JPH1081750A - 自己硬化型セラミツク化可能ポリシロキサン類 - Google Patents
自己硬化型セラミツク化可能ポリシロキサン類Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 自己硬化型セラミック化可能ポリシロキサン
類の製造方法の提供。 【解決手段】 シリコンオキシカーバイドのセラミック
組成物製造における出発材料として有益な、ポリシロキ
サン類がシロキシ末端ブロック化されているところの、
アルキルヒドロシロキサン単位とアルキルビニルシロキ
サン単位の両方を含有しているポリシロキサン類を開示
する。
類の製造方法の提供。 【解決手段】 シリコンオキシカーバイドのセラミック
組成物製造における出発材料として有益な、ポリシロキ
サン類がシロキシ末端ブロック化されているところの、
アルキルヒドロシロキサン単位とアルキルビニルシロキ
サン単位の両方を含有しているポリシロキサン類を開示
する。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、ポリシロキサン類がシロキシ
末端ブロック化されているところの、アルキルヒドロシ
ロキサン単位とアルキルビニルシロキサン単位の両方を
含有しているポリシロキサン類に関する。これらのポリ
シロキサン類は、シリコンオキシカーバイドのセラミッ
ク組成物用出発材料として有益である。
末端ブロック化されているところの、アルキルヒドロシ
ロキサン単位とアルキルビニルシロキサン単位の両方を
含有しているポリシロキサン類に関する。これらのポリ
シロキサン類は、シリコンオキシカーバイドのセラミッ
ク組成物用出発材料として有益である。
【０００２】
【従来技術の説明】メチルヒドロシロキサンとメチルビ
ニルシロキサン単位を含有しているポリシロキサン類
は、クロロシラン類の加水分解による環状シロキサン類
製造における副生成物として製造されてきた（K.A. And
rianov他、 Zhur. Obshch. Khim.、 35、103 (1965); 35 5
24 (1965);およびJ. Organometal Chem.、 4、 440 (196
5)）。これらの単位を有する上記文献のポリシロキサン
類は、ヒドロキシ末端ブロック化され、即ちヒドロキシ
ル基末端を有しており、そして上記シロキサン類を硬化
するとき水が生成し、これは、セラミック加工において
許容されるものではない（米国特許番号2,714,099）。
更に、これらのポリシロキサン類は、必須であるところ
の等モル量のメチルヒドロシロキサンとメチルビニルシ
ロキサン単位とを含有していなかった。これらの文献の
環状シロキサンはセラミック組成物において利用できる
ものでなく、それらは除去される必要がある。
ニルシロキサン単位を含有しているポリシロキサン類
は、クロロシラン類の加水分解による環状シロキサン類
製造における副生成物として製造されてきた（K.A. And
rianov他、 Zhur. Obshch. Khim.、 35、103 (1965); 35 5
24 (1965);およびJ. Organometal Chem.、 4、 440 (196
5)）。これらの単位を有する上記文献のポリシロキサン
類は、ヒドロキシ末端ブロック化され、即ちヒドロキシ
ル基末端を有しており、そして上記シロキサン類を硬化
するとき水が生成し、これは、セラミック加工において
許容されるものではない（米国特許番号2,714,099）。
更に、これらのポリシロキサン類は、必須であるところ
の等モル量のメチルヒドロシロキサンとメチルビニルシ
ロキサン単位とを含有していなかった。これらの文献の
環状シロキサンはセラミック組成物において利用できる
ものでなく、それらは除去される必要がある。
【０００３】米国特許番号4,578,493には、他の単位、
特にポリシロキサン類がシリル末端ブロック化されてい
るジメチルシロキサン単位と一緒にメチルヒドロシロキ
サンおよびメチルビニルシロキサン単位を含有している
ポリシロキサン類が開示されている。これらのポリシロ
キサン類は、Ｍｅ3ＳｉＣｌ、ＭｅＳｉＨＣｌ2、ＭｅＳ
ｉＣｌ2ＣＨ＝ＣＨ2、Ｍｅ2ＳｉＣｌ2およびＨＳｉＣｌ
3の共加水分解により製造され、そして周囲温度におけ
る離型コーティング物として使用される。この文献のポ
リシロキサン類は、多量のジメチルシロキサン単位を有
しており、従ってセラミック用途には不適切である。
特にポリシロキサン類がシリル末端ブロック化されてい
るジメチルシロキサン単位と一緒にメチルヒドロシロキ
サンおよびメチルビニルシロキサン単位を含有している
ポリシロキサン類が開示されている。これらのポリシロ
キサン類は、Ｍｅ3ＳｉＣｌ、ＭｅＳｉＨＣｌ2、ＭｅＳ
ｉＣｌ2ＣＨ＝ＣＨ2、Ｍｅ2ＳｉＣｌ2およびＨＳｉＣｌ
3の共加水分解により製造され、そして周囲温度におけ
る離型コーティング物として使用される。この文献のポ
リシロキサン類は、多量のジメチルシロキサン単位を有
しており、従ってセラミック用途には不適切である。
【０００４】メチルヒドロシロキサン含有ポリシロキサ
ン類は通常酸触媒により平衡にされ、一方メチルビニル
シロキサン単位含有ポリシロキサン類は通常塩基性触媒
で平衡にされる（「シリコン類の化学および技術」（Th
e Chemistry and Technologyof silicones）、W. Noll、
第2版、 (Academic Press: 1968)、 219-229頁）。更
に、メチルヒドロシロキサンとメチルビニルシロキサン
両単位含有ポリシロキサン類の、平衡による製造におい
て、いかなる単一触媒も明らかに有効でない。
ン類は通常酸触媒により平衡にされ、一方メチルビニル
シロキサン単位含有ポリシロキサン類は通常塩基性触媒
で平衡にされる（「シリコン類の化学および技術」（Th
e Chemistry and Technologyof silicones）、W. Noll、
第2版、 (Academic Press: 1968)、 219-229頁）。更
に、メチルヒドロシロキサンとメチルビニルシロキサン
両単位含有ポリシロキサン類の、平衡による製造におい
て、いかなる単一触媒も明らかに有効でない。
【０００５】米国特許番号3,843,702には、通常トリフ
リック・アシッド（triflic acid）と呼ばれているトリ
フルオロメタンスルホン酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）が、水素結
合に対するシリコンもビニル基に結合したシリコンも含
有していない低分子量ポリシロキサン平衡化のための、
触媒になり得ることが開示されている。米国特許番号4,
634,610および4,634,755は、水素結合に対するシリコン
を含有していないところの、ジメチルシロキサンおよび
メチルビニルシロキサンの如き基を有するポリシロキサ
ン類を製造するためのトリフルオロメタンスルホン酸の
使用に関する。これらの文献のどこにも、水素に結合し
たシリコンとビニル基に結合したシリコンの両方を含有
しているポリシロキサンを製造するための平衡方法は開
示されていない。
リック・アシッド（triflic acid）と呼ばれているトリ
フルオロメタンスルホン酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）が、水素結
合に対するシリコンもビニル基に結合したシリコンも含
有していない低分子量ポリシロキサン平衡化のための、
触媒になり得ることが開示されている。米国特許番号4,
634,610および4,634,755は、水素結合に対するシリコン
を含有していないところの、ジメチルシロキサンおよび
メチルビニルシロキサンの如き基を有するポリシロキサ
ン類を製造するためのトリフルオロメタンスルホン酸の
使用に関する。これらの文献のどこにも、水素に結合し
たシリコンとビニル基に結合したシリコンの両方を含有
しているポリシロキサンを製造するための平衡方法は開
示されていない。
【０００６】米国特許番号4,222,952には、水素に結合
したシリコンを含有しているポリシロキサン類は転移さ
せることができ、従って平衡化触媒としてペンダント型
スルホン酸基含有固体状の完全フッ素置換ポリマー類を
用いて平衡化できることが開示されている。
したシリコンを含有しているポリシロキサン類は転移さ
せることができ、従って平衡化触媒としてペンダント型
スルホン酸基含有固体状の完全フッ素置換ポリマー類を
用いて平衡化できることが開示されている。
【０００７】米国特許番号4,581,391には、ポリシロキ
サン類中のメチルビニルシロキサン単位は、高温にさら
してセラミック残渣もしくは黒化物を生じさせることに
より、ジオルガノシロキサンポリマー類の耐融除性／絶
縁特性を上昇させることが開示されている。この文献
中、架橋用白金触媒の存在下メチルヒドロシロキサン単
位含有第二ポリシロキサンを添加することによって該ポ
リシロキサン類が硬化させられている。
サン類中のメチルビニルシロキサン単位は、高温にさら
してセラミック残渣もしくは黒化物を生じさせることに
より、ジオルガノシロキサンポリマー類の耐融除性／絶
縁特性を上昇させることが開示されている。この文献
中、架橋用白金触媒の存在下メチルヒドロシロキサン単
位含有第二ポリシロキサンを添加することによって該ポ
リシロキサン類が硬化させられている。
【０００８】米国特許番号4,888,376には、メチルヒド
ロシロキサンおよびメチルビニルシロキサン単位を含有
しているヒドロキシ末端ブロック化ポリシロキサン、並
びにメチルヒドロシロキサン単位またはメチルビニルシ
ロキサン単位のどちらかを有しているが、同一ポリシロ
キサン中にはこれらの２つの単位を有していないところ
の、シロキシ末端ブロック化ポリシロキサンが開示され
ている。
ロシロキサンおよびメチルビニルシロキサン単位を含有
しているヒドロキシ末端ブロック化ポリシロキサン、並
びにメチルヒドロシロキサン単位またはメチルビニルシ
ロキサン単位のどちらかを有しているが、同一ポリシロ
キサン中にはこれらの２つの単位を有していないところ
の、シロキシ末端ブロック化ポリシロキサンが開示され
ている。
【０００９】従って、従来技術には、シリコンオキシカ
ーバイドのセラミック組成物に有効なセラミック先駆体
であるところの、アルキルヒドロシロキサンとアルキル
ビニルシロキサンの両方の単位を含有しているシロキシ
末端ブロック化ポリシロキサン類は開示されていない。
更に、従来技術には、アルキルヒドロシロキサンとアル
キルビニルシロキサンの両方の単位を含有しているシロ
キシ末端ブロック化ポリシロキサン類を製造するための
平衡化方法も開示されていない。
ーバイドのセラミック組成物に有効なセラミック先駆体
であるところの、アルキルヒドロシロキサンとアルキル
ビニルシロキサンの両方の単位を含有しているシロキシ
末端ブロック化ポリシロキサン類は開示されていない。
更に、従来技術には、アルキルヒドロシロキサンとアル
キルビニルシロキサンの両方の単位を含有しているシロ
キシ末端ブロック化ポリシロキサン類を製造するための
平衡化方法も開示されていない。
【００１０】
【発明の目的】本発明の第一目的は、ポリシロキサン類
がシロキシ末端ブロック化されているところの、アルキ
ルヒドロシロキサン単位とアルキルビニルシロキサン単
位とを有するポリシロキサン類を提供することにある。
がシロキシ末端ブロック化されているところの、アルキ
ルヒドロシロキサン単位とアルキルビニルシロキサン単
位とを有するポリシロキサン類を提供することにある。
【００１１】本発明の１つの目的は、シリコンオキシカ
ーバイドのセラミック組成物製造における出発材料とし
て有益なポリシロキサン類を提供することにある。
ーバイドのセラミック組成物製造における出発材料とし
て有益なポリシロキサン類を提供することにある。
【００１２】本発明に関連して、アルキルヒドロシロキ
サン単位とアルキルビニルシロキサン単位とを有するシ
ロキシ末端ブロック化ポリシロキサンを平衡化方法によ
り製造するための方法が提供される。
サン単位とアルキルビニルシロキサン単位とを有するシ
ロキシ末端ブロック化ポリシロキサンを平衡化方法によ
り製造するための方法が提供される。
【００１３】本発明に更に関連して、上記ポリシロキサ
ン類を高収量で製造し、そしてこのポリシロキサンから
の環状シロキサン類除去を制限できるように環状シロキ
サン類を低レベルにする方法が提供される。
ン類を高収量で製造し、そしてこのポリシロキサンから
の環状シロキサン類除去を制限できるように環状シロキ
サン類を低レベルにする方法が提供される。
【００１４】本発明の他の目的および利点は、以下に示
す説明および実施例により明らかになるであろう。
す説明および実施例により明らかになるであろう。
【００１５】
【発明の要約】本発明は、式
【００１６】
【化２】
【００１７】［式中、Ｒ’は、１〜４個の炭素原子を有
するアルキル基であり、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｘは、
１〜２の値であり、ｙは、０〜１の値であり、ｚは、０
〜１の値である、但し、ｘ＋ｙは２であり、ｘ＋ｚは２
であり、ｙおよびｚは各々少なくとも０．７５の平均値
を有しており、そしてａおよびｂは各々２〜１００の平
均値を有していることを条件とする］を有する平衡化方
法により製造された、セラミック先駆体としてのポリシ
ロキサンを提供する。
するアルキル基であり、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｘは、
１〜２の値であり、ｙは、０〜１の値であり、ｚは、０
〜１の値である、但し、ｘ＋ｙは２であり、ｘ＋ｚは２
であり、ｙおよびｚは各々少なくとも０．７５の平均値
を有しており、そしてａおよびｂは各々２〜１００の平
均値を有していることを条件とする］を有する平衡化方
法により製造された、セラミック先駆体としてのポリシ
ロキサンを提供する。
【００１８】本発明はまた、（１）周囲もしくはそれ以
上の温度および圧力下で撹拌しながらスルホン酸触媒の
存在下、単位Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩを含むシロキサン類
の反応混合物｛ここで、シロキサン類は、（ｉ） (OSiR′H)c, (OSiR′CH=CH2)c, (OSiR′2)d, (OSiR′H)e(OSiR′CH=CH2)f, (OSiR′2)e(OSiR′H)f，および (OSiR′2)e(OSiR′CH=CH2)f から成る群から選択される環状シロキサン類［ここで、
ｃおよびｄは３〜１０の範囲の正の整数であり、そして
ｅおよびｆは正の整数であり、そしてｅ＋ｆはｃもしく
はｄと等しい］から選択される少なくとも１種のシロキ
サンと、群（ｉｉ）または群（ｉｉｉ）［ここで、群
（ｉｉ）は、式 Ｒ”3ＳｉＯＳｉＲ”3 の末端ブロック化用ジシロキサン類から成り、そして群
（ｉｉｉ）は、 R"3Si(OSiR'H)gOSiR"3, R"3Si(OSiR'CH=CH2)gOSiR'3, および R"3Si(OSiR'2)gOSiR'3 （式中、ｇは１〜１００の範囲の正の整数である）から
成る群から選択される線状シロキサン類から成る］から
選択される１種以上のシロキサン類と、から選択される
［ここで、群（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）中、
Ｒ’は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、
そしてＲ”は水素、１〜４個の炭素原子を有するアルキ
ル基、或はビニル基である、但しｙおよびｚは各々０．
７５の平均値を有することを条件とする］｝を反応さ
せ、（２）該触媒を中和し、そして（３）該ポリシロキ
サンを真空脱溶媒する、ことから成る、上記ポリシロキ
サンの製造方法に関連する。
上の温度および圧力下で撹拌しながらスルホン酸触媒の
存在下、単位Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩを含むシロキサン類
の反応混合物｛ここで、シロキサン類は、（ｉ） (OSiR′H)c, (OSiR′CH=CH2)c, (OSiR′2)d, (OSiR′H)e(OSiR′CH=CH2)f, (OSiR′2)e(OSiR′H)f，および (OSiR′2)e(OSiR′CH=CH2)f から成る群から選択される環状シロキサン類［ここで、
ｃおよびｄは３〜１０の範囲の正の整数であり、そして
ｅおよびｆは正の整数であり、そしてｅ＋ｆはｃもしく
はｄと等しい］から選択される少なくとも１種のシロキ
サンと、群（ｉｉ）または群（ｉｉｉ）［ここで、群
（ｉｉ）は、式 Ｒ”3ＳｉＯＳｉＲ”3 の末端ブロック化用ジシロキサン類から成り、そして群
（ｉｉｉ）は、 R"3Si(OSiR'H)gOSiR"3, R"3Si(OSiR'CH=CH2)gOSiR'3, および R"3Si(OSiR'2)gOSiR'3 （式中、ｇは１〜１００の範囲の正の整数である）から
成る群から選択される線状シロキサン類から成る］から
選択される１種以上のシロキサン類と、から選択される
［ここで、群（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）中、
Ｒ’は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、
そしてＲ”は水素、１〜４個の炭素原子を有するアルキ
ル基、或はビニル基である、但しｙおよびｚは各々０．
７５の平均値を有することを条件とする］｝を反応さ
せ、（２）該触媒を中和し、そして（３）該ポリシロキ
サンを真空脱溶媒する、ことから成る、上記ポリシロキ
サンの製造方法に関連する。
【００１９】本発明は更に、シリコンオキシカーバイド
のセラミック組成物、並びに周囲圧力下の窒素またはア
ルゴンから成る不活性雰囲気中約５００〜１３００℃の
範囲の温度に該ポリシロキサンを加熱することから成
る、上記ポリシロキサンをシリコンカーバイドのセラミ
ック組成物に変換する方法に関連する。
のセラミック組成物、並びに周囲圧力下の窒素またはア
ルゴンから成る不活性雰囲気中約５００〜１３００℃の
範囲の温度に該ポリシロキサンを加熱することから成
る、上記ポリシロキサンをシリコンカーバイドのセラミ
ック組成物に変換する方法に関連する。
【００２０】
【発明の詳細な記述】本発明において、ポリシロキサン
類がシロキシ末端ブロック化されているところの、同一
ポリマー内にアルキルヒドロシロキサンとアルキルビニ
ルシロキサン単位の両方を含有しているポリシロキサン
を開示する。本発明のポリシロキサン類は平衡化方法に
より製造される。本発明のポリシロキサン類は、式
類がシロキシ末端ブロック化されているところの、同一
ポリマー内にアルキルヒドロシロキサンとアルキルビニ
ルシロキサン単位の両方を含有しているポリシロキサン
を開示する。本発明のポリシロキサン類は平衡化方法に
より製造される。本発明のポリシロキサン類は、式
【００２１】
【化３】
【００２２】によって表される。
【００２３】上記式（１）中、Ｒ’は１〜４個の炭素原
子を有するアルキル基である。好適にはＲ’はメチル基
である。上記式（１）中のＲ”は、水素、ビニル基、或
は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基である。好適
にはＲ”は、水素、ビニル基、またはメチル基である。
最も好適には、Ｒ”基の少なくとも７５％がメチル基で
ある。
子を有するアルキル基である。好適にはＲ’はメチル基
である。上記式（１）中のＲ”は、水素、ビニル基、或
は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基である。好適
にはＲ”は、水素、ビニル基、またはメチル基である。
最も好適には、Ｒ”基の少なくとも７５％がメチル基で
ある。
【００２４】式（１）中、ｘ、ｙおよびｚは整数であ
る。ｘは１〜２の値を有し、ｙは０または１の値を有
し、そしてｚは０〜１の値を有する、但し、ｘ＋ｙは２
であり、ｘ＋ｚは２であり、ｙおよびｚは各々式（１）
の少なくとも０．７５の平均値を有する。好適には、ｙ
は１でありそしてｚは１である。最も好適には、ｘ、ｙ
およびｚは各々１である。
る。ｘは１〜２の値を有し、ｙは０または１の値を有
し、そしてｚは０〜１の値を有する、但し、ｘ＋ｙは２
であり、ｘ＋ｚは２であり、ｙおよびｚは各々式（１）
の少なくとも０．７５の平均値を有する。好適には、ｙ
は１でありそしてｚは１である。最も好適には、ｘ、ｙ
およびｚは各々１である。
【００２５】更に、式（１）中、ａおよびｂは各々２〜
１００の平均値を有する。好適にはａ＋ｂは４〜１００
であり、最も好適にはａ＋ｂは４〜５０である。特に好
適な具体例において、ａ＋ｂは１０〜５０である。式
（１）中、ａ対ｂの比は約０．５：１〜１：０．５であ
り、好適には約０．７５：１〜１：０．７５であり、最
も好適には約１：１である。
１００の平均値を有する。好適にはａ＋ｂは４〜１００
であり、最も好適にはａ＋ｂは４〜５０である。特に好
適な具体例において、ａ＋ｂは１０〜５０である。式
（１）中、ａ対ｂの比は約０．５：１〜１：０．５であ
り、好適には約０．７５：１〜１：０．７５であり、最
も好適には約１：１である。
【００２６】本発明の好適な具体例は、Ｒ’とＲ”がメ
チル基であり、ｘ、ｙおよびｚは各々１であり、ａ＋ｂ
が１０〜５０であり、そしてａ対ｂの比が約１：１であ
るところの、式（１）に従うポリシロキサン組成物であ
る。
チル基であり、ｘ、ｙおよびｚは各々１であり、ａ＋ｂ
が１０〜５０であり、そしてａ対ｂの比が約１：１であ
るところの、式（１）に従うポリシロキサン組成物であ
る。
【００２７】本発明のポリシロキサン類は、少なくとも
１種の環状シロキサン（ｉ）と、末端ブロック化用ジシ
ロキサン（ｉｉ）および／または線状シロキサン（ｉｉ
ｉ）とを、触媒の存在下反応させることから成る平衡化
方法により製造される。上記シロキサン類は、シリコン
と結合した水素およびシリコンと結合したビニル基を含
有しているところの、主要部分の個々の単位ＩＩおよび
ＩＩＩから構成されている。ここで用いるシロキサン類
の全ては、市販されそして／またはそれらの製造は本分
野の技術者に公知である。
１種の環状シロキサン（ｉ）と、末端ブロック化用ジシ
ロキサン（ｉｉ）および／または線状シロキサン（ｉｉ
ｉ）とを、触媒の存在下反応させることから成る平衡化
方法により製造される。上記シロキサン類は、シリコン
と結合した水素およびシリコンと結合したビニル基を含
有しているところの、主要部分の個々の単位ＩＩおよび
ＩＩＩから構成されている。ここで用いるシロキサン類
の全ては、市販されそして／またはそれらの製造は本分
野の技術者に公知である。
【００２８】適切な出発材料には次のものが含まれる： （ｉ）式： (OSiR′H)c, (OSiR′CH=CH2)c, (OSiR′2)d, (OSiR′H)e(OSiR′CH=CH2)f, (OSiR′2)e(OSiR′H)f，および (OSiR′2)e(OSiR′CH=CH2)f ［式中、ｃおよびｄは各々３〜１０の範囲の正の整数で
あり、そしてｅおよびｆは正の整数であり、そしてｅ＋
ｆはｃまたはｄと同じである］の環状シロキサン類、説
明的環状シロキサン類には、 (OSi(CH3)H)C, (OSi(CH3)CH=CH2)c, (Si(CH3)H)e(OSi(CH3)CH=CH2)f が含まれ、 （ｉｉ）式： Ｒ”3ＳｉＯＳｉＲ”3 ［式中、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は１〜４個の炭素
原子を有するアルキル基である］の末端ブロック化用ジ
シロキサン類、説明的末端ブロック化用ジシロキサン類
には、 ((CH3)3Si)2O, (CH2=CH(CH3)2Si)2O, および (H(CH3)2Si)2O が含まれ、 （ｉｉｉ）式： R"3Si(OSiR'H)gOSiR"3, R"3Si(OSiR'CH=CH2)gOSiR"3, および R"3Si(OSiR'2)gOSiR"3 ［式中、ｇは１〜１００の範囲の正の整数である］の線
状シロキサン類、本発明の方法における出発材料として
適切な説明的線状シロキサン類には、 (CH3)3Si(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)3 H(CH3)2Si(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)2H (CH3)3Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)3 H(CH3)2Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)2H CH2=CHSi(CH3)2(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)2CH=CH2 および CH2=CH(CH3)2Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)2CH=CH2 が含まれる。
あり、そしてｅおよびｆは正の整数であり、そしてｅ＋
ｆはｃまたはｄと同じである］の環状シロキサン類、説
明的環状シロキサン類には、 (OSi(CH3)H)C, (OSi(CH3)CH=CH2)c, (Si(CH3)H)e(OSi(CH3)CH=CH2)f が含まれ、 （ｉｉ）式： Ｒ”3ＳｉＯＳｉＲ”3 ［式中、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は１〜４個の炭素
原子を有するアルキル基である］の末端ブロック化用ジ
シロキサン類、説明的末端ブロック化用ジシロキサン類
には、 ((CH3)3Si)2O, (CH2=CH(CH3)2Si)2O, および (H(CH3)2Si)2O が含まれ、 （ｉｉｉ）式： R"3Si(OSiR'H)gOSiR"3, R"3Si(OSiR'CH=CH2)gOSiR"3, および R"3Si(OSiR'2)gOSiR"3 ［式中、ｇは１〜１００の範囲の正の整数である］の線
状シロキサン類、本発明の方法における出発材料として
適切な説明的線状シロキサン類には、 (CH3)3Si(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)3 H(CH3)2Si(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)2H (CH3)3Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)3 H(CH3)2Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)2H CH2=CHSi(CH3)2(OSi(CH3)H)gOSi(CH3)2CH=CH2 および CH2=CH(CH3)2Si(OSi(CH3)CH=CH2)gOSi(CH3)2CH=CH2 が含まれる。
【００２９】市場での入手可能性の理由により、群
（ｉ）および（ｉｉ）のシロキサン類が好適な出発材料
である。任意に、線状シロキサン類（ｉｉｉ）が本発明
の方法における出発材料として使用されてもよい。
（ｉ）および（ｉｉ）のシロキサン類が好適な出発材料
である。任意に、線状シロキサン類（ｉｉｉ）が本発明
の方法における出発材料として使用されてもよい。
【００３０】上記群（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）
から選択されるシロキサン出発材料は平衡化方法で使用
される。これらのシロキサン出発材料は、周囲もしくは
それ以上の温度および圧力下、スルホン酸触媒の存在下
反応させる。
から選択されるシロキサン出発材料は平衡化方法で使用
される。これらのシロキサン出発材料は、周囲もしくは
それ以上の温度および圧力下、スルホン酸触媒の存在下
反応させる。
【００３１】本発明のポリシロキサン類製造における平
衡化方法のための適切な触媒には、トリフルオロメタン
スルホン酸（通常「トリフリック・アシッド」と呼ばれ
る）そしてそれに関係した強可溶酸類が含まれる。不溶
の架橋した形態のもの、例えばNafionRを含む上記酸の
他の形態は、平衡化用触媒として使用されており、そし
て本発明の方法で使用できる。同様に、トリフリック・
アシッドのシリルエステル類、例えばＣＦ3ＳＯ3ＳｉＭ
ｅ3もまた使用できる、と言うのは、偶発的水分による
加水分解、或は低レベルのシラノール基との反応によ
り、トリフリック・アシッドが生成するからである。し
かしながら、好適な触媒はトリフルオロメタンスルホン
酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）である。
衡化方法のための適切な触媒には、トリフルオロメタン
スルホン酸（通常「トリフリック・アシッド」と呼ばれ
る）そしてそれに関係した強可溶酸類が含まれる。不溶
の架橋した形態のもの、例えばNafionRを含む上記酸の
他の形態は、平衡化用触媒として使用されており、そし
て本発明の方法で使用できる。同様に、トリフリック・
アシッドのシリルエステル類、例えばＣＦ3ＳＯ3ＳｉＭ
ｅ3もまた使用できる、と言うのは、偶発的水分による
加水分解、或は低レベルのシラノール基との反応によ
り、トリフリック・アシッドが生成するからである。し
かしながら、好適な触媒はトリフルオロメタンスルホン
酸（ＣＦ3ＳＯ3Ｈ）である。
【００３２】本発明の方法において、該触媒は、使用す
る全（ｉ）ジシロキサン、（ｉｉ）環状シロキサンおよ
び／または（ｉｉｉ）線状シロキサンを基準にして、約
０．０２〜約５重量％、好適には０．０５〜約０．５重
量％の範囲の量で存在している。任意に、アセトニトリ
ル、ジメチルスルホキサイドおよびヘキサメチルホスホ
ルアミドから成る群から選択される溶媒を該触媒に添加
し得る。好適には、この溶媒はアセトニトリルである。
溶媒を使用する場合、これを、この反応内の触媒重量の
１〜２０倍の範囲の量で該触媒に添加する。
る全（ｉ）ジシロキサン、（ｉｉ）環状シロキサンおよ
び／または（ｉｉｉ）線状シロキサンを基準にして、約
０．０２〜約５重量％、好適には０．０５〜約０．５重
量％の範囲の量で存在している。任意に、アセトニトリ
ル、ジメチルスルホキサイドおよびヘキサメチルホスホ
ルアミドから成る群から選択される溶媒を該触媒に添加
し得る。好適には、この溶媒はアセトニトリルである。
溶媒を使用する場合、これを、この反応内の触媒重量の
１〜２０倍の範囲の量で該触媒に添加する。
【００３３】上述した平衡化反応により本発明のポリシ
ロキサンを生じさせた後、炭酸ナトリウムおよび重炭酸
ナトリウムから成る群から選択される無機塩を約０．０
４〜１０重量％添加することによって該触媒を中和す
る。この触媒を中和した後、この中和された触媒の固体
状塩を濾過で除き、そしてこのようにして生じたポリシ
ロキサンを真空脱溶媒により濃縮してもよい。この触媒
の中和に関するもう１つの好適な手段は、Ｆ3ＣＳＯ3Ｓ
ｉＭｅ3およびプロピレン（これらは真空脱溶媒により
除去される）を生じるアリルトリメチルシランを０．０
４〜１０重量％添加することによる。この触媒を中和す
るための更にもう１つの手段は、Ｆ3ＣＳＯ3ＳｉＭｅ3
およびアンモニア（これらは真空脱溶媒により除去され
る）を生じるヘキサメチルジシラザンを０．０４〜１０
重量％添加することによる。
ロキサンを生じさせた後、炭酸ナトリウムおよび重炭酸
ナトリウムから成る群から選択される無機塩を約０．０
４〜１０重量％添加することによって該触媒を中和す
る。この触媒を中和した後、この中和された触媒の固体
状塩を濾過で除き、そしてこのようにして生じたポリシ
ロキサンを真空脱溶媒により濃縮してもよい。この触媒
の中和に関するもう１つの好適な手段は、Ｆ3ＣＳＯ3Ｓ
ｉＭｅ3およびプロピレン（これらは真空脱溶媒により
除去される）を生じるアリルトリメチルシランを０．０
４〜１０重量％添加することによる。この触媒を中和す
るための更にもう１つの手段は、Ｆ3ＣＳＯ3ＳｉＭｅ3
およびアンモニア（これらは真空脱溶媒により除去され
る）を生じるヘキサメチルジシラザンを０．０４〜１０
重量％添加することによる。
【００３４】本発明の方法において、この反応および中
和段階は厳密には重要でなく、該シロキサン出発材料お
よび触媒に対して反応性を示さないいかなる装置中で
も、周囲温度またはそれ以上の温度および圧力下で行う
ことができる。更に、この装置は、個々の反応体を仕込
むための手段、撹拌手段、および本発明の方法で生じる
ポリシロキサンを取り出すための手段を有することがで
きる。望まれるならば、本発明のポリシロキサン類を蒸
発残渣として残すことで、生じてくる望ましくない低レ
ベルの環状シロキサンを除去した後、これらを次の製造
に戻してもよい。本発明のポリシロキサン類の分子量は
厳密には重要でなく、従って、これらのポリシロキサン
類は、低粘度の流体から高粘度の流体もしくは半固体で
変化し得る。所望の粘度もしくは分子量範囲は、本発明
のポリシロキサン類から製造されるセラミック組成物の
用途に依存し得る。例えば、セラミックに変換するに先
立って本発明のポリシロキサンを微細多孔質固体に含浸
させることが望まれている場合、このポリシロキサンは
低粘度の流体であるべきである。しかしながら、硬化し
てセラミックに変換させるに先立って紡織繊維状構造物
を取り巻くことにより含浸マットを製造することが望ま
れている場合、このポリシロキサンは高粘度の流体か或
は注入可能半固体であるべきである。本分野の技術者に
とって、種々の用途に必要な特性は馴染みのあるもので
あり、従って彼らは、本発明の方法を適応させることが
できるであろう。しかしながら、この分子量は、高セラ
ミック収量を維持する目的で、蒸発前に架橋が生じるに
充分な程高くあるべきである。 シリコンオキシカーバイドセラミック組成物への変換 本発明のポリシロキサン類は、それ自身或は他の公知の
成分との混合物として、シリコンオキシカーバイド組成
物に変換し得る。上記成分には、例えば無機充填剤、例
えば炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、並びに本分野の
技術者に公知の他の無機充填剤が含まれる。
和段階は厳密には重要でなく、該シロキサン出発材料お
よび触媒に対して反応性を示さないいかなる装置中で
も、周囲温度またはそれ以上の温度および圧力下で行う
ことができる。更に、この装置は、個々の反応体を仕込
むための手段、撹拌手段、および本発明の方法で生じる
ポリシロキサンを取り出すための手段を有することがで
きる。望まれるならば、本発明のポリシロキサン類を蒸
発残渣として残すことで、生じてくる望ましくない低レ
ベルの環状シロキサンを除去した後、これらを次の製造
に戻してもよい。本発明のポリシロキサン類の分子量は
厳密には重要でなく、従って、これらのポリシロキサン
類は、低粘度の流体から高粘度の流体もしくは半固体で
変化し得る。所望の粘度もしくは分子量範囲は、本発明
のポリシロキサン類から製造されるセラミック組成物の
用途に依存し得る。例えば、セラミックに変換するに先
立って本発明のポリシロキサンを微細多孔質固体に含浸
させることが望まれている場合、このポリシロキサンは
低粘度の流体であるべきである。しかしながら、硬化し
てセラミックに変換させるに先立って紡織繊維状構造物
を取り巻くことにより含浸マットを製造することが望ま
れている場合、このポリシロキサンは高粘度の流体か或
は注入可能半固体であるべきである。本分野の技術者に
とって、種々の用途に必要な特性は馴染みのあるもので
あり、従って彼らは、本発明の方法を適応させることが
できるであろう。しかしながら、この分子量は、高セラ
ミック収量を維持する目的で、蒸発前に架橋が生じるに
充分な程高くあるべきである。 シリコンオキシカーバイドセラミック組成物への変換 本発明のポリシロキサン類は、それ自身或は他の公知の
成分との混合物として、シリコンオキシカーバイド組成
物に変換し得る。上記成分には、例えば無機充填剤、例
えば炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、並びに本分野の
技術者に公知の他の無機充填剤が含まれる。
【００３５】本発明のポリシロキサン類は、周囲もしく
はそれ以上の圧力下の窒素もしくはアルゴンの不活性雰
囲気中、適当な速度で５００℃以上の温度、好適には５
００〜１３００℃に加熱することによって変換される。
本発明のポリシロキサン類の熱分解は、上記操作のため
に設計されそしてまた本分野の技術者に公知の市販装置
中で行うことができる。望まれるならば、上記高温反応
に典型的な焼結用補助剤が使用できる。本発明のポリシ
ロキサン類の成型、紡糸および鋳込みは、上記目的のた
めに設計されそして本分野の技術者に公知の市販装置中
で行うことができる。上記セラミック類は主に、例えば
高温耐熱複合体に関する航空機産業、例えばガスタービ
ン用ブレード、支持構造物、飛行機翼の前縁などとして
使用される。
はそれ以上の圧力下の窒素もしくはアルゴンの不活性雰
囲気中、適当な速度で５００℃以上の温度、好適には５
００〜１３００℃に加熱することによって変換される。
本発明のポリシロキサン類の熱分解は、上記操作のため
に設計されそしてまた本分野の技術者に公知の市販装置
中で行うことができる。望まれるならば、上記高温反応
に典型的な焼結用補助剤が使用できる。本発明のポリシ
ロキサン類の成型、紡糸および鋳込みは、上記目的のた
めに設計されそして本分野の技術者に公知の市販装置中
で行うことができる。上記セラミック類は主に、例えば
高温耐熱複合体に関する航空機産業、例えばガスタービ
ン用ブレード、支持構造物、飛行機翼の前縁などとして
使用される。
【００３６】本発明の正確な範囲は付随する請求の範囲
中に列挙されているが、以下に示す特異的実施例は本発
明の特定面を説明するものであり、より詳細には、本発
明を評価するための方法を示すものである。しかしなが
ら、これらの実施例は単に説明の目的のため列挙するも
のであり、付随する請求の範囲中に列挙されているもの
を除き、本発明に対して制限することを意図したもので
はない。全ての部およびパーセントは特に明記されてい
ない限り重量である。
中に列挙されているが、以下に示す特異的実施例は本発
明の特定面を説明するものであり、より詳細には、本発
明を評価するための方法を示すものである。しかしなが
ら、これらの実施例は単に説明の目的のため列挙するも
のであり、付随する請求の範囲中に列挙されているもの
を除き、本発明に対して制限することを意図したもので
はない。全ての部およびパーセントは特に明記されてい
ない限り重量である。
【００３７】
【実施例】これらの実施例中、加熱用マントル、機械的
もしくは磁気撹拌機、温度計およびコンデンサを用いた
標準的実験室用ガラス装置中で全ての反応を生じさせ
た。窒素雰囲気を維持した。表示した温度が達成できそ
して窒素雰囲気を維持するように装備されたLindberg炉
内で熱分解を行った。省略形ｇ、ｍｍ、ｍＬ、ｍｉｎ、
ｈｒ、およびＭｅは、それぞれ、グラム、ミリメート
ル、ミリリットル、分、時、およびメチル（ＣＨ3）を
表している。温度は摂氏で記録した。
もしくは磁気撹拌機、温度計およびコンデンサを用いた
標準的実験室用ガラス装置中で全ての反応を生じさせ
た。窒素雰囲気を維持した。表示した温度が達成できそ
して窒素雰囲気を維持するように装備されたLindberg炉
内で熱分解を行った。省略形ｇ、ｍｍ、ｍＬ、ｍｉｎ、
ｈｒ、およびＭｅは、それぞれ、グラム、ミリメート
ル、ミリリットル、分、時、およびメチル（ＣＨ3）を
表している。温度は摂氏で記録した。
【００３８】実施例１ − HMe2Si(OSiMeH)9.6(OSiMeC
H=CH2)8OSiMe2Hの製造 温度計、機械的撹拌機、および水コンデンサが備わって
いる２５０ｍＬの３つ口フラスコ内で、１０．１ｇ
（０．０７５モル）の１，１，３，３，−テトラメチル
ジシロキサン（ＨＳｉＭｅ2）2Ｏ、４４．５ｇ（０．１
８５モル）の１，３，５，７−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（ＯＳｉＭｅＨ）4、および５１．７ｇ
（０．１５モル）の１，３，５，７−テトラメチル−
１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン
（ＯＳｉ−ＭｅＣＨ＝ＣＨ2）4を一緒にした。アセトニ
トリル中のＣＦ3ＳＯ3Ｈ溶液（１０％活性、全部で１．
０６ｇ）を加えた後、この混合物を室温で７２時間撹拌
した。ガスクロ（ＧＣ）分析の結果、平衡に達したこと
が示された。アリルトリメチルシランの溶液（石油エー
テル中１０％活性、全部で１．２ｇ）を用いて該触媒を
中和した後、生成物を４０℃／２ｍｍにまで真空脱溶媒
した。核磁気共鳴（ＮＭＲ）およびゲル浸透クロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）による分析でこの生成物の構造を確
認した。
H=CH2)8OSiMe2Hの製造 温度計、機械的撹拌機、および水コンデンサが備わって
いる２５０ｍＬの３つ口フラスコ内で、１０．１ｇ
（０．０７５モル）の１，１，３，３，−テトラメチル
ジシロキサン（ＨＳｉＭｅ2）2Ｏ、４４．５ｇ（０．１
８５モル）の１，３，５，７−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン（ＯＳｉＭｅＨ）4、および５１．７ｇ
（０．１５モル）の１，３，５，７−テトラメチル−
１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン
（ＯＳｉ−ＭｅＣＨ＝ＣＨ2）4を一緒にした。アセトニ
トリル中のＣＦ3ＳＯ3Ｈ溶液（１０％活性、全部で１．
０６ｇ）を加えた後、この混合物を室温で７２時間撹拌
した。ガスクロ（ＧＣ）分析の結果、平衡に達したこと
が示された。アリルトリメチルシランの溶液（石油エー
テル中１０％活性、全部で１．２ｇ）を用いて該触媒を
中和した後、生成物を４０℃／２ｍｍにまで真空脱溶媒
した。核磁気共鳴（ＮＭＲ）およびゲル浸透クロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）による分析でこの生成物の構造を確
認した。
【００３９】実施例２ − セラミック組成物への実施
例１生成物の変換 実施例１の生成物の一部１３．７ｇを、Lindberg管炉内
の石英管中の石英ボートの中に置き、この管を３回、排
気／Ｎ2パージした後、温度を２０℃＜３００℃＜４０
０℃＜５００℃＜７００℃＝７００℃＞５００℃＞２０
℃（個々の時間間隔は６、１０、２、１０、２、４およ
び３時間）にプログラムして、ゆっくりとしたＮ2流下
加熱した。固体状黒色セラミック組成物の収率は６８．
９重量％であった。該固体の一部（７．７６ｇ）を、個
々のLindberg炉内のアルミナ管中のアルミナボートの中
に置き、この管を３回、排気／Ｎ2パージした後、温度
を５００℃＜８００℃＜１０００℃＜１２００℃＝１２
００℃＞１０００℃＞８００℃＞５００℃（個々の時間
間隔は５、１６、２、８、２、２および３時間）にプロ
グラムして加熱した。この段階で保持された重量は７．
６０ｇ（９７．９重量％）であり、この２段階の熱分解
の収率は６７．５％であった。この生成物を分析した結
果、２５．５０％のＣ、０．０６％のＨおよび４６．８
９％のＳｉを含有していることが見いだされた。全組成
物を１００％としたときの差を、酸素即ち２７．５５
％、であると仮定した場合、このセラミック製品は５
１．６３％のＳｉＯ2、３２．５９％のＳｉＣ、１５．
７２％のＣおよび０．０６％のＨであると計算される。
この実施例は、実施例１の製品の熱分解により高収率で
シリコンオキシカーバイドのセラミック組成物が得られ
ることを示している。
例１生成物の変換 実施例１の生成物の一部１３．７ｇを、Lindberg管炉内
の石英管中の石英ボートの中に置き、この管を３回、排
気／Ｎ2パージした後、温度を２０℃＜３００℃＜４０
０℃＜５００℃＜７００℃＝７００℃＞５００℃＞２０
℃（個々の時間間隔は６、１０、２、１０、２、４およ
び３時間）にプログラムして、ゆっくりとしたＮ2流下
加熱した。固体状黒色セラミック組成物の収率は６８．
９重量％であった。該固体の一部（７．７６ｇ）を、個
々のLindberg炉内のアルミナ管中のアルミナボートの中
に置き、この管を３回、排気／Ｎ2パージした後、温度
を５００℃＜８００℃＜１０００℃＜１２００℃＝１２
００℃＞１０００℃＞８００℃＞５００℃（個々の時間
間隔は５、１６、２、８、２、２および３時間）にプロ
グラムして加熱した。この段階で保持された重量は７．
６０ｇ（９７．９重量％）であり、この２段階の熱分解
の収率は６７．５％であった。この生成物を分析した結
果、２５．５０％のＣ、０．０６％のＨおよび４６．８
９％のＳｉを含有していることが見いだされた。全組成
物を１００％としたときの差を、酸素即ち２７．５５
％、であると仮定した場合、このセラミック製品は５
１．６３％のＳｉＯ2、３２．５９％のＳｉＣ、１５．
７２％のＣおよび０．０６％のＨであると計算される。
この実施例は、実施例１の製品の熱分解により高収率で
シリコンオキシカーバイドのセラミック組成物が得られ
ることを示している。
【００４０】実施例３ − CH2=CHMe2Si-(OSiMe2)17.2
(OSiMeH)4.5(OSiMeCH=CH2)3.2OSiMe2CH=CH2の製造 １６４．３ｇ（０．２５モル）のＣＨ2＝ＣＨＭｅ2Ｓｉ
（ＯＳｉＭｅ2）6.37ＯＳｉＭｅ2ＣＨ＝ＣＨ2、１９
９．９ｇ（０．６７４モル）の（ＯＳｉＭｅ2）4、６
７．６ｇ（０．２８モル）の（ＯＳｉＭｅＨ）4、６
８．９ｇ（０．２０モル）の（ＯＳｉＭｅＣＨ＝Ｃ
Ｈ2）4、２．５ｇの１０％活性ＣＦ3ＳＯ3Ｈ（ＣＨ3Ｃ
Ｎ中）、および２．８５ｇの１０％活性アリルトリメチ
ルシラン（石油エーテル中）を用いて、実施例１の操作
に従った。平衡化の時間は室温で６４時間であり、続い
て中和を行った。４０℃／２ｍｍの真空脱溶媒により
９．０ｇの揮発物を除去した。ＧＣ、ＮＭＲおよびＧＰ
Ｃによる分析で構造を確認した。この実施例は、有意な
量のジメチルシロキサン単位（ＯＳｉＭｅ2）を含有し
ているポリシロキサン類が本発明の方法で製造できるこ
とを示している。しかしながら、以下に示す比較実施例
中で見られるように、有意な量のジメチルシロキサン単
位を有するポリシロキサン類は、一般に、セラミック先
駆体としての使用のための本発明のポリシロキサン類と
同程度には良好でない。
(OSiMeH)4.5(OSiMeCH=CH2)3.2OSiMe2CH=CH2の製造 １６４．３ｇ（０．２５モル）のＣＨ2＝ＣＨＭｅ2Ｓｉ
（ＯＳｉＭｅ2）6.37ＯＳｉＭｅ2ＣＨ＝ＣＨ2、１９
９．９ｇ（０．６７４モル）の（ＯＳｉＭｅ2）4、６
７．６ｇ（０．２８モル）の（ＯＳｉＭｅＨ）4、６
８．９ｇ（０．２０モル）の（ＯＳｉＭｅＣＨ＝Ｃ
Ｈ2）4、２．５ｇの１０％活性ＣＦ3ＳＯ3Ｈ（ＣＨ3Ｃ
Ｎ中）、および２．８５ｇの１０％活性アリルトリメチ
ルシラン（石油エーテル中）を用いて、実施例１の操作
に従った。平衡化の時間は室温で６４時間であり、続い
て中和を行った。４０℃／２ｍｍの真空脱溶媒により
９．０ｇの揮発物を除去した。ＧＣ、ＮＭＲおよびＧＰ
Ｃによる分析で構造を確認した。この実施例は、有意な
量のジメチルシロキサン単位（ＯＳｉＭｅ2）を含有し
ているポリシロキサン類が本発明の方法で製造できるこ
とを示している。しかしながら、以下に示す比較実施例
中で見られるように、有意な量のジメチルシロキサン単
位を有するポリシロキサン類は、一般に、セラミック先
駆体としての使用のための本発明のポリシロキサン類と
同程度には良好でない。
【００４１】比較実施例Ａ − セラミック組成物への
実施例３生成物の変換 実施例３の生成物８．００ｇを用いた第一熱分解段階終
了後、実施例２の操作に従った。この収率は、シリコン
オキシカーバイド組成物に関して０．２３ｇ（２．９
％）であった。この実施例は、ジメチルシロキサン単位
（ＯＳｉＭｅ2）が存在しているとセラミックの収率を
実質的に低下させることを立証するものである。
実施例３生成物の変換 実施例３の生成物８．００ｇを用いた第一熱分解段階終
了後、実施例２の操作に従った。この収率は、シリコン
オキシカーバイド組成物に関して０．２３ｇ（２．９
％）であった。この実施例は、ジメチルシロキサン単位
（ＯＳｉＭｅ2）が存在しているとセラミックの収率を
実質的に低下させることを立証するものである。
【００４２】実施例４ − Me3Si(OSiMeH)8(OSiMeCH=C
H2)8OSiMe3の製造 ６８．９４ｇの市販環状メチルビニルシクロシロキサン
類、５０．５３ｇのＭｅ3Ｓｉ（ＯＳｉＭｅＨ）48ＯＳ
ｉＭｅ3、および１３．８ｇの（Ｍｅ3Ｓｉ）2Ｏ、並び
に触媒として、アセトニトリル０．６７ｇに溶解した
０．６７ｇのトリフリック・アシッドを用いて、実施例
１の操作を繰り返した。１８時間後、平衡に達し、そし
てこの反応物を０．７３ｇのアリルトリメチルシランで
中和した。５０℃／３．３ｍｍに真空脱溶媒して、１２
８．８ｇの生成物（理論値の９６．６％）が得られた。
ＮＭＲ分析で構造を確認した。この実施例は、ビニル系
もしくはヒドリド官能基を有していない末端ブロック化
用シロキシ基の製造を示している。
H2)8OSiMe3の製造 ６８．９４ｇの市販環状メチルビニルシクロシロキサン
類、５０．５３ｇのＭｅ3Ｓｉ（ＯＳｉＭｅＨ）48ＯＳ
ｉＭｅ3、および１３．８ｇの（Ｍｅ3Ｓｉ）2Ｏ、並び
に触媒として、アセトニトリル０．６７ｇに溶解した
０．６７ｇのトリフリック・アシッドを用いて、実施例
１の操作を繰り返した。１８時間後、平衡に達し、そし
てこの反応物を０．７３ｇのアリルトリメチルシランで
中和した。５０℃／３．３ｍｍに真空脱溶媒して、１２
８．８ｇの生成物（理論値の９６．６％）が得られた。
ＮＭＲ分析で構造を確認した。この実施例は、ビニル系
もしくはヒドリド官能基を有していない末端ブロック化
用シロキシ基の製造を示している。
【００４３】実施例５ − セラミック組成物への実施
例４生成物の変換 実施例４の生成物７．３０ｇを用いた第一熱分解段階終
了後、実施例２の操作に従った。この収率は、セラミッ
ク組成物に関して６４．５％であり、これは実質的に実
施例２のそれと同等であった。この実施例は、非機能的
トリメチルシロキシ末端ブロック化基が本質的にセラミ
ック収量を低下させないことを立証している。
例４生成物の変換 実施例４の生成物７．３０ｇを用いた第一熱分解段階終
了後、実施例２の操作に従った。この収率は、セラミッ
ク組成物に関して６４．５％であり、これは実質的に実
施例２のそれと同等であった。この実施例は、非機能的
トリメチルシロキシ末端ブロック化基が本質的にセラミ
ック収量を低下させないことを立証している。
【００４４】比較実施例Ｂ − （ＯＳｉＭｅＨ）
x（ＯＳｉＭｅＣＨ＝ＣＨ2）yシクロシロキサン類の製
造およびセラミックへの変換 温度計、磁気撹拌機、および添加漏斗の備わっている１
リットルの３つ口フラスコ内で、１７５ｍＬの石油エー
テルと３５０ｍＬの水を一緒にした。この混合物を撹拌
しながら氷／塩浴で−１℃に冷却した後、５６．６ｇ
（０．４９モル）のメチルジクロロシランと６９．４ｇ
（０．４９モル）のビニルメチルジクロロシランとから
成る混合物を２．５時間かけて−１〜−３℃で加えた。
この２相から成る反応混合物を分液漏斗に移し、そして
下方の水相を廃棄した。有機相を水で５回洗浄し（洗浄
水が中性のままになるまで）、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、
濾過し、０．２５ｇのCyanox 425（禁止剤）を加えた
後、真空脱溶媒することで溶媒を除去した。真空蒸留に
より、いくつかの蒸留カットで１６．７５ｇのシクロシ
ロキサン類（＜１０６℃／０．０５ｍｍ）が得られ、こ
の時点で、この蒸留フラスコの内容物はゲル化して、不
溶融で不溶性の固体を生じた。
x（ＯＳｉＭｅＣＨ＝ＣＨ2）yシクロシロキサン類の製
造およびセラミックへの変換 温度計、磁気撹拌機、および添加漏斗の備わっている１
リットルの３つ口フラスコ内で、１７５ｍＬの石油エー
テルと３５０ｍＬの水を一緒にした。この混合物を撹拌
しながら氷／塩浴で−１℃に冷却した後、５６．６ｇ
（０．４９モル）のメチルジクロロシランと６９．４ｇ
（０．４９モル）のビニルメチルジクロロシランとから
成る混合物を２．５時間かけて−１〜−３℃で加えた。
この２相から成る反応混合物を分液漏斗に移し、そして
下方の水相を廃棄した。有機相を水で５回洗浄し（洗浄
水が中性のままになるまで）、ＭｇＳＯ4上で乾燥し、
濾過し、０．２５ｇのCyanox 425（禁止剤）を加えた
後、真空脱溶媒することで溶媒を除去した。真空蒸留に
より、いくつかの蒸留カットで１６．７５ｇのシクロシ
ロキサン類（＜１０６℃／０．０５ｍｍ）が得られ、こ
の時点で、この蒸留フラスコの内容物はゲル化して、不
溶融で不溶性の固体を生じた。
【００４５】比較実施例Ｂからの最高沸騰蒸留カット物
の一部（６５〜１０６℃／０．０５ｍｍ）４．０ｇを、
以下に示す実施例Ｃの操作に従って熱分解した。セラミ
ック組成物の収量は０．０３ｇ（０．７５％）であっ
た。この実施例により、K.A. Andrianov他、 Zhur. Obsh
ch. Khim.、 35、 103 (1965)、 35 524 (1965)およびJ. O
rganometal Chem.、 4 440 (1965)に記述されているよう
なメチルヒドロシロキサン単位およびメチルビニルシロ
キサン単位を含有している環状シロキサン類は、一般
に、シリコンオキシカーバイドのセラミック組成物用先
駆体としと同程度には有効でないことを立証している。
の一部（６５〜１０６℃／０．０５ｍｍ）４．０ｇを、
以下に示す実施例Ｃの操作に従って熱分解した。セラミ
ック組成物の収量は０．０３ｇ（０．７５％）であっ
た。この実施例により、K.A. Andrianov他、 Zhur. Obsh
ch. Khim.、 35、 103 (1965)、 35 524 (1965)およびJ. O
rganometal Chem.、 4 440 (1965)に記述されているよう
なメチルヒドロシロキサン単位およびメチルビニルシロ
キサン単位を含有している環状シロキサン類は、一般
に、シリコンオキシカーバイドのセラミック組成物用先
駆体としと同程度には有効でないことを立証している。
【００４６】比較実施例Ｃ − （ＯＳｉＭｅＣＨ＝Ｃ
Ｈ2）c環状シロキサン類（ｃ＝３、４、５）の熱分解 これらのシロキサン類が高い揮発性を有しているため、
排気／Ｎ2パージサイクルのための機械ポンプ真空の代
わりにアスピレーター（水ポンプ）真空を用いる以外、
市販のメチルビニルシクロシロキサン類１７．５７ｇを
用いた第一熱分解段階終了後、実施例２の操作に従っ
た。セラミック組成物の収量は、０．８５ｇ（４．８
％）であった。この実施例は、メチルビニルシロキサン
単位含有低分子量環状ポリシロキサン類は良好な収率で
セラミックを与えないことを示している。
Ｈ2）c環状シロキサン類（ｃ＝３、４、５）の熱分解 これらのシロキサン類が高い揮発性を有しているため、
排気／Ｎ2パージサイクルのための機械ポンプ真空の代
わりにアスピレーター（水ポンプ）真空を用いる以外、
市販のメチルビニルシクロシロキサン類１７．５７ｇを
用いた第一熱分解段階終了後、実施例２の操作に従っ
た。セラミック組成物の収量は、０．８５ｇ（４．８
％）であった。この実施例は、メチルビニルシロキサン
単位含有低分子量環状ポリシロキサン類は良好な収率で
セラミックを与えないことを示している。
【００４７】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００４８】１． 式
【００４９】
【化４】
【００５０】［式中、Ｒ’は、１〜４個の炭素原子を有
するアルキル基であり、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｘは、
１〜２の値であり、ｙは、０〜１の値であり、ｚは、０
〜１の値である、但し、ｘ＋ｙは２であり、ｘ＋ｚは２
であり、ｙおよびｚは各々少なくとも０．７５の平均値
を有しており、そしてａおよびｂは各々２〜１００の平
均値を有していることを条件とする］を有する平衡化方
法により製造された、セラミック先駆体としてのポリシ
ロキサン。
するアルキル基であり、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基であり、ｘは、
１〜２の値であり、ｙは、０〜１の値であり、ｚは、０
〜１の値である、但し、ｘ＋ｙは２であり、ｘ＋ｚは２
であり、ｙおよびｚは各々少なくとも０．７５の平均値
を有しており、そしてａおよびｂは各々２〜１００の平
均値を有していることを条件とする］を有する平衡化方
法により製造された、セラミック先駆体としてのポリシ
ロキサン。
【００５１】２． ａ対ｂの比が約０．５：１〜１：
０．５である第１項記載のポリシロキサン。
０．５である第１項記載のポリシロキサン。
【００５２】３． Ｒ’がメチルである第２項記載のポ
リシロキサン。
リシロキサン。
【００５３】４． 各々の末端ブロック化単位中の１つ
のＲ”が水素である第３項記載のポリシロキサン。
のＲ”が水素である第３項記載のポリシロキサン。
【００５４】５． Ｒ”がメチル基である第３項記載の
ポリシロキサン。
ポリシロキサン。
【００５５】６． 各々の末端ブロック化単位中の１つ
のＲ”がビニル基である第３項記載のポリシロキサン。
のＲ”がビニル基である第３項記載のポリシロキサン。
【００５６】７． ａ＋ｂが約４〜１００である第１項
記載のポリシロキサン。
記載のポリシロキサン。
【００５７】８． Ｒ’がメチルであり、各々の末端ブ
ロック化単位中の１つのＲ”が水素またはビニル基であ
り、ｘ、ｙおよびｚは各々１であり、ａ＋ｂが約４〜５
０であり、そしてａ対ｂの比が約１：１である第１項記
載のポリシロキサン。
ロック化単位中の１つのＲ”が水素またはビニル基であ
り、ｘ、ｙおよびｚは各々１であり、ａ＋ｂが約４〜５
０であり、そしてａ対ｂの比が約１：１である第１項記
載のポリシロキサン。
フロントページの続き (72)発明者 カーテイス・ルイス・シリング・ジユニア アメリカ合衆国オハイオ州45750マリエツ タ・ウインウツドドライブ・ボツクス 139・ルート２ (72)発明者 トーマス・チヤールズ・ウイリアムズ アメリカ合衆国コネチカツト州06877リツ ジフイールド・ローリングヒルロード16
Claims (2)
- 【請求項１】 式 【化１】 ［式中、Ｒ’は、１〜４個の炭素原子を有するアルキル
基であり、Ｒ”は、水素、ビニル基、或は１〜４個の炭
素原子を有するアルキル基であり、ｘは、１〜２の値で
あり、ｙは、０〜１の値であり、ｚは、０〜１の値であ
る、但し、ｘ＋ｙは２であり、ｘ＋ｚは２であり、ｙお
よびｚは各々少なくとも０．７５の平均値を有してお
り、そしてａおよびｂは各々２〜１００の平均値を有し
ていることを条件とする］を有する平衡化方法により製
造された、セラミック先駆体としてのポリシロキサン。 - 【請求項２】 ｘ、ｙおよびｚが各々１である請求項１
記載のポリシロキサン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/627,578 US5162480A (en) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | Self-curing ceramicizable polysiloxanes |
| US627578 | 1990-12-14 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3351251A Division JP2672225B2 (ja) | 1990-12-14 | 1991-12-13 | ポリシロキサン類の製造方法及びポリシロキサン類をセラミック組成物に変換する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1081750A true JPH1081750A (ja) | 1998-03-31 |
| JP3103826B2 JP3103826B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=24515230
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3351251A Expired - Fee Related JP2672225B2 (ja) | 1990-12-14 | 1991-12-13 | ポリシロキサン類の製造方法及びポリシロキサン類をセラミック組成物に変換する方法 |
| JP09084729A Expired - Fee Related JP3103826B2 (ja) | 1990-12-14 | 1997-03-19 | 自己硬化型セラミツク化可能ポリシロキサン類 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3351251A Expired - Fee Related JP2672225B2 (ja) | 1990-12-14 | 1991-12-13 | ポリシロキサン類の製造方法及びポリシロキサン類をセラミック組成物に変換する方法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0490401B1 (ja) |
| JP (2) | JP2672225B2 (ja) |
| KR (1) | KR0133943B1 (ja) |
| AT (1) | ATE138953T1 (ja) |
| CA (1) | CA2057660A1 (ja) |
| DE (1) | DE69120040T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003534462A (ja) * | 2000-05-24 | 2003-11-18 | サン−ゴバン ベトロテックス フランス ソシエテ アノニム | ガラス糸のためのサイジング組成物、これらの糸及びセメント質製品におけるそれらの使用 |
| JP2012526178A (ja) * | 2009-05-06 | 2012-10-25 | ダウ コーニング コーポレーション | ビニル水素ポリシロキサン接着剤組成物 |
| CN113461947A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 北京化工大学 | 一种线性聚硅氧烷及可陶瓷化聚硅氧烷组合物和其制备方法 |
Families Citing this family (50)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5340777A (en) * | 1987-01-09 | 1994-08-23 | Alliedsignal Inc. | Carbon-containing black glass from hydrosilylation-derived siloxanes |
| WO1994020430A1 (en) * | 1987-01-09 | 1994-09-15 | Allied-Signal Inc. | Carbon-containing black glass monoliths |
| US5328976A (en) * | 1987-01-09 | 1994-07-12 | Allied-Signal Inc. | Carbon-containing black glass monoliths |
| US5256754A (en) * | 1990-10-31 | 1993-10-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrogenpolysiloxanes and methods of making |
| US5162480A (en) * | 1990-12-14 | 1992-11-10 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Self-curing ceramicizable polysiloxanes |
| JP2778403B2 (ja) * | 1993-03-04 | 1998-07-23 | 信越化学工業株式会社 | （メタ）アクリル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| US5358674A (en) * | 1993-03-18 | 1994-10-25 | Dow Corning Corporation | Process for preparing ceramic fibers from polysiloxanes |
| US5795947A (en) * | 1993-07-02 | 1998-08-18 | Rhone-Poulenc Chimie | Olefinically functional polyorganosiloxanes and curable silicone compositions comprised thereof |
| FR2707655B1 (fr) * | 1993-07-02 | 1995-09-15 | Rhone Poulenc Chimie | Nouveaux polymères siliconés à fonctions oléfiniques, leur procédé de préparation et compositions durcissables comprenant lesdits polymères. |
| US5470934A (en) * | 1993-09-29 | 1995-11-28 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Vinyl- and alkoxy-functional organosilicon compounds and method for the preparation thereof |
| US5518831A (en) * | 1995-07-07 | 1996-05-21 | The Dow Chemical Company | Electrocatalytic structure |
| US5608096A (en) * | 1995-12-28 | 1997-03-04 | Dow Corning Corporation | Method of forming siloxane polymers using a heteropoly catalyst having a keggin structure |
| US5904997A (en) * | 1996-02-27 | 1999-05-18 | Northrop Grumman Corporation | Abrasion resistant ceramic insulation tile and method |
| GB2315756B (en) * | 1996-07-30 | 2001-01-17 | Gen Electric | Process for preparing hydrogen siloxane copolymers |
| US5753751A (en) * | 1996-10-24 | 1998-05-19 | General Electric Company | Process for preparing self-curable alkenyl hydride siloxane copolymers and coating composition |
| DE19645721A1 (de) * | 1996-11-06 | 1998-05-07 | Wacker Chemie Gmbh | Vernetzbare Organopolysiloxanmassen |
| US6087024A (en) * | 1996-12-17 | 2000-07-11 | Whinnery; Leroy Louis | Method for forming porous sintered bodies with controlled pore structure |
| US6374275B2 (en) * | 1997-06-11 | 2002-04-16 | Scientific-Atlanta, Inc. | System, method, and media for intelligent selection of searching terms in a keyboardless entry environment |
| JP4247376B2 (ja) * | 2000-03-09 | 2009-04-02 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 変性シリコーン化合物、その製造方法およびその硬化物 |
| US6841647B2 (en) * | 2001-11-06 | 2005-01-11 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Fluid resistant silicone encapsulant |
| US7287573B2 (en) * | 2003-09-30 | 2007-10-30 | General Electric Company | Silicone binders for investment casting |
| US7658863B2 (en) * | 2004-07-30 | 2010-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Si-C-O composite, making method, and non-aqueous electrolyte secondary cell negative electrode material |
| JP4998662B2 (ja) * | 2004-07-30 | 2012-08-15 | 信越化学工業株式会社 | Ｓｉ−Ｃ−Ｏ系コンポジット及びその製造方法並びに非水電解質二次電池用負極材 |
| JP4906735B2 (ja) * | 2004-11-18 | 2012-03-28 | ダウ コーニング コーポレーション | 分岐シロキサンの調製方法 |
| CN1298622C (zh) * | 2005-01-17 | 2007-02-07 | 南京大学 | 一种碳氧化硅的制备方法 |
| DE102006030003A1 (de) * | 2006-05-11 | 2007-11-15 | Wacker Chemie Ag | Siliconharzbeschichtung für elektronische Bauteile |
| JP5309505B2 (ja) * | 2006-09-01 | 2013-10-09 | 信越化学工業株式会社 | 非晶質無機セラミック物質及びその製造方法 |
| JP5263171B2 (ja) * | 2007-11-19 | 2013-08-14 | 東亞合成株式会社 | ポリシロキサンおよびその製造方法ならびに硬化物の製造方法 |
| CN102443172B (zh) * | 2011-08-02 | 2013-07-17 | 中国科学院化学研究所 | 一种聚硅氧烷聚合物及其制备方法 |
| DE102012015571B4 (de) * | 2011-08-12 | 2017-01-26 | Gelest Technologies, Inc. | Dual funktionelle lineare Siloxane, durch stufenweise ansteigendes Polymerisationswachstum entstehende Polymere, und Verfahren zum Herstellen dieser Polymere |
| DE102012202521A1 (de) * | 2012-02-20 | 2013-08-22 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verzweigte Polysiloxane und deren Verwendung |
| EP2844839A1 (en) | 2012-04-23 | 2015-03-11 | General Electric Company | Turbine airfoil with local wall thickness control |
| US9159153B2 (en) | 2012-06-05 | 2015-10-13 | Apple Inc. | Method, system and apparatus for providing visual feedback of a map view change |
| TW201443274A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-11-16 | Applied Materials Inc | 使用二矽氧烷先質之膜的沉積 |
| US10167366B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-01-01 | Melior Innovations, Inc. | Polysilocarb materials, methods and uses |
| US9815952B2 (en) | 2013-03-15 | 2017-11-14 | Melior Innovations, Inc. | Solvent free solid material |
| US20140323364A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-10-30 | Melior Innovations, Inc. | High Strength Low Density Synthetic Proppants for Hydraulically Fracturing and Recovering Hydrocarbons |
| US20150027306A1 (en) * | 2013-03-15 | 2015-01-29 | Melior Innovations, Inc. | Gas-selective polymer derived ceramic membranes, gas separation systems, and methods |
| US9815943B2 (en) * | 2013-03-15 | 2017-11-14 | Melior Innovations, Inc. | Polysilocarb materials and methods |
| US9499677B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-11-22 | Melior Innovations, Inc. | Black ceramic additives, pigments, and formulations |
| US9481781B2 (en) | 2013-05-02 | 2016-11-01 | Melior Innovations, Inc. | Black ceramic additives, pigments, and formulations |
| US9919972B2 (en) | 2013-05-02 | 2018-03-20 | Melior Innovations, Inc. | Pressed and self sintered polymer derived SiC materials, applications and devices |
| US10322936B2 (en) * | 2013-05-02 | 2019-06-18 | Pallidus, Inc. | High purity polysilocarb materials, applications and processes |
| US11014819B2 (en) | 2013-05-02 | 2021-05-25 | Pallidus, Inc. | Methods of providing high purity SiOC and SiC materials |
| US11091370B2 (en) | 2013-05-02 | 2021-08-17 | Pallidus, Inc. | Polysilocarb based silicon carbide materials, applications and devices |
| US9657409B2 (en) | 2013-05-02 | 2017-05-23 | Melior Innovations, Inc. | High purity SiOC and SiC, methods compositions and applications |
| DE102013223585A1 (de) * | 2013-11-19 | 2015-06-03 | MTU Aero Engines AG | Einlaufbelag auf Basis von Metallfasern |
| KR102267106B1 (ko) * | 2014-09-25 | 2021-06-18 | 멜리어 이노베이션즈, 인크. | 폴리실로카브 계열 탄화 규소 물질, 이의 응용 및 장치 |
| DE102015225921A1 (de) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Wacker Chemie Ag | Siloxanharzzusammensetzungen |
| DE102015225906A1 (de) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Wacker Chemie Ag | Siloxanharzzusammensetzungen |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2714099A (en) * | 1954-01-11 | 1955-07-26 | Dow Corning | Vinyl containing organosiloxane fluids |
| US3703562A (en) * | 1972-03-27 | 1972-11-21 | Dow Corning | Sulfonic acid containing organopolysiloxane compositions |
| DE2256166C3 (de) * | 1972-11-16 | 1981-02-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von Tris-(trimethylsiloxy)-phenylsilan |
| JPS51139854A (en) * | 1975-05-28 | 1976-12-02 | Toshiba Silicone Co Ltd | Silicone rubber composition with adhesiveness |
| US4189545A (en) * | 1978-03-13 | 1980-02-19 | General Electric Company | Silicone foam composition which has burn resistant properties |
| US4222952A (en) * | 1979-06-25 | 1980-09-16 | Union Carbide Corporation | Siloxane bond rearrangement effected by solid perfluorinated polymers containing pendant sulfonic acid groups |
| JPS6043872B2 (ja) * | 1979-09-29 | 1985-09-30 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
| USRE32107E (en) * | 1982-12-23 | 1986-04-08 | Dow Corning Corporation | Carbon-containing monolithic glasses and ceramics prepared by a sol-gel process |
| US4578493A (en) * | 1983-02-11 | 1986-03-25 | Pitney Bowes Inc. | Vinyl-hydro polysiloxane copolymers release compositions |
| US4581391A (en) * | 1984-12-17 | 1986-04-08 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Ablative insulating materials of high vinyl content |
| NZ215915A (en) * | 1985-05-02 | 1989-05-29 | Raychem Corp | Curable polysiloxane compositions |
| US4634610A (en) * | 1985-10-31 | 1987-01-06 | General Electric Company | Heat curable silicone polyimide compositions |
| US4634755A (en) * | 1986-03-03 | 1987-01-06 | General Electric Company | Method for making norbornane anhydride substituted polyorganosiloxane |
| DE3628320A1 (de) * | 1986-08-21 | 1988-02-25 | Bayer Ag | Hydrophobe pigmente und fuellstoffe fuer die einarbeitung in kunststoffe |
| US4888376A (en) * | 1988-09-26 | 1989-12-19 | Dow Corning Corporation | Curable organopolysiloxanes filled with silicon carbide powders and highly densified sintered bodies therefrom |
| JPH0633352B2 (ja) * | 1988-11-26 | 1994-05-02 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン組成物 |
| DE3917898A1 (de) * | 1989-06-01 | 1990-12-06 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von sphaerischem, monodispersen organopolysiloxan oder siliciumoxycarbid |
| US4981820A (en) * | 1989-07-28 | 1991-01-01 | General Electric Company | Cellular silicon-oxy-carbide glass from foamed silicone resins |
| JPH0645222B2 (ja) * | 1989-12-07 | 1994-06-15 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン一体成形物及びその製造法 |
| US5162480A (en) * | 1990-12-14 | 1992-11-10 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Self-curing ceramicizable polysiloxanes |
-
1990
- 1990-12-14 US US07/627,578 patent/US5162480A/en not_active Expired - Lifetime
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1991
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-
1992
- 1992-08-03 US US07/923,457 patent/US5275980A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-06-23 US US08/081,614 patent/US5354830A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-19 JP JP09084729A patent/JP3103826B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003534462A (ja) * | 2000-05-24 | 2003-11-18 | サン−ゴバン ベトロテックス フランス ソシエテ アノニム | ガラス糸のためのサイジング組成物、これらの糸及びセメント質製品におけるそれらの使用 |
| JP2012526178A (ja) * | 2009-05-06 | 2012-10-25 | ダウ コーニング コーポレーション | ビニル水素ポリシロキサン接着剤組成物 |
| CN113461947A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 北京化工大学 | 一种线性聚硅氧烷及可陶瓷化聚硅氧烷组合物和其制备方法 |
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