JPH1069099A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH1069099A JPH1069099A JP8228627A JP22862796A JPH1069099A JP H1069099 A JPH1069099 A JP H1069099A JP 8228627 A JP8228627 A JP 8228627A JP 22862796 A JP22862796 A JP 22862796A JP H1069099 A JPH1069099 A JP H1069099A
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Abstract
因である感光体への異物付着現象を抑制しうるポリカー
ボネート共重合体であって、長期間にわたって優れた機
械的強度及び電子写真特性を維持する電子写真感光体を
提供する。 【解決手段】 導電性基体上に感光層を設けた電子写真
感光体において、感光層が、下記一般式(1)で表され
る繰り返し単位(1)を含有するポリカーボネート共重
合体を含有する表面層を有する電子写真感光体。 (式中、Rは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基
又は炭素数6〜12のアリール基であり、Xは各々独立
に単結合、炭素数1〜6のアルキレン基、炭素数6〜1
2のアリーレン基、 であり、nは0〜200の整数であり、mは1〜6の整
数である。)
Description
優れた機械的強度及び電子写真特性を維持する実用上優
れた電子写真感光体に関する。より詳しくは、フィルミ
ングの原因である感光体への異物付着現象を抑制しうる
ポリシロキサン−ポリカーボネート共重合体であって、
電荷輸送物質との相溶性に優れ、塗工液が長期にわたっ
て白化しない共重合体を用いて感光層が形成されている
電子写真感光体に関する。
に用いられる電子写真感光体は、従来より用いられてい
た無機感光体から、無公害性、高生産性、材料設計の幅
広さなどに優れる有機電子写真感光体(OPC)に置き
換わってきている。そして、これまでは無機感光体の独
壇場であった高速、高耐久機種にも、有機電子写真感光
体を採用する動きが出ている。しかしながら、従来の有
機電子写真感光体は無機感光体に比べて耐久性が劣り、
特に、感光体に異物(トナー、紙粉、外添剤など)が固
着し、印刷画像不良を起こす現象(トナーフィルミン
グ)が顕著に生じるため、前記高速、高耐久機種への適
用が円滑に行われていない。
いて我々は鋭意位研究を行った結果、感光体に異物が分
子間力のような弱い力で付着することがフィルミングの
引き金となることを見出し、フィルミングを防止するに
は、異物との付着力(分子間力)が小さい感光体、具体
的には最表面に少なくとも樹脂成分としてポリシロキサ
ンとポリカーボネートの共重合体を含有した感光体を用
いることが効果的であることを見出した。
ートの共重合体を用いた電子写真感光体としては、これ
までにもいくつかが提案されている(特開昭61−13
2954号公報、特開平2−240655号公報等)。
しかしこれらの材料は電荷輸送物質との相溶性が悪く、
塗工液を調製した後、半日〜数日で溶液の白化、ゲル化
が生じる。この溶液の白化、ゲル化を改善するため、ポ
リシロキサンの量末端をフェノールで修飾し、ポリカー
ボネートと共重合させたり(特開平5−72753号公
報、特開平5−297620号公報)、ポリシロキサン
の両末端フェノール修飾ポリカーボネートに、更に特定
の構造のビスフェノール構造を導入した三元共重合体
(特開平6−220181号公報)の使用などが試みら
れている。しかし、前者の試みにおいても、電荷輸送物
質との相溶性向上は十分ではなく、塗工液作製後、数日
〜一か月程度で白化、ゲル化などの問題が発生する。ま
た、この塗工液がゲル化する前に感光体を作製した場合
においても、電荷輸送物質とバインダー樹脂がミクロ相
分離しているため、感度(半減露光量)不良、残留電位
上昇など、電気的な特性が悪化する。また、後者におい
ては、電荷輸送物質との相溶性を付与した第三成分を共
重合させることで塗工液の安定性は数か月以上と向上し
たが、反面、上記第三成分が必須成分となるため、ポリ
カーボネートの物性のコントロールの幅が狭くなってし
まい、また、樹脂製造時に三種のモノマー成分の反応を
均質に制御することが困難であり、再現性良く同じ物性
の重合体を得ることが困難であるという問題がある。
基づいてなされたものであり、電荷輸送物質との相溶性
が良い上に、溶媒に溶解しても長期間にわたって白化又
はゲル化を起こさず、しかも合成の容易なポリシロキサ
ン−ポリカーボネート共重合体を樹脂成分として用いる
ことにより、耐フィルミング製に優れ、長期間にわたっ
て優れた機械的強度及び電子写真特性を維持する電子写
真感光体を提供することを目的とする。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ポリシロキサンの
末端をアミノ基で修飾したモノマーとポリカーボネート
との共重合体が電子写真感光体のバインダー樹脂等とし
て好適に用いられ、電子写真感光体への異物の付着を防
止し、電荷輸送物質との相溶性が良好で、塗工液も数か
月以上安定であり、かつ電気的特性も良好であることを
見出し、この知見に基づき本発明を完成するに至った。
設けた電子写真感光体において、感光層が、下記一般式
(1)で表される繰り返し単位(1)を含有するポリカ
ーボネート共重合体を含有する表面層を有することを特
徴とする電子写真感光体を提供するものである。
ン原子、炭素数1〜6の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数1〜6の置換若しくは無置換のアルコキシ基
又は炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール基
であり、Xは各々独立に単結合、炭素数1〜6の置換若
しくは無置換のアルキレン基、炭素数6〜12の置換若
しくは無置換のアリーレン基、
は1〜6の整数である。)
ート共重合体は、直鎖状、環状のいずれであってもよ
く、更に、合成時に末端停止剤や分岐剤等を用いること
により、ポリマー末端に特殊な末端構造や特殊な分岐構
造が導入されているものであってもよい。
ト共重合体は、塩化メチレンを溶媒として濃度0.5g
/dlで20℃で測定した還元粘度が0.1〜2.0d
l/g、好ましくは0.3〜1.6dl/gであること
が望ましい。還元粘度が0.1dl/g未満のポリカー
ボネート共重合体を用いると、そのポリカーボネート共
重合体を用いて形成される層の表面硬度が不足し、電子
写真感光体表面が摩耗しやすくなることがある。一方、
還元粘度が2.0dl/gを超えるポリカーボネート共
重合体を用いると、ポリカーボネート共重合体の溶液粘
度が上昇し、塗工液の塗布による電子写真感光体の製造
が困難になることがある。
合体は、共重合成分として繰り返し単位(1)を含有す
るポリカーボネート共重合体であれば特に制限はされな
いが、通常、繰り返し単位が上記繰り返し単位(1)及
び下記一般式(2)で表される繰り返し単位(2)から
なるものであることが好ましい。
原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、ビニル基、アリル基、炭素数6〜12の置換若しく
は無置換のアリール基、炭素数5〜7の置換若しくは無
置換のシクロアルキル基、炭素数1〜6の置換若しくは
無置換のアルコキシ基又は炭素数6〜12の置換若しく
は無置換のアリールオキシ基であり、a及びbは各々独
立に0〜4の整数であり、Yは単結合、−O−、−CO
−、−S−、−SO−、−SO2−、−CR3R4−、炭
素数5〜11の置換若しくは無置換のシクロアルキリデ
ン基、炭素数2〜12の置換若しくは無置換のα,ω−
アルキレン基、9,9−フルオレニリデン基、1,8−
メンタンジイル基、2,8−メンタンジイル基、置換若
しくは無置換のピラジリデン基又は炭素数6〜12の置
換若しくは無置換のアリーレン基であり、ただしR3及
びR4は各々独立に水素原子、炭素数1〜10の置換若
しくは無置換のアルキル基又は炭素数6〜12の置換若
しくは無置換のアリール基である。) 本発明のポリカーボネート共重合体が繰り返し単位
(1)及び(2)からなるものである場合、繰り返し単
位(1)及び繰り返し単位(2)の合計に対する繰り返
し単位(1)のモル比、(1)/[(1)+(2)]、
が0.0001〜1であることが好ましく、より好まし
くは0.0003〜0.5であり、特に好ましくは0.
0005〜0.3である。
は、繰り返し単位(1)及び(2)を、各々、1種又は
2種以上有していてよい。また、上記のポリカーボネー
ト共重合体は、本発明の目的達成を阻害しない範囲で、
繰り返し単位(1)及び(2)以外の繰り返し単位を有
していてもよい。一般式(1)において、R、X及びn
の具体例は次のとおりである。
基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、ter
t−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、t
ert−ブチル基である。
塩素、臭素、ヨウ素が可能であり、好ましくはフッ素、
塩素、臭素である。Rが示す炭素数1〜6の無置換のア
ルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ基、エチル
オキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、
ブチルオキシ基、2−ブチルオキシ基、tert−ブチ
ルオキシ基、イソブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、
ヘキシルオキシ基等が好ましく、更に好ましくはメチル
オキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、イソプ
ロピルオキシ基である。
ル基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフ
ェニリル基が好ましく、更に好ましくはフェニル基であ
る。Xが示す炭素数1〜6の無置換のアルキレン基とし
ては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチ
レン基が好ましく、更に好ましくはエチレン基、トリメ
チレン基、テトラメチレン基である。
レン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン
基、ビフェニリレン基が好ましく、更に好ましくはフェ
ニレン基である。nは0〜200の整数であり、好まし
くは、5〜100の整数である。一般式(2)におい
て、R1、R2、Y、R3及びR4の具体例は次のとおりで
ある。
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が可能であり、好ましくは
フッ素、塩素、臭素である。R1、R2、R3及びR4が示
す炭素数1〜10の無置換のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、イ
ソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オ
クチル基、ノニル基、デシル基が好ましく、更に好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基であ
る。
2の無置換のアリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基、ビフェニリル基が好ましく、更に好ま
しくはフェニル基である。R1及びR2が示す炭素数5〜
7の無置換のシクロアルキル基としては、例えば、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基が
好ましく、更に好ましくはシクロペンチル基、シクロヘ
キシル基である。
アルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ基、エチ
ルオキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ
基、ブチルオキシ基、2−ブチルオキシ基、tert−
ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ペンチルオキシ
基、ヘキシルオキシ基等が好ましく、更に好ましくはメ
チルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、イ
ソプロピルオキシ基である。
のアリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ
基、ナフチルオキシ基、ビフェニリルオキシ基が好まし
く、更に好ましくはフェニルオキシ基である。Yが示す
炭素数6〜12の無置換のアリーレン基としては、例え
ば、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基が
好ましく、更に好ましくはフェニレン基である。
アルキリデン基は、具体的にはシクロペンチリデン基、
シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基、シクロ
オクチリデン基、シクロノニリデン基、シクロデシリデ
ン基、シクロウンデシリデン基であり、好ましくはシク
ロヘキシリデン基である。Yが示す炭素数2〜12の無
置換のα,ω−アルキレン基は、具体的にはエチレン
基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレ
ン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメ
チレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカ
メチレン基、ドデカメチレン基であり、好ましくはエチ
レン基、トリメチレン基である。
は、1,8−p−メンタンジイル基が好ましい。Yが示
す2,8−メンタンジイル基としては、2,8−p−メ
ンタンジイル基が好ましい。置換アルキル基、置換アリ
ール基、置換アルコキシ基、置換アリールオキシ基、置
換シクロアルキル基、置換アルキレン基、置換アリーレ
ン基、置換α,ω−アルキレン基、置換シクロアルキリ
デン基及び置換ピラジリデン基とは、各々、上記の無置
換アルキル基、無置換アリール基、無置換アルコキシ
基、無置換アリールオキシ基、無置換シクロアルキル
基、無置換アルキレン基、無置換アリーレン基、無置換
α,ω−アルキレン基、無置換シクロアルキリデン基
や、無置換ピラジリデン基上の少なくとも1つの水素原
子が置換基で置換された基を意味する。置換アルキル基
及び置換アルコキシ基の置換基としては、例えば、ハロ
ゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、炭素数6〜
12のアリール基(フェニル、ナフチル、ビフェニリ
ル)、炭素数1〜4のアルコキシ基(メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、sec−
ブトキシ、tert−ブトキシ、イソブトキシ)、炭素
数1〜4のアルキルチオ(メチルチオ等)、炭素数6〜
12のアリールチオ(フェニルチオ等)などが挙げられ
る。置換アリール基、置換アリールオキシ基及び置換ア
リーレン基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子
(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、炭素数1〜4のアル
キル基(メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソブチ
ル)、炭素数1〜4のアルコキシ基(メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、sec−
ブトキシ、tert−ブトキシ、イソブトキシ)、炭素
数1〜4のアルキルチオ(メチルチオ等)、炭素数6〜
12のアリールチオ(フェニルチオ等)などが挙げられ
る。置換アルキレン基、置換α,ω−アルキレン基、置
換シクロアルキル基、置換シクロアルキリデン基及び置
換ピラジリデン基の置換基としては、例えば、ハロゲン
原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、炭素数1〜4の
アルキル基(メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソ
ブチル)、炭素数6〜12のアリール基(フェニル、ナ
フチル、ビフェニリル)、炭素数1〜4のアルコキシ基
(メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、
ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、イ
ソブトキシ)、炭素数1〜4のアルキルチオ(メチルチ
オ等)、炭素数6〜12のアリールチオ(フェニルチオ
等)などが挙げられる。例えば、R1、R2、R3及びR4
の場合、ハロゲン原子で置換された炭素数1〜10のア
ルキル基の好ましい一例としては、メチル基の水素原子
3つがフッ素原子で置換されたトリフルオロメチル基が
挙げられる。
えば、下記一般式(3)で表される二価アミン(3)と
下記一般式(4)で表される二価フェノール(4)に、
炭酸エステル形成性化合物を反応させることにより合成
することができる。なお、本発明のポリカーボネート共
重合体を合成するにあたり、二価アミン(3)は1種単
独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、ま
た、二価フェノールも1種単独で用いてもよいし、2種
以上を併用してもよい。
形成性化合物としてホスゲン等を用い、適当な酸結合剤
の存在下に上記二価アミン(3)及び二価フェノール
(4)と重縮合させる方法、炭酸エステル形成性化合物
としてビスアリールカーボネートを用い、エステル交換
反応を行う方法などが適用可能である。これらの反応
は、必要に応じ末端停止剤及び/又は分岐剤の存在下で
行われる。
有する。)
同じ意味を有する。) 上記二価アミン(3)の具体例としては、例えば、下記
のものが挙げられる。
(4)の例としては、例えば、4,4′−ジヒドロキシ
ビフェニル、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジヒド
ロキシビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′
−ジメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−2,
2′−ジメチルビフェニル、4,4′−ジヒドロキシ−
3,3′−ジシクロヘキシルビフェニル、4,4′−ジ
ヒドロキシ−3,3′−ジビニルビフェニル、3,3′
−ジアリル−4,4′−ジヒドロキシビフェニル等の
4,4′−ジヒドロキシビフェニル類;ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)−1,1−ジフェニルメタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、
ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)メタン、
ビス(4−ヒドロキシ−3−ノニルフェニル)メタン、
ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メ
タン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)−1−フェニルメタン、
ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、
ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−3−ビニルフェニ
ル)メタン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−ヒドロキシ−5−メチル−3−
ビニルフェニル)メタン、ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシ−5−メチルフェニル)メタン、ビス(2−ヒド
ロキシフェニル)メタン、2−ヒドロキシフェニル−4
−ヒドロキシフェニルメタン、ビス(2−ヒドロキシ−
4−メチルフェニル)メタン、ビス(6−tert−ブ
チル−2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)メタン、
ビス(2−ヒドロキシ−4,6−ジメチルフェニル)メ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタ
ン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニ
ルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチル
フェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−
ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)−1−フェニルエ
タン、2−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−
2−(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタ
ン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)エタン、1−フェニル−
1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチ
ルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン(別名:ビスフェノールA)、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチル
フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)プロパン、
1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−
sec−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
(別名:テトラフルオロビスフェノールA)、2,2−
ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン(別名:テトラクロロビスフェノールA)、2,
2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン(別名:テトラブロモビスフェノール
A)、2,2−ビス(3−ブロモ−5−クロロ−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒド
ロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−
フェニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3−ビニルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−5−メチル−3−ビニ
ルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4
−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2
−ビス(2−ヒドロキシ−4,6−ジメチルフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−sec−ブチル−2−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(2−te
rt−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
−2−メチルプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルプロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)ブタン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス
(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ブタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシ−2−メチル−5−tert−ペンチ
ルフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ
−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)ブタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メ
チルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−3−メチルブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)ヘキサン、2−エチル−1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ヘキサン、4,4−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ヘプタン、1,1−ビス(2−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オ
クタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノナ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デカン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシ−3−ビニルフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シ−5−メチル−3−ビニルフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−
ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)シクロヘキ
サン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフ
ェニル)シクロヘキサン等のビス(ヒドロキシフェニ
ル)アルカン類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)エー
テル、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)
エーテル等のビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル
類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルフィド等
のビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド類;ビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒド
ロキシ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−フェニルフェニル)スルホン等のビス
(4−ヒドロキシフェニル)スルホン類;4,4′−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン等のビス(ヒドロキシフェニ
ル)ケトン類;9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−
メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−エチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(4−ヒドロキシ−3−ビニルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−5−
メチル−3−ビニルフェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−
フェニルフェニル)フルオレン等のビス(ヒドロキシフ
ェニル)フルオレン類;4,4″−ジヒドロキシ−p−
ターフェニル等のジヒドロキシ−p−ターフェニル類;
4,4′′′−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニル
等のジヒドロキシ−p−クォーターフェニル類;2,5
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン、2,5−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,6−ジメチルピ
ラジン、2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
2,6−ジエチルピラジン等のビス(ヒドロキシフェニ
ル)ピラジン類;1,8−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メンタン、1,8−ビス(4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)メンタン、1,8−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)メンタン等のビス(4
−ヒドロキシフェニル)メンタン類;などが挙げられ
る。また、一般式(4)で表されるこれらの二価フェノ
ール(4)以外に、ヒドロキノン、レゾルシノール、カ
テコール、メチルヒドロキノン等のジヒドロキシベンゼ
ン類;1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒ
ドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレ
ン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒド
ロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類;6,
6′−ジヒドロキシ−3,3,3′,3′−テトラメチ
ルビスインダン等のジヒドロキシビスインダン類;1,
4−ビス[2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロ
ピル]ベンゼン、1,3−ビス[2−(4−ヒドロキシ
フェニル)−2−プロピル]ベンゼンなども用いること
ができる。
も、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
1,1−ジフェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニ
ル)プロパン、4,4′−ジヒドロキシビフェニル、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、2,2−ビス
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタ
ン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニ
ル)フルオレン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エー
テル、4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンなど
が好ましく、特に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンが好ましい。
共重合体の製造に用いることのできる末端停止剤として
は、一価のカルボン酸及びその誘導体、一価のフェノー
ルを用いることができる。例えば、p−(tert−ブ
チル)フェノール、p−クミルフェノール、p−フェニ
ルフェノール、p−(パーフロオロノニルフェニル)フ
ェノール、p−(パーフルオロキシルフェニル)フェノ
ール、p−tert−パーフルオロブチルフェノール、
1−(p−ヒドロキシベンジル)パーフルオロデカン、
p−(2−(1H,1H−パーフルオロトリデシルオキ
シ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロピ
ル)フェノール、3,5−ビス(パーフルオロヘキシル
オキシカルボニル)フェノール、p−ヒドロキシ安息香
酸パーフルオロドデシル、p−(1H,1H−パーフル
オロオクチルオキシ)フェノール、2H,2H,9H−
パーフルオロノナン酸等が好適に用いられる。
合組成比として1〜30モル%、より好ましくは1〜1
0モル%である。30モル%を超えると表面硬度不足の
ため感光層が摩耗しやすくなり、耐刷寿命が短くなり、
1モル%未満では溶液粘度が上昇し、液塗工法による感
光体の製造が困難になることがある。分岐剤としては、
3価以上のフェノール又はカルボン酸を用いることがで
きる。分岐剤の例としては、フロログリシン、ピロガロ
ール、4,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−2−ヘプテン、2,4−ジメチル
−2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプ
タン、2,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−3−ヘプテン、1,3,5−トリ
ス(2−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,3,5−
トリス(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,1,
1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、トリス
(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2−
ビス(4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキシル)プロパン、2,4−ビス{2−(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−プロピル}フェノール、2,6−
ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メ
チルフェノール、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2
−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパン、テトラ
キス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、テトラキス
(4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノ
キシ)メタン、1,4−ビス(4′、4″−ジヒドロキ
シトリフェニルメチル)ベンゼン、2,4−ジヒドロキ
シ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、3,3−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ
−2,3−ジヒドロインドール、3,3−ビス(4−ヒ
ドロキシアリール)オキシインドール、5−クロロイサ
チン、5,7−ジクロロイサチン、5−ブロモイサチン
等が挙げられる。
グリシン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゼン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタン等である。分岐剤の量の好ましい範囲
は、共重合組成比として30モル%以下、より好ましく
は5モル%以下である。30モル%を超えると、溶液粘
度が上昇し、液塗工法による感光体の製造が困難になる
ことがある。
ゲンをはじめとする各種のジハロゲン化カルボニル、ク
ロロホルメート等のハロホルメート類、炭酸エステル化
合物などを用い、酸結合剤の存在下に重縮合を行う反応
は、通常、溶媒中で行われる。ホスゲン等のガス状の炭
酸エステル形成性化合物を使用する場合、これを反応系
に吹き込む方法が好適に採用できる。
反応の化学量論比(当量)を考慮して適宜調整すればよ
い。前記酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム等の
アルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン等の有機塩基或いは
これらの混合物などが用いられる。
(当量)を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使
用する二価フェノールのモル数(通常1モルは2当量に
相当)に対して2当量若しくはこれより過剰量、好まし
くは2〜10当量の酸結合剤を用いることが好ましい。
前記溶媒としては、公知のポリカーボネート樹脂の製造
に使用されるものなど各種の有機溶媒を1種単独で或い
は混合溶媒として使用すればよい。代表的な例として
は、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素、塩化メ
チレン、クロロホルム、1,1−ジクロロエタン、1,
2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、
1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テト
ラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタ
ン、ペンタクロロエタン、クロロベンゼンをはじめとす
るハロゲン化炭化水素、アセトフェノンなどが挙げられ
る。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で用いてもよい
し、2種以上を組み合わせて用いてもよい。互いに混ざ
り合わない2種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行って
もよい。
を用いて反応を行うことが望ましい。触媒としては、例
えば、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリブチル
ベンジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチル
アンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムク
ロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の四
級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライ
ド、テトラブチルホスホニウムブロマイド等の四級ホス
ホニウム塩、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアニリン等の三級アミンなどが
好適である。
イドロサルファイドなどの酸化防止剤を少量添加しても
よい。反応は、通常、0〜150℃、好ましくは5〜4
0℃の範囲の温度で行われる。反応圧力は、減圧、常
圧、加圧のいずれでも可能であるが、通常は、常圧若し
くは反応系の自圧程度で好適に行い得る。反応時間は、
反応温度等によって左右されるが、通常0.5分間〜1
0時間、好ましくは1分間〜2時間程度である。
粘度を前記の範囲にするには、例えば、前記反応条件の
選択、前記末端停止剤や分岐剤の使用量の調節など、各
種の方法によってなすことができる。また、場合によ
り、得られたポリカーボネート共重合体に適宜物理的処
理(混合、分画など)及び/又は化学的処理(ポリマー
反応、部分分解処理など)を施して、所定の還元粘度の
ポリカーボネート共重合体として取得することもでき
る。
あり、例えば、二価フェノールとホスゲン(又はホスゲ
ン誘導体)を反応させてポリカーボネートオリゴマーを
製造し、次いで、このポリカーボネートオリゴマーと上
記の二価アミン、又は二価アミン及び二価フェノールと
を、有機溶媒と上記の酸結合剤等のアルカリ水溶液の混
合溶液下で反応させる方法によって、ポリカーボネート
共重合体を製造することができる。また、上記の二価フ
ェノール、ホスゲン及び二価アミンを有機溶媒とアルカ
リ水溶液の混合溶液中で反応させる方法によっても製造
することができる。通常は、前者の、予めポリカーボネ
ートオリゴマーを製造する方法を用いると、効率的にポ
リカーボネート共重合体を得ることができ、好ましい。
は、まず、アルカリ水溶液に二価フェノール(及び、必
要に応じ、分岐剤)を溶解させ、二価フェノールのアル
カリ水溶液を調製する。次いで、このアルカリ水溶液と
塩化メチレンなどの有機溶媒との混合液にホスゲンを導
入して反応させ、二価フェノールのポリカーボネートオ
リゴマーを合成する。次いで、反応溶液を水相と有機相
とに分離し、ポリカーボネートオリゴマーを含む有機相
を得る。この際、アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、1
〜15重量%の範囲が好ましく、また、有機相と水相と
の容積比は、10:1〜1:10、好ましくは5:1〜
1:5の範囲にあるのが望ましい。反応温度は冷却下に
通常0〜70℃、好ましくは5〜65℃とすることが望
ましく、反応時間は15分〜4時間、好ましくは30分
〜3時間程度である。このようにして得られるポリカー
ボネートオリゴマーの平均分子量は2,000以下で、
重合度は、通常20以下、好ましくは2〜10量体のも
のである。二価フェノールとして上記の二価フェノール
(4)を用いた場合、このようにして得られるポリカー
ボネートオリゴマーは、通常、下記一般式(5)で表さ
れる構造を有する。
同じ意味を有し、Halは塩素等のハロゲン原子であ
り、tは2〜20である。) このようにして得られるポリカーボネートオリゴマーを
含む有機相に、上記の二価アミン(及び、必要に応じ、
追加の二価フェノール)を加えて反応させる。反応温度
は、通常、10〜50℃、好ましくは20〜40℃、で
あり、反応時間は通常、30分〜2時間程度である。こ
の反応にあたって、二価アミンは有機溶媒に溶解させ、
また、二価フェノールはアルカリ水溶液として添加する
ことが望ましい。その添加順序については、特に制限は
ないが、二価フェノールを最後に加えることが望まし
い。また、二価アミンは、その一部又は全部を、二価フ
ェノールとホスゲンとからポリカーボネートオリゴマー
を製造する過程に投入してもよい。このようにして、本
発明に用いられるポリカーボネート共重合体を効率的に
製造することができる。
上記の製造法において、必要に応じ、ポリカーボネート
オリゴマーの製造時、その後の高分子量化の反応時のい
ずれか、または両方において添加して用いることができ
る。本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に感光層
を設けた電子写真感光体であって、感光層が、上記のポ
リカーボネート共重合体を含有する表面層を有するもの
である。
層が導電性基体上に形成されたものである限り、その構
造に特に制限はなく、単層型、積層型等の公知の種々の
形式の電子写真感光体はもとより、どのようなものとし
てもよい。通常は、感光層が少なくとも1層の電荷発生
層と、表面層を形成する少なくとも1層の電荷輸送層を
有する積層型電子写真感光体が好ましく、少なくともそ
の電荷輸送層中に上記ポリカーボネート共重合体がバイ
ンダー樹脂として、及び/又は、上記表面層改質のため
の添加剤として、及び/又は、ポリカーボネートとポリ
シロキサンの相溶化剤として用いられていることが好ま
しい。
ポリカーボネート共重合体をバインダー樹脂として用い
る場合、ポリカーボネート共重合体を1種のみ又は2種
以上を組み合わせて用いてもよいし、また、所望に応じ
て本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカー
ボネート樹脂等の樹脂成分と併用してもよい。本発明の
電子写真感光体に用いられる導電性基体の材料として
は、公知のものなど各種のものを使用することができ、
具体的にはアルミニウム、ニッケル、クロム、パラジウ
ム、チタン、金、銀、銅、亜鉛、ステンレス、モリブデ
ン、インジウム、白金、真鍮、酸化鉛、酸化錫、酸化イ
ンジウム、ITO若しくはグラファイトの板、ドラム及
びシート、並びに蒸着、スパッタリング、塗布等により
コーティングするなどして導電処理したガラス、布、紙
若しくはプラスチックのフィルム、シート及びシームレ
スベルト、アルミニウム等の金属箔を積層したプラスチ
ックフィルム、シート及びシームレスベルト、並びに金
属板のフィルム状シート及びシームレスベルト、並びに
電極酸化などにより金属酸化処理した金属ドラムなどを
使用することができる。
くとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生層
はその下地となる基体上に真空蒸着、スパッタ法、CV
D法等により電荷発生物質の層を形成せしめるか、又は
その下地となる層上に電荷発生物質をバインダー樹脂を
用いて結着してなる層を形成せしめることによって得る
ことができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形
成方法としては公知の方法等、各種の方法を使用するこ
とができるが、通常、例えば、電荷発生物質をバインダ
ー樹脂と共に適当な溶媒により分散若しくは溶解した塗
工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥せしめる
方法が好適に用いられる。
ど各種のものを使用することができ、具体的には、非晶
質セレン、三方晶セレン等のセレン単体、テルル単体、
セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金等のセレンの合
金、As2Se3等のセレン化合物若しくはセレン含有組
成物、酸化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、硫
化亜鉛、CdS−Se等の合金、第12族及び第16族
元素からなる無機材料、酸化チタン等の酸化物系半導
体、アモルファスシリコンなどのシリコン系材料等の各
種の無機材料、τ型無金属フタロシアニン、χ型無金属
フタロシアニン等の無金属フタロシアニン顔料、α型銅
フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロ
シアニン、ε型銅フタロシアニン、X型銅フタロシアニ
ン、A型チタニルフタロシアニン、B型チタニルフタロ
シアニン、C型チタニルフタロシアニン、D型チタニル
フタロシアニン、E型チタニルフタロシアニン、F型チ
タニルフタロシアニン、H型チタニルフタロシアニン、
G型チタニルフタロシアニン、K型チタニルフタロシア
ニン、L型チタニルフタロシアニン、M型チタニルフタ
ロシアニン、N型チタニルフタロシアニン、Y型チタニ
ルフタロシアニン、オキソチタニウムフタロシアニン、
X線回折図におけるブラック角2θが27.3±0.2
度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシアニンなど
の金属フタロシアニン顔料、シアニン染料、アントラセ
ン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、
キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ぺリレン顔料、ピリ
リウム染料、チアピリリウム染料、ポリビニルカルバゾ
ール、スクェアリウム顔料、アントアントロン顔料、ベ
ンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、
ビスベンゾイミダゾール顔料、キノリン顔料、レーキ顔
料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニル
メタン顔料、アズレニウム染料、スクウェアリウム染
料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジ
ン染料などが挙げられる。
物が好適に用いられる。
にピロール環上の2個の炭素原子と共に、置換基を有し
ていてもよい芳香族炭化水素環若しくは複素環を形成す
ることができる原子団を表し、Mは2個の水素原子又は
配位子を有していてもよい金属原子若しくは金属化合物
を表す。]
複素環を含んでいてもよい共役系を有するt価の残基を
表し、tは1以上の正数であり、Cpは芳香族系水酸基
を有するカップラー残基を表し、tが2以上の場合は、
各々のCpは同一であっても異なっていてもよい。]
立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子を表し、RP及
びRQは炭素数1〜12のアルキル基若しくはアリール
基を表し、X2若しくはX3とRP及びX4若しくはX5と
RQとで置換基を有していてもよい複素環を形成してい
てもよい。] フルオレン系ジスアゾ顔料としては、以下のような例が
ある。
がある。
がある。
うな例がある。
のような例がある。
例がある。
して用いることもできる。電荷発生層の厚さは、0.0
1〜2.0μmが好ましく、0.1〜0.8μmがより
好ましい。0.01μm未満であると、電荷発生層を均
一に形成することが困難であり、2.0μmを超える
と、電子写真特性が低下する傾向がある。前記電荷発生
層に用いられるバインダー樹脂としては、特に制限はな
く、公知のものなど各種のものを使用できる。具体的に
は、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセター
ル、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニト
リル、ボリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリケトン、ポリア
クリルアミド、ブチラール樹脂、ポリエステル、塩化ビ
ニリデン−塩化ビニル共重合体、メタクリル樹脂、ポリ
スチレン、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリ
コーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニル
カルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルフォ
ルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビ
ニルアルコール、エチルセルロース、ニトロセルロー
ス、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系
ポリマーラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体、ビニルトルエン−スチレン共重合体、大豆油変
性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチル
スチレン、ポリイソプレン、ポリチオカーボネート、ポ
リアリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテ
ル、ポリビニルアクリレート、メラミン樹脂、ポリエー
テル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシアクリレー
ト樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリエステルアク
リレート等の熱硬化性樹脂を使用することができる。
して上記のポリカーボネート共重合体を使用することも
できる。次に、電荷輸送層は、下地となる層(例えば電
荷発生層)上に、電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着
してなる層を形成することによって得ることができる。
この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法等の各
種の方式を使用することができるが、通常、電荷輸送物
質を上記のポリカーボネート共重合体と共に適当な溶媒
に分散若しくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層
上に塗布し、乾燥させる方式などが使用される。電荷輸
送層形成に用いられる電荷輸送物質とポリカーボネート
共重合体との配合割合は、好ましくは重量で20:80
〜80:20、さらに好ましくは30:70〜70:3
0である。
ネート共重合体は1種単独で用いることもできるし、ま
た、2種以上を混合して用いることもできる。また、本
発明の目的達成を阻害しない範囲で、前記電荷発生層に
用いられるバインダー樹脂として挙げたような他の樹脂
を上記ポリカーボネート共重合体と併用することもでき
る。
種のものを使用することができる。例えば、カルバゾー
ル化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オ
キサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾー
ル化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、
アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合
物、脂肪族アミン化合物、スチルべン化合物、フルオレ
ノン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チア
ゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合
物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合
物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベ
ンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフ
ラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9
−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれらを
主鎖、側鎖に有する重合体が用いられ、好ましくは下記
一般式で表されるような化合物が用いられる。
立に、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2、Ar2とAr3
及びAr3とAr1で環を形成していてもよい。]
に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
6〜12の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、A、B、C及びDは各々独立に、0〜5
の整数である。]
素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキ
ル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキ
ル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2は環を形成して
もよい。RAはシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミ
ノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、REはエチレン基又はエテニ
レン基を表し、Eは0〜4の整数である。]
素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキ
ル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキ
ル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2は環を形成して
もよい。RAはシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミ
ノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、RF及びRGは各々独立に、水
素原子、炭素数1〜6のアルキル基又はハロゲン原子を
表し、Eは0〜4の整数である。]
Ar5は各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換
若しくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若
しくは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若
しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若
しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多
環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar
6とAr7は各々独立に、炭素数1〜6の置換若しくは無
置換のアルキレン基或は炭素数6〜12の置換若しくは
無置換のアリール化合物、多環式炭化水素、置換若しく
は無置換の縮合多環式炭化水素、複素環化合物、多環系
複素環化合物又は縮合多環系複素環化合物の2価残基を
表し、Ar1とAr2及びAr3とAr4は環を形成しても
よい。]
各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは
無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無
置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無
置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無
置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素
環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2
及びAr3とAr4は環を形成してもよい。RH及びRIは
各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミ
ノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、E及びFは各々独立に0〜4
の整数である。]
各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは
無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無
置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無
置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無
置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素
環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2
及びAr3とAr4は環を形成してもよい。RA、RB及び
RCは各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキ
シル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキル
アミノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラル
キル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリー
ル基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多
環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮
合多環系複素環式基を表し、E、F及びGは各々独立に
0〜4の整数である。X1は−O−、−S−、−Se
−、−Te−、−CRJRK−、−SiRJRK−、−NR
J−又は−PRJ−(式中、RJ及びRKは各々独立に、水
素原子、ハロゲン原子、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数1〜10の置換若
しくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若し
くは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若し
くは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若し
くは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環
系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表す。)を表
す。]
素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキ
ル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキ
ル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2は環を形成して
もよい。RAはシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミ
ノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Aは0〜5の整数である。]
Ar5は各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換
若しくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若
しくは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若
しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若
しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多
環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、RA
及びRBは各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カル
ボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラル
キルアミノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換の
アルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のア
ラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のア
リール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮
合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又
は縮合多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2及びAr
3とAr4は環を形成してもよい。F及びEは各々独立に
0〜4の整数である。]
0の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13
の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12
の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素
基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素
環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を
表し、RA、RB及びRCは各々独立に、シアノ基、ハロ
ゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル
基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数1〜10の置換
若しくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若
しくは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若
しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若
しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多
環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、nは
0又は1、A、B及びCは各々独立に0〜5の整数であ
る。]
独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置
換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換
のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換
のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換
の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式
基又は縮合多環系複素環式基を表し、RA及びRCは各々
独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ア
シル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、
炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、炭
素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭
素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール基、多環
式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水
素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複
素環式基を表し、RB′は水素原子、シアノ基、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、
ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、アラルキルアミノ基、炭素数1〜10の置換若し
くは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しく
は無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しく
は無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しく
は無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系
複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、nは0又
は1、Eは0〜4の整数、Hは0〜3の整数である。]
素原子、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置
換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換
のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換
のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換
の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式
基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2は環
を形成してもよい。]
立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換
のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換の
アラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換の
アリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の
縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基
又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar1とAr2は環を
形成してもよい。]
は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル
基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミ
ノ基、炭素数1〜10の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、A、B、C、D、I及びJは
各々独立に0〜5の整数である。]
各々独立に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは
無置換のアルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無
置換のアラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無
置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無
置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素
環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ar6は炭素
数1〜6の置換若しくは無置換のアルキレン基或は炭素
数6〜12の置換若しくは無置換のアリール化合物、多
環式炭化水素、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水
素、複素環化合物、多環系複素環化合物又は縮合多環系
複素環化合物の2価残基を表し、Ar1とAr2及びAr
3とAr4は環を形成してもよく、nは0又は1であ
る。]
に、水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置換の
アルキル基、炭素数7〜13の置換若しくは無置換のア
ラルキル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換のア
リール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮
合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又
は縮合多環系複素環式基を表す。] 具体的には次に示すような化合物が用いられる。
混合して用いることができる。電荷輸送層の厚さは5〜
100μmが好ましく、10〜30μmがより好まし
い。5μm未満であると、初期電位が低くなり、100
μmを超えると、電子写真特性が低下する傾向がある。
導電性基体と感光層との間に通常使用されるような公知
の下引き層を設けることができる。下引き層としては、
酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン
酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シリ
カ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化イン
ジウム、酸化珪素等の微粒子、ポリアミド樹脂、フェノ
ール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン
樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、
ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ブチラール樹脂等の成分を使用することができる。これ
らの微粒子や樹脂を単独で又は2種以上混合して使用す
ることができる。特に微粒子を用いると、微粒子に樹脂
が吸着され、平滑な皮膜を得ることができるため、微粒
子と樹脂を併用することが望ましい。また、下引き層に
は前記バインダー樹脂を用いることができる。また、上
記のポリカーボネート共重合体を用いることもできる。
0μm、好ましくは0.01〜1.0μmである。この
厚さが0.01μm未満であると、下引き層を均一に形
成することが困難になり、10.0μmを超えると、電
子写真特性が低下することがある。また、導電性基体と
感光層との間に通常使用されているような公知のブロッ
キング層を設けることができる。ブロッキング層には前
記バインダー樹脂を用いることができる。また、上記の
ポリカーボネート共重合体を用いることもできる。ブロ
ッキング層の厚さは、通常0.01〜20.0μm、好
ましくは、0.1〜10.0μmである。この厚さが
0.01μm未満であると、ブロッキング層を均一に形
成することが困難になり、20.0μmを超えると、電
子写真特性が低下することがある。
に保護層を積層してもよい。保護層の膜厚は0.01〜
20μmが可能であり、より好ましくは0.1〜10μ
mである。保護層には前記バインダー樹脂を用いること
ができる。特に、上記のポリカーボネート共重合体を用
いることが好ましい。保護層には、前記の電荷発生物
質、電荷輸送物質、添加剤、金属及びその酸化物、窒化
物、塩、合金、カーボンなどの導電材料を含有してもよ
い。
性能を向上させるために電荷発生層、電荷輸送層に結合
剤、可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制御
剤、電子写真感度を改良するための分光感度増感剤(増
感染料)、分光感度増感剤とは別に、繰り返し使用に対
しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低下を
防止する目的の種々の化学物質、酸化防止剤、界面活性
剤、カール防止剤、レベリング剤等などの添加剤を添加
することができる。
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹
脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポ
リイソプレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹
脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿
素樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢
酸ビニル/塩化ビニル共重合体、ポリエステルカーボネ
ート樹脂等が挙げられる。また、熱及び/又は光硬化性
樹脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常
の状態で皮膜を形成しうる樹脂であれば、特に制限はな
い。
0重量%添加することが好ましく、10〜100重量%
がより好ましい。5重量%未満では感光層の皮膜が不均
一となりやすく、画質が劣る傾向がある。20重量%を
超えると、感度が低下し、残留電位が高くなる傾向があ
る。可塑剤の具体的な例としては、ビフェニル、塩化ビ
フェニル、o−ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、
ジメチルナフタリン、ジメチルフタレート、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ジエチレングリコー
ルフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジイソブ
チルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケ
ート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリ
コレート、ジメチルグリコールフタレート、メチルナフ
タレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフ
タレンジスルホン酸等が挙げられる。流動付与剤として
は、モダフロー、アクロナール4F等が挙げられる。ピ
ンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタレ
ート等が挙げられる。
ル制御剤は、前記電荷輸送物質に対して、5重量%以下
で用いることが好ましい。増感染料の具体的な例として
は、メチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナ
イトブルー、ビクトリアブルー等で代表されるトリフェ
ニルメタン系染料、エリスロシン、ローダミンB、ロー
ダミン3R、アクリジンオレンジ、フラペオシン等に代
表されるアクリジン染料、メチレンブルー、メチレング
リーン等に代表されるチアジン染料、カプリブルー、メ
ルドラブルー等に代表されるオキサジン染料、その他シ
アニン染料、メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリ
ュウム塩染料、チオピリリュウム塩染料等が挙げられ
る。
用時の疲労低減等を目的として、電子受容性物質を加え
ることができる。電子受容性物質としては、無水コハク
酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フ
タル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水
フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フ
タル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラ
シアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニ
トロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、1,3,5−ト
リニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリ
ルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロ
マニル、ベンゾキノン、2,3−ジクロロベンゾキノ
ン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノ
ン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、
1−クロロアントラキノン、ジニトロトロアントラキノ
ン、4−ニトロベンゾフェノン、4,4−ニトロベンゾ
フェノン、4−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−
シアノ−β−(p−シアノフェニル)アクリル酸エチ
ル、9−アントラセニルメチルマロンジニトリル、1−
シアノ−(p−ニトロフェニル)−2−(p−クロロフ
ェニル)エチレン、2,7−ジニトロフルオレノン、
2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7
−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレニリデン
[ジシアノメチレンマロノニトリル]、ポリニトロ−9
−フルオレニリデン−[ジシアノメチレンマロノジニト
リル]、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ
安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ
安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサ
リチル酸、フタル酸、メリット酸など、電子親和力が大
きい化合物がある。
発生層のいずれに加えてもよく、電荷輸送物質又は電荷
発生物質に対して通常0.01〜200重量%、より好
ましくは0.1〜50重量%配合される。また、表面性
の改良のために、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化
エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹
脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ
化二塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体、フッ素系
グラフトポリマーを用いてもよい。
に対して0.1〜60重量%、より好ましくは5〜40
重量%配合される。0.1重量%より少ないと耐摩耗
性、表面耐久性、表面エネルギー低下等の表面改質が十
分でなく、60重量%より多いと電子写真特性が悪くな
ることがある。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノ
ール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダ
ードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有
機リン酸系酸化防止剤などが挙げられる。
て通常0.01〜10重量%、より好ましくは0.1〜
2重量%配合される。ヒンダードフェノール系酸化防止
剤としては、以下の例がある。
ような例がある。
以下のような例がある。
うな例がある。
うな例がある。
ドアミン構造単位を分子内に有する酸化防止剤としては
以下のような例がある。
し、あるいは、2種類以上を混合するなどして併用して
もよい。これらの添加剤は保護層、下引き層、ブロッキ
ング層に添加してもよい。前記電荷発生層、電荷輸送層
の形成の際に使用する前記溶媒の具体例としては、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等
の芳香族系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール、酢酸エチル、エチルセ
ロソルブ等のエステル、四塩化炭素、クロロホルム、ジ
クロロメタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチ
ルホルムアミド等を挙げることができる。
く、或いは、2種以上を混合溶媒として用いてもよい。
電荷輸送層を形成する方法としては、前記電荷輸送物
質、添加剤、バインダー樹脂材料を溶剤に分散、又は溶
解した溶液を所定の下地となる基体、層上に浸漬塗工
法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール
塗工法、アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工
法、バーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディ
ップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤ
ーバー塗工法、ナイフコーター塗工法、アトライター塗
工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工
法、カーテン塗工法などの塗工法を用いて塗工し、乾燥
することにより形成することができる。
ル、超音波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サン
ドミル、ミキサー、アトライターなどを用いることがで
きる。架橋反応は減圧から加圧の如何なる圧力下でも行
い得るが、好ましくは減圧又は常圧下で行われる。単層
型電子写真感光体の感光層の形成は、前記電荷発生物
質、電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂材料を溶剤
に分散、又は溶解した溶液を所定の下地となる基体上に
塗布し、乾燥させることによって行われる。塗布方法、
添加剤等は上記と同様である。単層型電子写真感光体の
場合には、上記バインダー樹脂材料として、上記の本発
明に用いられるポリカーボネート共重合体を用いること
が好ましい。また、上記と同様に保護層、下引き層、ブ
ロッキング層を設けてもよい。これらの層の形成にも、
上記のポリカーボネート共重合体を用いることが好まし
い。
が好ましく、8〜50μmがより好ましい。5μm未満
であると、初期電位が低くなりやすく、100μmを超
えると電子写真特性が低下する傾向がある。単層型電子
写真感光体製造に用いられる電荷発生物質:ポリカーボ
ネート共重合体の重量による割合は、好ましくは1:9
9〜30:70、更に好ましくは3:97〜15:85
である。また、電荷輸送物質:ポリカーボネート共重合
体の重量による割合は、好ましくは10:90〜80:
20、更に好ましくは30:70〜70:30である。
で、他の樹脂を上記ポリカーボネート共重合体と併用す
ることも可能である。なお、本発明の電子写真感光体の
感光層の層構成としては、上記ポリカーボネート共重合
体を含む層が感光層の表面層となる構成とする。このよ
うにして得られる本発明の電子写真感光体は高い表面硬
度を有し、トナーなどの異物の付着によるフィルミング
が生じにくく、長期間にわたって優れた耐刷性及び電子
写真特性を維持する感光体であり、複写機(モノクロ、
マルチカラー、フルカラー;アナログ、デジタル)、プ
リンター(レーザー、LED、液晶シャッター)、FA
X、製版機等の各種の電子写真分野に好適に利用するこ
とができる。
って、帯電器は、コロナ放電(コロトロン、スコトロ
ン)、接触帯電(帯電ロール、帯電ブラシ)などが用い
られる。露光は、ハロゲンランプ、蛍光灯、レーザー
(半導体、He−Ne)、LED、感光体内部露光方式
で行われる。現像工程はカスケード現像、二成分磁気ブ
ラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現
像などの乾式現像方式や湿式現像方式などが用いられ
る。転写工程はコロナ転写、ローラ転写、ベルト転写な
どの静電転写法、圧力転写法、粘着転写法が用いられ
る。定着は、熱ローラ定着、ラジアント・フラッシュ定
着、オーブン定着、圧力定着などが用いられる。クリー
ニング・除電には、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリ
ーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナ
ー、ブレードクリーナーなどが用いられる。
て本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。 実施例1 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビ
スフェノールA)74gを、6重量%濃度の水酸化ナト
リウム水溶液550mlに溶解した溶液と塩化メチレン
250mlとを混合して撹拌しながら、冷却下、20℃
において、該溶液中にホスゲンガスを950ml/se
cの割合で15分間吹き込んだ。次いで、この反応液を
静置して有機層を分離し、重合度が2〜5であり、分子
末端がクロロホルメート基であるビスフェノールAのポ
リカーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。
なお、生成オリゴマーの構造、重合度及び末端基は1H
−NMR、MS、GPCにより確認した。
塩化メチレンを加えて全量を450mlとした後、8重
量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液150mlと混合
し、これに下記構造を有する市販のアミノ変性シリコー
ンオイル(アミノ基価=680)84.4g及び分子量
調節剤であるp−tert−ブチルフェノール3.0g
を加えた。次いでこの混合溶液を激しく撹拌しながら、
触媒として7重量%トリエチルアミン水溶液2mlを加
え、28℃において1.5時間撹拌して反応を行った。
リットルで希釈し、次いで水1.5リットルで2回、
0.01N塩酸1リットルで1回、水1リットルで2回
の順で洗浄した。有機相をメタノール中に投入し、析出
したポリマーを濾過、乾燥し、158gのポリカーボネ
ート共重合体(PC−1)を得た。このようにして得ら
れたポリカーボネート共重合体の還元粘度[ηsp/c]
(塩化メチレンを溶媒として用いて濃度0.5g/dl
で20℃で測定した還元粘度、以下同様)は0.51d
l/gであった。還元粘度の測定は、離合社製、自動粘
度測定装置VMR−042を用い、自動粘度用ウッベロ
ーデ改良型粘度計(RM型)で測定した。
−1)の構造及び共重合組成は1H−NMR分析結果よ
り、下記の繰り返し単位を、下記の組成で含有すること
がわかった。
2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−カルボキシア
ルデヒド−1′,1′−ジフェニルヒドラゾン(C−
1)を用い、バインダー樹脂として(PC−1)を用
い、C−1:PC−1:塩化メチレン:クロロベンゼン
=1:1:3:5(重量比)の溶液を調製し、塗工液と
した。この塗工液の保存安定性評価(白濁、ゲルの発生
の評価)を行った。結果を表1に示す。
0mmの平板、及びφ168mm×360mmの円筒状
の2種)上に、オキソチタニウムフタロシアニン:ブチ
ラール樹脂:塩化メチレン=1:1:38(重量比)の
分散液を浸漬塗工法により塗布し、オキソチタニウムフ
タロシアニンの層(約0.5μm)を電荷発生層として
形成した。その電荷発生層上に上記塗工液を浸漬塗工法
により塗布し、乾燥し、約20μmの電荷輸送層を形成
し、積層型電子写真感光体を作製した。塗布から乾燥に
至る過程で電荷輸送層が結晶化することはなかった。
写真特性)の評価は、上記平板状の感光体を用いて行っ
た。電子写真特性は、静電気帯電試験装置EPA−81
00(株式会社川口電機製作所製)を用い、−6kVの
コロナ放電を行い、初期表面電位(V0)、光照射(1
0Lux)5秒後の残留電位(VR)、半減露光量(E
1/2)を測定することにより評価した。結果を表1に示
す。
用を繰り返した際の耐トナーフィルミング製劣化具合の
評価は、上記円筒状の感光体を用いて行った。評価は、
市販の複写機(カールソン方式、有機電子写真感光体使
用、円筒状ドラム使用(φ168mm×360mm、ア
ルミニウム製)、コロナ帯電方式(電圧−800V)、
ブレードクリーニング方式(ウレタン製ブレード、ブレ
ード圧1kg/cm2)、2成分系現像剤(スチレンア
クリルトナー、フェライトキャリアー使用)に、上記感
光体を搭載した試験機を用い、22〜27℃、湿度10
〜30%の条件下でテストパターンの複写をA4サイズ
縦置きで3万枚まで繰り返し、得られた感光体に、目視
可能な黒点(トナーフィルミングを起こし、トナー成分
が感光体に付着したもの)が、10mm×10mmの中
にいくつ存在するか観測し、評価を行った。得られた結
果を表2に示す。
ノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコーンオ
イル(アミノ基価=680)28.1g及び4,4′−
ビフェノール8.3gに変更した以外は、実施例1と同
様の操作で、110gのポリカーボネート共重合体(P
C−2)を得た。
共重合体の還元粘度は0.63dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−2)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−2)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例3 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコーンオ
イル(アミノ基価=680)8.4g及び4,4′−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン13.0gに変更した以外
は、実施例1と同様の操作で、100gのポリカーボネ
ート共重合体(PC−3)を得た。
共重合体の還元粘度は0.75dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−3)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−3)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例4 実施例1において、ビスフェノールA74gを9,9−
ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレ
ン123.2gに変更し、アミノ変性シリコーンオイル
(アミノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコ
ーンオイル(アミノ基価=2160)286gに変更し
た以外は、実施例1と同様の操作で、394gのポリカ
ーボネート共重合体(PC−4)を得た。
共重合体の還元粘度は0.48dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−4)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−4)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例5 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gを実施例4で用いたアミノ
変性シリコーンオイル(アミノ基価=2160)95g
及びビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル9.1g
に変更した以外は、実施例1と同様の操作で、178g
のポリカーボネート共重合体(PC−5)を得た。
共重合体の還元粘度は0.62dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−5)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−5)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例6 実施例1において、ビスフェノールA74gを1,1−
ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)シクロ
ヘキサン141gに変更し、アミノ変性シリコーンオイ
ル(アミノ基価=680)84.4gを下記構造を有す
るアミノ変性シリコーンオイル(アミノ基価=648)
58gに変更した以外は、実施例1と同様の操作で、1
87gのポリカーボネート共重合体(PC−6)を得
た。
共重合体の還元粘度は0.57dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−6)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−6)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例7 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gを実施例6で用いたアミノ
変性シリコーンオイル(アミノ基価=648)19g及
び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニル
メタン15.8gに変更した以外は、実施例1と同様の
操作で、110gのポリカーボネート共重合体(PC−
7)を得た。
共重合体の還元粘度は0.68dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−7)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−7)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例8 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコーンオ
イル(アミノ基価=680)10g及びビスフェノール
A14.5gに変更した以外は、実施例1と同様の操作
で、102gのポリカーボネート共重合体(PC−8)
を得た。
共重合体の還元粘度は0.70dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−8)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−8)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例9 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコーンオ
イル(アミノ基価=680)10g及び4,4′−ビフ
ェノール11.8gに変更した以外は、実施例1と同様
の操作で、98gのポリカーボネート共重合体(PC−
9)を得た。
共重合体の還元粘度は0.76dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−9)は1H−N
MR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組成
で含有することがわかった。
−9)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表1
及び表2に示す。 実施例10 実施例1において、アミノ変性シリコーンオイル(アミ
ノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコーンオ
イル(アミノ基価=680)0.5g及び4,4′−ビ
フェノール12.5gに変更した以外は、実施例1と同
様の操作で、92gのポリカーボネート共重合体(PC
−10)を得た。
共重合体の還元粘度は0.86dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−10)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−10)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。 実施例11 実施例1において、ビスフェノールA74gをビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルホン81gに変更し、アミ
ノ変性シリコーンオイル(アミノ基価=680)84.
4gをアミノ変性シリコーンオイル(アミノ基価=68
0)10g及びビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン16gに変更した以外は、実施例1と同様の操作で、
111gのポリカーボネート共重合体(PC−11)を
得た。
共重合体の還元粘度は0.73dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−11)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−11)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。 実施例12 実施例1において、ビスフェノールA74gを2,2−
ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−1,
1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン129g
に変更し、アミノ変性シリコーンオイル(アミノ基価=
680)84.4gをアミノ変性シリコーンオイル(ア
ミノ基価=680)10g及び2,2−ビス(4−ヒド
ロキシ−3−メトキシフェニル)−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロプロパン25gに変更した以外
は、実施例1と同様の操作で、159gのポリカーボネ
ート共重合体(PC−12)を得た。
共重合体の還元粘度は0.67dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−12)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−12)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。 実施例13 実施例1において、ビスフェノールA74gを2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン83gに変更
し、アミノ変性シリコーンオイル(アミノ基価=68
0)84.4gをアミノ変性シリコーンオイル(アミノ
基価=680)10g及び2,2−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)ペンタン16gに変更した以外は、実施例
1と同様の操作で、110gのポリカーボネート共重合
体(PC−13)を得た。
共重合体の還元粘度は0.74dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−13)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−13)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。 実施例14 実施例1において、ビスフェノールA74gを2,2−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン177gに変更し、アミノ変性シリコーンオイル
(アミノ基価=680)84.4gをアミノ変性シリコ
ーンオイル(アミノ基価=680)10g及び2,2−
ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン35gに変更した以外は、実施例1と同様の操作
で、220gのポリカーボネート共重合体(PC−1
4)を得た。
共重合体の還元粘度は0.75dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−14)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−14)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。 比較例1 ビスフェノールZを原料として得られる下記繰り返し単
位からなるポリカーボネート(還元粘度=0.73dl
/g)を用いて、その評価を実施例1と同様に行った。
結果を表1及び表2に示す。
ノ基価=680)84.4gを下記のフェノール変性シ
リコーンオイル(水酸基価=690)85gに変更した
以外は、実施例1と同様の操作で、152gのポリカー
ボネート共重合体(PC−15)を得た。
共重合体の還元粘度は0.64dl/gであった。得ら
れたポリカーボネート共重合体(PC−15)は1H−
NMR分析結果より、下記の繰り返し単位を、下記の組
成で含有することがわかった。
−15)の評価を、実施例1と同様に行った。結果を表
1及び表2に示す。
樹脂成分として溶媒に溶解しても白化又はゲル化を起こ
しにくく保存安定性に優れたポリカーボネート共重合体
を用いて製造されるため、生産効率に優れる。また、こ
のポリカーボネート共重合体は、電荷輸送物質との相溶
性に優れ、また感光体表面のフィルミングの原因である
異物付着現象を抑制することから、本発明の電子写真感
光体は、長期間にわたって優れた機械的強度のみなら
ず、優れた電子写真特性を維持することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 導電性基体上に感光層を設けた電子写真
感光体において、感光層が、下記一般式(1)で表され
る繰り返し単位(1)を含有するポリカーボネート共重
合体を含有する表面層を有することを特徴とする電子写
真感光体。 【化1】 (式中、Rは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素
数1〜6の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数1
〜6の置換若しくは無置換のアルコキシ基又は炭素数6
〜12の置換若しくは無置換のアリール基であり、Xは
各々独立に単結合、炭素数1〜6の置換若しくは無置換
のアルキレン基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換
のアリーレン基、 【化2】 であり、nは0〜200の整数であり、mは1〜6の整
数である。) - 【請求項2】 該ポリカーボネート共重合体が、繰り返
し単位(1)及び下記一般式(2)で表される繰り返し
単位(2)からなるものである請求項1記載の電子写真
感光体。 【化3】 (式中、R1及びR2は各々独立にハロゲン原子、炭素数
1〜10の置換若しくは無置換のアルキル基、ビニル
基、アリル基、炭素数6〜12の置換若しくは無置換の
アリール基、炭素数5〜7の置換若しくは無置換のシク
ロアルキル基、炭素数1〜6の置換若しくは無置換のア
ルコキシ基又は炭素数6〜12の置換若しくは無置換の
アリールオキシ基であり、a及びbは各々独立に0〜4
の整数であり、Yは単結合、−O−、−CO−、−S
−、−SO−、−SO2−、−CR3R4−、炭素数5〜
11の置換若しくは無置換のシクロアルキリデン基、炭
素数2〜12の置換若しくは無置換のα,ω−アルキレ
ン基、9,9−フルオレニリデン基、1,8−メンタン
ジイル基、2,8−メンタンジイル基、置換若しくは無
置換のピラジリデン基又は炭素数6〜12の置換若しく
は無置換のアリーレン基であり、ただしR3及びR4は各
々独立に水素原子、炭素数1〜10の置換若しくは無置
換のアルキル基又は炭素数6〜12の置換若しくは無置
換のアリール基である。) - 【請求項3】 感光層が、電荷発生物質を含有する電荷
発生層、並びに、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含
有し、感光層の表面層を形成する電荷輸送層からなり、
該バインダー樹脂が該ポリカーボネート共重合体を含有
する請求項1又は2記載の電子写真感光体。
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