JP3468873B2 - 電子写真感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体に関
し、より詳しくは、長時間にわたる繰り返し使用に対し
て優れた機械的強度及び電子写真特性を維持し、種々の
電子写真分野に好適に利用できる電子写真感光体に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】最近の電子写真分野においては、積層型
の電子写真感光体、即ち、感光層が、露光により電荷を
発生させる電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷を輸送する電荷
輸送層（ＣＴＬ）との少なくとも２層を有する積層型の
有機電子写真感光体（ＯＰＣ）や、感光層が電荷発生物
質及び電荷輸送物質をバインダー樹脂に分散させた単一
層からなる単層型の電子写真感光体が提案され利用され
ている。

【０００３】一方、電子写真感光体には、適応される電
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、光学特
性を備えていることが要求される。特に、繰り返し使用
される感光体には、その感光体の表面層、即ち基体（通
常は導電性基板）より最も離れて位置する層には、コロ
ナ帯電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理等
の際に、電気的、機械的外力が直接に加えられるため、
それらに対する耐久性が要求される。具体的には、摩擦
による表面の摩耗や傷の発生、高温下においてのコロナ
帯電時に発生するオゾンによる表面の劣化などに対する
耐久性が要求される。そこで、このような要求に対応す
るために、上記積層型の電子写真感光体の電荷輸送層や
単層型電子写真感光体の感光層のバインダー樹脂として
は、電荷輸送物質との相溶性がよく、しかも機械強度が
高いビスフェノールＡあるいはビスフェノールＺを原料
とするポリカーボネート樹脂が広く利用されてきた。し
かしながら、このビスフェノールＡやビスフェノールＺ
を原料とするポリカーボネート樹脂をもってしても上記
要求を満足させるには不十分である。

【０００４】すなわち、ビスフェノールＡやビスフェノ
ールＺを原料とするポリカーボネート樹脂は、溶媒に溶
解させて感光層を形成するための塗工液を調製する際
に、塗工液が白化又はゲル化し、塗工、乾燥後の感光層
が結晶化を起こすことがある。この結晶化を起こした部
分では、光減衰がなく、電荷は残留電位となって残り、
画質上ディフェクトとなって出現する。

【０００５】また、ビスフェノールＡやビスフェノール
Ｚを原料とするポリカーボネート樹脂を用いた感光体は
その表面硬度不足から、摩耗や傷の発生が起こり耐久性
に劣る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
基づいてなされたものであり、バインダー樹脂としてビ
スフェノールＡやビスフェノールＺを原料とするポリカ
ーボネートを用いた電子写真感光体に認められる上記の
問題点を解決し、電荷輸送物質との相溶性が良い上に、
溶媒に溶解しても白化又はゲル化を起こさず、かつ、高
い表面硬度を有するポリカーボネートを用いて作製され
る長期間に亘って優れた電子写真特性を維持する電子写
真感光体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ビフェニル骨格
構造を特定の割合で含むポリカーボネートをバインダー
樹脂として用いた場合、感光体の作製時に塗工液が白化
又はゲル化したりすることがなく、しかも長期使用期間
に亘って優れた電子写真特性及び耐久性を維持すること
を見出し、これら知見に基づき、本発明を完成するに至
った。

【０００８】すなわち本発明は、導電性基体上に電荷発
生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する感
光層を設けた電子写真感光体において、該感光層中に下
記一般式（１）

【０００９】

【化３】 （式中、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²は各々独立に、ハロゲン原子、炭
素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキ
ル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を表
す。）で表される繰り返し単位を主成分とする重合体化
合物をバインダー樹脂として含有することを特徴とする
電子写真感光体を提供するものである。

【００１０】また、本発明は導電性基体上に電荷発生物
質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を含有する感光層
を設けた電子写真感光体において、該感光層中に下記一
般式（１）と下記一般式（２）

【００１１】

【化学式４】 ［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は各々独立に、ハロゲン原
子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロ
アルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のア
リール基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を
表し、Ｗは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｓ
Ｏ−、−ＳＯ_２−、−ＣＲ^６５Ｒ^６６−（Ｒ^６５及びＲ
^６６は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、
炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若
しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１
の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２の
α，ω−アルキレン基であり、Ｒ５３及びＲ５４は各々
独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭
素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換
若しくは無置換のアリール基を表し、Ｃ及びＤは各々独
立に、０〜４の整数である。］で表される繰り返し単位
を主成分とする重合体化合物をバインダー樹脂として含
有することを特徴とする電子写真感光体を提供するもの
である。

【００１２】本発明の電子写真感光体において用いられ
る重合体化合物（以下、ポリカーボネートと称する。）
は、上記一般式（１）で表される繰り返し単位（１）又
は上記一般式（１）と（２）とで表される繰り返し単位
（１）と（２）とを主成分として含有する。上記一般式
（１）と（２）とで表される繰り返し単位（１）と
（２）を有するポリカーボネートの場合は、繰り返し単
位（１）を繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）と
の合計に対するモル比で通常、０．１〜９０モル％、好
ましくは１０〜５０モル％の割合で含有する。

【００１３】繰り返し単位（１）の割合が０．１モル％
未満であると、本発明の効果が得られず、塗工液の白
化、ゲル化、電荷輸送層や感光層の結晶化等の防止及び
耐刷寿命の向上の達成が不可能となる。一方、繰り返し
単位（１）の割合が９０モル％を超えると、塗工液調製
時の溶剤に対する溶解性や溶液の安定性が低下したり、
結晶化による白化が生じたりすることがある。

【００１４】なお、上記ポリカーボネートは、本発明の
目的達成に支障のない範囲で、前記以外の他の繰り返し
単位を有していてもよく、また、他のポリカーボネート
成分や添加物を適宜添加してもよい。

【００１５】また、本発明に用いられるポリカーボネー
トは、直鎖状、環状のいずれであってもよい。さらに、
ポリカーボネート合成時に末端停止剤や分岐剤等を用い
ることにより得られるポリマー末端に特殊な末端構造が
導入されているものや、特殊な分岐構造が導入されてい
るものであってもよい。

【００１６】本発明に用いられるポリカーボネートは、
塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の
２０℃における還元粘度が０．２〜１０．０ｄｌ／ｇで
あることが好ましい。この還元粘度が０．２ｄｌ／ｇ未
満であると、表面硬度不足のため摩耗しやすくなり耐刷
寿命が短くなり、この還元粘度が１０．０ｄｌ／ｇを超
えると、ポリカーボネートの溶液粘度が上昇し、塗工液
の塗布による感光体の製造が困難になったりすることが
ある。更に好ましくは、０．３〜２．０ｄｌ／ｇである
本発明に用いられるポリカーボネートは、下記一般式
（Ｉ）及び下記一般式（ＩＩ）

【００１７】

【化５】 ［式中、Ｗ¹、Ｗ²、Ｒ⁵⁵、Ｒ⁵⁶、Ｄ及びＥは前記と同じ
意味を表す。］で表されるジヒドロキシアリール化合物
（Ｉ）及びジヒドロキシ化合物（ＩＩ）とホスゲン等の
炭酸エステル形成性化合物とを、適当な酸結合剤の存在
下に重縮合するか、あるいはジヒドロキシアリール化合
物（Ｉ）及びジヒドロキシ化合物（ＩＩ）とビスアリー
ルカーボネートとのエステル交換反応などの方法によっ
て得ることができる。

【００１８】繰り返し単位（１）の原料であるジヒドロ
キシアリール化合物（Ｉ）の代表例としては、具体的に
は、次に示すような化合物が挙げられる。

【００１９】

【化６】 特に好ましくはＢ−１、Ｂ−２、Ｂ−８、Ｂ−１０が用
いられる。なお、これらのジヒドロキシアリール化合物
は１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよ
い。

【００２０】繰り返し単位（２）の原料であるジヒドロ
キシ化合物（ＩＩ）としては、例えば、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４
−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、
ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒドロキシビフェニ
ル、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，
１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イ
ソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−
ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス
（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒド
ロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３
−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，
２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５
−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−
ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−
ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４
−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−
４−ヒドロキシフェニル）エーテル、３，３′−ジフル
オロ−４，４′−ジヒドロキシビフェニル、１，１−ビ
ス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキサン、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジ
メチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−２，２′
−ジメチルビフェニル、４，４′−ジヒドロキシ−３，
３′−ジシクロヘキシルビフェニル、２，２−ビス（３
−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルホン、４，４′−（３，３，５−トリメチ
ルシクロヘキシリデン）ビフェノール、４，４′−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。

【００２１】中でも好適に用いられるジヒドロキシ化合
物（ＩＩ）は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニ
ルフェニル）プロパン、４，４′−ジヒドロキシビフェ
ニル及びビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンであ
る。

【００２２】これらのジヒドロキシ化合物（ＩＩ）は、
１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよ
い。

【００２３】また、原料としての上記ジヒドロキシアリ
ール化合物（Ｉ）及びビスフェノール化合物（ＩＩ）以
外にも、必要に応じ、分岐剤、末端停止剤を用いてもよ
い。

【００２４】分岐剤としては、３価以上のフェノール又
はカルボン酸を用いることができる。

【００２５】分岐剤の例としては、フロログリシン、ピ
ロガロール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリス
（４−ヒドロキシフェニル）−２−ヘプテン、２，４−
ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘプタン、２，６−ジメチル−２，４，６−トリス
（４−ヒドロキシフェニル）−３−ヘプテン、１，３，
５−トリス（２−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，
３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン、２，２−ビス（４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキシル）プロパン、２，４−ビス｛２−
（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル｝フェノー
ル、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジ
ル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロ
パン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、
テトラキス（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピ
ル）フェノキシ）メタン、１，４−ビス（４′、４″−
ジヒドロキシトリフェニルメチル）ベンゼン、２，４−
ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、
３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール、３，３−
ビス（４−ヒドロキシアリール）オキシインドール、５
−クロロイサチン、５，７−ジクロロイサチン、５−ブ
ロモイサチン等が挙げられる。

【００２６】この中で好ましく用いられるのは、フロロ
グリシン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン等である。

【００２７】末端停止剤としては、一価のカルボン酸及
びその誘導体、一価のフェノールを用いることができ
る。

【００２８】具体的な例としては、フェノール、α−ナ
フトール、β−ナフトール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、２，３−キシレノール、２，
４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キ
シレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノ
ール、ｐ−エチルフェノール，ｐ−プロピルフェノー
ル、ｐ−ブチルフェノール、ｐ−ぺンチルフェノール、
ｐ−ヘキシルフェノール、ｐ−ヘプチルフェノール、ｐ
−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール、ｐ−デ
シルフェノール、ｐ−ウンデシルフェノール、ｐ−ドデ
シルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメチル−ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ペンチル−
４−メチルフェノール、３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェノール、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノール、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２，
４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−フェ
ニルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
フェニルフェノール、２，６−ジ−ｓｅｃ−ブチル−４
−メチルフェノール、ｏ−アニソール、ｍ−アニソー
ル、ｐ−アニソール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クロ
ロフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−ブロモフェ
ノール、ｍ−ブロモフェノール、ｐ−ブロモフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、ｏ−アミノフェノール、
ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、ｐ−シ
アノフェノール、ｐ−ニトロフェノール、３−メチル−
６−イソプロピルフェノール、２−メチル−５−イソプ
ロピルフェノール、パーフルオロブタン酸、パーフルオ
ロぺンタン酸、パーフルオロヘキサン酸、パーフルオロ
ヘプタン酸、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロノ
ナン酸、パーフルオロデカン酸、パーフルオロウンデカ
ン酸、パーフルオロドデカン酸、パーフルオロトリデカ
ン酸、パーフルオロテトラデカン酸、パーフルオロぺン
タデカン酸、パーフルオロヘキサデカン酸、パーフルオ
ロオクタデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオぺンタン
酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロヘキサン酸、２Ｈ，２Ｈ
−パーフルオロヘプタン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ
オクタン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロノナン酸、２
Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフ
ルオロウンデカン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロドデカ
ン酸、２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロトリデカン酸、２Ｈ，
２Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロヘキサン酸、２Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロヘプタン酸、２Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロオクタン酸、２Ｈ，２
Ｈ，３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２Ｈ，
３Ｈ，３Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，５Ｈ
−パーフルオペンタン酸、２Ｈ，２Ｈ，６Ｈ−パーフル
オロヘキサン酸、２Ｈ，２Ｈ，７Ｈ−パーフルオロヘプ
タン酸、２Ｈ，２Ｈ，８Ｈ−パーフルオロオクタン酸、
２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ−パーフルオロノナン酸、２Ｈ，２
Ｈ，１０Ｈ−パーフルオロデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１１
Ｈ−パーフルオロウンデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１２Ｈ−
パーフルオロドデカン酸、２Ｈ，２Ｈ，１３Ｈ−パーフ
ルオロウンデカン酸、又はこれらの酸ハロゲン化物、ｐ
−（パーフルオロペンチル）フェノール、ｐ−（パーフ
ルオロヘキシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロヘプ
チル）フェノール、ｐ−（パーフルオロオクチル）フェ
ノール、ｐ−（パーフルオロノニル）フェノール、ｐ−
（パーフルオロデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオ
ロウンデシル）フェノール、ｐ−（パーフルオロドデシ
ル）フェノール、ｐ−（パーフルオロトリデシル）フェ
ノール、ｐ−（パーフルオロテトラデシル）フェノー
ル、ｐ−（パーフルオロペンタデシル）フェノール、ｐ
−（パーフルオロブチルオキシ）フェノール、ｐ−（パ
ーフルオロペンチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフ
ルオロヘキシルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオ
ロヘプチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロオ
クチルオキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロノニル
オキシ）フェノール、ｐ−（パーフルオロデシルオキ
シ）フェノール、ｐ−（パーフルオロウンデシルオキ
シ）フェノール、ｐ−（パーフルオロドデシルオキシ）
フェノール、ｐ−（パーフルオロトリデシルオキシ）フ
ェノール、ｐ−（パーフルオロテトラデシルオキシ）フ
ェノール、ｐ−（パーフルオロペンタデシルオキシ）フ
ェノール、４−パーフルオロオクチル−２，３，５，６
−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロノニル
−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パ
ーフルオロデシル−２，３，５，６−テトラフルオロフ
ェノール、４−パーフルオロウンデシル−２，３，５，
６−テトラフルオロフェノール、４−パーフルオロドデ
シル−２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４
−パーフルオロトリデシル−２，３，５，６−テトラフ
ルオロフェノール、４−パーフルオロテトラデシル−
２，３，５，６−テトラフルオロフェノール、４−パー
フルオロペンタデシル−２，３，５，６−テトラフルオ
ロフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−パーフルオロブチルフェ
ノール、３−メチル−４−パーフルオロノニルフェノー
ル、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオ
キシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２
−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロノニルオキシ）−１，１，１，３，３，３−
ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２
−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデシルオキシ）−１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）
フェノール、ｐ−（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロウ
ンデシルオキシ）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフ
ルオロ−２−プロピル）フェノール、ｐ−（２−（１
Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデシルオキシ）−１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル）フェ
ノール、３，５−ビス（パーフルオロヘキシルオキシカ
ルボニル）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオ
ロペンチルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロヘキシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，
１Ｈ−パーフルオロヘプチルオキシ）フェノール、ｐ−
（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクチルオキシ）フェノー
ル、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロノニルオキシ）フ
ェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロデシルオキ
シ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロウン
デシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロドデシルオキシ）フェノール、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロトリデシルオキシ）フェノール、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸パーフルオロペンチル、ｐ−ヒドロキ
シ安息香酸パーフルオロヘキシル、ｐ−ヒドロキシ安息
香酸パーフルオロヘプチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パ
ーフルオロオクチル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフル
オロノニル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロデシ
ル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロウンデシル、
ｐ−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、（ｐ−
ヒドロキシベンジル）パーフルオロヘキサン、（ｐ−ヒ
ドロキシベンジル）パーフルオロヘプタン、（ｐ−ヒド
ロキシベンジル）パーフルオロオクタン、（ｐ−ヒドロ
キシベンジル）パーフルオロノナン、（ｐ−ヒドロキシ
ベンジル）パーフルオロデカン、（ｐ−ヒドロキシベン
ジル）パーフルオロウンデカン、（ｐ−ヒドロキシベン
ジル）パーフルオロドデカン等が挙げられる。

【００２９】この中で好ましく用いられるのは、ｐ−
（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、ｐ−フェニルフェノ
ール、ｐ−（パーフロオロノニルフェニル）フェノー
ル、ｐ−（パーフルオロキシルフェニル）フェノール、
ｐ−ｔｅｒｔ−パーフルオロブチルフェノール、１−
（ｐ−ヒドロキシベンジル）パーフルオロデカン、ｐ−
（２−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロトリデシルオキシ）
−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロビル）
フェノール、３，５−ビス（パーフルオロヘキシルオキ
シカルボニル）フェノール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸パ
ーフルオロドデシル、ｐ−（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロ
オクチルオキシ）フェノール、２Ｈ，２Ｈ，９Ｈ−パー
フルオロノナン等が挙げられる。

【００３０】末端停止剤及び分岐剤の好ましい範囲は共
重合組成比として０．０１〜３０ｍｏｌ％、より好まし
くは１〜１０ｍｏｌ％である。３０ｍｏｌ％を超えると
表面硬度不足のため摩耗しやすくなり耐刷寿命が短くな
り、０．０１ｍｏｌ％未満では溶液粘度が上昇し、液塗
工法による感光体の製造が困難になることがある。

【００３１】末端停止剤及び分岐剤は、ビスフェノール
化合物に共存させて使用するがその方法としては、ジヒ
ドロキシアリール化合物（Ｉ）又はジヒドロキシ化合物
（ＩＩ）と最初から共存させて反応を行い高分子量化す
る方法ジヒドロキシアリール化合物（Ｉ）又はジヒドロ
キシ化合物（ＩＩ）からなるオリゴマーを作った後、高
分子量化する際に両方とも共存させ高分子量化する方
法、ジヒドロキシアリール化合物（Ｉ）又はジヒドロキ
シ化合物（ＩＩ）からなるオリゴマーを作った後、先に
オリゴマーに末端停止剤を共存させてオリゴマーと反応
させ、次に分岐剤を共存させ高分子量化する方法、ジヒ
ドロキシアリール化合物（Ｉ）又はジヒドロキシ化合物
（ＩＩ）からなるオリゴマーを作った後、先にオリゴマ
ーに分岐剤を共存させてオリゴマーと反応させ、次に末
端停止剤を共存させ高分子量化する方法等、各種の方法
を採用することができる。

【００３２】炭酸エステル形成性化合物として前記ホス
ゲンをはじめとする各種のジハロゲン化カルボニル、ク
ロロホルメート等のハロホルメート類、炭酸エステル化
合物などを用い、酸結合剤の存在下に重縮合を行う反応
は、通常、溶媒中で行われる。ホスゲン等のガス状の炭
酸エステル形成性化合物を使用する場合、これを反応系
に吹き込む方法が好適に採用できる。

【００３３】炭酸エステル形成性化合物の使用割合は、
反応の化学量論比（当量）を考慮して適宜調整すればよ
い。また、ホスゲン等のガス状の炭酸エステル形成性化
合物を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好
適に採用できる。

【００３４】前記酸結合剤としては、例えば水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、
ピリジン等の有機塩基或いはこれらの混合物などが用い
られる。

【００３５】酸結合剤の使用割合も、反応の化学量論比
（当量）を考慮して適宜定めればよい。具体的には、使
用するジヒドロキシアリール化合物（Ｉ）とジヒドロキ
シ化合物（ＩＩ）の合計モル数（通常１モルは当量に相
当）に対して２当量若しくはこれより若干過剰量の酸結
合剤を用いることが好ましい。

【００３６】前記溶媒としては、公知のポリカーボネー
トの製造に使用されるものなど各種の溶媒を１種単独で
或いは混合溶媒として使用すればよい。代表的な例とし
ては、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素溶媒、
塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼンをはじめ
とするハロゲン化炭化水素溶媒などが挙げられる。互い
に混ざり合わない２種の溶媒を用いて界面重縮合反応を
行ってもよい。

【００３７】また、重縮合反応を促進するために、トリ
エチルアミン等の第三級アミン又は第四級アンモニウム
塩などの触媒を添加して反応を行うことが望ましい。ま
た、所望に応じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファ
イドなどの酸化防止剤を少量添加してもよい。反応は、
通常、０〜１５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温
度で行われる。反応圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれ
でも可能であるが、通常は、常圧若しくは反応系の自圧
程度で好適に行い得る。反応時間は、反応温度等によっ
て左右されるが、通常０．５分間〜１０時間、好ましく
は１分間〜２時間程度である。

【００３８】また、まずジヒドロキシアリール化合物
（Ｉ）及びジヒドロキシ化合物（ＩＩ）からなる反応原
料の一部と炭酸エス形成性物質とを反応させてオリゴマ
ーを生成せしめ、次いで残りの反応原料を添加して重縮
合を完結させる２段階法を用いることもできる。このよ
うな２段階法によれば、反応の制御が容易であり、精度
の高い分子量コントロールを行うことができる。

【００３９】後者のジヒドロキシアリール化合物（Ｉ）
及びジヒドロキシ化合物（ＩＩ）とビスアリールカーボ
ネートとのエステル交換法に用いられるビスアリールカ
ーボネートとしては、例えば、ジ−ｐ−トリルカーボネ
ート、フェニル−ｐ−トリルカーボネート、ジ−ｐ−ク
ロロフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート等
が挙げられる。

【００４０】このエステル交換法の反応形式としては、
溶融重縮合法、固相重縮合法などが好適である。溶融重
縮合法を行う場合は、ジヒドロキシアリール化合物
（Ｉ）及びジヒドロキシ化合物（ＩＩ）とビスアリール
カーボネートとを混合し、減圧下で高温において溶融状
態で反応させる。反応は、通常１５０〜３５０℃、好ま
しくは２００〜３００℃の範囲の温度において行われ
る。固相重縮合法を行う場合は、ジヒドロキシアリール
化合物（Ｉ）、ジヒドロキシ化合物（ＩＩ）及びビスア
リールカボネートを混合し、固相状態のまま、生成ポリ
カーボネートの融点以下の温度に加熱して重縮合を行
う。いずれの場合においても、反応の最終段階で減圧度
を好ましくは１ｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反応
により生成した上記ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜４時
間程度である。反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して反応を行
ってもよい。

【００４１】得られるポリカーボネートの還元粘度を前
記の範囲にするには、例えば、前記反応条件の選択、前
記分岐剤や末端停止剤の使用量の調節など、各種の方法
によってなすことができる。また、場合により、得られ
たポリカーボネートに適宜物理的処理（混合、分画な
ど）及び／又は化学的処理（ポリマー反応、架橋処理、
部分分解処理など）を施して、所定の還元粘度のポリカ
ーボネートとして取得することもできる。

【００４２】本発明の電子写真感光体は、それぞれ、感
光層中にバインダー樹脂としての上記ポリカーボネート
の少なくとも１種と電荷発生物質と電荷輸送物質とを含
有するものである。

【００４３】本発明の電子写真感光体はこのような感光
層が導電性基体上に形成されたものである限り、その構
造に特に制限はなく、単層型、積層型等の公知の種々の
形式の電子写真感光体はもとより、どのようなものとし
てもよいが、感光層が少なくとも１層の電荷発生層と少
なくとも１層の電荷輸送層を有する積層型電子写真感光
体中の電荷輸送層のバインダー樹脂として用いることが
好ましい。

【００４４】本発明の電子写真感光体において、本発明
のポリカーボネートは１種単独で使用してもよいし、２
種以上を組み合わせて用いてもよい。また、所望に応じ
て本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカー
ボネート等の樹脂成分を含有させてもよい。

【００４５】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性基体の材料としては、公知のものなど各種のものを使
用することができ、具体的には、具体的にはアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、パラジウム、チタン、金、銀、
銅、亜鉛、ステンレス、モリブデン、インジウム、白
金、真鍮、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ若
しくはグラファイトの板、ドラム及びシート、並びに蒸
着、スパッタリング、塗布等によりコーティングするな
どして導電処理したガラス、布、紙若しくはプラスチッ
クのフィルム、シート及びシームレスベルト、アルミニ
ウム等の金属箔を積層したプラスチックフィルム、シー
ト及びシームレスベルト、並びに金属板のフィルム状シ
ート及びシームレスベルト、並びに電極酸化などにより
金属酸化処理した金属ドラムなどを使用することができ
る。

【００４６】積層型電子写真感光体の電荷発生層は少な
くとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生層
はその下地となる基板上に真空蒸着、スパッタ法、ＣＶ
Ｄ法等により電荷発生物質の層を形成せしめるか、又は
その下地となる層上に電荷発生物質をバインダー樹脂を
用いて結着してなる層を形成せしめることによって得る
ことができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形
成方法としては公知の方法等、各種の方法を使用するこ
とができるが、通常、例えば、電荷発生物質をバインダ
ー樹脂と共に適当な溶媒により分散若しくは溶解した塗
工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥せしめる
方法が好適に用いられる。

【００４７】前記電荷発生物質としては、公知のものな
ど各種のものを使用することができ、具体的には、非晶
質セレン、三方晶セレン等のセレン単体、テルル単体、
セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金等のセレンの合
金、Ａｓ₂Ｓｅ₃等のセレン化合物若しくはセレン含有組
成物、酸化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、硫
化亜鉛、ＣｄＳ−Ｓｅ等の合金、第１２族及び第１６族
元素からなる無機材料、酸化チタン等の酸化物系半導
体、アモルファスシリコンなどのシリコン系材料等の各
種の無機材料、τ型無金属フタロシアニン、χ型無金属
フタロシアニン等の無金属フタロシアニン顔料、α型銅
フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロ
シアニン、ε型銅フタロシアニン、Ｘ型銅フタロシアニ
ン、Ａ型チタニルフタロシアニン、Ｂ型チタニルフタロ
シアニン、Ｃ型チタニルフタロシアニン、Ｄ型チタニル
フタロシアニン、Ｅ型チタニルフタロシアニン、Ｆ型チ
タニルフタロシアニン、Ｈ型チタニルフタロシアニン、
Ｇ型チタニルフタロシアニン、Ｋ型チタニルフタロシア
ニン、Ｌ型チタニルフタロシアニン、Ｍ型チタニルフタ
ロシアニン、Ｎ型チタニルフタロシアニン、Ｘ線回折図
におけるブラック角２θが２７．３±０．２度に強い回
折ピークを示すチタニルフタロシアニンなどの金属フタ
ロシアニン顔料、シアニン顔料、アントラセン顔料、ビ
スアゾ顔料、ビレン顔料、多環キノン顔料、キナクリド
ン顔料、インジゴ顔料、ベリレン顔料、ピリリウム塩、
チアピリリウム塩、ポリビニルカルバゾール、スクェア
リウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾー
ル顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、ビスベンゾイミ
ダゾール顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン
顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、ア
ズレニウム染料、スクウェアリウム染料、トリアリール
メタン染料、キサンテン染料、チアジン染料などが挙げ
られる。

【００４８】これらの顔料を単独または２種以上を混合
して用いることもできる。

【００４９】電荷発生層の厚さは、０．０１〜２．０μ
ｍが好ましく、０．１〜０．８μｍがより好ましい。
０．０１μｍ未満であると、電荷発生層を均一に形成す
ることが困難であり、２．０μｍを超えると、電子写真
特性が低下する傾向がある。

【００５０】前記電荷発生層に用いられるバインダー樹
脂としては、特に制限はなく、公知のものなど各種のも
のを使用できる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリアクリロニトリル、ボリカーボネート、ウ
レタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、
ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ポ
リエステル、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、メ
タクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−ブタジエン共
重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シ
リコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹
脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルフォルマール、ポリスルホン、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、カルボキシ−メチルセルロー
ス、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレ
ン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリ
スチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリ
チオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレー
ト、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、メ
ラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹
脂、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポ
リエステルアクリレート等の熱硬化性樹脂を使用するこ
とができる。

【００５１】上記感光層におけるバインダー樹脂として
本発明のボリカーボネート樹脂を使用することもでき
る。

【００５２】次に、電荷輸送層は、下地となる基体上
に、電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着してなる層を
形成することによって得ることができる。

【００５３】この電荷輸送層の形成方法としては、公知
の方法等の各種の方式を使用することができるが、通
常、上記電荷輸送物質を上記ポリカーボネートと共に適
当な溶媒に分散若しくは溶解した塗工液を、所定の下地
となる層上に塗布し、乾燥する方式などが使用される。
電荷輸送層中の電荷輸送物質とポリカーボネートとの配
合割合は、好ましくは重量で２０：８０〜８０：２０、
さらに好ましくは３０：７０〜７０：３０である。

【００５４】この電荷輸送層において、本発明のポリカ
ーボネートは１種単独で用いることもできるし、また、
２種以上を混合して用いることもできる。また、本発明
の目的達成を阻害しない範囲で、前記の樹脂を本発明の
ポリカーボネートと併用することもできる。

【００５５】電荷輸送物質としては、公知のものなど各
種のものを使用することができる。例えば、カルバゾー
ル化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オ
キサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾー
ル化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、
アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合
物、脂肪族アミン化合物、スチルべン化合物、フルオレ
ノン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チア
ゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合
物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合
物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベ
ンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフ
ラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−９
−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれらを
主鎖、側鎖に有する重合体が用いられ、好ましくは下記
一般式で表されるような化合物が用いられる。

【００５６】

【化７】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²及びＡｒ³は各々独立に、炭素数
１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７
〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６
〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化
水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、
複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式
基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²、Ａｒ²とＡｒ³及びＡｒ³とＡ
ｒ¹で環を形成していてもよい。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００５７】

【化８】

【００５８】

【化９】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は各々独立に、シアノ
基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロ
キシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０
の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の
置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の
置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、
置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式
基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表
し、ａ、ｂ、ｃ及びｄは各々独立に、０〜５の整数であ
る。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００５９】

【化１０】

【００６０】

【化１１】 ［式中、Ａｒ¹及びＡｒ²は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²は環を形成してもよい。Ｒ
¹はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、Ｒ⁵はエチレン基又はエテニレン基を表
し、ｅは０〜４の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００６１】

【化１２】

【００６２】

【化１３】 ［式中、Ａｒ¹及びＡｒ²は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²は環を形成してもよい。Ｒ
¹はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、Ｒ⁶及びＲ⁷は各々独立に、水素原子、炭
素数１〜６のアルキル基又はハロゲン原子を表し、ｅは
０〜４の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００６３】

【化１４】

【００６４】

【化１５】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³、Ａｒ⁴及びＡｒ⁵は各々
独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置
換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換
のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換
のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換
の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式
基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ａｒ⁶とＡｒ⁷は各
々独立に、炭素数１〜６の置換若しくは無置換のアルキ
レン基或は炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリ
ール化合物、多環式炭化水素、置換若しくは無置換の縮
合多環式炭化水素、複素環化合物、多環系複素環化合物
又は縮合多環系複素環化合物の２価残基を表し、Ａｒ¹
とＡｒ²及びＡｒ³とＡｒ⁴は環を形成してもよい。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００６５】

【化１６】

【００６６】

【化１７】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は各々独立に、
水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラル
キル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリー
ル基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多
環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮
合多環系複素環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²及びＡｒ³と
Ａｒ⁴は環を形成してもよい。Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立
に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、ｅ及びｆは各々独立に０〜４の整数であ
る。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００６７】

【化１８】

【００６８】

【化１９】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は各々独立に、
水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラル
キル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリー
ル基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多
環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮
合多環系複素環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²及びＡｒ³と
Ａｒ⁴は環を形成してもよい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独
立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシ
ル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭
素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素
数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素
数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式
炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、ｅ、ｆ及びｇは各々独立に０〜４の整数
である。Ｘ¹は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−、−Ｔｅ−、
−ＣＲ¹⁰Ｒ¹¹−、−ＳｉＲ¹⁰Ｒ¹¹−、−ＮＲ¹⁰−又は−
ＰＲ¹⁰−（式中、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は各々独立に、水素原
子、ハロゲン原子、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しく
は無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは
無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは
無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは
無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複
素環式基又は縮合多環系複素環式基を表す。）を表
す。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００６９】

【化２０】

【００７０】

【化２１】

【００７１】

【化２２】 ［式中、Ａｒ¹及びＡｒ²は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²は環を形成してもよい。Ｒ
¹はシアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、ａは０〜５の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００７２】

【化２３】

【００７３】

【化２４】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³、Ａｒ⁴及びＡｒ⁵は各々
独立に、水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置
換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換
のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換
のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換
の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式
基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ¹及びＲ²は各々
独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ア
シル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、
炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭
素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭
素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環
式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水
素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複
素環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²及びＡｒ³とＡｒ⁴は環を
形成してもよい。ｆ及びｅは各々独立に０〜４の整数で
ある。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００７４】

【化２５】

【００７５】

【化２６】 ［式中、Ａｒ¹は水素原子、炭素数１〜１０の置換若し
くは無置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しく
は無置換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しく
は無置換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しく
は無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系
複素環式基又は縮合多環系複素環式基を表し、Ｒ¹、Ｒ²
及びＲ³は各々独立に、シアノ基、ハロゲン原子、カル
ボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラル
キルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換の
アルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のア
ラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のア
リール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮
合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又
は縮合多環系複素環式基を表し、ｎは０又は１、ａ、ｂ
及びｃは各々独立に０〜５の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００７６】

【化２７】

【００７７】

【化２８】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²及びＡｒ³は、各々独立に、水素
原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ｒ¹及びＲ³は各々独立に、シ
アノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒ
ドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数１
〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数７〜
１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数６〜
１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭化水
素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複
素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素環式基
を表し、Ｒ²′は水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、
カルボキシル基、アシル基、ヒドロキシル基、ニトロ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、
アラルキルアミノ基、炭素数１〜１０の置換若しくは無
置換のアルキル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置
換のアラルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置
換のアリール基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置
換の縮合多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環
式基又は縮合多環系複素環式基を表し、ｎは０又は１、
ｅは０〜４の整数、ｈは０〜３の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００７８】

【化２９】

【００７９】

【化３０】 ［式中、Ａｒ¹及びＡｒ²は各々独立に、水素原子、水素
原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²は環を形成して
もよい。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００８０】

【化３１】

【００８１】

【化３２】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²及びＡｒ³は各々独立に、水素原
子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²は環を形成して
もよい。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００８２】

【化３３】

【００８３】

【化３４】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立
に、シアノ基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル
基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素
数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル基、炭素数
７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル基、炭素数
６〜１２の置換若しくは無置換のアリール基、多環式炭
化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素
基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合多環系複素
環式基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｉ及びｊは各々独立に
０〜５の整数である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００８４】

【化３５】

【００８５】

【化３６】 ［式中、Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は各々独立に、
水素原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアル
キル基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラル
キル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリー
ル基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多
環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮
合多環系複素環式基を表し、Ａｒ⁶は炭素数１〜６の置
換若しくは無置換のアルキレン基或は炭素数６〜１２の
置換若しくは無置換のアリール化合物、多環式炭化水
素、置換若しくは無置換の縮合多環式炭化水素、複素環
化合物、多環系複素環化合物又は縮合多環系複素環化合
物の２価残基を表し、Ａｒ¹とＡｒ²及びＡｒ³とＡｒ⁴は
環を形成してもよく、ｎは０又は１である。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００８６】

【化３７】

【００８７】

【化３８】 ［式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵は各々独立に、水素
原子、炭素数１〜１０の置換若しくは無置換のアルキル
基、炭素数７〜１３の置換若しくは無置換のアラルキル
基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換若しくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基又は縮合
多環系複素環式基を表す。］ 下記の構造式で表される化合物がより好ましい。

【００８８】

【化３９】 上記電荷輸送物質は単独で又は２種以上を混合して用い
ることができる。電荷輸送層の厚さは５〜１００μｍが
好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。５μｍ未満
であると、初期電位が低くなり、１００μｍを超える
と、電子写真特性が低下する傾向がある。

【００８９】導電性基体と感光層との間に通常使用され
るような公知の下引き層を設けることができる。下引き
層としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコニ
ア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラッ
ク、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、
酸化インジウム、酸化珪素等の微粒子、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セ
ルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、
ポリビニルブチラール樹脂等の成分を使用することがで
きる。これらの微粒子や樹脂を単独で又は２種以上混合
して使用することができる。特に微粒子を用いると、微
粒子に樹脂が吸着され、平滑な皮膜を得ることができる
ため、微粒子と樹脂を併用することが望ましい。また、
下引き層には前記バインダー樹脂を用いることができ
る。また、本発明のポリカーボネート樹脂も用いること
もできる。

【００９０】下引き層の厚さは、通常０．０１〜１０．
０μｍ、好ましくは０．０１〜１．０μｍである。この
厚さが０．０１μｍ未満であると、下引き層を均一に形
成することが困難になり、１０．０μｍを超えると、電
子写真特性が低下することがある。

【００９１】また、導電性基体と感光層との間に通常使
用されているような公知のブロッキング層を設けること
ができる。ブロッキング層には前記バインダー樹脂を用
いることができる。ブロッキング層の厚さは、通常０．
０１〜２０．０μｍ、好ましくは、０．１〜１０．０μ
ｍである。この厚さが０．０１μｍ未満であると、ブロ
ッキング層を均一に形成することが困難になり、２０．
０μｍを超えると、電子写真特性が低下することがあ
る。

【００９２】本発明の電子写真感光体には、感光層の上
に保護層を積層してもよい。保護層の膜厚は０．０１〜
２０μｍが可能であり、より好ましくは０．１〜１０μ
ｍである。保護層には前記バインダー樹脂を用いること
ができる。保護層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送
物質、添加剤、金属及びその酸化物、窒化物、塩、合
金、カーボンなどの導電材料を含有してもよい。

【００９３】更に、本発明の電子写真感光体には、その
性能を向上させるために電荷発生層、電荷輸送層に他の
結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制
御剤、電子写真感度を改良するための分光感度増感剤
（増感染料）、分光感度増感剤とは別に、繰り返し使用
に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低
下を防止する目的の種々の化学物質、酸化防止剤、界面
活性剤、カール防止剤、レベリング剤等などの添加剤を
添加することができる。

【００９４】他の結合剤の具体的な例としては、シリコ
ーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、上記ポリ
カーボネート以外のポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン樹
脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹
脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／塩化ビニル
共重合体、ポリエステルカーボネート樹脂等が挙げられ
る。また、熱及び／又は光硬化性樹脂も使用できる。い
ずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し
うる樹脂であれば、特に制限はない。

【００９５】これら他の結合剤を用いる場合は電荷輸送
物質に対して、５〜２００重量％添加することが好まし
く、１０〜１００重量％がより好ましい。５重量％未満
では感光層の皮膜が不均一となりやすく、画質が劣る傾
向がある。２００重量％を超えると、感度が低下し、残
留電位が高くなる傾向がある。

【００９６】可塑剤の具体的な例としては、ビフェニ
ル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタリン、ジメチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレ
ングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェー
ト、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリー
ルエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられ
る。

【００９７】硬化触媒の具体的な例としては、メタンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフ
タレンジスルホン酸等が挙げられる。

【００９８】流動付与剤としては、モダフロー、アクロ
ナール４Ｆ等が挙げられる。

【００９９】ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、
ジメチルフタレート等が挙げられる。

【０１００】可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホー
ル制御剤は、前記電荷輸送物質に対して、５重量％以下
で用いることが好ましい。

【０１０１】増感染料の具体的な例としては、メチルバ
イオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、
ビクトリアブルー等で代表されるトリフェニルメタン系
染料、エリスロシン、ローダミンＢ、ローダミン３Ｒ、
アクリジンオレンジ、フラペオシン等に代表されるアク
リジン染料、メチレンブルー、メチレングリーン等に代
表されるチアジン染料、カプリブルー、メルドラブルー
等に代表されるオキサジン染料、その他シアニン染料、
メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染
料、チオピリリュウム塩染料等が挙げられる。

【０１０２】感光層には感度の向上、残留電位〜反復使
用時の疲労低減等を目的として、電子受容性物質を加え
ることができる。

【０１０３】電子受容性物質としては、無水コハク酸、
無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル
酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタ
ル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フタル
酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシア
ノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロ
ベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，５−トリニ
トロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリルク
ロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニ
ル、ベンゾキノン、２，３−ジクロロベンゾキノン、ジ
クロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフ
ェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、１−クロ
ロアントラキノン、ジニトロトロアントラキノン、４−
ニトロベンゾフェノン、４，４−ニトロベンゾフェノ
ン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ
−β−（ｐ−シアノフェニル）アクリル酸エチル、９−
アントラセニルメチルマロンジニトリル、１−シアノ−
（ｐ−ニトロフェニル）−２−（ｐ−クロロフェニル）
エチレン、２，７−ジニトロフルオレノン、２，４，７
−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニ
トロフルオレノン、９−フルオレニリデン［ジシアノメ
チレンマロノニトリル］、ポリニトロ−９−フルオレニ
リデン−［ジシアノメチレンマロノジニトリル］、ピク
リン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、
３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、
５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、
フタル酸、メリット酸など、電子親和力が大きい化合物
がある。

【０１０４】この電子受容性物質は、電荷輸送層、電荷
発生層のいずれに加えてもよく、電荷輸送物質又は電荷
発生物質に対して通常０．０１〜２００重量％、より好
ましくは０．１〜５０重量％配合される。

【０１０５】また、表面性の改良のために、四フッ化エ
チレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチ
レン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ
化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂及びそ
れらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いても
よい。

【０１０６】これらの表面改質剤は前記バインダー樹脂
に対して０．１〜６０重量％、より好ましくは５〜４０
重量％配合される。０．１重量％より少ないと耐摩耗
性、表面耐久性、表面エネルギー低下等の表面改質が十
分でなく、６０重量％より多いと電子写真特性が悪くな
ることがある。

【０１０７】酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダー
ドアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機
リン酸系酸化防止剤などが挙げられる。

【０１０８】これらの酸化防止剤は電荷輸送物質に対し
て通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜
２重量％配合される。

【０１０９】これら添加剤は１種単独で用いてもよい
し、あるいは、２種類以上を混合するなどして併用して
もよい。これらの添加剤は保護層、下引き層、ブロッキ
ング層に添加してもよい。

【０１１０】前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際に
使用する前記溶媒の具体例としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール、酢酸エチル、エチルセロソルブ等
のエステル、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムア
ミド等を挙げることができる。

【０１１１】これらの溶媒は、１種単独で使用してもよ
く、或いは、２種以上を混合溶媒として用いてもよい。

【０１１２】感光体を形成する方法としては、前記電荷
発生物質、電荷輸送物質、添加剤及びバインダー樹脂を
溶剤に分散、又は溶解した溶液を所定の下地となる基
体、層上に浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプ
レー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、ス
プレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコ
ーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレ
ード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工
法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工
法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などの塗工法を用
いて塗工し、乾燥して形成することができる。

【０１１３】その分散法としては、ボールミル、超音
波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、
ミキサー、アトライターなどを用いることができる。

【０１１４】単層型電子写真感光体においても感光層は
前記バインダー樹脂を用いることができる。また、単層
型感光体の感光層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送
物質を用いることができる。また、感光層の電子写真特
性を向上させるために、前記の添加剤を用いてもよい。
また、保護層、下引き層、ブロッキング層を設けてもよ
い。

【０１１５】単層型感光体の膜厚は通常５〜１００μｍ
が好ましく、８〜５０μｍがより好ましい。５μｍ未満
であると、初期電位が低くなりやすく、５０μｍを超え
ると電子写真特性が低下する傾向がある。

【０１１６】単層型電子写真感光体の感光層中の電荷発
生物質：ポリカーボネートの重量による割合は、好まし
くは２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：
７０〜６０：４０である。また、電荷輸送物質：ポリカ
ーボネートの重量による割合は、好ましくは２０：８０
〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜７０：３
０である。また、電荷発生物質：電荷輸送物質の重量に
よる割合は、好ましくは２０：８０〜７０：３０、さら
に好ましくは３０：７０〜６０：４０である。

【０１１７】また、本発明の目的達成を阻害しない範囲
で、他の樹脂を本発明のポリカーボネートと併用するこ
とも可能である。

【０１１８】なお、本発明の電子写真感光体の感光層の
層構成としては、本発明のポリカーボネートを含む層が
感光層の表面層となる構成とすることが好ましい。この
ようにして得られる本発明の電子写真感光体は高い表面
硬度を有し、長期間にわたって優れた耐刷性及び良好な
クリーニング性を維持する感光体であり、複写機（モノ
クロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタ
ル）、プリンター（レーザー、ＬＥＤ、液晶シャッタ
ー）、ＦＡＸ、製版機等の各種の電子写真分野に好適に
利用することができる。

【０１１９】本発明の電子写真感光体を使用するにあた
って、帯電器は、コロナ放電（コロトロン、スコトロ
ン）、接触帯電（帯電ロール、帯電ブラシ）などが用い
られる。露光は、ハロゲンランプ、蛍光灯、レーザー
（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＬＥＤ、感光体内部露光方式
で行われる。現像工程はカスケード現像、二成分磁気ブ
ラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現
像などの乾式現像方式や湿式現像方式などが用いられ
る。転写工程はコロナ転写、ローラ転写、ベルト転写な
どの静電転写法、圧力転写法、粘着転写法が用いられ
る。定着は、熱ローラ定着、ラジアント・フラッシュ定
着、オーブン定着、圧力定着などが用いられる。クリー
ニング・除電には、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリ
ーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナ
ー、ブレードクリーナーなどが用いられる。上記電荷輸
送物質は単独で又は２種以上を混合して用いることがで
きる。電荷輸送層の厚さは５〜１００μｍが好ましく、
１０〜３０μｍがより好ましい。５μｍ未満であると、
初期電位が低くなり、１００μｍを超えると、電子写真
特性が低下する傾向がある。

【０１２０】導電性基体と感光層との間に通常使用され
るような公知の下引き層を設けることができる。下引き
層としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコニ
ア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラッ
ク、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、
酸化インジウム、酸化珪素等の微粒子、ポリアミド樹
脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾ
グアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セ
ルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、
ポリビニルブチラール樹脂等の成分を使用することがで
きる。これらの微粒子や樹脂を単独で又は２種以上混合
して使用することができる。特に微粒子を用いると、微
粒子に樹脂が吸着され、平滑な皮膜を得ることができる
ため、微粒子と樹脂を併用することが望ましい。また、
下引き層には前記バインダー樹脂を用いることができ
る。また、本発明のポリカーボネート樹脂も用いること
もできる。

【０１２１】下引き層の厚さは、通常０．０１〜１０．
０μｍ、好ましくは０．０１〜１．０μｍである。この
厚さが０．０１μｍ未満であると、下引き層を均一に形
成することが困難になり、１０．０μｍを超えると、電
子写真特性が低下することがある。

【０１２２】また、導電性基体と感光層との間に通常使
用されているような公知のブロッキング層を設けること
ができる。ブロッキング層には前記バインダー樹脂を用
いることができる。ブロッキング層の厚さは、通常０．
０１〜２０．０μｍ、好ましくは、０．１〜１０．０μ
ｍである。この厚さが０．０１μｍ未満であると、ブロ
ッキング層を均一に形成することが困難になり、２０．
０μｍを超えると、電子写真特性が低下することがあ
る。

【０１２３】本発明の電子写真感光体には、感光層の上
に保護層を積層してもよい。保護層の膜厚は０．０１〜
２０μｍが可能であり、より好ましくは０．１〜１０μ
ｍである。保護層には前記バインダー樹脂を用いること
ができる。保護層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送
物質、添加剤、金属及びその酸化物、窒化物、塩、合
金、カーボンなどの導電材料を含有してもよい。

【０１２４】更に、本発明の電子写真感光体には、その
性能を向上させるために電荷発生層、電荷輸送層に他の
結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制
御剤、電子写真感度を改良するための分光感度増感剤
（増感染料）、分光感度増感剤とは別に、繰り返し使用
に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低
下を防止する目的の種々の化学物質、酸化防止剤、界面
活性剤、カール防止剤、レベリング剤等などの添加剤を
添加することができる。

【０１２５】他の結合剤の具体的な例としては、シリコ
ーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、上記のポ
リカーボネート以外のポリカーボネート樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミ
ド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソプレン樹脂、メ
ラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン
樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹
脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹
脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホル
マール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル／塩化ビニル
共重合体、ポリエステルカーボネート樹脂等が挙げられ
る。また、熱及び／又は光硬化性樹脂も使用できる。い
ずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し
うる樹脂であれば、特に制限はない。

【０１２６】これら他の結合剤を用いる場合には電荷輸
送物質に対して、５〜２００重量％添加することが好ま
しく、１０〜１００重量％がより好ましい。５重量％未
満では感光層の皮膜が不均一となりやすく、画質が劣る
傾向がある。２００重量％を超えると、感度が低下し、
残留電位が高くなる傾向がある。

【０１２７】可塑剤の具体的な例としては、ビフェニ
ル、塩化ビフェニル、ｏ−ターフェニル、ハロゲン化パ
ラフィン、ジメチルナフタリン、ジメチルフタレート、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレ
ングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェー
ト、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジ
ブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリー
ルエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレー
ト、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられ
る。

【０１２８】硬化触媒の具体的な例としては、メタンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフ
タレンジスルホン酸等が挙げられる。

【０１２９】流動付与剤としては、モダフロー、アクロ
ナール４Ｆ等が挙げられる。

【０１３０】ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、
ジメチルフタレート等が挙げられる。

【０１３１】可塑剤、硬化触媒、流動付与剤、ピンホー
ル制御剤は、前記電荷輸送物質に対して、５重量％以下
で用いることが好ましい。

【０１３２】増感染料の具体的な例としては、メチルバ
イオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、
ビクトリアブルー等で代表されるトリフェニルメタン系
染料、エリスロシン、ローダミンＢ、ローダミン３Ｒ、
アクリジンオレンジ、フラペオシン等に代表されるアク
リジン染料、メチレンブルー、メチレングリーン等に代
表されるチアジン染料、カプリブルー、メルドラブルー
等に代表されるオキサジン染料、その他シアニン染料、
メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染
料、チオピリリュウム塩染料等が挙げられる。

【０１３３】感光層には感度の向上、残留電位〜反復使
用時の疲労低減等を目的として、電子受容性物質を加え
ることができる。

【０１３４】電子受容性物質としては、無水コハク酸、
無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル
酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタ
ル酸、３−ニトロ無水フタル酸、４−ニトロ無水フタル
酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシア
ノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロ
ベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、１，３，５−トリニ
トロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、ピクリルク
ロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニ
ル、ベンゾキノン、２，３−ジクロロベンゾキノン、ジ
クロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフ
ェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、１−クロ
ロアントラキノン、ジニトロトロアントラキノン、４−
ニトロベンゾフェノン、４，４−ニトロベンゾフェノ
ン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ
−β−（ｐ−シアノフェニル）アクリル酸エチル、９−
アントラセニルメチルマロンジニトリル、１−シアノ−
（ｐ−ニトロフェニル）−２−（ｐ−クロロフェニル）
エチレン、２，７−ジニトロフルオレノン、２，４，７
−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニ
トロフルオレノン、９−フルオレニリデン［ジシアノメ
チレンマロノニトリル］、ポリニトロ−９−フルオレニ
リデン−［ジシアノメチレンマロノジニトリル］、ピク
リン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、
３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、
５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、
フタル酸、メリット酸など、電子親和力が大きい化合物
がある。

【０１３５】この電子受容性物質は、電荷輸送層、電荷
発生層のいずれに加えてもよく、電荷輸送物質又は電荷
発生物質に対して通常０．０１〜２００重量％、より好
ましくは０．１〜５０重量％配合される。

【０１３６】また、表面性の改良のために、四フッ化エ
チレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチ
レン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ
化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂及びそ
れらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いても
よい。

【０１３７】これらの表面改質剤は前記バインダー樹脂
に対して０．１〜６０重量％、より好ましくは５〜４０
重量％配合される。０．１重量％より少ないと耐摩耗
性、表面耐久性、表面エネルギー低下等の表面改質が十
分でなく、６０重量％より多いと電子写真特性が悪くな
ることがある。

【０１３８】酸化防止剤としては、ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダー
ドアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機
リン酸系酸化防止剤などが挙げられる。

【０１３９】これらの酸化防止剤は電荷輸送物質に対し
て通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜
２重量％配合される。

【０１４０】これら添加剤は１種単独で用いてもよい
し、あるいは、２種類以上を混合するなどして併用して
もよい。これらの添加剤は保護層、下引き層、ブロッキ
ング層に添加してもよい。

【０１４１】前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際に
使用する前記溶媒の具体例としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族系
溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール、酢酸エチル、エチルセロソルブ等
のエステル、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタ
ン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムア
ミド等を挙げることができる。

【０１４２】これらの溶媒は、１種単独で使用してもよ
く、或いは、２種以上を混合溶媒として用いてもよい。

【０１４３】感光体を形成する方法としては、前記電荷
発生物質、電荷輸送物質、添加剤及びバインダー樹脂を
溶剤に分散、又は溶解した溶液を所定の下地となる基
体、層上に浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプ
レー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、ス
プレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコ
ーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレ
ード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工
法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工
法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などの塗工法を用
いて塗工し、乾燥して形成することができる。

【０１４４】その分散法としては、ボールミル、超音
波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、
ミキサー、アトライターなどを用いることができる。

【０１４５】単層型電子写真感光体においても感光層は
前記バインダー樹脂を用いることができる。また、単層
型感光体の感光層には、前記の電荷発生物質、電荷輸送
物質を用いることができる。また、感光層の電子写真特
性を向上させるために、前記の添加剤を用いてもよい。
また、保護層、下引き層、ブロッキング層を設けてもよ
い。

【０１４６】単層型感光体の膜厚は通常５〜１００μｍ
が好ましく、８〜５０μｍがより好ましい。５μｍ未満
であると、初期電位が低くなりやすく、５０μｍを超え
ると電子写真特性が低下する傾向がある。

【０１４７】単層型電子写真感光体の感光層中の電荷発
生物質：ポリカーボネートの重量による割合は、好まし
くは２０：８０〜８０：２０、さらに好ましくは３０：
７０〜６０：４０である。また、電荷輸送物質：ポリカ
ーボネートの重量による割合は、好ましくは２０：８０
〜８０：２０、さらに好ましくは３０：７０〜７０：３
０である。また、電荷発生物質：電荷輸送物質の重量に
よる割合は、好ましくは２０：８０〜７０：３０、さら
に好ましくは３０：７０〜６０：４０である。

【０１４８】また、本発明の目的達成を阻害しない範囲
で、他の樹脂を本発明のポリカーボネートと併用するこ
とも可能である。

【０１４９】なお、本発明の電子写真感光体の感光層の
層構成としては、本発明のポリカーボネートを含む層が
感光層の表面層となる構成とすることが好ましい。この
ようにして得られる本発明の電子写真感光体は高い表面
硬度を有し、長期間にわたって優れた耐刷性及び良好な
クリーニング性を維持する感光体であり、複写機（モノ
クロ、マルチカラー、フルカラー；アナログ、デジタ
ル）、プリンター（レーザー、ＬＥＤ、液晶シャッタ
ー）、ＦＡＸ、製版機等の各種の電子写真分野に好適に
利用することができる。

【０１５０】本発明の電子写真感光体を使用するにあた
って、帯電器は、コロナ放電（コロトロン、スコトロ
ン）、接触帯電（帯電ロール、帯電ブラシ）などが用い
られる。露光は、ハロゲンランプ、蛍光灯、レーザー
（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＬＥＤ、感光体内部露光方式
で行われる。現像工程はカスケード現像、二成分磁気ブ
ラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現
像などの乾式現像方式や湿式現像方式などが用いられ
る。転写工程はコロナ転写、ローラ転写、ベルト転写な
どの静電転写法、圧力転写法、粘着転写法が用いられ
る。定着は、熱ローラ定着、ラジアント・フラッシュ定
着、オーブン定着、圧力定着などが用いられる。クリー
ニング・除電には、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリ
ーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナ
ー、ブレードクリーナーなどが用いられる。

【０１５１】

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。

【０１５２】実施例１ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（７
４ｇ）を６重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５５０
ｍｌに溶解した溶液と塩化メチレン２５０ｍｌとを混合
して攪拌しながら、冷却下、該溶液中にホスゲンガスを
９５０ｍｌ／分の割合で１５分間吹き込んだ。次いで、
この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が２〜４
であり、分子末端がクロロホルメート基であるオリゴマ
ーの塩化メチレン溶液を得た。得られたオリゴマーの塩
化メチレン溶液に塩化メチレンを加えて全量を４５０ｍ
ｌとした後、Ｂ−１（３５ｇ）を８重量％濃度の水酸化
ナトリウム水溶液１５０ｍｌに溶解した溶液と混合し、
これに分子量調節剤であるｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール３．０ｇを加えた。次いで、この混合液を激しく攪
拌しながら、触媒として７重量％濃度のトリエチルアミ
ン水溶液を２ｍｌ加え、２８℃において攪拌下で１．５
時間反応を行った。反応終了後、反応生成物を塩化メチ
レン１リットルで希釈し、次いで水１．５リットルで２
回、０．０１規定塩酸１リットルで１回、水１リットル
で２回の順に洗浄し、有機層をメタノール中に投入し、
再沈精製した。

【０１５３】このようにして得られたポリマー（ＰＣ−
１）は、塩化メチレンを溶媒とする濃度０．５ｇ／ｄｌ
の溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．５
３ｄｌ／ｇであった。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析
より、下記の繰り返し単位からなるポリカーボネートで
あることが確認された。

【０１５４】

【化４０】 電荷輸送物質として（Ｃ−１）を用いて、Ｃ−１：ＰＣ
−１：塩化メチレン＝１：１：８（重量比）の溶液を調
製し、塗工液とした。この塗工液は１か月放置しても、
白濁、ゲルの発生などは見られなかった。アルミニウム
製導電性基板上にオキソチタニウムフタロシアニンの層
（約０．５μｍ）を電荷発生層として形成し、その電荷
発生層上に上記塗工液を浸漬塗工法により塗布し、乾燥
し、約２０μｍの電荷輸送層を形成し、積層型電子写真
感光体を作製した。塗布時に電荷輸送層が結晶化するこ
とはなかった。

【０１５５】得られた電子写真感光体の電子写真特性の
評価は、静電気帯電試験装置ＥＰＡ−８１００（株式会
社川口電気製作所製）を用い、−６ｋＶのコロナ放電を
行い、初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０Ｌｕｘ）５
秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ_1/2）を測定し
た。結果を表１に示す。

【０１５６】更に、電荷輸送層の耐摩耗性をスガ摩耗試
験機ＮＵＳ−ＩＳＯ−３型（スガ試験機（株）製）を用
いて評価した。試験条件は２００ｇの荷重をかけた摩耗
紙上でサンプルを１２００回往復運動させ、その減少量
の変化を測定することにより評価した。結果を表２に示
す。

【０１５７】実施例２〜４ 実施例１で用いた電荷輸送物質をそれぞれ（Ｃ−１）を
それぞれ、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）に変え
た以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、同様
の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０Ｌｕｘ）
５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ_1/2）及び摩
耗による減少量を測定した。結果を表１及び表２に示
す。

【０１５８】実施例５ 濃度３規定の水酸化ナトリウム水溶液（６００ｍｌ）
に、Ｂ−１（４２ｇ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン（２８．５ｇ）を溶解させた溶液及
び、塩化メチレン（２５０ｍｌ）を１リットルのフラス
コに導入した。外部冷却により液温１０℃付近に保持し
ながら反応液を激しく攪拌しホスゲンを３４０ｍｌ／分
の割合で３０分間吹き込んだ。その後、１時間攪拌を続
け重合を完了させた。反応終了後、有機層に塩化メチレ
ン（５００ｍｌ）を加えて希釈し、水、希塩酸、水の順
に洗浄した後、メタノール中に投入して、下記の繰り返
し単位からなる共重合体（ＰＣ−２、［η_sp／ｃ］＝
０．６１ｄｌ／ｇ）を得た。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭ
Ｒ分析より、下記の繰り返し単位からなるポリカーボネ
ートであることが確認された。

【０１５９】

【化４１】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−２）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−５）に変
えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、実
施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１６０】実施例６〜８ 実施例５で用いた電荷輸送物質（Ｃ−５）をそれぞれ
（Ｃ−６）、（Ｃ−７）、（Ｃ−８）に変えた以外は実
施例５と同様の方法で感光体を作製し、同様の方法で初
期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残
留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ_1/2）及び摩耗による減
少量を測定した。結果を表１及び表２に示す。

【０１６１】実施例９ 実施例１の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン（７４ｇ）をＢ−１（１０９ｇ）に、Ｂ−１（３
５ｇ）を２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン（２４ｇ）に変更した以外は実施例１と同様の操作
で、下記の繰り返し単位からなる共重合体（ＰＣ−３、
［η_sp／ｃ］＝０．５４ｄｌ／ｇ）を得た。このポリマ
ーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析より、下記の繰り返し単位からな
るポリカーボネートであることが確認された。

【０１６２】

【化４２】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−３）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−４）に変
えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、実
施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１６３】実施例１０〜１２ 実施例９で用いた電荷輸送物質（Ｃ−４）をそれぞれ
（Ｃ−８）、（Ｃ−９）、（Ｃ−１０）に変えた以外は
実施例９と同様の方法で感光体を作製し、実施例１と同
様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０Ｌｕ
ｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ_1/2）及
び摩耗による減少量を測定した。結果を表１及び表２に
示す。

【０１６４】実施例１３ 実施例１の２，２，−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（７４ｇ）を１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン（８７ｇ）に変更した以外は実
施例１と同様の方法で感光体を作製し、実施例１と同様
の操作で、下記の繰り返し単位からなる共重合体（ＰＣ
−４、［η_sp／ｃ］＝０．６５ｄｌ／ｇ）を得た。この
ポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析より、下記の繰り返し単位
からなるポリカーボネートであることが確認された。

【０１６５】

【化４３】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−４）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−４）に変
えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、実
施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１６６】実施例１４〜１６ 実施例１３で用いた電荷輸送物質（Ｃ−４）をそれぞれ
（Ｃ−１１）、（Ｃ−１２）、（Ｃ−１３）に変えた以
外は実施例１３と同様の方法で感光体を作製し、実施例
１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０
Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１６７】実施例１７ 実施例１の２，２，−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（７４ｇ）をＢ−２（１１８ｇ）に、Ｂ−１
（３５ｇ）をＢ−２（３８ｇ）に変更した以外は実施例
１と同様な操作で、下記の繰り返し単位からなる共重合
体（ＰＣ−５、［η_sp／ｃ］＝０．６０ｄｌ／ｇ）を得
た。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析より、下記の繰り
返し単位からなるポリカーボネートであることが確認さ
れた。

【０１６８】

【化４４】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−５）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−１４）に
変えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、
実施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１６９】実施例１８〜２０ 実施例１７で用いた電荷輸送物質（Ｃ−１４）をそれぞ
れ（Ｃ−１５）、（Ｃ−１６）、（Ｃ−１７）に変えた
以外は実施例１７と同様の方法で感光体を作製し、実施
例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１
０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ
_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表１及
び表２に示す。

【０１７０】実施例２１ 実施例１のＢ−１（３５ｇ）をＢ−２（３８ｇ）に変更
した以外は実施例１と同様な操作で、下記の繰り返し単
位からなる共重合体（ＰＣ−６、［η_sp／ｃ］＝０．６
７ｄｌ／ｇ）を得た。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析
より、下記の繰り返し単位からなるポリカーボネートで
あることが確認された。

【０１７１】

【化４５】 実施例１で用いた電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−４）
に変えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製
し、実施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光
照射（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露
光量（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果
を表１及び表２に示す。

【０１７２】実施例２２〜２４ 実施例２１で用いた電荷輸送物質（Ｃ−４）をそれぞれ
（Ｃ−１７）、（Ｃ−１８）、（Ｃ−１９）に変えた以
外は実施例２１と同様の方法で感光体を作製し、実施例
１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０
Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１７３】実施例２５ 実施例１のＢ−１をＢ−１０に変更した以外は実施例１
と同様の操作で、下記の繰り返し単位からなる共重合体
（ＰＣ−７、［η_sp／ｃ］＝０．５６ｄｌ／ｇ）を得
た。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析より、下記の繰り
返し単位からなるポリカーボネートであることが確認さ
れた。

【０１７４】

【化４６】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−７）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−４）に変
えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、実
施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１７５】実施例２６〜２８ 実施例２１で用いた電荷輸送物質（Ｃ−４）をそれぞれ
（Ｃ−１１）、（Ｃ−１６）、（Ｃ−１７）に変えた以
外は実施例２１と同様の方法で感光体を作製し、実施例
１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０
Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１７６】実施例２９ 実施例１のＢ−１（３５ｇ）をＢ−８（６８ｇ）に変更
した以外は実施例１と同様の操作で、下記の繰り返し単
位からなる共重合体（ＰＣ−８、［η_sp／ｃ］＝０．６
７ｄｌ／ｇ）を得た。このポリマーの¹Ｈ−ＮＭＲ分析
より、下記の繰り返し単位からなるポリカーボネートで
あることが確認された。

【０１７７】

【化４７】 実施例１で用いたポリカーボネート（ＰＣ−１）を（Ｐ
Ｃ−８）に、電荷輸送物質（Ｃ−１）を（Ｃ−３）に変
えた以外は実施例１と同様の方法で感光体を作製し、実
施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１７８】実施例３０〜３２ 実施例２９で用いた電荷輸送物質（Ｃ−３）をそれぞれ
（Ｃ−４）、（Ｃ−１１）、（Ｃ−１７）に変えた以外
は実施例２９と同様の方法で感光体を作製し、実施例１
と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射（１０Ｌ
ｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量（Ｅ_1/2）
及び摩耗による減少量を測定した。結果を表１及び表２
に示す。

【０１７９】比較例１ ビスフェノールＡを原料とし下記繰り返し単位からなる
ポリカーボネートをバインダー樹脂として用い、電荷輸
送物質として実施例１で用いた化合物（Ｃ−４）を用
い、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
実施例１と同様の方法で初期表面電位（Ｖ₀）、光照射
（１０Ｌｕｘ）５秒後の残留電位（Ｖ_R）、半減露光量
（Ｅ_1/2）及び摩耗による減少量を測定した。結果を表
１及び表２に示す。

【０１８０】

【化４８】

【０１８１】比較例２ 比較例１の電荷輸送物質（Ｃ−４）の代わりに（Ｃ−１
１）を用いた以外は比較例１と同様に行った。結果を表
１及び表２に示す。

【０１８２】比較例３ ビスフェノールＺを原料とし下記繰り返し単位からなる
ポリカーボネートをバインダー樹脂として用い、電荷輸
送物質として（Ｃ−４）を用いて実施例１と同様にして
電子写真感光体を作製した。結果を表１及び表２に示
す。

【０１８３】

【化４９】 比較例４ 比較例３の電荷輸送物質（Ｃ−４）の代わりに（Ｃ−１
１）を用いた以外は比較例３と同様に行った。結果を表
１及び表２に示す。

【０１８４】

【化５０】

【０１８５】

【化５１】

【０１８６】

【化５２】

【０１８７】

【表１】

【０１８８】

【表２】

【０１８９】

【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、結晶化やゲ
ル化を起こしにくく、機械的強度に優れるポリカーボネ
ートを感光層中のバインダー樹脂として用い、また感光
層中の電荷輸送物質として、上記バインダー樹脂との組
み合わせにより、半減露光量や残留電位などの電子写真
特性を向上させる化合物を用いて製造されるものであ
る。従って、本発明の電子写真感光体は、電子写真感光
体の作製時において塗工液が白化（ゲル化）したりする
ことがなく、導電性基板と感光層の接着性及び感光体表
面の耐摩耗性が向上し、電子写真感光体の長寿命化が図
れるとともに、繰り返し長時間使用しても優れた電子写
真特性を維持することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−311191（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−234457（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−220181（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−254461（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−162413（ＪＰ，Ａ) 米国特許3793249（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に電荷発生物質、電荷輸送
   物質及びバインダー樹脂を含有する感光層を設けた電子
   写真感光体において、該感光層中に下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ⁵¹及びＲ⁵²は各々独立に、ハロゲン原子、炭
   素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロアルキ
   ル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のアリール
   基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を表
   す。）で表される繰り返し単位を主成分とする重合体化
   合物をバインダー樹脂として含有することを特徴とする
   電子写真感光体。
2. 【請求項２】 導電性基体上に電荷発生物質、電荷輸送
   物質及びバインダー樹脂を含有する感光層を設けた電子
   写真感光体において、該感光層中に下記一般式（１）と
   下記一般式（２） 【化２】 ［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は各々独立に、ハロゲン原
   子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数５〜７のシクロ
   アルキル基、炭素数６〜１２の置換若しくは無置換のア
   リール基を表し、Ａ及びＢは各々独立に０〜４の整数を
   表し、Ｗは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−Ｓ
   Ｏ−、−ＳＯ_２−、−ＣＲ^６５Ｒ^６６−（Ｒ^６５及びＲ
   ^６６は各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、
   炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数６〜１２の置換若
   しくは無置換のアリール基である。）、炭素数５〜１１
   の１，１−シクロアルキリデン基又は炭素数２〜１２の
   α，ω−アルキレン基であり、Ｒ５３及びＲ５４は各々
   独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭
   素数５〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の置換
   若しくは無置換のアリール基を表し、Ｃ及びＤは各々独
   立に、０〜４の整数である。］ で表される繰り返し単位を主成分とする重合体化合物を
   バインダー樹脂として含有することを特徴とする電子写
   真感光体。
3. 【請求項３】 重合体化合物の塩化メチレンを溶媒とす
   る濃度０．５ｇ／ｄｌの溶液の２０℃における還元粘度
   が０．２〜１０．０ｄｌ／ｇである請求項１又は請求項
   ２に記載の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 重合体化合物の一般式（１）で表される
   繰り返し単位が、一般式（１）で表される繰り返し単位
   と一般式（２）で表される繰り返し単位の合計モル数に
   対するモル比で０．１〜９０モル％である請求項２に記
   載の電子写真感光体。