JPH11243327A - パルスデューティ補正回路 - Google Patents

パルスデューティ補正回路

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JPH11243327A
JPH11243327A JP10060492A JP6049298A JPH11243327A JP H11243327 A JPH11243327 A JP H11243327A JP 10060492 A JP10060492 A JP 10060492A JP 6049298 A JP6049298 A JP 6049298A JP H11243327 A JPH11243327 A JP H11243327A
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JP
Japan
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circuit
pulse duty
pulse
output signal
signal
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JP10060492A
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Masaaki Okawa
正明 大河
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パルスデューティの補正を可能にし、PLL
回路での高周波数までの発生を可能にしたパルスデュー
ティを補正回路を提供する。 【解決手段】 パルス信号を受けるインバータ回路の出
力信号の立ち上がり時間と立ち下がり時間を制御するた
めの電流制御回路又は上記インバータ回路の出力信号を
波形整形する波形整形バッファのロジックスレッショル
ド電圧を波形整形された出力信号のパルスデューティを
検出するパルスデューティ検出回路で制御して、その出
力信号を所望のパルスデューティとなるように調整す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、パルスデューテ
ィ補正回路に関し、主として半導体集積回路に内蔵され
たPLL(phase locked loop)回路を用いてクロック信
号を形成するものに利用して有効な技術に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】PLL回路は、例えば特開平5−284
014号公報、特開平5−315948号公報に開示さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】データをクロック信号
の立ち上がりエッジで取り込むポジティブエッジ型フリ
ップフロップ回路と、クロック信号の立ち下がりエッジ
で取り込むネガティブエッジ型フリップフロップ回路
を、データパス中に混在させて使用した場合、各フリッ
プフロップ回路間の出力からその取り込みまでのデータ
転送タイミングは、上記クロック信号のパルスデューテ
ィに対応して異なることになってしまう。つまり、パル
スデューティが大きいと、立ち上がりエッジから立ち下
がりエッジまでの時間が長くなって、その間でのデータ
転送タイミングには余裕が生じるが、立ち下がりエッジ
から立ち上がりエッジまでの時間は逆に短くなってしま
い、その間でのデータ転送タイミングには余裕がなくな
ってしまう。
【0004】したがって、上記短い方のデータ転送タイ
ミングに合わせて転送経路を設計する必要があり動作周
波数を低くしてしまう。例えば、PLL回路で上記クロ
ック信号を形成する場合、PLL回路の電圧制御型発振
回路の出力を1/2分周回路で分周して、上記クロック
信号のパルスデューティが50%になるようにするもの
である。しかし、このようにすると、必要なクロック信
号の周波数に対してPLL回路の電圧制御発振回路で
は、2倍の周波数での発振動作を行わせる必要があり、
その分消費電流を増大させてしまう。また、上記のよう
に分周回路を用いた場合には、MOS回路の上限周波数
に対して半分の周波数でしかクロック信号を形成するこ
とができず、その結果としてMOS集積回路等の高速化
を妨げるものとなる。
【0005】この発明の目的は、パルスデューティの補
正を可能にしたパルスデューティ補正回路を提供するこ
とにある。この発明の他の目的は、PLL回路での高周
波数までの発生を可能にするパルスデューティを補正回
路を提供することにある。この発明の前記ならびにその
ほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付
図面から明らかになるであろう。
【0006】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。パルス信号を受けるインバータ回路の
出力信号の立ち上がり時間と立ち下がり時間を制御する
ための電流制御回路又は上記インバータ回路の出力信号
を波形整形する波形整形バッファのロジックスレッショ
ルド電圧を波形整形された出力信号のパルスデューティ
を検出するパルスデューティ検出回路で制御して、その
出力信号を所望のパルスデューティとなるように調整す
る。
【0007】
【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用された
クロック発生回路の一実施例のブロック図が示されてい
る。特に制限されないが、基準となる外部クロック信号
CKINは、外部端子P1を介して半導体集積回路装置
LSI1に取り込まれる。この外部端子P1から入力さ
れたクロック信号は、入力バッファB1を介して位相比
較回路1の一方の入力に供給される。この位相比較回路
1の出力信号は、チャージポンプ回路2に伝えられ、こ
こで上記量信号の位相差(周波数差)に対応してチャー
ジアップ又はディスチャージ電流が形成される。このチ
ャージポンプ回路2で形成された電流は、フィルタ容量
Cをチャージアップ又はディスチャージさせて直流制御
電圧VFに変換される。この制御電圧VFは、電圧制御
発振回路(VCO)3の制御端子に入力される。
【0008】上記電圧制御発振回路3の発振パルスは、
デューティ補正回路4を通して出力される。デューティ
補正回路4は、デューティ検出回路5により形成された
検出信号により上記電圧制御発振回路3の出力パルス信
号のパルスデューティの補正を行い、例えばパルスデュ
ーティが50%になるようなパルス幅の調整行う。上記
デューティ補正回路4で形成された出力パルス信号は、
クロック分配器6に伝えられ、かかるクロック分配器6
から図示しない内部回路にfvのような周波数のクロッ
ク信号を分配させる。
【0009】上記クロック分配器5の1つの出力信号
は、特に制限されないが、分周回路6により分周され
て、上記位相比較回路1の他方の入力に帰還される。こ
れにより、内部クロック信号CKは、上記外部から供給
されたクロック信号CKINに対してN倍の周波数fv
にされる。
【0010】この実施例では、上記のように電圧制御発
振回路3の発振信号に対してデューティ補正を行って、
例えば50%に補正することにより、クロック分配回路
6を通して出力されるクロック信号CKの周波数fv
を、上記発振周波数に等しい高い周波数に設定すること
が可能となる。つまり、上記電圧制御発振回路3での消
費電流を低減しつつ、MOS回路での上限周波数に対応
した高い周波数のクロック信号CKを発生させることが
可能になるものである。
【0011】図2には、上記電圧制御発振回路の一実施
例の回路図が示されている。この実施例では、リングオ
シレータにより構成される。つまり、Pチャンネル型M
OSFETQ7とNチャンネル型MOSFETQ8から
なるCMOSインバータ回路を奇数段(同図では3段)
リング状に縦列接続してリングオシレータを構成する。
このリングオシレータの発振周波数、言い換えるなら
ば、各CMOSインバータ回路での信号伝播遅延時間を
制御電圧VFにより調整するため、上記Pチャンネル型
MOSFETQ7には、電流源として動作するPチャン
ネル型MOSFETQ5が直列に接続され、Nチャンネ
ル型MOSFETQ8には、電流源として動作するNチ
ャンネル型MOSFETQ6が直列に接続される。
【0012】同図において残り2つのCMOSインバー
タ回路に対しても上記同様な電流源MOSFETが接続
される。制御電圧VFは、Nチャンネル型MOSFET
Q1のゲートに印加される。このMOSFETQ1のソ
ースは回路の接地電位に接続され、上記制御電圧VFが
ゲート,ソース間に印加されて、それに対応したドレイ
ン電流を形成する。上記MOSFETQ1のドレインと
電源電圧との間には、ダイオード形態にされたPチャン
ネル型MOSFETQ2が設けられる。このPチャンネ
ル型MOSFETQ2のゲートと上記電流源MOSFE
TQ5のゲートとを接続して電流ミラー形態とする。つ
まり、上記MOSFETQ2のゲート,ソース間電圧を
上記MOSFETQ5のゲート,ソース間に印加するこ
とにより、上記MOSFETQ2に流れる電流と等しい
電流を上記MOSFETQ5に流すようにするものであ
る。ただし、MOSFETQ2とQ5のサイズ(W/
L)は等しいものとする。
【0013】上記Pチャンネル型MOSFETQ2に
は、それ電流ミラー形態に接続されたPチャンネル型M
OSFETQ3を接続し、上記同様にMOSFETQ2
の同じ電流をMOSFETQ3に流すようにし、そのド
レインと回路の接地電位との間には、ダイオード接続の
Nチャンネル型MOSFETQ4を接続する。このNチ
ャンネル型MOSFETQ4のゲートと上記電流源MO
SFETQ6のゲートとを接続して電流ミラー形態とす
る。つまり、上記MOSFETQ4のゲート,ソース間
電圧を上記MOSFETQ6のゲート,ソース間に印加
することにより、上記MOSFETQ4に流れる電流と
等しい電流を上記MOSFETQ6に流すようにするも
のである。ただし、MOSFETQ4とQ6のサイズ
(W/L)は等しいものとする。
【0014】この結果、制御電圧VFを高くすると、そ
れに対応してMOSFETQ1のドレイン電流が増大す
る。したがって、上記MOSFETQ5やQ6の電流源
MOSFETに流れる電流が増大するために、CMOS
インバータ回路を構成するPチャンネル型MOSFET
Q7を通したチャージアップ電流が増大し、Nチャンネ
ル型MOSFETQ8を通したディスチャージ電流が増
大し、次段回路の入力容量等の負荷容量を高速にチャー
ジアップ/ディスチャージさせるので、信号伝播遅延時
間が短くなって発振周波数を高くする。
【0015】逆に、制御電圧VFを低くすると、それに
対応してMOSFETQ1のドレイン電流が減少する。
したがって、上記MOSFETQ5やQ6の電流源MO
SFETに流れる電流が減少するために、CMOSイン
バータ回路を構成するPチャンネル型MOSFETQ7
を通したチャージアップ電流が減少し、Nチャンネル型
MOSFETQ8を通したディスチャージ電流が減少
し、次段回路の入力容量等の負荷容量のチャージアップ
/ディスチャージを遅くするので信号伝播遅延時間が長
くなりって発振周波数を低くさせる。なお、同図のよう
に3段のCMOSインバータ回路では、安定的な発振信
号を得られないなら、5段あるは7段のように段数を増
加させればよい。
【0016】図3には、デューティ補正回路とデューテ
ィ検出回路の一実施例の回路図が示されている。デュー
ティ補正回路は、発振出力OSCを受けるPチャンネル
型MOSFETQ10とNチャンネル型MOSFETQ
11からなるCMOSインバータ回路に対して次の回路
素子が付加される。上記Pチャンネル型MOSFETQ
10とNチャンネル型MOSFETQ11に対して、基
準電圧VREFを受けるて定電流動作を行うようにされ
たPチャンネル型MOSFETQ12と、Nチャンネル
型MOSFETQ13とをそれぞれに直列接続し、かか
る定電流源としてのMOSFETQ12とQ13には、
電流調整を行うPチャンネル型MOSFETQ14とN
チャンネル型MOSFETQ15とがそれぞれ並列接続
される。上記MOSFETQ14とQ15のゲートに
は、次に説明するデューティ検出回路で形成された制御
電圧が印加されることによりその電流の調整が行われ
る。なお、上記Pチャンネル型MOSFETQ12,N
チャンネル型MOSFETQ13に入力される基準電圧
VREFは、別々でも良いし、回路の接地電位と電源電
圧でもよい。
【0017】デューティ検出回路は、上記デューティ補
正回路の出力信号を波形整形する波形整形バッファの出
力信号OUTをバッファ回路BAを通して抵抗R1とキ
ャパシタC1により積分して直流化する。この電圧と電
源電圧との中点電圧とを電圧比較回路で比較し、その差
分を抵抗R2とキャパシタC2により平滑して上記デュ
ーティ補正回路に供給される制御電圧を形成するもので
ある。
【0018】図4には、この発明に係るデューティ補正
回路の動作を説明するための波形図が示されている。図
4(A)には発振信号OSCのデューティが50%を超
えて大きいときが示され、図4(B)には発振信号OS
Cのデューティが50%より小さいときが示されてい
る。
【0019】図4(A)に示すように、発振信号OSC
のデューティが50%よりも大きいとき、それに対応し
た図示しない出力信号OUTを積分して形成された直流
電圧は上記中点電圧よりも高くなり、それに対応して上
記デューティ補正回路に供給される制御電圧は高くな
る。この結果、Pチャンネル型MOSFETQ14に流
れる電流が減少し、Nチャンネル型MOSFETQ15
に流れる電流が増大する。つまり、デューティ補正回路
に対して同図のように出力信号の立ち上がりを遅く、立
ち下がりを早くするように制御するので、図示のように
出力信号OUTは、ほぼ50%のパルス幅デューティを
持つように補正される。
【0020】図4(B)に示すように、発振信号OSC
のデューティが50%よりも小さいとき、それに対応し
た図示しない出力信号OUTを積分して形成された直流
電圧は上記中点電圧よりも低くなり、それに対応して上
記デューティ補正回路に供給される制御電圧は低くな
る。この結果、Pチャンネル型MOSFETQ14に流
れる電流が増大し、Nチャンネル型MOSFETQ15
に流れる電流が減少する。つまり、デューティ補正回路
に対して同図のように出力信号の立ち上がりを遅く、立
ち下がりを早くするように制御するので、図示のように
出力信号OUTは、ほぼ50%のパルス幅デューティを
持つように補正される。
【0021】図5には、この発明に係るデューティ補正
回路の他の一実施例を説明するための波形図が示されて
いる。この実施例では、前記図3の波形整形バッファに
デューティ補正機能を付加するようにするものである。
つまり、その前段に前記のように定電流により発振信号
OSCの立ち上がりと立ち下がりにランプ特性を持たせ
るようにし、前記デューティ検出回路の出力電圧によ
り、波形整形バッファのしきい(閾)値を制御するもの
である。
【0022】図5(A)に示すように、発振信号OSC
のデューティが50%よりも大きいとき、それに対応し
た図示しない出力信号OUTを積分して形成された直流
電圧は上記中点電圧よりも高くなり、それに対応して上
記デューティ補正動作を行う波形整形バッファに供給さ
れる制御電圧は高くなる。この結果、波形整形バッファ
のしきい値電圧が高くなって、図示のように出力信号O
UTは、ほぼ50%のパルス幅デューティを持つように
補正される。
【0023】図5(B)に示すように、発振信号OSC
のデューティが50%よりも小さいとき、それに対応し
た図示しない出力信号OUTを積分して形成された直流
電圧は上記中点電圧よりも低くなり、それに対応して上
記デューティ補正動作を行う波形整形バッファに供給さ
れる制御電圧は低くなる。この結果、波形整形バッファ
のしきい値電圧が低くなって、図示のように出力信号O
UTは、ほぼ50%のパルス幅デューティを持つように
補正される。
【0024】図6には、デューティ検出回路の他の一実
施例のブロック図が示されている。この実施例では、デ
ィジタル的に発振パルスOSCのデューティが検出され
る。この実施例では、ラッチ回路により発振パルスOS
Cをクロック信号CLKでラッチしてパルスデューティ
の統計的なサイプリングを行う。上記発振パルスOSC
に対して、同期していないフリーランの発振回路等で形
成されたクロック信号CLKを用いて統計的なサンプン
リグを行う、そのサンプリング出力を加算平均処理する
ものである。
【0025】図7には、上記図6のデューティ検出回路
の動作を説明するための波形図が示されている。上記ラ
ッチ回路によりサンプリングされたサンプリング出力で
あるH,Lの出現する確率は、発振パルスOSCのHと
Lの時間比、すなわちデューティ比を反映する。このH
とL出力を加算して平均化することにより、上記発振パ
ルスOSCの出力デューティが検出される。この加算平
均出力が0になるように、言い換えるならば、サンプリ
ング出力のHとLの出現確率が同じになるようにデュー
ティ補正を行うようにする。具体的例としては、上記加
算平均を上記ラッチ回路のサンプリング出力のH,Lに
従ってチャージポンプ等で行い、その積分電圧を前記補
正回路に供給される。
【0026】例えば、上記加算がプラス(発振パルスO
SCのLよりHが長いとき)ならば、Pチャンネル型M
OSFETの電流が小さく、Nチャンネル型MOSFE
Tの電流が大きくなる方向に制御されて、発振パルスO
SCのLを長く、Hを短くするように補正される。加算
がマイナス(発振パルスOSCのHよりLが長いとき)
ならば、上記とは逆にPチャンネル型MOSFETの電
流が大きく、Nチャンネル型MOSFETの電流が小さ
くなる方向に制御されて、発振パルスOSCのHを長
く、Lを短くするように補正される。
【0027】上記のようなディジタル回路は、アナログ
回路に置き換えることができる。つまり、同じ電流値に
されたチャージアップ電流とディスチャージ電流とを形
成しておいて、発振信号OSCがハイレベルの期間には
チャージアップ電流をキャパシタに供給して充電させ、
発振信号OSCがロウレベルの期間にはディスチャージ
電流を供給して放電させる。もしも、発振信号OSCの
デューティが50%よりも大きいときには、チャージア
ップ時間が長くなって差分だけ中点電圧に対して高い電
圧が得られ、上記のようなデューティ補正回路に供給す
ることによりデャーティ補正を行わせることができる。
逆に、発振信号OSCのデューティが50%よりも小さ
いときには、ディスチャージ時間が長くなって差分だけ
中点電圧に対して低い電圧が得られ、上記のようなデュ
ーティ補正回路に供給することによりデャーティ補正を
行わせることができる。
【0028】この実施例のPLL回路は、例えばCRT
等のディスプレイ制御回路に用いられる。CRT等の表
示装置では、高精細から標準的な表示モードの切り換え
が可能にされるものであり、例えば高精細の表示モード
でのドッククロック周波数は約200MHzのような高
い周波数にされる。それ故、VCOにおいて前記のよう
に分周回路を用いたものでは、400MHzもの高い周
波数を形成する必要があるが、この発明の適用によって
200MHzのような発振信号を形成すればよいからM
OS回路により十分に実現できるもとなる。
【0029】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。 (1) パルス信号を受けるインバータ回路の出力信号
の立ち上がり時間と立ち下がり時間を制御するための電
流制御回路又は上記インバータ回路の出力信号を波形整
形する波形整形バッファのロジックスレッショルド電圧
を波形整形された出力信号のパルスデューティを検出す
るパルスデューティ検出回路で制御することにより、そ
の出力信号を所望のパルスデューティとなるように調整
することができるという効果が得られる。
【0030】(2) 上記波形整形された出力信号を平
滑回路で平滑し、その平滑信号と設定すべきパルスデュ
ーティに対応した基準電圧との差電圧に対応した制御信
号を電圧比較回路で形成することにより、上記パルスデ
ューティの補正に用いられる制御信号を形成することが
できるという効果が得られる。
【0031】(3) 上記デューティ補正を行う電流制
御回路として、インバータ回路と電源電圧との間にPチ
ャンネル型MOSFETを設け、上記インバータ回路と
回路の接地電位との間にNチャンネル型MOSFETを
設け、これら2つのMOSFETのゲートに上記制御信
号を供給することにより、出力信号の立ち上がと立ち下
がり時間を調整することができ、その結果として波形整
形バッファを通した出力信号のパルスデューティの補正
を行うことができるという効果が得られる。
【0032】(4) PLL回路に設けられる電圧制御
型発振回路により形成された発振パルスのパルスデュー
ティを補正することにより、MOS回路の上限周波数に
対応した高周波数のパルス信号を得ることができるとい
う効果が得られる。
【0033】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、図3
の実施例において、MOSFETQ12とQ13を省略
して、インバータ回路を構成するMOSFETQ10と
Q11に、デューティ検出回路で形成された制御信号に
従った電流を流すようなMOSFETQ14とQ15か
ら構成してもよい。電圧制御発振回路は、前記のような
CMOSインバータ回路を用いたリングオシレータの他
何であってもよい。この発明に係るデューティ補正回路
は、出力パルスのデューティを50%にするものの他、
必要に応じて任意のパルスデューティに調整するもので
あってもよい。この発明は、パルスデューティ補正回路
として広く利用できる。
【0034】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、パルス信号を受けるインバ
ータ回路の出力信号の立ち上がり時間と立ち下がり時間
を制御するための電流制御回路又は上記インバータ回路
の出力信号を波形整形する波形整形バッファのロジック
スレッショルド電圧を波形整形された出力信号のパルス
デューティを検出するパルスデューティ検出回路で制御
することにより、その出力信号を所望のパルスデューテ
ィとなるように調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明が適用されたクロック発生回路の一実
施例を示すブロック図である。
【図2】図1の電圧制御発振回路の一実施例を示す回路
図である。
【図3】図1のデューティ補正回路とデューティ検出回
路の一実施例を示す回路図である。
【図4】この発明に係るデューティ補正回路の動作を説
明するための波形図である。
【図5】この発明に係るデューティ補正回路の他の一実
施例を説明するための波形図である。
【図6】この発明に係るデューティ検出回路の他の一実
施例を示すブロック図である。
【図7】図6のデューティ検出回路の動作を説明するた
めの波形図である。
【符号の説明】
1…位相比較回路、2…チャージポンプ回路、3…電圧
制御発振回路、4…デューティ補正回路、5…デューテ
ィ検出回路、6…クロック分配器、7…分周器、C…フ
ィルタ容量、B1,BA…バッファ回路、Q1〜Q15
…MOSFET、R1,R2…抵抗、C1,C2…キャ
パシタ、

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パルス信号を受けるインバータ回路と、 上記インバータ回路の出力信号の立ち上がり時間と立ち
    下がり時間を制御するための電流制御回路と、 上記インバータ回路及びその接続列の出力信号を受けて
    波形整形された出力信号を形成する波形整形バッファ
    と、 上記波形整形バッファで波形整形された出力信号を受
    け、そのパルスデューティを検出するパルスデューティ
    検出回路とを備え、 上記パルスデューティ検出回路の出力信号により上記電
    流制御回路を制御して、その立ち上がり時間と立ち下が
    り時間を制御して上記波形整形された出力信号が所望の
    パルスデューティとなるように調整してなることを特徴
    とするパルスデューティ補正回路。
  2. 【請求項2】 パルス信号を受けるインバータ回路と、 上記インバータ回路の出力信号を受けて波形整形された
    出力信号を形成する波形整形バッファと、 上記波形整形バッファの出力信号を受け、そのパルスデ
    ューティを検出するパルスデューティ検出回路とを備
    え、 上記パルスデューティ検出回路の出力信号により上記波
    形整形バッファの論理しきい値電圧を制御して、上記波
    形整形された出力信号が所望のパルスデューティとなる
    ように調整してなることを特徴とするパルスデューティ
    補正回路。
  3. 【請求項3】 上記パルスデューティ検出回路は、 上記波形整形された出力信号を平滑する平滑回路と、 その平滑信号と設定すべきパルスデューティに対応した
    基準電圧との差電圧に対応した制御信号を形成する電圧
    比較回路とからなるものであることを特徴とする請求項
    1又は請求項2のパルスデューティ補正回路。
  4. 【請求項4】 上記電流制御回路は、 上記インバータ回路と電源電圧との間に設けられたPチ
    ャンネル型MOSFETと、 上記インバータ回路と回路の接地電位との間に設けられ
    たNチャンネル型MOSFETからなり、 上記2つのMOSFETのゲートには、上記制御信号が
    供給されるものであることを特徴とする請求項1のパル
    スデューティ補正回路。
  5. 【請求項5】 上記パルス信号は、 PLL回路に設けられる電圧制御型発振回路により形成
    された発振パルスであることを特徴とする請求項1、請
    求項2のパルスデューティ補正回路。
  6. 【請求項6】 上記電圧制御型発振回路は、 リング状に縦列接続された奇数個のCMOSインバータ
    回路と、 制御電圧に従った電流を上記CMOSインバータ回路に
    流れるように制御する電流制御MOSFETとを含むも
    のであることを特徴とする請求項5のパルスデューティ
    補正回路。
JP10060492A 1998-02-25 1998-02-25 パルスデューティ補正回路 Pending JPH11243327A (ja)

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JP10060492A JPH11243327A (ja) 1998-02-25 1998-02-25 パルスデューティ補正回路

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