JPH1099761A - 円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置 - Google Patents
円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 円筒状基材に対して低粘度や高粘度の塗布液
においてもビード切れがなく、またビードの振動がなく
安定であり、膜厚変動のない優れた円筒状基材の塗布方
法を提供する。 【解決手段】 エンドレスに形成された連続周面を有す
る円筒状の基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配
室から該分配室スリットを通して前記基材周面を取り囲
むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗
布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッ
パー塗布面であるスライド面上に流出させ、前記円筒状
基材とホッパー塗布面の先端部にビードを形成させて連
続塗布を行う塗布方法において、前記ビード有効長Ｘが
２０μ以上、２ｍｍ以下、前記ビードのメニスカス最小
曲率半径Ｒが５０μ以上、８００μ以下であり、前記ス
ライド面角が１０〜７０度であることを特徴とする円筒
状基材の塗布方法である。
においてもビード切れがなく、またビードの振動がなく
安定であり、膜厚変動のない優れた円筒状基材の塗布方
法を提供する。 【解決手段】 エンドレスに形成された連続周面を有す
る円筒状の基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配
室から該分配室スリットを通して前記基材周面を取り囲
むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗
布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッ
パー塗布面であるスライド面上に流出させ、前記円筒状
基材とホッパー塗布面の先端部にビードを形成させて連
続塗布を行う塗布方法において、前記ビード有効長Ｘが
２０μ以上、２ｍｍ以下、前記ビードのメニスカス最小
曲率半径Ｒが５０μ以上、８００μ以下であり、前記ス
ライド面角が１０〜７０度であることを特徴とする円筒
状基材の塗布方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はエンドレスに形成さ
れた連続周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗
布液をスライド面上に流出させ、連続塗布を行う円筒状
基材の塗布方法及び該円筒状基材の塗布装置に関する。
れた連続周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗
布液をスライド面上に流出させ、連続塗布を行う円筒状
基材の塗布方法及び該円筒状基材の塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】エンドレスに形成された連続面を有する
円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してス
プレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗
布法等の種々の方法が検討されている。特に、電子写真
感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産
性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しか
しながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有す
る基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られな
かったり生産性が悪い等の短所があった。
円筒状基材の外面上への薄膜で均一な塗布に関連してス
プレー塗布法、浸漬塗布法、ブレード塗布法、ロール塗
布法等の種々の方法が検討されている。特に、電子写真
感光体ドラムのような薄膜で均一な塗布については生産
性の優れた塗布装置を開発すべく検討されている。しか
しながら、従来のエンドレスに形成された連続面を有す
る基材への塗布方法においては、均一な塗膜が得られな
かったり生産性が悪い等の短所があった。
【０００３】スプレー塗布法ではスプレーガンより噴出
した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有す
る基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するため
に塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにとも
ない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したと
き、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥
固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表
面の平滑性の良いものがえられない。また該連続面を有
する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロ
スがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロ
ールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引
きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限が
ある。
した塗布液滴が該エンドレスに形成された連続面を有す
る基材の外周面上に到達するまでに溶媒が蒸発するため
に塗布液滴の固形分濃度が上昇してしまい、それにとも
ない塗布液滴の粘度上昇が起って液滴が面に到達したと
き、液滴が面上を充分に広がらないために、或いは乾燥
固化してしまった粒子が表面に付着するために、塗布表
面の平滑性の良いものがえられない。また該連続面を有
する基材への液滴の到達率が１００％でなく塗布液のロ
スがあったり部分的にも不均一である為、膜厚コントロ
ールが非常に困難である。更に、高分子溶液等では糸引
きを起こす事があるため使用する溶媒及び樹脂に制限が
ある。
【０００４】ブレード塗布法、ロール塗布法は例えば円
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレード若しくはロールを後退させるもので
ある。しかしながらブレード若しくはロールを後退させ
る際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分
より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点があ
る。
筒状基材の長さ方向にブレード若しくはロールを配置し
該円筒状基材を回転させて塗布を行い円筒状基材を１回
転させた後ブレード若しくはロールを後退させるもので
ある。しかしながらブレード若しくはロールを後退させ
る際、塗布液の粘性により、塗布膜厚の一部に他の部分
より厚い部分が生じ、均一な塗膜が得られない欠点があ
る。
【０００５】浸漬塗布法は、上記におけるような塗布液
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
表面の平滑性、塗布膜の均一性の悪い点は改良される。
【０００６】しかし塗布膜厚の制御が塗布液物性例えば
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調製が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液
量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出
し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
粘度、表面張力、密度、温度等と塗布速度に支配され、
塗布液物性の調製が非常に重要となる。また塗布速度も
低いし、塗布液槽を満たすためにはある一定量以上の液
量が必要である。更に重層する場合、下層成分が溶け出
し塗布液槽が汚染されやすい等の欠点がある。
【０００７】そこで特開昭５８−１８９０６１号公報に
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更に
この塗布装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室内
の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前
記液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットとを
有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾
斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端の唇
状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分
にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周
面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗布
装置を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗布
液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布
が可能となった。
記載の如く円形量規制型塗布装置（この中にはスライド
ホッパー型塗布装置が含まれる）が開発された。このス
ライドホッパー型塗布装置はエンドレスに形成された連
続周面を有する円筒状基材を連続的にその長手方向に移
動させながら、その周囲を環状に取り囲み、円筒状基材
の外周面に対して塗布液を塗布するものであって、更に
この塗布装置は環状の液溜まり室と、この液溜まり室内
の一部に対して外部から塗布液を供給する供給口と、前
記液溜まり室の内方に開口する塗布液分配スリットとを
有し、このスリットから流出した塗布液を斜め下方に傾
斜するスライド面上に流下させ、スライド面の下端の唇
状部のスライドエッジと円筒状基材との僅かな間隙部分
にビードを形成し、円筒状基材の移動に伴ってその外周
面に塗布するものである。このスライドホッパー型塗布
装置を用いることにより、少ない液量で塗布でき、塗布
液が汚染されず、生産性の高い、膜厚制御の容易な塗布
が可能となった。
【０００８】なお、塗布に於けるメニスカス最小曲率半
径Ｒとビード有効長Ｘとの関係については、Ｃｈｅｍ．
Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．４１（７）１８２７（’８６）等に記
載のごとく研究されてはきているが、環状コーターの塗
布性の良好な実用的範囲は後述の本発明の適正範囲から
逸脱していることが判った。その理由としては、本発明
の環状コーターの場合、円周方向のスライド面（ホッパ
ー塗布面）には両端がないエンドレスのため、周方向の
力成分が保存され、ビードの形成状態が、両端のあるフ
イルム状支持体の塗布と異なっているためではないかと
推測される。
径Ｒとビード有効長Ｘとの関係については、Ｃｈｅｍ．
Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．４１（７）１８２７（’８６）等に記
載のごとく研究されてはきているが、環状コーターの塗
布性の良好な実用的範囲は後述の本発明の適正範囲から
逸脱していることが判った。その理由としては、本発明
の環状コーターの場合、円周方向のスライド面（ホッパ
ー塗布面）には両端がないエンドレスのため、周方向の
力成分が保存され、ビードの形成状態が、両端のあるフ
イルム状支持体の塗布と異なっているためではないかと
推測される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ス
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお、塗布液によ
っては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）、
膜厚の変動等の問題が生じることがある。
ライドホッパー型塗布装置を用いてもなお、塗布液によ
っては塗布液膜切れ（ビード切れによるものが多い）、
膜厚の変動等の問題が生じることがある。
【００１０】その原因の１つとして、前記スライドホッ
パー型塗布装置を用いても、なお塗布条件が把握でき
ず、ある塗布液ではうまく塗布できるが、別の塗布液で
はムラが発生する等、塗布液によって、或いは他の装置
条件によって塗布性が微妙に異なってくるからである。
パー型塗布装置を用いても、なお塗布条件が把握でき
ず、ある塗布液ではうまく塗布できるが、別の塗布液で
はムラが発生する等、塗布液によって、或いは他の装置
条件によって塗布性が微妙に異なってくるからである。
【００１１】この発明の目的は、上記の課題に鑑みなさ
れたもので、低粘度や高粘度の塗布液においてもビード
切れがなく、またビードの振動がなく安定であり、膜厚
変動のない優れた円筒状基材の塗布方法及び該装置を提
供することにある。
れたもので、低粘度や高粘度の塗布液においてもビード
切れがなく、またビードの振動がなく安定であり、膜厚
変動のない優れた円筒状基材の塗布方法及び該装置を提
供することにある。
【００１２】更に、この発明の他の目的は、同一塗布装
置から複数の塗布層を同時に円筒状基材上に形成させる
いわゆる同時重層塗布においても、ビード切れがなく膜
厚変動のない優れた円筒状基材の塗布方法を、又複数の
塗布装置から塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる
逐次重層塗布においても、ビード切れがなく膜厚変動の
ない優れた円筒状基材の塗布方法を提供することにあ
る。
置から複数の塗布層を同時に円筒状基材上に形成させる
いわゆる同時重層塗布においても、ビード切れがなく膜
厚変動のない優れた円筒状基材の塗布方法を、又複数の
塗布装置から塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる
逐次重層塗布においても、ビード切れがなく膜厚変動の
ない優れた円筒状基材の塗布方法を提供することにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記の目的は下記のよう
な手段により達成される。即ち、請求項１記載の発明
は、エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基
材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室から該分配
室スリットを通して前記円筒状基材の周面を取り囲むよ
うに円筒状基材全周にわたって近接形成されたスライド
面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該スライ
ド面上に流出させ、前記円筒状基材とスライド面の先端
部にビードを形成させて連続塗布を行う塗布方法におい
て、前記ビード有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍで、前記ビー
ドのメニスカス最小曲率半径Ｒが５０μ〜８００μであ
り、前記スライド面角θが１０〜７０度であることを特
徴としている。
な手段により達成される。即ち、請求項１記載の発明
は、エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基
材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室から該分配
室スリットを通して前記円筒状基材の周面を取り囲むよ
うに円筒状基材全周にわたって近接形成されたスライド
面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該スライ
ド面上に流出させ、前記円筒状基材とスライド面の先端
部にビードを形成させて連続塗布を行う塗布方法におい
て、前記ビード有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍで、前記ビー
ドのメニスカス最小曲率半径Ｒが５０μ〜８００μであ
り、前記スライド面角θが１０〜７０度であることを特
徴としている。
【００１４】ビード有効長Ｘはビードとドラムの接触点
からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニスカスとが接触した点
の間の距離で、一般に粘度が高くなると小さくなる。ビ
ード有効長Ｘは好ましくは３０μ〜１ｍｍである。ま
た、メニスカス最小曲率半径Ｒは、塗布速度、塗布液の
液膜厚、スライド面角、塗布液の表面張力等によって変
わる。Ｒは好ましくは１００〜７００μである。また、
スライド面角θは好ましくは４０〜７０度である（図３
を参照）。
からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニスカスとが接触した点
の間の距離で、一般に粘度が高くなると小さくなる。ビ
ード有効長Ｘは好ましくは３０μ〜１ｍｍである。ま
た、メニスカス最小曲率半径Ｒは、塗布速度、塗布液の
液膜厚、スライド面角、塗布液の表面張力等によって変
わる。Ｒは好ましくは１００〜７００μである。また、
スライド面角θは好ましくは４０〜７０度である（図３
を参照）。
【００１５】請求項２記載の発明は、前記円筒状基材と
スライド面との間隙であるコーターギャップＧが５０〜
５００μであることを特徴としている。
スライド面との間隙であるコーターギャップＧが５０〜
５００μであることを特徴としている。
【００１６】請求項３記載の発明は、前記円筒状基材の
移動速度が６〜５０ｍｍ／ｓｅｃであることを特徴とし
ている。
移動速度が６〜５０ｍｍ／ｓｅｃであることを特徴とし
ている。
【００１７】請求項４記載の発明は、各々複数の塗布液
分配スリット及び塗布液流出口を設け、異なる塗布液を
塗布液分配スリット及び塗布液流出口から同一スライド
面上に流出させ、複数の塗布層を同時に前記円筒状基材
上に形成させることを特徴としている。
分配スリット及び塗布液流出口を設け、異なる塗布液を
塗布液分配スリット及び塗布液流出口から同一スライド
面上に流出させ、複数の塗布層を同時に前記円筒状基材
上に形成させることを特徴としている。
【００１８】請求項５記載の発明は、各々複数の塗布液
分配スリット、塗布液流出口及びスライド面を設け、異
なる塗布液を各々の塗布液分配スリットに供給し、各々
の塗布液流出口から各々のスライド面に供給させ、複数
の塗布層を円筒状基材上に逐次形成させることを特徴と
している。
分配スリット、塗布液流出口及びスライド面を設け、異
なる塗布液を各々の塗布液分配スリットに供給し、各々
の塗布液流出口から各々のスライド面に供給させ、複数
の塗布層を円筒状基材上に逐次形成させることを特徴と
している。
【００１９】請求項６記載の発明は、エンドレスに形成
された連続周面を有する円筒状の基材を移動させなが
ら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通し
て前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近
接形成されたスライド面に設けられたエンドレスの塗布
液流出口から該スライド面上に流出させ、前記円筒状基
材とスライド面の先端部にビードを形成させて連続塗布
を行う塗布方法において、前記ビード有効長Ｘが２０μ
〜２ｍｍで、前記ビードのメニスカス最小曲率半径Ｒが
５０μ〜８００μであり、前記スライド面角θが１０〜
７０度であることを特徴としている。
された連続周面を有する円筒状の基材を移動させなが
ら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通し
て前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近
接形成されたスライド面に設けられたエンドレスの塗布
液流出口から該スライド面上に流出させ、前記円筒状基
材とスライド面の先端部にビードを形成させて連続塗布
を行う塗布方法において、前記ビード有効長Ｘが２０μ
〜２ｍｍで、前記ビードのメニスカス最小曲率半径Ｒが
５０μ〜８００μであり、前記スライド面角θが１０〜
７０度であることを特徴としている。
【００２０】ビード有効長Ｘはビードとドラムの接触点
からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニスカスとが接触した点
の間の距離で、一般に粘度が高くなると小さくなる。ビ
ード有効長Ｘは好ましくは３０μ〜１ｍｍである。メニ
スカス最小曲率半径Ｒは、塗布速度、塗布液の液膜厚、
スライド面角、塗布液の表面張力等によって変わる。Ｒ
は好ましくは１００〜７００μである。スライド面角θ
は好ましくは４０〜７０度である（図３参照）。
からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニスカスとが接触した点
の間の距離で、一般に粘度が高くなると小さくなる。ビ
ード有効長Ｘは好ましくは３０μ〜１ｍｍである。メニ
スカス最小曲率半径Ｒは、塗布速度、塗布液の液膜厚、
スライド面角、塗布液の表面張力等によって変わる。Ｒ
は好ましくは１００〜７００μである。スライド面角θ
は好ましくは４０〜７０度である（図３参照）。
【００２１】ビード有効長Ｘ、メニスカス最小曲率半径
Ｒの測定は透明ガラス製環状コータを作製し、ビード部
を撮影、測定することにより行われる。
Ｒの測定は透明ガラス製環状コータを作製し、ビード部
を撮影、測定することにより行われる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の説明
を行う。図１は本発明に係わる塗布装置例の縦断面図
で、図２はその斜視図である。なお、本発明は添付した
図の形状だけに制約されるものではない。
を行う。図１は本発明に係わる塗布装置例の縦断面図
で、図２はその斜視図である。なお、本発明は添付した
図の形状だけに制約されるものではない。
【００２３】図１に示されるように中心線ＸＸに沿って
垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に
矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状
基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗
布に直接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）１０によ
り塗布液Ｌが塗布される。なお、基材としては中空ドラ
ム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほ
かシームレスベルト型の基材でも良い。前記塗布ヘッド
１０には、円筒状基材１側に開口する塗布液流出口１１
を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリットともい
う）１２が水平方向に形成されている。このスリット１
２は環状の塗布液分配室１３に連通し、この環状の塗布
液分配室１３には貯留タンク４内の塗布液Ｌを圧送ポン
プ５により供給管１４を介して供給するようになってい
る。他方、スリット１２の塗布液流出口１１の下側に
は、連続して下方に傾斜し基材の外寸よりやや大なる寸
法で終端をなすように形成されたスライド面１５が形成
されている。更に、このスライド面１５終端より下方に
延びる唇状部１６が形成されている。かかる塗布装置に
よる塗布においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液Ｌをスリット１２から押し出し、スライド面
１５に沿って流下させると、スライド面終端に至った塗
布液は、そのスライド面終端と円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成した後、基材表面に塗布される。
垂直状に重ね合わせた円筒状基材１Ａ，１Ｂを連続的に
矢示方向に上昇移動させ、その周囲を取り囲み、円筒状
基材１の外周面に対しスライドホッパー型塗布装置の塗
布に直接係わる部分（塗布ヘッドと略称する）１０によ
り塗布液Ｌが塗布される。なお、基材としては中空ドラ
ム例えばアルミニウムドラム、プラスチックドラムのほ
かシームレスベルト型の基材でも良い。前記塗布ヘッド
１０には、円筒状基材１側に開口する塗布液流出口１１
を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリットともい
う）１２が水平方向に形成されている。このスリット１
２は環状の塗布液分配室１３に連通し、この環状の塗布
液分配室１３には貯留タンク４内の塗布液Ｌを圧送ポン
プ５により供給管１４を介して供給するようになってい
る。他方、スリット１２の塗布液流出口１１の下側に
は、連続して下方に傾斜し基材の外寸よりやや大なる寸
法で終端をなすように形成されたスライド面１５が形成
されている。更に、このスライド面１５終端より下方に
延びる唇状部１６が形成されている。かかる塗布装置に
よる塗布においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液Ｌをスリット１２から押し出し、スライド面
１５に沿って流下させると、スライド面終端に至った塗
布液は、そのスライド面終端と円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成した後、基材表面に塗布される。
【００２４】スライド面終端と円筒状基材は、ある間隙
を持って配置されているため基材を傷つける事なく、ま
た性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既
に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
を持って配置されているため基材を傷つける事なく、ま
た性質の異なる層を多層形成させる場合においても、既
に塗布された層を損傷することなく塗布できる。
【００２５】図３は、塗布時のビード部の関係図で、塗
布液Ｌはビードを形成して塗布される。メニスカス最小
曲率半径Ｒはビード部の塗布液Ｌの曲面の最小の曲率半
径で、塗布速度、塗布液の液膜厚、スライド面角、塗布
液の表面張力等で変化する。ビード有効長Ｘはビードと
円筒状基材１の接触点からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニ
スカスとが接触した点の間の距離である。また、円筒状
基材とスライド面（ホッパー塗布面）との間隙であるコ
ーターギャップＧは円筒状基材１とスライド面１５の終
端との間の距離である。また、液膜厚ｍは円筒状基材１
に塗布された膜厚をいう。更に、スライド面角θは図の
ようにスライド面１５とドラム移動方向と垂直の面との
なす角をいう。
布液Ｌはビードを形成して塗布される。メニスカス最小
曲率半径Ｒはビード部の塗布液Ｌの曲面の最小の曲率半
径で、塗布速度、塗布液の液膜厚、スライド面角、塗布
液の表面張力等で変化する。ビード有効長Ｘはビードと
円筒状基材１の接触点からｄｙ／ｄｘ＝０．０５とメニ
スカスとが接触した点の間の距離である。また、円筒状
基材とスライド面（ホッパー塗布面）との間隙であるコ
ーターギャップＧは円筒状基材１とスライド面１５の終
端との間の距離である。また、液膜厚ｍは円筒状基材１
に塗布された膜厚をいう。更に、スライド面角θは図の
ようにスライド面１５とドラム移動方向と垂直の面との
なす角をいう。
【００２６】図４，図５は円筒状基材１上に２層の塗布
層を形成する重層塗布装置例を示している。図示したの
は２層の重層塗布装置であるが、同様構造によって、或
いはそれらの組み合わせによって３層以上の重層塗布装
置を提供することができる。なお図４，図５において図
１と同一の構成については同一符号を用いて示してい
る。
層を形成する重層塗布装置例を示している。図示したの
は２層の重層塗布装置であるが、同様構造によって、或
いはそれらの組み合わせによって３層以上の重層塗布装
置を提供することができる。なお図４，図５において図
１と同一の構成については同一符号を用いて示してい
る。
【００２７】図４は、同一塗布装置から塗布液ＬＡ，Ｌ
Ｂによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるい
わゆる同時重層塗布装置を示している。処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからはそれぞれ圧送
ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド２０の水平方向に
形成された幅狭の塗布液分配スリット１２Ａ，１２Ｂを
通り円筒状基材１側に環状に開口する塗布液流出口１１
Ａ，１１Ｂが設けられていて、塗布液流出口１１Ａ，１
１Ｂの下側には共通の連続して下方に傾斜し、円筒状基
材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成
されたスライド面１５と、更にこのスライド面１５終端
より下方に延びる唇状部１６が形成されている。かかる
塗布装置においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液ＬＡ，ＬＢをスリット１２Ａ，１２Ｂから押
出しスライド面１５に沿って流下させると塗布液ＬＡ，
ＬＢは２層をなして流下し、スライド面１５の終端に至
った２層の塗布液ＬＡ，ＬＢは円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成したのち基材１の表面に２層の塗布
液ＬＡ，ＬＢが同時に塗布される。
Ｂによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるい
わゆる同時重層塗布装置を示している。処理液ＬＡ，Ｌ
Ｂを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからはそれぞれ圧送
ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド２０の水平方向に
形成された幅狭の塗布液分配スリット１２Ａ，１２Ｂを
通り円筒状基材１側に環状に開口する塗布液流出口１１
Ａ，１１Ｂが設けられていて、塗布液流出口１１Ａ，１
１Ｂの下側には共通の連続して下方に傾斜し、円筒状基
材１の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成
されたスライド面１５と、更にこのスライド面１５終端
より下方に延びる唇状部１６が形成されている。かかる
塗布装置においては、円筒状基材１を引き上げる過程
で、塗布液ＬＡ，ＬＢをスリット１２Ａ，１２Ｂから押
出しスライド面１５に沿って流下させると塗布液ＬＡ，
ＬＢは２層をなして流下し、スライド面１５の終端に至
った２層の塗布液ＬＡ，ＬＢは円筒状基材１の外周面と
の間にビードを形成したのち基材１の表面に２層の塗布
液ＬＡ，ＬＢが同時に塗布される。
【００２８】図５は、複数の塗布装置から塗布液ＬＡ，
ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐
次重層塗布装置を示している。複数の塗布装置では各々
複数の塗布液分配スリット１２、塗布液流出口１１、及
びスライド面（ホッパー塗布面）１５を設け、処理液Ｌ
Ａ，ＬＢを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからそれぞれ
圧送ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド１０Ａ，１０
Ｂの各塗布液分配スリット１２に処理液ＬＡ，ＬＢを供
給し、各々塗布液流出口１１から各々のスライド面（ホ
ッパー塗布面）１５上に流出させ、処理液ＬＡ，ＬＢの
塗布層を円筒状基材１上に逐次形成させる。Ｆは乾燥手
段であり、例えば特願平５−２１６４９５、特願平７−
１７３５１７に記載の方法が良い。
ＬＢによる塗布層を逐次基材上に形成させるいわゆる逐
次重層塗布装置を示している。複数の塗布装置では各々
複数の塗布液分配スリット１２、塗布液流出口１１、及
びスライド面（ホッパー塗布面）１５を設け、処理液Ｌ
Ａ，ＬＢを貯留した貯留タンク４Ａ，４Ｂからそれぞれ
圧送ポンプ５Ａ，５Ｂを介して塗布ヘッド１０Ａ，１０
Ｂの各塗布液分配スリット１２に処理液ＬＡ，ＬＢを供
給し、各々塗布液流出口１１から各々のスライド面（ホ
ッパー塗布面）１５上に流出させ、処理液ＬＡ，ＬＢの
塗布層を円筒状基材１上に逐次形成させる。Ｆは乾燥手
段であり、例えば特願平５−２１６４９５、特願平７−
１７３５１７に記載の方法が良い。
【００２９】本発明の塗布方法では、スライド面終端と
円筒状基材は、ある間隙を持って配置されているため基
材を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成さ
せる場合においても、既に塗布された層を損傷すること
なく塗布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する
層を多層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒
中に存在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層
側へ殆ど溶出しないし、塗布層にも溶出することなく塗
布できる。
円筒状基材は、ある間隙を持って配置されているため基
材を傷つける事なく、また性質の異なる層を多層形成さ
せる場合においても、既に塗布された層を損傷すること
なく塗布できる。更に性質が異なり同一溶媒に溶解する
層を多層形成させる際にも、浸漬塗布方法と比べて溶媒
中に存在する時間がはるかに短いので、下層成分が上層
側へ殆ど溶出しないし、塗布層にも溶出することなく塗
布できる。
【００３０】本発明の塗布方法は、薄膜で均一な塗布膜
を要求する電子写真感光体ドラム、静電記録体の製造、
ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面へ
の塗膜形成等に用いられそれらに制限される事はない。
即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周
面の塗布方法として用いられる。塗布は基材自体が移動
しても塗布装置が移動しても良く、更に円筒状基材を回
転しても良い。なお、前述の分配スリット間隙は５０μ
から５００μが好ましい。
を要求する電子写真感光体ドラム、静電記録体の製造、
ローラ表面上への被覆、エンドレス帯状物等の外周面へ
の塗膜形成等に用いられそれらに制限される事はない。
即ちエンドレスに形成された連続面を有する基材の外周
面の塗布方法として用いられる。塗布は基材自体が移動
しても塗布装置が移動しても良く、更に円筒状基材を回
転しても良い。なお、前述の分配スリット間隙は５０μ
から５００μが好ましい。
【００３１】
【実施例】次に、実施例により本発明について説明する
が、これに限定されるものではない。
が、これに限定されるものではない。
【００３２】＜実施例１＞ （実施例と比較例）導電性支持体としては鏡面加工を施
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記アルミニウムドラム支持体上に
下記のごとく塗布液組成物ＵＣＬ−１を「表１」のメニ
スカス曲率半径Ｒになるようにポリマー濃度（溶媒量の
添加による）を調製し、図２に記載の透明ガラス製スラ
イドホッパー型塗布装置を用いて、「表１」に記載の条
件で塗布し、ビード有効長Ｘ及びメニスカス最小曲率半
径Ｒを写真撮影により測定、また、塗布状態を観察し
た。この時の塗布ドラムを資料Ｎｏ．１−１〜Ｎｏ．１
−２とする。
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記アルミニウムドラム支持体上に
下記のごとく塗布液組成物ＵＣＬ−１を「表１」のメニ
スカス曲率半径Ｒになるようにポリマー濃度（溶媒量の
添加による）を調製し、図２に記載の透明ガラス製スラ
イドホッパー型塗布装置を用いて、「表１」に記載の条
件で塗布し、ビード有効長Ｘ及びメニスカス最小曲率半
径Ｒを写真撮影により測定、また、塗布状態を観察し
た。この時の塗布ドラムを資料Ｎｏ．１−１〜Ｎｏ．１
−２とする。
【００３３】ＵＣＬ−１塗布液組成物は、共重合ナイロ
ン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）、メタノール／ｎ
−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）である。
ン樹脂（ＣＭ−８０００ 東レ社製）、メタノール／ｎ
−ブタノール＝１０／１（Ｖｏｌ比）である。
【００３４】次に、その結果を「表１」に示す。
【００３５】
【表１】
【００３６】上記の表１に示すように、実施例は良好な
結果となっている。
結果となっている。
【００３７】＜実施例２＞ （実施例と比較例）導電性支持体としては鏡面加工を施
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記アルミニウムドラム支持体上に
下記のごとく各塗布液組成物ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２及
びＣＧＬ−３を分散して調製し、「表２」のごとくメニ
スカス曲率半径Ｒになるよう固形分濃度（溶媒量の添加
による）を調製し、図２に記載のごとくの透明ガラス製
スライドホッパー型塗布装置を用いて、「表２」に記載
のごとく塗布し、ビード有効長Ｘ及びメニスカス最小曲
率半径Ｒを写真撮影により測定し、また塗布状態を観察
した。ビード有効長Ｘ，メニスカス最小曲率半径Ｒの測
定は透明ガラス製環状コーターを作製し、ビード部を撮
影して、測定した。
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記アルミニウムドラム支持体上に
下記のごとく各塗布液組成物ＣＧＬ−１、ＣＧＬ−２及
びＣＧＬ−３を分散して調製し、「表２」のごとくメニ
スカス曲率半径Ｒになるよう固形分濃度（溶媒量の添加
による）を調製し、図２に記載のごとくの透明ガラス製
スライドホッパー型塗布装置を用いて、「表２」に記載
のごとく塗布し、ビード有効長Ｘ及びメニスカス最小曲
率半径Ｒを写真撮影により測定し、また塗布状態を観察
した。ビード有効長Ｘ，メニスカス最小曲率半径Ｒの測
定は透明ガラス製環状コーターを作製し、ビード部を撮
影して、測定した。
【００３８】この時の塗布ドラムを資料Ｎｏ．２−１〜
Ｎｏ．２−４とする。
Ｎｏ．２−４とする。
【００３９】ＣＧＬ−１塗布液組成物は、フルオレノン
型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）、ブチラール樹脂（エス
レックＢＸ−Ｌ積水化学社製）、メチルエチルケトンの
塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−
１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用いて２
０時間分散したもの。ＣＧＭ−１の化学式を「化１」に
示す。
型ジスアゾ顔料（ＣＧＭ−１）、ブチラール樹脂（エス
レックＢＸ−Ｌ積水化学社製）、メチルエチルケトンの
塗布液組成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−
１：ＢＸ−Ｌ＝３：１に固定）をサンドミルを用いて２
０時間分散したもの。ＣＧＭ−１の化学式を「化１」に
示す。
【００４０】
【化１】
【００４１】ＣＧＬ−２塗布液組成物は、ペリレン系顔
料（ＣＧＭ−４）、ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−
Ｌ積水化学社製）、メチルエチルケトンの塗布液組成物
（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−４：ＢＸ−Ｌ
＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散し
たもの。ＣＧＭ−４の化学式を「化２」に示す。
料（ＣＧＭ−４）、ブチラール樹脂（エスレックＢＸ−
Ｌ積水化学社製）、メチルエチルケトンの塗布液組成物
（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−４：ＢＸ−Ｌ
＝２：１に固定）をサンドミルを用いて２０時間分散し
たもの。ＣＧＭ−４の化学式を「化２」に示す。
【００４２】
【化２】
【００４３】ＣＧＬ−３塗布液組成物は、Ｙ型チタニル
フタロシアニン（ＣＧＭ−３）、シリコーン樹脂（ＫＲ
−５２４０信越化学社製）、ｔ−酢酸ブチルの塗布液組
成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ
−５２４０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて１７
時間分散したもの。ＣＧＭ−３の化学式を「化３」に示
す。
フタロシアニン（ＣＧＭ−３）、シリコーン樹脂（ＫＲ
−５２４０信越化学社製）、ｔ−酢酸ブチルの塗布液組
成物（固形分については固形分重量比ＣＧＭ−３：ＫＲ
−５２４０＝２：１に固定）をサンドミルを用いて１７
時間分散したもの。ＣＧＭ−３の化学式を「化３」に示
す。
【００４４】
【化３】
【００４５】次に、その結果を「表２」に示す。
【００４６】
【表２】
【００４７】上記の「表２」に示すように、良好な結果
となっている。
となっている。
【００４８】＜実施例３＞ （実施例と比較例）導電性支持体としては鏡面加工を施
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記支持体上に下記のごとく塗布液
組成物ＣＴＬ−１を「表３」のごとくメニスカス曲率半
径Ｒになるよう固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
製し、図２に示す透明ガラス製スライドホッパー型塗布
装置を用いて、「表３」に記載のごとく塗布し、ビード
有効長Ｘ及びメニスカス最小曲率半径Ｒを写真撮影によ
り測定、また塗布状態を観察した。この時の塗布ドラム
をＮｏ．３−１〜３−４とする。
した直径８０ｍｍ、高さ３５５ｍｍのアルミニウムドラ
ム支持体を用いた。前記支持体上に下記のごとく塗布液
組成物ＣＴＬ−１を「表３」のごとくメニスカス曲率半
径Ｒになるよう固形分濃度（溶媒量の添加による）を調
製し、図２に示す透明ガラス製スライドホッパー型塗布
装置を用いて、「表３」に記載のごとく塗布し、ビード
有効長Ｘ及びメニスカス最小曲率半径Ｒを写真撮影によ
り測定、また塗布状態を観察した。この時の塗布ドラム
をＮｏ．３−１〜３−４とする。
【００４９】ＣＴＬ−１塗布液組成物は、ＣＴＭ−１、
ポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）、
１，２−ジクロロエタンで、固形分については固形分重
量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定して
いる。ＣＧＭ−１の化学式を「化４」に示す。
ポリカーボネート（Ｚ−２００三菱瓦斯化学社製）、
１，２−ジクロロエタンで、固形分については固形分重
量比ＣＴＭ−１：Ｚ−２００＝０．８９：１に固定して
いる。ＣＧＭ−１の化学式を「化４」に示す。
【００５０】
【化４】
【００５１】次に、その結果を「表３」に示す。
【００５２】
【表３】
【００５３】上記の「表３」に示すように、実施例は良
好な結果となっている。
好な結果となっている。
【００５４】＜実施例４＞ （実施例と比較例）図５に示す逐次重層塗布形式で３つ
の塗布ヘッドを重ねた塗布装置を用いて、実施例１と同
じドラム上に＜実施例１＞の塗布液ＵＣＬ−１を、この
上に＜実施例２＞の塗布液ＣＧＬ−２を、更にこの上に
＜実施例３＞の塗布液ＣＴＬ−１をドラム移動速度１５
ｍｍ／ｓｅｃで逐次塗布した。得られた感光体を用い実
写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラ
はなく良好な画像が得られた。なお、３層塗布時に於い
ては３層ともにＸ；５０μから１ｍｍ，Ｒ；６０μから
５００μ、Ｇ；１００μから３００μの範囲内にあっ
て、スライド角は６０°のものを使用した。
の塗布ヘッドを重ねた塗布装置を用いて、実施例１と同
じドラム上に＜実施例１＞の塗布液ＵＣＬ−１を、この
上に＜実施例２＞の塗布液ＣＧＬ−２を、更にこの上に
＜実施例３＞の塗布液ＣＴＬ−１をドラム移動速度１５
ｍｍ／ｓｅｃで逐次塗布した。得られた感光体を用い実
写テストを行ったところ、塗布ムラに起因する画像ムラ
はなく良好な画像が得られた。なお、３層塗布時に於い
ては３層ともにＸ；５０μから１ｍｍ，Ｒ；６０μから
５００μ、Ｇ；１００μから３００μの範囲内にあっ
て、スライド角は６０°のものを使用した。
【００５５】
【発明の効果】以上のように構成したので下記の効果を
奏する。
奏する。
【００５６】請求項１、６記載の発明は、エンドレスに
形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させなが
ら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通し
て前記円筒状基材の周面を取り囲むように円筒状基材全
周にわたって近接形成されたスライド面に設けられたエ
ンドレスの塗布液流出口から該スライド面上に流出さ
せ、前記円筒状基材とスライド面の先端部にビードを形
成させて連続塗布を行う塗布方法において、前記ビード
有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍで、前記ビードのメニスカス
最小曲率半径Ｒが５０μ〜８００μであり、前記円筒状
スライド面角θが１０〜７０度であるので、塗布性が良
好で、ビード切れが無くなく、ビードの振動がなく、ビ
ードが安定しており、円周及び長手方向の膜厚変動が無
く、送液の脈動変動に強い。
形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させなが
ら、塗布液を塗布液分配室から該分配室スリットを通し
て前記円筒状基材の周面を取り囲むように円筒状基材全
周にわたって近接形成されたスライド面に設けられたエ
ンドレスの塗布液流出口から該スライド面上に流出さ
せ、前記円筒状基材とスライド面の先端部にビードを形
成させて連続塗布を行う塗布方法において、前記ビード
有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍで、前記ビードのメニスカス
最小曲率半径Ｒが５０μ〜８００μであり、前記円筒状
スライド面角θが１０〜７０度であるので、塗布性が良
好で、ビード切れが無くなく、ビードの振動がなく、ビ
ードが安定しており、円周及び長手方向の膜厚変動が無
く、送液の脈動変動に強い。
【００５７】請求項２記載の発明は、前記円筒状基材と
スライド面との間隙であるコーターギャップＧが５０〜
５００μであるので、塗布性が良好で、ビード切れが無
い。
スライド面との間隙であるコーターギャップＧが５０〜
５００μであるので、塗布性が良好で、ビード切れが無
い。
【００５８】請求項３記載の発明は、円筒状基材の移動
速度が６〜５０ｍｍ／ｓｅｃである、ビード切れが無
い。
速度が６〜５０ｍｍ／ｓｅｃである、ビード切れが無
い。
【００５９】請求項４記載の発明は、各々複数の塗布液
分配スリット及び塗布液流出口を設け、異なる塗布液を
塗布液分配スリット及び塗布液流出口から同一スライド
面上に流出させ、複数の塗布層を同時に円筒状基材上に
形成させるので、塗布時間が短い。
分配スリット及び塗布液流出口を設け、異なる塗布液を
塗布液分配スリット及び塗布液流出口から同一スライド
面上に流出させ、複数の塗布層を同時に円筒状基材上に
形成させるので、塗布時間が短い。
【００６０】請求項５記載の発明は、各々複数の塗布液
分配スリット、塗布液流出口及びスライド面を設け、異
なる塗布液を各々の塗布液分配スリットに供給し、各々
の塗布液流出口から各々のスライド面に供給させ、複数
の塗布層を基材上に逐次形成させるので、塗布時間が短
い。
分配スリット、塗布液流出口及びスライド面を設け、異
なる塗布液を各々の塗布液分配スリットに供給し、各々
の塗布液流出口から各々のスライド面に供給させ、複数
の塗布層を基材上に逐次形成させるので、塗布時間が短
い。
【図１】本発明に係わる塗布装置例の縦断面図である。
【図２】本発明に係わる塗布装置例の斜視図である。
【図３】本発明に係わるメニスカス最小曲率半径Ｒ、ビ
ード有効長Ｘ、コーターギャップＧの関係図である。
ード有効長Ｘ、コーターギャップＧの関係図である。
【図４】本発明に係わる同時重層塗布装置例の縦断面図
である。
である。
【図５】本発明に係わる逐次重層塗布装置例の縦断面図
である。
である。
１、１Ａ、１Ｂ 円筒状基材（基材） ４ 貯留タンク ５ 圧送ポンプ １０，１０Ａ、１０Ｂ、２０ 塗布ヘッド １１ 塗布液流出口 １２ スリット（塗布液分配スリット） １３ 塗布液分配室 １４ 供給管 １５ スライド面 １６ 唇状部 Ｌ 塗布液 ｍ 塗布膜厚 Ｇ コーターギャップ
Claims (6)
- 【請求項１】 エンドレスに形成された連続周面を有す
る円筒状基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室
から該分配室スリットを通して前記円筒状基材の周面を
取り囲むように円筒状基材全周にわたって近接形成され
たスライド面に設けられたエンドレスの塗布液流出口か
ら該スライド面上に流出させ、前記円筒状基材とスライ
ド面の先端部にビードを形成させて連続塗布を行う塗布
方法において、前記ビード有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍ
で、前記ビードのメニスカス最小曲率半径Ｒが５０μ〜
８００μであり、前記円筒状スライド面角θが１０〜７
０度であることを特徴とする円筒状基材の塗布方法。 - 【請求項２】 前記円筒状基材とスライド面との間隙で
あるコーターギャップＧが５０〜５００μであることを
特徴とする請求項１に記載の円筒状基材の塗布方法。 - 【請求項３】 前記円筒状基材の移動速度が６〜５０ｍ
ｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項１に記載の円
筒状基材の塗布方法。 - 【請求項４】 各々複数の塗布液分配スリット及び塗布
液流出口を設け、異なる塗布液を塗布液分配スリット及
び塗布液流出口から同一スライド面上に流出させ、複数
の塗布層を同時に円筒状基材上に形成させることを特徴
とする請求項１又は２に記載の円筒状基材の塗布方法。 - 【請求項５】 各々複数の塗布液分配スリット、塗布液
流出口及びスライド面を設け、異なる塗布液を各々の塗
布液分配スリットに供給し、各々の塗布液流出口から各
々のスライド面に供給させ、複数の塗布層を基材上に逐
次形成させることを特徴とする請求項１又は２に記載の
円筒状基材の塗布方法。 - 【請求項６】 エンドレスに形成された連続周面を有す
る円筒状基材を移動させながら、塗布液を塗布液分配室
から該分配室スリットを通して前記基材周面を取り囲む
ように基材全周にわたって近接形成されたスライド面に
設けられたエンドレスの塗布液流出口から該スライド面
上に流出させ、前記円筒状基材とスライド面の先端部に
ビードを形成させて連続塗布を行う塗布装置において、
前記ビード有効長Ｘが２０μ〜２ｍｍであり、前記ビー
ドのメニスカス最小曲率半径Ｒが５０μ〜８００μであ
り、前記スライド面角θが１０〜７０度であることを特
徴とする円筒状基材の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25466296A JP3661303B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25466296A JP3661303B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1099761A true JPH1099761A (ja) | 1998-04-21 |
| JP3661303B2 JP3661303B2 (ja) | 2005-06-15 |
Family
ID=17268130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25466296A Expired - Fee Related JP3661303B2 (ja) | 1996-09-26 | 1996-09-26 | 円筒状基材の塗布方法及び該塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3661303B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005321749A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-11-17 | Canon Inc | 弾性ローラの製造方法、及び電子写真用プロセスカートリッジ |
| DE102004044576A1 (de) * | 2004-09-13 | 2006-03-30 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung |
-
1996
- 1996-09-26 JP JP25466296A patent/JP3661303B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005321749A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-11-17 | Canon Inc | 弾性ローラの製造方法、及び電子写真用プロセスカートリッジ |
| JP4596888B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2010-12-15 | キヤノン株式会社 | 弾性ローラの製造方法 |
| DE102004044576A1 (de) * | 2004-09-13 | 2006-03-30 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung |
| DE102004044576B4 (de) * | 2004-09-13 | 2007-09-27 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung und deren Verwendung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3661303B2 (ja) | 2005-06-15 |
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