JPH11140070A - 新規な(チオ)エポキシ化合物 - Google Patents
新規な(チオ)エポキシ化合物Info
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- JPH11140070A JPH11140070A JP33453397A JP33453397A JPH11140070A JP H11140070 A JPH11140070 A JP H11140070A JP 33453397 A JP33453397 A JP 33453397A JP 33453397 A JP33453397 A JP 33453397A JP H11140070 A JPH11140070 A JP H11140070A
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Abstract
ックレンズを提供する。 【解決手段】 下記式(1)又は(2) 【化1】 [式(1)中、R1,R2,R3,R4は、H,−CH2S
A,−CH2SCH2CH2SA, 【化2】 から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていても良いが、
少なくとも4つ以上のSA基を有する。Aは各々独立に
H又は下記式 【化3】 (XはO又はSを表す。)で表される(チオ)エポキシ
基であって、少なくとも1つが前記式で表される(チ
オ)エポキシ基である]で表される4官能以上の(チ
オ)エポキシ化合物を含む樹脂組成物から得られるプラ
スチックレンズ。
Description
求される光学材料等の分野に好適に使用される新規な
(チオ)エポキシ化合物に関する。また本発明は、この
化合物を含む(チオ)エポキシ樹脂組成物、該組成物か
ら得られるプラスチックレンズに関する。
ンズに、従来より要求され続けている性能は、さらに薄
く、軽く、透明性、耐久性に優れることである。
クレンズ用樹脂自身のさらなる高性能化を行わなければ
ならない。即ち、高屈折率化、低比重化、高アッベ数
化、高耐熱性化を行わなければならない。
高屈折率プラスチックレンズでも高いレベルで実現され
てきている。
折率が上昇するとアッベ数は低くなる相反する物性であ
る為、両方同時に性能を向上させる事はかなり困難で、
改良し難い性能であった。そこで、アッベ数の低下を抑
えながら出来るだけ屈折率を高くする検討が盛んに行わ
れていた。
特開平9−110979号公報及び特開平9−7158
0号公報で、特定のエピスルフィド化合物を使用する方
法である。
較的高いアッベ数を有しながら極めて高い屈折率が実現
できる。ところがこの方法によって得られた樹脂は、耐
熱性が最低でも80℃以上要求される用途には耐熱性が
不充分で、上記樹脂で作製した眼鏡レンズを、例えば晴
天時に車中など放置するような、高温下で使用した場
合、クラックが入り易かったり、レンズ自身が変形し易
いといった問題点があった。
とも80℃以上であれば、前記したようなクラック及び
レンズ自身の変形といった耐熱性の問題はかなり軽減さ
れる。
結果、下記式(1)又は(2)で表される、特定構造の
4官能以上のポリチオールから合成される(チオ)エポ
キシ化合物を含む樹脂組成物を用いれば、上記の問題点
は解決され、高屈折率、高アッベ数で、少なくとも80
℃以上の高耐熱性を有するプラスチックレンズが得られ
ることを見出し、本発明に到達した。
(2)で表される(チオ)エポキシ化合物に関する。
CH2SCH2CH2SA,
ても良いが、少なくとも4つ以上のSA基を有し、Aは
各々独立にH又は下記式
基であって、少なくとも1つが前記式で表される(チ
オ)エポキシ基である]
基であって、少なくとも1つが前記式で表される(チ
オ)エポキシ基である。nは0〜3の整数を表す。]
の4官能以上のポリチオールに、塩基の存在下、エピハ
ロヒドリンを反応させる、或いは更にチオ尿素又はチオ
シアン酸塩を反応させることを特徴とする前記式(1)
又は(2)の(チオ)エポキシ化合物の製造方法に関す
る。
CH2SCH2CH2SH,
表される(チオ)エポキシ化合物を主として含む(チ
オ)エポキシ樹脂組成物、それらを重合して得られる透
明樹脂並びにプラスチックレンズ、プラスチックレンズ
の注型重合法である。
オ)エポキシ樹脂組成物、それらを重合して得られるポ
リエーテルまたはポリスルフィド系透明樹脂、並びにプ
ラスチックレンズは、現在まで知られていない。
合、いずれか1個は
は
い。)または下記一般式(6)
以上の新規なエピスルフィド化合物に関する。
合物は、通常以下の方法で合成される。特開平7−25
2297号公報の方法等によって合成される下記式
(3)
CH2SCH2CH2SH,
又は下記式(4)
のポリチオールを出発原料にして、塩基の存在下、エピ
ハロヒドリンを反応させてエポキシ化合物を合成する。
たはチオシアン酸塩を反応させてチオエポキシ化合物を
合成する。
式(4)で表される4官能以上のポリチオールに、塩基
の存在下、エピハロヒドリンを反応させて得られるエポ
キシ樹脂組成物、並びにそのエポキシ樹脂組成物に、さ
らにチオ尿素またはチオシアン酸塩を反応させて得られ
るチオエポキシ樹脂組成物である。
物とは、原料である4官能以上のポリチオールから合成
される4官能以上のエポキシ化合物またはチオエポキシ
化合物が、比較第一成分となる組成物である。その他に
それら化合物の2量体、3量体、4量体等のポリエーテ
ルオリゴマー類またはポリスルフィドオリゴマー類、チ
オエポキシ化反応の中間体であるエポキシ基を有するチ
オエポキシ樹脂類、エピハロヒドリンが不足した場合に
生成するメルカプト基を有する(チオ)エポキシ樹脂
類、重合抑制剤等として使用した無機酸類及び有機酸
類、溶媒、未反応原料、及びその他の副生物並びに不純
物等の有機化合物、無機化合物等も問題にならない範囲
で含まれてもよい。
キシ樹脂組成物に含まれる主生成物の構造を変えたい場
合は、原料である4官能以上のポリチオールを変えれば
よい。
ての詳細な説明を行う。
オールに、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン等
のエピハロヒドリン類を反応させて式(8)で表される
ハロゲン化アルコール類を合成する。
ヒドリンが比較的好ましい。
用するポリチオール中のメルカプト基に対して、0.5
〜2当量が好ましく、0.9〜1.2であれば更に好ま
しい。
ン、トリブチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジエチルアニリン、ピンジン、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、ナトリウムメチラート、t−ブトキシカリウム、燐
酸一水素二ナトリウム、酢酸ナトリウム等の有機・無機
塩基類を加えた方が好ましい結果を与える場合が多い。
これら塩基の中では、無機塩基類の方が比較的好まし
く、無機塩基類のなかでは水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸カリウム、水酸化カルシウムが好ましい。
ールに対して0.1〜10wt%が好ましく、0.3〜
5wt%であればさらに好ましい。
〜15℃であれば更に好ましい。
が、使用する場合はトルエン、キシレン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系溶
媒類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン
等の脂肪族系溶媒類、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ブタノール、メトキシエタノール、エチレ
ングリコール、グリセリン等のアルコール類、水等が好
ましく用いられる。
して用いてもよい。
溶媒類等の二層分離型混合溶媒系を用いる場合は、相間
移動触媒として、アルコール類、4級アルキルアンモニ
ウム塩、アルキルまたはアリールカルボン酸金属塩、ア
ルキルまたはアリールスルホン酸金属塩、酸性アルキル
またはアリール燐酸エステルとその金属塩等の界面活性
剤類を加えた場合、好ましい結果を与える場合が多い。
ス総重量に対して0.001〜20wt%が好ましく、
0.1から10wt%であればさらに好ましい。
ン、トリブチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジエチルアニリン、ピンジン、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウ
ム、ナトリウムメチラート、t−ブトキシカリウム、燐
酸一水素二ナトリウム、酢酸ナトリウム等の有機・無機
塩基類を加えて、本発明に係る式(9)のエポキシ化合
物を含む組成物を得る。
てもよいが、用いる塩基の種類は有機塩基類よりも無機
塩基類の方が比較的好ましく、無機塩基類のなかでは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
ピハロヒドリン類に対して、1〜10当量が好ましく、
2〜5当量であれば更に好ましい。
に係る式(9)で表されるエポキシ化合物を含む組成物
が合成されるが、式(7)で表されるポリチオールに、
後で加えられるエピハロヒドリン類に対して当量以上の
有機・無機塩基類を加え、次いでエピハロヒドリン類を
加える1段法でも合成可能である。
件の探索が必要となったり、純度が低くなる傾向にある
ため、あまり好ましくは用いられない。
ポキシ化合物を含む組成物は、式(9)で表されるエポ
キシ化合物を含む組成物にチオ尿素、又はチオシアン酸
ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アン
モニウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸鉛等
のチオシアン酸塩を反応させる事によって得られる。チ
オシアン酸塩を使用する場合は、チオシアン酸ナトリウ
ム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム
が比較的に好ましく、チオシアン酸ナトリウムであれば
更に好ましい。
使用量は、例えば、式(9)中のエポキシ基に対して当
量以上で用いられるが、好ましくは1〜5当量、更に好
ましくは1〜3当量の範囲である。1当量未満では純度
が低下し、5当量以上では経済的に不利になる場合があ
る。
の種類によって大きく異なる為特に限定はできないが、
チオ尿素を使用する場合は凡そ10〜30℃が好まし
く、チオシアン酸塩を使用する場合は凡そ30〜60℃
が好ましい。
ポキシ化合物を含む組成物を合成する場合、通常、式
(9)で表されるエポキシ化合物を含む組成物の合成時
とほぼ同様の反応溶媒が使用される。
ゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン等の芳香族系
溶媒類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタ
ン等の脂肪族系溶媒類、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ブタノール、メトキシエタノール、エチ
レングリコール、グリセリン等のアルコール類等が好ま
しく用いられる。
して用いてもよい。
化の場合は、水は反応速度を遅くさせる傾向にある為、
あまり好ましくは用いられない。
(9)、(10)の化合物を含む組成物の合成毎に最適
の溶媒を各々使用してもよいが、回収の面からは出来る
だけ少ない方が好ましく、同一または単一溶媒であれば
なお好ましい。
0)で表されるチオエポキシ化合物を含む組成物を合成
する場合は、触媒及び重合抑制剤として、反応系内に無
機酸類及び有機酸類を加えた場合、好ましい結果を与え
る事が多い。
酸、炭酸、リン酸、リン酸二水素ナトリウム、蟻酸、酢
酸、プロピオン酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、フマ
ル酸、マレイン酸、乳酸、安息香酸、五酸化燐、無水酢
酸、無水クエン酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無
水フタル酸、シリカゲル、酸性アルミナ等があげられ、
なかでも蟻酸、酢酸、プロピオン酸が好ましく用いられ
る。これらは単独で使用しても、2種以上を併用しても
よい。
は、通常は反応液総重量に対して、0.001〜10w
t%程度であるが、例えば、これら重合抑制剤をそのま
ま反応溶媒として使用できる場合もある。
本発明に係る式(10)で表されるチオエポキシ化合物
を含む組成物を取り出す際の安定性を向上させる目的
で、洗浄剤としても用いる事ができ、更には、製品自身
の安定性を向上させる目的で、製品の安定剤として用い
る事もできる。
浄を行えば効果が得られ、更にpH3以下で行えばより
効果が得られる場合が多い。
して、通常0.001〜10wt%の範囲で加えられ、
好ましくは0.01〜1wt%の範囲で加えられる。
0.001wt%未満では効果が小さく、10wt%を
超えてもよいが効果はそれ以上にあまり大きくならな
い。
それらを含む組成物から各々精製して単離することも可
能であるが、工業的な観点からは組成物のまま使用する
のがコスト的に有利である。
合物を含む樹脂組成物は、主に得られる樹脂の物性を改
良する目的で、樹脂改質剤を問題にならない範囲で必要
な物性が得られるまで加えられることができる。
る(チオ)エポキシ樹脂組成物に含まれる以外のチオエ
ポキシ化合物類またはエポキシ化合物類、メルカプト化
合物、メルカプトカルボン酸類、前記の重合抑制剤とし
ても使用できるカルボン酸及びカルボン酸無水物類、ア
ミノ酸類及びメルカプトアミン類、アミン類、オレフィ
ン類及び(メタ)アクリレート類等が挙げらる。
チオプロピル)スルフィド、1,2−ビス(3,4−エ
ピチオ−1−チアブチル)エタン、1,2−ビス(6,
7−エピチオ−1,4−ジチアヘプチル)−3−(3,
4−エピチオ−1−チアブチル)プロパン、2,5−ビ
ス(4,5−エピチオ−2−チアペンチル)−1,4−
ジチアン等の本発明に係る組成物に含まれないチオエポ
キシ樹脂類、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、ビス
フェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート、1,2−ヘキサヒドロフタル
酸ジグリシジルエステル等の本発明に係る組成物に含ま
れないエポキシ樹脂類、エタンジチオール、ビス(2−
メルカプトエチル)スルフィド、2,3−ジメルカプト
−1−プロパノール、1,2,3−トリメルカプトプロ
パン、1,4−ジチアン−2,5−ジメルカプトメチ
ル、2,3−ビス(3−メルカプトエチルチオ)−1−
プロパンチオール、ペンタエリスリトールテトラキス
(2−メルカプトチオグリコレート)、ペンタエリスリ
トールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、
4,8−ビス(メルカプトメチル)−3,6,9−トリ
チア−1,11−ウンデカンジチオール等のメルカプト
化合物、チオグリコール酸、3−メルカプトプロピオン
酸、チオ乳酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸等のメル
カプトカルボン酸類、チオジグリコール酸、チオジプロ
ピオン酸、ジチオジプロピオン酸、フタル酸、無水フタ
ル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ
無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、
無水ピロメリット酸等のカルボン酸及びカルボン酸無水
物、アスパラギン酸、アラニン、β−アラニン、グリシ
ン、タウリン、システイン、システアミン、アミノ安息
香酸等のアミノ酸類及びメルカプトアミン類、ヘキサメ
チレンジアミン、イソホロンジアミン、ビス(4−アミ
ノシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)ノル
ボルナン、キシリレンジアミン、メタフェニレンジアミ
ン等のアミン類、メタクリル酸メチル、スチレン、エチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ビス(メタクリロイルメチル)ノ
ルボルネン、ビス(アクリロイルエトキシエチル)ビス
フェノールF、ビス(メタクリロイルエトキシエチル)
ビスフェノールF、ビス(アクリロイルエトキシエチ
ル)ビスフェノールA、ビス(メタクリロイルエトキシ
エチル)ビスフェノールA、グリセリンジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリス(アクリレート)、
トリメチロールプロパントリス(メタクリレート)、ペ
ンタエリスリトールトリス(アクリレート)、ペンタエ
リスリトールテトラキス(アクリレート)、ジメタクリ
ル酸−1,4−ジチアン−2,5−ビス(メルカプトメ
チル)等のオレフィン類及び(メタ)アクリレート類等
が挙げられるが、これら列記化合物のみに樹脂改質剤が
限定されるものではない。
ば、あらかじめに反応系内又は取り出し工程内で加えて
おいてもよい。
うに、本発明に係る(チオ)エポキシ樹脂組成物を製品
として取りだした後、あらためて加えてもよい。
種以上を用いてもよい。
常、本発明に係る(チオ)エポキシ樹脂組成物を含む重
合性組成物を、必要に応じ減圧攪拌等の適当方法で脱泡
を行った後、金属又はガラスと樹脂またはテープ等から
なる成型モールド内に脱泡液を注入し、次いで加熱重合
を行う事によって得られる。
いる反応射出成型法によってもできなくもないが、得ら
れた成型物に光学的な歪みが入りやすい傾向にある為、
厳密な光学的均一性が要求されるプラスチックレンズの
製造方法としては、あまり用いられない。
合温度の低下等を目的として、硬化触媒が好ましく用い
られる。
類、ルイス酸類、ラジカル重合触媒類、カチオン重合触
媒類等が通常用いられる。
ール、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ジブチル
アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエ
チレンジアミン、N,N−ジエチルアミノエタノール、
N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N−メチルモ
ルホリン、ピペリジン、ピリジン、β−ピコリン、2−
メチルイミダゾール、ジシアンジアミド、コハク酸ヒド
ラジド、ジアミノマレオニトリル、ジアリルメラニン、
アニリン・フェニルホスホン酸塩、エチレンジアミン・
フェニルリン酸塩、四フッ化ホウ素・モノエチルアミン
塩、三フッ化ホウ素・モノエチルアミン錯体、五フッ化
燐・イソプロピルアミン錯体、五フッ化砒素・ラウリル
アミン錯体、五フッ化アンチモン・ベンジルアミン錯体
等のアミン類、トリメチルホスフィン、トリエチルホス
フィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリベンジルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、1,2−ビス(ジメ
チルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジフェニルホ
スフィノ)エタン等のホスフィン類、ジメチル錫ジクロ
ライド、ジブチル錫ジクロライド、テトラクロロ錫、ジ
ブチル錫ジラウレート、ステアリン酸錫、ジブチル錫ジ
オキサイド、塩化亜鉛、アセチルアセトン亜鉛、フッ化
アルミ、塩化アルミ、トリフェニルアルミ、テトライソ
プロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラクロ
ロチタン、酢酸カルシウム等のルイス酸、2,2’−ア
ゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)、2,2’−アゾビス(2−シクロプロピルプロピ
オニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル
バレロニトリル)、t−ブチルパーオキシ−2−エチル
ヘキサノエート、n−ブチル−4,4’−ビス(t−ブ
チルパーオキシ)バレレート、t−ブチルパーオキシベ
ンゾエート等のラジカル重合触媒、ジフェニルヨードニ
ウムヘキサフルオロ燐酸、ジフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロ砒酸、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロアンチモン、トリフェニルスルホニウムテトラフルオ
ロ硼酸、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ燐
酸、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ砒酸等の
カチオン重合触媒等が挙げられるが、これら列記化合物
のみに限定されるものではない。
種類、成型物の形状によって適宜選択され使用される。
また、これらは、単独でも、2種以上を併用してもよ
い。
エポキシ樹脂組成物の種類、成型物の形状によっても異
なるが、通常、本発明に係る(チオ)エポキシ樹脂組成
物を含む重合性組成物の総重量に対して0.001〜1
0wt%の範囲で用いられ、好ましくは0.01〜5w
t%の範囲で用いられる。
wt%を超えてもできるが、例えば、ポットライフが短
くなったり、透明性、光学物性、又は耐候性等が低下し
てくるといった不都合を生じてくる場合がある。
範囲で、内部離型剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、油溶染料、充填剤等の公知の各種添加剤等を加え
てもよい。
(チオ)エポキシ樹脂組成物を含む重合性組成物の加熱
重合条件は、樹脂組成物、樹脂改質剤、及び硬化触媒の
種類、成型物の形状等によって大きく条件が異なるため
限定できないが、凡そ、−50〜200℃の温度で1〜
100時間かけて行われる。
度範囲で徐々に昇温し、4〜80時間で重合させれば、
好ましい結果を与える事がある。
じアニール処理を行ってもよい。
与、耐薬品性向上、防曇性付与、或いはファッション性
付与を行う為に、表面研磨、帯電防止、ハードコート処
理、無反射コート処理、染色処理、調光処理等の物理的
あるいは化学的処理を施す事ができる。
的に説明する。
した。 屈折率、アッベ数;プルフリッヒ屈折計を用い、20℃
で測定した。 比 重;アルキメデス法により測定した。 耐熱性;TMAによって測定した。
7、又は4,7)−ビス(メルカプトメチル)−3,
6,9−トリチアウンデカン−1,11−ジチオール3
67部、49%苛性ソーダ3部、メタノール300ml
を仕込み、滴下ロートからエピクロルヒドリン370部
(4.0モル)を内温を5〜10℃に保ち良く攪拌しな
がら3時間で滴下し、10℃で1時間熟成した。
がら、49wt%苛性ソーダ1000部(12.2モ
ル)を3時間で滴下し、トルエンを500ml加えて5
〜10℃で20時間熟成した。
加して水洗を3回行い、得られた有機層を硫酸マグネシ
ウムで脱水し、濾過して得られた濾液を脱溶媒した。
5,7、又は4,7)−ビス(4,5−エポキシ−2−
チアペンチル)−1,11−ビス(3,4−エポキシ−
1−チアブチル)−3,6,9−トリチアウンデカン
(以下EPUDと略す。各化合物(EPUD−1、EP
UD−2、EPUD−3)の構造式を下記に示す)を8
3wt%含むエポキシ樹脂組成物を580部(粗収率=
98%)得た。
ある。
樹脂組成物の一部を、逆相カラムクロマトグラフィーに
て純度95wt%まで精製してたもので行った。同定分
析結果を以下に示す。
IR、1H−NMR及び13C−NMRの結果をそれぞれ
図1〜4に示す。
成) 反応フラスコに、実施例1で得られた純度83wt%の
エポキシ樹脂組成物300部、チオ尿素180部(3.
94モル)、酢酸3部、トルエン750ml、メタノー
ル750mlを仕込んで、20℃で60時間反応させ
た。
加えて水洗し、次に1%硫酸水で洗浄後、更に水洗を繰
り返した。得られた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
後、濾過して得られた濾液を、シリカゲル150部を充
填したシリカゲル充填塔を通過させた後、充填塔をトル
エンで洗浄した。
溶媒し、残った残渣を濾過して4,8(又は5,7、又
は4,7)−ビス(4,5−エピチオ−2−チアペンチ
ル)−1,11−ビス(3,4−エピチオ−1−チアブ
チル)−3,6,9−トリチアウンデカン(以下ETU
Dと略す。各化合物(ETUD−1、ETUD−2、E
TUD−3)の構造式を下記に示す)を72wt%含む
チオエポキシ樹脂組成物を210部(粗収率=63%)
得た。
ある。
キシ樹脂組成物150部を、順相カラムクロマトグラフ
ィーにて純度94wt%まで精製した精製品69部の一
部を使って行った。同定分析結果を以下に示す。
NMRの結果をそれぞれ図5〜7に示す。
8部に、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸12部、ジブ
チル錫ジラウレート0.5部(1wt%)、トリエチレ
ンジアミン0.5部(1wt%)、ジオクチル燐酸1部
(2wt%)を加えて溶解し、減圧下で0.3時間混
合脱泡した。
なる成型モールドに注入し、室温から120℃まで徐々
に昇温し48時間で重合を終了した。
ンズは無色透明であった。結果を表5に掲載する。
物50部に、トリエチルアミン0.05部(1000p
pm)を加えて、減圧下で0.5時間混合脱泡した。こ
の脱泡液をガラスモールドとテープからなる成型モール
ドに注入し、室温から80℃まで徐々に昇温し72時間
で重合を終了した。
ンズは無色透明であった。結果を表5に掲載する。
ルフィド(BTPSと略す。下記構造式)50部を実施
例4と同様に試験した。結果を表5に示す。
ロピル)スルフィド123部(0.5モル)、イソプロ
パノール200mlと10wt%NaOH4部を仕込
み、滴下ロートからエピクロルヒドリン185部(2.
0モル)を内温を40℃に保ち、良く攪拌しながら滴下
し、2時間熟成した。
ら、49wt%NaOH163部(2.0モル)を滴下
し、3時間熟成した。
ロホルム400mlと水400mlを加えて混合し、静
置後、上層の水層は分液廃棄した。
を行った後、脱溶媒して、中間体であるビス(1,3−
ジグリシジルチオ−2−プロピル)スルフィドを226
部(粗収率=96%)得た。
オ尿素380部(5.0モル)メタノール1000m
l、トルエン1000mlを加えて、30℃で3時間反
応を行った。
エン500mlで洗浄した。洗浄トルエンを含む濾液
に、水700mlを加え混合攪拌し、静置後、下層の水
層を棄てた。
mlで洗浄し、続いて水500mlで3回洗浄を行った
後、脱溶媒し、濾過して、目的物であるビス{1,3−
ビス(3,4−エピチオ−1−チアブチル)−2−プロ
ピル}スルフィドを含む組成物179部(粗収率=67
%)を得た。この組成物をHPLCにて分析を行ったと
ころ、純度29wt%であった。
ロマトグラフィーにて精製を行い、純度91wt%のビ
ス{1,3−ビス(3,4−エピチオ−1−チアブチ
ル)−2−プロピル}スルフィドを51部(純換収率=
17%/ビス(1,3−ジメルカプト−2−プロピル)
スルフィド)得た。
合物の同定を行った。結果は以下の通りである。
ビス(3,4−エピチオ−1−チアブチル)−2−プロ
ピル}スルフィド40部(0.11モル)とトリエチル
アミン0.1部(2500ppm)を減圧下で0.5時
間混合脱泡した。
ガスケットからなる成型モールドに注入し、室温から8
0℃まで徐々に昇温し20時間で重合を終了した。
ズは、無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一で
あった。その他の結果は、表9に掲載した。
−ビス(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチア−
1,11−ウンデカンジチオールに変更して、実施例5
と同様に試験した。
換収率=21%/4,8(or4,7or5,7)−ビ
ス(メルカプトメチル)−3,6,9−トリチア−1,
11−ウンデカンジチオール)得た。
合物の同定を行った。結果は以下の通りである。
施例5と同様に重合した。
と同様に無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一
であった。その他の結果は、表9に掲載した。
チオ)−1,4−ブタンジチオールに変更して実施例5
と同様に試験を行った。
−エピチオ−4,7−ジチアヘプチル)−1,4−ビス
(3,4−エピチオ−1−チアブチル)ブタンを75部
(純度換算収率=23%/2,3−ビス(メルカプトエ
チルチオ)−1,4−ブタンジチオール)を得た。
合物の同定を行った。結果は以下の通りである。
7−エピチオ−4,7−ジチアヘプチル)−1,4−ビ
ス(3,4−エピチオ−1−チアブチル)ブタンを用い
て実施例5と同様に重合した。
と同様に無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一
であった。その他の結果は、表9に掲載した。
無水フタル酸2部の組成物20部に、トリブチルアミン
0.02部(1000ppm)を加え、減圧下で0.3
時間混合脱泡した。
ガスケットからなる成型モールドに注入し、室温から1
20℃まで徐々に昇温し18時間で重合を終了した。
ズは、無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一で
あった。その他の結果は、表9に掲載した。
ロピル)スルフィド123部(0.5モル)、イソプロ
パノール200mlと10wt%NaOH4部を仕込
み、滴下ロートからエピクロルヒドリン185部(2.
0モル)を内温を5〜10℃に保ち、良く攪拌しながら
滴下し、10℃で2時間熟成した。
ら、49wt%NaOH490部(6.0モル)を滴下
し、10〜20℃で20時間熟成した。
ロホルム400mlと水400mlを加えて混合し、静
置後、上層の水層は分液廃棄した。
を行った後、脱溶媒して、中間体であるビス(1,3−
ジグリシジルチオ−2−プロピル)スルフィドを226
部(粗収率=96%)得た。
160部(2.1モル)メタノール1000ml、トル
エン1000mlを加えて、20℃で80時間反応を行
った。
エン500mlで洗浄した。洗浄トルエンを含む濾液
に、水700mlを加え混合攪拌し、静置後、下層の水
層を棄てた。
mlで洗浄し、続いて水500mlで3回洗浄を行った
後、脱溶媒し、シリカゲル充填塔を通液させて、通過液
を濾過して、目的物であるビス{1,3−ビス(3,4
−エピチオ−1−チアブチル)−2−プロピル}スルフ
ィドを含む組成物179部(粗収率=67%)を得た。
この組成物をHPLCにて分析を行ったところ、純度9
0wt%であった。
ロマトグラフィーにて精製を行い、純度97wt%のビ
ス{1,3−ビス(3,4−エピチオ−1−チアブチ
ル)−2−プロピル}スルフィドを130部(純換収率
=47%/ビス(1,3−ジメルカプト−2−プロピ
ル)スルフィド)得た。
合物の同定を行った。結果は実施例5と同じであった。
ビス(3,4−エピチオ−1−チアブチル)−2−プロ
ピル}スルフィド40部(0.11モル)とトリエチル
アミン0.05部(1300ppm)を減圧下で0.5
時間混合脱泡した。
ガスケットからなる成型モールドに注入し、室温から8
0℃まで徐々に昇温し40時間で重合を終了した。
ズは、無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一で
あった。その他の結果は、表10に掲載した。
例9と同様に重合した。
と同様に無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一
であった。その他の結果は、表10に掲載した。
チオ)−1,4−ブタンジチオールに変更して実施例9
と同様に試験を行った。
−エピチオ−4,7−ジチアヘプチル)−1,4−ビス
(3,4−エピチオ−1−チアブチル)ブタンを120
部(純度換算収率=39%/2,3−ビス(メルカプト
エチルチオ)−1,4−ブタンジチオール)を得た。
合物の同定を行った。結果は実施例7と同じであった。
7−エピチオ−4,7−ジチアヘプチル)−1,4−ビ
ス(3,4−エピチオ−1−チアブチル)ブタンを用い
て実施例9と同様に重合した。
と同様に無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一
であった。その他の結果は、表10に掲載した。
メチルヘキサヒドロ無水フタル酸2部の組成物20部
に、トリブチルアミン0.01部(500ppm)を加
え、減圧下で0.3時間混合脱泡した。
ガスケットからなる成型モールドに注入し、室温から1
20℃まで徐々に昇温し60時間で重合を終了した。
ズは、無色透明で、光学的に均一で、離型表面も均一で
あった。その他の結果は、表10に掲載した。
数、高耐熱性のプラスチックレンズが得られる。
チャートである。
ある。
ャートである。
ャートである。
ある。
ャートである。
ャートである。
Claims (13)
- 【請求項1】 下記式(1) 【化1】 [式中、R1,R2,R3,R4は、H,−CH2SA,−
CH2SCH2CH2SA, 【化2】 から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていても良いが、
少なくとも4つ以上のSA基を有し、Aは各々独立にH
又は下記式 【化3】 (XはO又はSを表す。)で表される(チオ)エポキシ
基であって、少なくとも1つが前記式で表される(チ
オ)エポキシ基である]で表される4官能以上の(チ
オ)エポキシ化合物又は下記式(2) 【化4】 [式中、Aは各々独立にH又は下記式 【化5】 (XはO又はSを表す。)で表される(チオ)エポキシ
基であって、少なくとも1つが前記式で表される(チ
オ)エポキシ基である。nは0〜3の整数を表す。]で
表される4官能以上の(チオ)エポキシ化合物。 - 【請求項2】 前記式(1)で表される請求項1の(チ
オ)エポキシ化合物。 - 【請求項3】 前記(チオ)エポキシ化合物が、4,8
又は5,7、又は4,7−ビス(4,5−エポキシ−2
−チアペンチル)−1,11−ビス(3,4−エポキシ
−1−チアブチル)−3,6,9−トリチアウンデカン
であることを特徴とする請求項2に記載の(チオ)エポ
キシ化合物。 - 【請求項4】 前記(チオ)エポキシ化合物が、4,8
又は5,7、又は4,7−ビス(4,5−エピチオ−2
−チアペンチル)−1,11−ビス(3,4−エピチオ
−1−チアブチル)−3,6,9−トリチアウンデカン
であることを特徴とする請求項2に記載の(チオ)エポ
キシ化合物。 - 【請求項5】 下記式(3) 【化6】 [式中、Q1,Q2,Q3,Q4は、H,−CH2SH,−
CH2SCH2CH2SH, 【化7】 から選ばれ、それぞれ同一でも異なっていても良い。]
又は下記式(4) 【化8】 (式中、nは0〜3の整数を表す。)で表される4官能
以上のポリチオールに、塩基の存在下、エピハロヒドリ
ンを反応させる、或いは更にチオ尿素またはチオシアン
酸塩を反応させることを特徴とする請求項1〜4のいず
れか1項に記載の(チオ)エポキシ化合物の製造方法。 - 【請求項6】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の(チ
オ)エポキシ化合物を主として含む(チオ)エポキシ樹
脂組成物。 - 【請求項7】 請求項6記載の(チオ)エポキシ樹脂組
成物を、重合して得られるポリエーテルまたはポリスル
フィド系透明樹脂。 - 【請求項8】 請求項6記載の(チオ)エポキシ樹脂組
成物を、重合して得られるプラスチックレンズ。 - 【請求項9】 請求項6記載の(チオ)エポキシ樹脂組
成物を、鋳型内に注入し、次いで重合を行うプラスチッ
クレンズの注型重合法。 - 【請求項10】 下記一般式(5) 【化9】 から選択されるが、R5〜R8のいずれか1個がHの場
合、いずれか1個は 【化10】 を表し、R5〜R8のいずれか2個がHの場合、他の2個
は 【化11】 から選択され、R5〜R8の3個以上がHとなることはな
い。)または下記一般式(6) 【化12】 (式中、nは0〜3の整数を表す。)で表される4官能
以上の新規なエピスルフィド化合物。 - 【請求項11】 少なくとも1種の請求項10記載の4
官能以上のエピスルフィド化合物を含む透明樹脂用組成
物。 - 【請求項12】 少なくとも1種の請求項10記載の4
官能以上のエピスルフィド化合物、または請求項11記
載の組成物を鋳型内に注入し、次いで重合を行うエピス
ルフィド系透明樹脂の注型重合方法。 - 【請求項13】 請求項12記載の重合方法によって得
られたプラスチックレンズ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33453397A JP3883272B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-12-04 | 新規な(チオ)エポキシ化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23856097 | 1997-09-03 | ||
JP9-238560 | 1997-09-03 | ||
JP33453397A JP3883272B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-12-04 | 新規な(チオ)エポキシ化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11140070A true JPH11140070A (ja) | 1999-05-25 |
JP3883272B2 JP3883272B2 (ja) | 2007-02-21 |
Family
ID=26533768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33453397A Expired - Lifetime JP3883272B2 (ja) | 1997-09-03 | 1997-12-04 | 新規な(チオ)エポキシ化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3883272B2 (ja) |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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