の少なくとも１種、および（ｉｉｉ）ＳＦ６を含
むガス混合物を、 ＳＦ６、およびＣＦ４およびＣ２Ｆ
６の少なくとも１種に富む残留流と、ＮＦ３、ＣＨ
Ｆ３、およびＮ２の少なくとも１種に富む透過流とを得
るに有効な条件で、膜と接触させる工程、および（ｂ）
ＳＦ６を吸着し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１
種に富む生成流を生成するに有効な条件で、残留流を吸
着剤と接触させる工程を具備する。
【０００９】好ましい態様では、本発明は、ガスから、
ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の双方を分離する方法に関する。
この方法は、（ａ）（ｉ）ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、ＮＦ３、
ＣＨＦ３、Ｎ２およびＳＦ６を含むガス混合物を、ＳＦ
６、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む残留流と、ＮＦ３、Ｃ
ＨＦ ３、およびＮ２に富む透過流とを得るに有効な条件
で、膜と接触させる工程、および（ｂ）ＳＦ６を吸着
し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む生成流を生成するに有
効な条件で、残留流を吸着剤と接触させる工程を具備す
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、ガス混合物から、ＣＦ
４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種を分離する方法を提
供する。ガス混合物は、好ましくは、（ｉ）ＣＦ４およ
びＣ２Ｆ６の少なくとも１種、（ｉｉ）ＮＦ３、ＣＨＦ
３およびＮ２の少なくとも１種、および（ｉｉｉ）ＳＦ
６を含む。より好ましくは、ガス混合物は、ＣＦ４、Ｃ
２Ｆ６、ＮＦ３、ＣＨＦ３、Ｎ２およびＳＦ６を含む、
半導体製造プロセスからの排気ガスまたはベントガスで
ある。排気ガスは、好ましくは、初期の回収または濃縮
工程を受けたものである。
【００１１】分離されるべきガス混合物は、好ましく
は、約１０ないし約９５容量％の、ＣＦ４およびＣ２Ｆ
６の少なくとも１種を含む。ガス混合物の残部は、好ま
しくは、ＮＦ３、ＣＨＦ３およびＮ２の少なくとも１種
を含む。
【００１２】本発明の方法は、ガス混合物を、ＳＦ６、
およびＣＦ４並びにＣ２Ｆ６の少なくとも１種に富む残
留流と、ＮＦ３、ＣＨＦ３、およびＮ２の少なくとも１
種に富む透過流とを得るに有効な条件で、膜と接触させ
る工程、およびＳＦ６を吸着し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６
の少なくとも１種に富む生成流を生成するに有効な条件
で、残留流を吸着剤と接触させる工程を具備する。
【００１３】本明細書で用いている「富む」なる語は、
その流れ中の特定の成分の濃度が、その工程への原料流
中の同じ成分の濃度よりも高いことを意味する。同様
に、「乏しい」なる語は、その流れ中の特定の成分の濃
度が、その工程への原料流中の同じ成分の濃度よりも低
いことを意味する。
【００１４】本発明の方法に使用されるに適切な膜は、
好ましくはポリイミド；ポリアミド；ポリアミド−イミ
ド；ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホン；
ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；アルキル
置換芳香族ポリエステル；ポリエーテルスルホン、芳香
族ポリイミド、芳香族ポリアミド、ポリアミド−イミ
ド、弗素化芳香族ポリイミド、ポリアミド、およびポリ
アミド−イミドのブレンドからなるポリマー膜のような
ガラス質膜、その内容が本明細書の一部をなす、１９９
４年５月２０日に出願された米国特許出願０８／２４
７，１２５に開示されているようなガラス質ポリマー
膜、セルロースアセテート；およびそのブレンド、その
コポリマー、その置換ポリマー（例えばアルキル、アリ
ル）等からなる膜を含む。
【００１５】本発明の方法に使用されるに適切な他の膜
は、非対称膜を含む。非対称膜は、溶媒可溶性の非溶媒
中におけるポリマー溶液の析出により製造される。その
ような膜は、傾斜した気孔率の異方性基板上に支持され
た緻密な分離層により代表され、一般に１工程で製造さ
れる。そのような膜およびその製造方法の例は、米国特
許第４，１１３，６２８号、第４，３７８，３２４号、
第４，４６０，５２６号、第４，４７４，６６２号、第
４，４８５，０５６号、第４，５１２，８９３号、第
５，０８５，６７６号、および第４，７１７，３９４号
に開示されており、これらはすべて本明細書の一部をな
す。米国特許第４，７１７，３９４号および第５，０８
５，６７６号は、選択されたポリイミドからの非対称分
離膜の製造を開示している。特に好ましい膜は、米国特
許第５，０８５，６７６号に開示されているような、ポ
リイミド非対称ガス分離膜である。
【００１６】本発明の方法に使用されるに適切な更に他
の膜は、複合ガス分離膜である。これらの膜は、典型的
には、予め形成された微細気孔質の基板上に緻密な分離
層を有する。分離層および基板は、通常、組成が異なっ
ている。複合ガス分離膜は、異方性の微細気孔質の基板
上に、極めて薄い緻密な分離層を有する構造に発展し
た。これらの複合ガス分離膜は、予め形成された異方性
支持膜の頂部上に、予め形成された極めて薄い緻密な分
離層をラミネートすることにより製造することが出来
る。
【００１７】そのような膜およびその製造方法の例は、
米国特許第４，６６４，６６９号、第４，６８９，２６
７号、第４、７４１、８２９号、第２，９４７，６８７
号、第２，９５３，５０２号、第３，６１６，６０７
号、第４、７１４、４８１号、第４，６０２，９２２
号、第２，９７０，１０６号、第２，９６０，４６２
号、第４，７１３，２９２号、第４，０８６，３１０
号、第４，１３２，８２４号、第４，１９２，８２４
号、第４，１５５，７９３号、および第４，１５６，５
９７号に開示されており、これらはすべて本明細書の一
部をなす。
【００１８】或いは、複合ガス分離膜は、最初に異方性
気孔質基板が形成され、次いで、この基板を膜形成溶液
と接触させる、多工程製造プロセスにより製造され得
る。そのような方法の例は、米国特許第４，８２６，５
９９号、第３，６４８，８４５号、および第３，５０
８，９９４号に開示されており、これらはすべて本明細
書の一部をなす。
【００１９】米国特許第４，７５６，９３２号は、多層
ポリマー溶液層の共押し出し、および溶媒可溶性非溶媒
中の析出により、どのように複合中空繊維膜が製造され
得るかを開示している。
【００２０】本発明に用いられる膜は、ガス混合物中の
有害成分を取り除く能力を増加させるために、弗素化さ
れた、または過弗素化されたポリマー層で後処理される
か、または該ポリマー層により被覆されるか、または該
ポリマー層とともに共押し出しされ得る。なお、膜とＰ
ＦＣとの低レベルの、または一時的な接触で、ガス混合
物からＰＦＣが分離される。
【００２１】接触工程中のガス混合物および／または膜
の温度は、約−１０℃から約１００℃の間を変化する。
好ましくは、温度は、約１０℃〜約８０℃である。より
好ましくは、温度は、常温、即ち約２０℃〜２５℃と、
約６０℃の間である。
【００２２】本発明によると、約２，０００ｐｓｉｇ未
満の、膜を横切る圧力損失を有するのが好ましい。より
好ましくは、圧力損失は、約３〜約２００ｐｓｉｇであ
る。更により好ましくは、圧力損失は、約２０〜約６０
ｐｓｉｇである。
【００２３】膜を横切る、必要な圧力損失は、２つの方
法のうちの１つで得ることが出来る。第１に、原料ガス
流を圧縮する。好ましいコンプレッサーは、米国オハイ
オ州のパワレックス・ハリソン（Ｐｏｗｅｒｅｘ Ｈａ
ｒｒｉｓｏｎ）社から、商品名ＰＯＷＥＲＥＸで市販さ
れている、封止された、オイルフリーのものである。第
２に、より好ましくは、膜を横切る圧力損失は、膜の透
過側の圧力を下げることにより形成し得る。透過側に低
圧を作り出すためには、真空ポンプまたは他の吸引装置
を用いることが出来る。
【００２４】膜を横切るガス混合物の流量は、分離に用
いられる膜の単位平方メートル当たり、０〜１０５Ｎｍ
３／ｈとすることが出来る。好ましくは、その流量は、
約１０−４〜約１０Ｎｍ３／ｈ−ｍ２であり、より好ま
しくは、その流量は、約０．０１〜０．５Ｎｍ３／ｈ−
ｍ２である。
【００２５】膜分離工程は、好ましくは、約６０〜約９
９％のＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種と、約
０．５〜約４％のＳＦ６を含む、残留流を与える。この
残留流は、微量のＮＦ３およびＣＨＦ３を含み得る。こ
の微量の不純物は、その後の吸着ユニットにおいて除去
され得る。膜分離工程はまた、好ましくは、約１０〜約
６０容量％のＮＦ３、ＣＨＦ３およびＮ２の少なくとも
１種を含む透過流を生成する。
【００２６】本発明の方法における吸着工程は、圧力揺
動吸着（ＰＳＡ）または熱揺動吸着（ＴＳＡ）のいずれ
かにより行うことが出来る。両方の吸着技術は、周知で
ある。この工程は、充填床、移動床、または流動床にお
いて実施することが出来る。
【００２７】吸着工程は、５０〜１．５バール、好まし
くは２０〜３バールの圧力下で実施することが出来る。
経済的見地からは、吸着圧力は、多くの場合、膜残留流
の圧力により示される。この工程を実施する温度は、３
０℃〜１００℃を変化し得る。単位吸着剤量当たりの流
量（即ち、空筒速度）は、２０分−１〜０．１分−１、
好ましくは１０分−１〜１分−１を変化し得る。
【００２８】ＣＦ４およびＣ２Ｆ６を含むガス流からＳ
Ｆ６を選択的に吸着することが出来る限り、どのような
吸着剤も、本発明の方法に使用することが出来る。適切
な吸着剤としては、ゼオライト、活性炭、カーボンモレ
キュラーシーブズ、およびポリマー吸着樹脂がある。
【００２９】好ましくは、本発明において使用されるゼ
オライトは、１：１〜１００：１、より好ましくは１：
１〜１：５０のシリカとアルミナのモル比を有する。よ
り好ましくは、ゼオライトは、Ｘ型ゼオライトである。
使用前に、ゼオライトは、Ｃａ，Ｎａ，Ｌｉ，Ｌｉ／Ｚ
ｎ，Ｂｅ，Ｍｇ，又はＦｅによりイオン交換されるべき
である。イオン交換されたゼオライトとしては、ＮａＸ
ゼオライト、ＣａＸゼオライト、およびＬｉＸゼオライ
トがある。
【００３０】カルゴン（Ｃａｌｇｏｎ）社製のＢＰＬ，
Ｆ−３００，Ｆ−４００およびＰＣＢ、ユニオンカーバ
イド社製のＢＡＣ、およびノリット（Ｎｏｒｉｔ）社製
のＲＢ２を含む、様々な市販されている活性炭を用いる
ことが出来る。これらの中では、カルゴン（Ｃａｌｇｏ
ｎ）社製のＰＣＢが好ましい。
【００３１】同様に、様々な市販されているポリマー吸
着剤樹脂を本発明に用いることが出来る。本発明に対し
適切なポリマー吸着剤樹脂の例は、ダウケミカル社から
市販されているＤＯＷＲＥＸである。
【００３２】もちろん、使用される吸着剤の量は、分離
される不純物の量、および生成ガスの所望の純度に応じ
て変化する。そのようなものの決定は、当業者の範囲内
である。
【００３３】使用の後、吸着剤は、 ＳＦ６をような不
純物の脱着により再生される。吸着剤に吸着された不純
物を脱着するための様々な方法がこの分野で知られてい
る。一般に、脱着は、吸着された成分を除去する上で有
効な熱力学変数を変えることにより行うことが出来る。
例えば、脱着は、熱スイングサイクル、圧力スイングサ
イクル、または真空サイクルを用いて実施することが出
来る。なお、これらはすべて公知である。或いは、吸着
された成分は、ストリッピングガスまたは液を用いて除
去することが出来る。ストリッピング材は、プロセスへ
の原料材、またはＮ２、Ｈｅ、Ａｒ、またはスチームの
ような他の材料の何れかとすることが出来る。
【００３４】再生工程を実施する条件、およびもし採用
するのであればストリッピング材の量は、当業者により
容易に決定することが出来る。
【００３５】ガス混合物からのＣＦ４および／またはＣ
２Ｆ６の回収は、分離段数を増加させること、または１
つ若しくはそれ以上のフィードバック（リサイクル）ル
ープを加えることのいずれかにより、増加させることが
出来る。そのような変形は、本発明の範囲内である。
【００３６】更に、本発明の方法は、高純度のＣＦ４お
よび／またはＣ２Ｆ６を生成するために、極低温蒸留塔
との組合せで用いることが出来る。それは、典型的なＰ
ＦＣ回収ユニットを備えた半導体製造施設内に設置する
ことも可能である。これにより、外部における精製のた
めの輸送容積を減少させることが出来る。
【００３７】図１は、本発明の好ましい方法を示すフロ
ーダイヤグラムである。ＣＦ４、Ｃ ２Ｆ６、ＮＦ３、Ｃ
ＨＦ３、Ｎ２、およびＳＦ６を含む原料ガス流１は、膜
分離ユニット１０に導入される。原料ガス流１は、ＳＦ
６、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む残留流２と、ＮＦ３、
ＣＨＦ３およびＮ２に富む透過流３を得るために効果的
な条件で、膜と接触させられる。残留流２は、次いで、
吸着ユニット２０を通過し、そこでＳＦ６および任意の
残留ＮＦ３およびＣＨＦ３が吸着される。吸着ユニット
２０は、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む流れ４を生成す
る。
【００３８】以上、本発明の好ましい態様について説明
したが、更に変形例、修正例が可能であることが当業者
に明らかであることを理解すべきである。そのような変
形例および修正例は、特許請求の範囲に含まれるものと
考えるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による方法のフローダイヤグラム線図。
【符号の説明】
１…原料ガス流 ２…残留流 ３…透過流 ４…ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む流れ １０…膜分離ユニット ２０…吸着ユニット

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）（ｉ）ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少な
    くとも１種、（ｉｉ）ＮＦ３、ＣＨＦ３、およびＮ２の
    少なくとも１種、および（ｉｉｉ）ＳＦ６を含むガス混
    合物を、 ＳＦ６、およびＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少な
    くとも１種に富む残留流と、ＮＦ３、ＣＨＦ３、および
    Ｎ２の少なくとも１種に富む透過流とを得るに有効な条
    件で、膜と接触させる工程、および（ｂ）ＳＦ６を吸着
    し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種に富む生成
    流を生成するに有効な条件で、残留流を吸着剤と接触さ
    せる工程を具備することを特徴とする、ガスからＣＦ４
    およびＣ２Ｆ６の少なくとも１種を分離する方法。
  2. 【請求項２】前記ガス混合物は、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６
    の双方を含み、前記残留流および前記生成流は、ＣＦ４
    およびＣ２Ｆ６の双方に富むことを特徴とする請求項１
    に記載の方法。
  3. 【請求項３】前記ガス混合物は、ＮＦ３、ＣＨＦ３、お
    よびＮ２を含み、前記透過流は、ＮＦ３、ＣＨＦ３、お
    よびＮ２に富むことを特徴とする請求項１に記載の方
    法。
  4. 【請求項４】前記工程（ａ）における条件は、約１０℃
    〜約８０℃の温度、約３〜約２００ｐｓｉｇの圧力損
    失、および約１０−４〜約１０Ｎｍ３／ｈ−ｍ２の流量
    であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  5. 【請求項５】前記吸着剤は、ゼオライト、活性炭、また
    はポリマー吸着樹脂であることを特徴とする請求項１に
    記載の方法。
  6. 【請求項６】前記膜は、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
    アミド−イミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポ
    リスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケト
    ン、アルキル置換芳香族ポリエステル、およびポリエー
    テルスルホン、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド、
    ポリアミド−イミド、弗素化芳香族ポリイミド、ポリア
    ミド、およびポリアミド−イミドのブレンドからなる群
    から選ばれたものであることを特徴とする請求項１に記
    載の方法。
  7. 【請求項７】（ａ）（ｉ）ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、ＮＦ３、
    ＣＨＦ３、Ｎ２およびＳＦ６を含むガス混合物を、ＳＦ
    ６、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む残留流と、ＮＦ３、Ｃ
    ＨＦ ３、およびＮ２に富む透過流とを得るに有効な条件
    で、膜と接触させる工程、および（ｂ）ＳＦ６を吸着
    し、ＣＦ４およびＣ２Ｆ６に富む生成流を生成するに有
    効な条件で、残留流を吸着剤と接触させる工程を具備す
    ることを特徴とする、ガスからＣＦ４およびＣ２Ｆ６を
    分離する方法。
  8. 【請求項８】前記工程（ａ）における条件は、約１０℃
    〜約８０℃の温度、約３〜約２００ｐｓｉｇの圧力損
    失、および約１０−４〜約１０Ｎｍ３／ｈ−ｍ２の流量
    であることを特徴とする請求項７に記載の方法。
  9. 【請求項９】前記吸着剤は、ゼオライト、活性炭、また
    はポリマー吸着樹脂であることを特徴とする請求項７に
    記載の方法。
  10. 【請求項１０】前記膜は、ポリイミド、ポリアミド、ポ
    リアミド−イミド、ポリエステル、ポリカーボネート、
    ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
    トン、アルキル置換芳香族ポリエステル、およびポリエ
    ーテルスルホン、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミ
    ド、ポリアミド−イミド、弗素化芳香族ポリイミド、ポ
    リアミド、およびポリアミド−イミドのブレンドからな
    る群から選ばれたものであることを特徴とする請求項７
    に記載の方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005046746A (ja) * 2003-07-29 2005-02-24 Japan Organo Co Ltd ガス分離装置
JP6120236B1 (ja) * 2015-12-30 2017-04-26 サンミュン ユニバーシティ ソウル インダストリー アカデミー コーポレーション ファウンデーション 硝酸塩を含むｓｆ６分離用高分子電解質分離膜

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6458249B2 (en) * 1997-11-10 2002-10-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for purifying perfluorinated products
DE19923155A1 (de) * 1999-05-20 2000-11-23 Solvay Fluor & Derivate SF¶6¶-Abtrennung aus Isoliergasen aus gasisolierten Leitungen
JP2002035527A (ja) * 2000-07-26 2002-02-05 Japan Atom Energy Res Inst ガス分離装置
JP2002035528A (ja) * 2000-07-26 2002-02-05 Japan Atom Energy Res Inst ガス分離装置
JP2002147948A (ja) * 2000-11-10 2002-05-22 Japan Organo Co Ltd ガス分離装置及びガス分離方法
DE60205083T2 (de) * 2001-01-15 2006-06-01 Showa Denko K.K. Verfahren zur herstellung von octafluoropropan
US6544319B1 (en) * 2002-01-16 2003-04-08 Air Products And Chemicals, Inc. Purification of hexafluoro-1,3-butadiene
DE10233898A1 (de) * 2002-07-25 2004-02-12 Solvay Fluor Und Derivate Gmbh Verfahren zur Auftrennung von Gasgemischen
US6669760B1 (en) 2003-04-08 2003-12-30 Air Products And Chemicals, Inc. Separation of C2F6 from CF4 by adsorption on activated carbon
US20050096490A1 (en) * 2003-10-29 2005-05-05 Henderson Philip B. Purification of perfluoromethane
WO2006006791A1 (en) * 2004-07-08 2006-01-19 Hyosung Corporation Process for refining nitrogen trifluoride gas using alkali earth metal exchanged zeolite
KR100577952B1 (ko) * 2004-07-08 2006-05-10 주식회사 효성 알칼리 토금속으로 이온교환 및 함침된 제올라이트 4ａ를 이용한 삼불화질소 가스의 정제방법
KR100577962B1 (ko) * 2004-07-08 2006-05-10 주식회사 효성 알칼리 토금속으로 이온교환 및/또는 함침된 제올라이트ａ의 혼합물을 이용한 삼불화질소 가스의 정제방법
EP1778387B1 (en) * 2004-07-08 2012-09-12 Hyosung Corporation Process for refining nitrogen trifluoride gas using alkali earth metal exchanged and impregnated zeolite
CN101203294B (zh) * 2005-06-24 2011-03-23 大阳日酸株式会社 气体净化装置及气体净化方法
KR100719371B1 (ko) * 2005-08-03 2007-05-17 삼성전자주식회사 퍼플루오르화 화합물을 재생하는 흡착 설비 및 방법
RU2505345C2 (ru) * 2008-07-04 2014-01-27 Дзе Саут Эфрикен Нюклеа Энерджи Корпорейшн Лимитед Способ выделения газообразного компонента из смеси газообразных соединений
US9216364B2 (en) * 2013-03-15 2015-12-22 Air Products And Chemicals, Inc. Onsite ultra high purity chemicals or gas purification
CN105327676A (zh) * 2014-08-11 2016-02-17 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 一种改性的吸附剂及其在超高纯六氟乙烷制备中的应用
CN105363407B (zh) * 2014-08-11 2018-02-02 浙江蓝天环保高科技股份有限公司 一种改性的吸附剂及其在超高纯一氟甲烷制备中的应用
CN104150449B (zh) * 2014-08-18 2016-03-30 国家电网公司 混合绝缘气体中sf6和cf4的净化处理方法
KR101676099B1 (ko) * 2014-09-24 2016-11-15 오씨아이 주식회사 Nf3 가스 분리농축 방법, 장치 및 시스템
CN110526834B (zh) * 2019-09-20 2022-05-20 泉州宇极新材料科技有限公司 一种制备高纯度全氟异丁腈的方法
CN114288812A (zh) * 2021-11-30 2022-04-08 浙江大学 一种分离含氟电子特气的方法

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2947687A (en) 1954-10-29 1960-08-02 American Oil Co Separation of hydrocarbons by permeation membrane
US2953502A (en) 1955-05-24 1960-09-20 American Oil Co Separation of azeotropic mixtures
US2960462A (en) 1957-09-30 1960-11-15 American Oil Co Dual film combinations for membrane permeation
US2970106A (en) 1958-01-31 1961-01-31 American Oil Co Aromatic separation process
US3508994A (en) 1966-07-07 1970-04-28 Dorr Oliver Inc Method for producing membrane separation devices
US3648845A (en) 1969-09-02 1972-03-14 Us Interior Thin film separation membranes and processes for making same
US3675392A (en) * 1970-01-30 1972-07-11 Ite Imperial Corp Adsorption-desorption method for purifying sf{11
US3616607A (en) 1970-04-06 1971-11-02 Northern Natural Gas Co Separation of nitrogen and methane containing gas mixtures
DE2248818C2 (de) 1972-10-05 1981-10-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Dünne porenfreie Polycarbonatfolien und -filme
US4113628A (en) 1974-06-05 1978-09-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Asymmetric polyimide membranes
US4192824A (en) 1976-09-23 1980-03-11 Coal Industry (Patents) Limited Aromatic hydrocarbon resins
US4132824A (en) 1977-07-21 1979-01-02 General Electric Company Method for casting ultrathin methylpentene polymer membranes
US4156597A (en) 1977-09-23 1979-05-29 General Electric Company Ultrathin polyetherimide membrane and gas separation process
US4155793A (en) 1977-11-21 1979-05-22 General Electric Company Continuous preparation of ultrathin polymeric membrane laminates
DE3062739D1 (en) 1979-07-26 1983-05-19 Ube Industries Process for preparing aromatic polyimide semipermeable membranes
JPS57167414A (en) 1981-04-03 1982-10-15 Ube Ind Ltd Production of polyimide hollow fiber
JPS57170936A (en) 1981-04-14 1982-10-21 Ube Ind Ltd Preparation of porous polyimide film
GB2101137B (en) 1981-04-14 1984-09-26 Ube Industries Producing porous aromatic imide polymer membranes
JPS57209607A (en) 1981-06-22 1982-12-23 Ube Ind Ltd Preparation of polyimide separation film
JPS5895541A (ja) 1981-11-30 1983-06-07 Mitsubishi Chem Ind Ltd 気体分離膜
JPS59160506A (ja) 1983-02-28 1984-09-11 Kuraray Co Ltd 複合中空糸分離膜およびその製造法
JPS6135803A (ja) 1984-07-26 1986-02-20 Shin Etsu Chem Co Ltd 複合中空糸
US4602922A (en) 1984-11-09 1986-07-29 Research Foundation Of State University Of New York Method of making membranes for gas separation and the composite membranes
DE3579820D1 (de) 1985-06-27 1990-10-25 Mitsubishi Rayon Co Komposit-hohlgarn und dessen herstellung.
JPS621404A (ja) 1985-06-27 1987-01-07 Mitsubishi Rayon Co Ltd 多層複合中空繊維状膜及びその製造法
US4717394A (en) 1986-10-27 1988-01-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyimide gas separation membranes
US4701187A (en) 1986-11-03 1987-10-20 Air Products And Chemicals, Inc. Process for separating components of a gas stream
US4756932A (en) 1987-06-11 1988-07-12 Air Products And Chemicals, Inc. Process for making highly permeable coated composite hollow fiber membranes
US4826599A (en) 1987-07-10 1989-05-02 Union Carbide Corporation Composite membranes and their manufacture and use
JP2745768B2 (ja) 1990-03-31 1998-04-28 宇部興産株式会社 非対称性分離膜及び浸透気化分離法
US5085676A (en) 1990-12-04 1992-02-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Novel multicomponent fluid separation membranes
JP2874741B2 (ja) 1993-03-02 1999-03-24 宇部興産株式会社 非対称性中空糸ポリイミド気体分離膜
US5332424A (en) * 1993-07-28 1994-07-26 Air Products And Chemicals, Inc. Hydrocarbon fractionation by adsorbent membranes
US5417742A (en) * 1993-12-03 1995-05-23 The Boc Group, Inc. Removal of perfluorocarbons from gas streams
US5785741A (en) * 1995-07-17 1998-07-28 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges, Claude Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases
US5858065A (en) * 1995-07-17 1999-01-12 American Air Liquide Process and system for separation and recovery of perfluorocompound gases
US5759237A (en) * 1996-06-14 1998-06-02 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et, L'exploitation Des Procedes Georges Claude Process and system for selective abatement of reactive gases and recovery of perfluorocompound gases
US5730779A (en) 1996-10-31 1998-03-24 Air Products And Chemicals, Inc. Fluorochemical recovery and recycle using membranes
US5720797A (en) * 1996-12-18 1998-02-24 Alliedsignal Inc. Process for recovering sulfur hexafluoride
US5814127A (en) * 1996-12-23 1998-09-29 American Air Liquide Inc. Process for recovering CF4 and C2 F6 from a gas
US5779763A (en) * 1997-03-07 1998-07-14 Membrane Technology And Research, Inc. Process for recovering semiconductor industry cleaning compounds
US5855647A (en) * 1997-05-15 1999-01-05 American Air Liquide, Inc. Process for recovering SF6 from a gas
US5843208A (en) * 1997-07-24 1998-12-01 Alliedsignal Inc. Process for recovering sulfur hexafluoride

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005046746A (ja) * 2003-07-29 2005-02-24 Japan Organo Co Ltd ガス分離装置
JP6120236B1 (ja) * 2015-12-30 2017-04-26 サンミュン ユニバーシティ ソウル インダストリー アカデミー コーポレーション ファウンデーション 硝酸塩を含むｓｆ６分離用高分子電解質分離膜
JP2017119264A (ja) * 2015-12-30 2017-07-06 サンミュン ユニバーシティ ソウル インダストリー アカデミー コーポレーション ファウンデーション 硝酸塩を含むｓｆ６分離用高分子電解質分離膜

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TW409066B (en) 2000-10-21
EP0950430A1 (en) 1999-10-20

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