JPH10310453A

JPH10310453A - ガラスペースト組成物

Info

Publication number: JPH10310453A
Application number: JP11979397A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Masuko; 英明増子; Hideyuki Kamii; 英行神井; Kenji Okamoto; 健司岡本; Tadahiko Udagawa; 忠彦宇田川
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 1997-05-09
Filing date: 1997-05-09
Publication date: 1998-11-24
Anticipated expiration: 2017-05-09
Also published as: JP3852155B2

Abstract

(57)【要約】【課題】転写フィルムの製造に好適に使用される
ガラスペースト組成物の提供。可撓性に優れ、ガラ
ス基板との接着性に優れ、膜強度の大きい膜形成材料層
を支持フィルム上に形成することができるガラスペース
ト組成物の提供。膜形成材料層の転写性に優れた転
写フィルムを製造することができるガラスペースト組成
物の提供。高い光透過率を有するガラス焼結体（誘
電体層）を形成することができるガラスペースト組成物
の提供。【解決手段】ガラス粉末および結着樹脂を含有するガ
ラスペースト組成物であって、さらに、ポリプロピレン
グリコールが含有されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はガラスペースト組成
物に関し、さらに詳しくは、誘電体層を形成するために
好適に使用することができるガラスペースト組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】最近において、平板状の蛍光表示体とし
てプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流
型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」と
もいう。）の断面形状を示す模式図である。同図におい
て、１及び２は、対向配置されたガラス基板、３は隔壁
であり、ガラス基板１、ガラス基板２及び隔壁３により
セルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定さ
れたバス電極、５はガラス基板２に固定されたアドレス
電極、６はセル内に保持された蛍光物質、７はバス電極
４を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電
体層、８は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜であ
る。誘電体層７はガラス焼結体より形成され、その膜厚
は例えば２０〜５０μｍとされる。

【０００３】誘電体層７の形成方法としては、ガラス粉
末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物
（ガラスペースト組成物）を調製し、このガラスペース
ト組成物をスクリーン印刷法によってガラス基板１の表
面に塗布して乾燥することにより膜形成材料層を形成
し、次いでこの膜形成材料層を焼成することにより有機
物質を除去してガラス粉末を焼結させる方法が知られて
いる。

【０００４】ここに、ガラスペースト組成物を構成する
結着樹脂としては、メチルセルロース、エチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース誘導
体、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ウ
レタン系樹脂、メラミン系樹脂などが知られており、こ
れらのうち、ガラス粉末の分散性、組成物の塗布特性、
燃焼の容易性などの観点から、エチルセルロースが好ま
しいとされている（例えば特開平６−３２１６１９号公
報参照）。

【０００５】しかして、ガラス基板１上に形成する膜形
成材料層の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に
伴う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき誘電体層７の
膜厚の１．３〜２．０倍程度とすることが必要であり、
例えば、誘電体層７の膜厚を２０〜５０μｍとするため
には、３０〜１００μｍ程度の厚さの膜形成材料層を形
成する必要がある。一方、前記ガラスペースト組成物を
スクリーン印刷法により塗布する場合に、１回の塗布処
理によって形成される塗膜の厚さは１５〜２５μｍ程度
である。このため、膜形成材料層を所定の厚さとするた
めには、ガラス基板の表面に対して、当該ガラスペース
ト組成物を複数回（例えば２〜７回）にわたり繰り返し
て塗布（多重印刷）する必要がある。

【０００６】しかしながら、スクリーン印刷法を利用す
る多重印刷によって膜形成材料層を形成する場合には、
当該膜形成材料層を焼成して形成される誘電体層が均一
な膜厚（例えば公差が±５％以内）を有するものとなら
ない。これは、スクリーン印刷法による多重印刷では、
ガラス基板の表面に対してガラスペースト組成物を均一
に塗布することが困難だからであり、塗布面積（パネル
サイズ）が大きいほど、また、塗布回数が多いほど誘電
体層における膜厚のバラツキの程度は大きいものとな
る。そして、多重印刷による塗布工程を経て得られるパ
ネル材料（当該誘電体層を有するガラス基板）には、そ
の面内において、膜厚のバラツキに起因する誘電特性に
バラツキが生じ、誘電特性のバラツキは、ＰＤＰにおけ
る表示欠陥（輝度ムラ）の原因となる。さらに、スクリ
ーン印刷法では、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成
材料層の表面に転写されることがあり、このような膜形
成材料層を焼成して形成される誘電体層は、表面の平滑
性に劣るものとなる。

【０００７】スクリーン印刷法によって膜形成材料層を
形成する場合における上記のような問題を解決する手段
として、本発明者らは、ガラスペースト組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成
し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極
が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜
形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表
面に誘電体層を形成する工程（以下、「ドライフィルム
法」ともいう。）を含むＰＤＰの製造方法を提案してい
る（特願平８−１９６３０４号明細書参照）。このよう
な製造方法によれば、膜厚の均一性および表面の均一性
に優れた誘電体層を形成することができ、また、膜形成
材料層が支持フィルム上に形成されてなる複合フィルム
（以下、「転写フィルム」ともいう。）は、これをロー
ル状に巻き取って保存することができる点でも有利であ
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セルロ
ース誘導体などの従来公知の樹脂を含有するガラスペー
スト組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を
形成する（転写フィルムを製造する）場合には、形成さ
れる膜形成材料層が十分な可撓性を有するものとなら
ず、転写フィルムを折り曲げると、当該膜形成材料層の
表面に微小な亀裂（ひび割れ）が発生するという問題が
ある。そして、可撓性の不十分な膜形成材料層を備えて
なる転写フィルムは、これをロール状に巻き取ることも
困難となる。また、セルロース誘導体を含有する膜形成
材料層は、ガラス基板に対して十分な接着性（加熱接着
性）を発揮することができないため、支持フィルムから
ガラス基板の表面に転写されにくいという問題もある。

【０００９】このような問題に対して、本発明者らは、
結着樹脂としてアクリル樹脂を含有するガラスペースト
組成物を調製し、当該ガラスペースト組成物を支持フィ
ルム上に塗布して膜形成材料層を形成することにより、
当該膜形成材料層の転写性（ガラス基板に対する膜形成
材料層の接着性）に優れた転写フィルムが得られること
を見出した。しかしながら、アクリル樹脂を含有するガ
ラスペースト組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成
材料層を形成する場合において、当該膜形成材料層の可
撓性は依然として十分なものではなかった。

【００１０】転写フィルムを構成する膜形成材料層に可
撓性を付与するための手段として、フタル酸ジオクチル
（ＤＯＰ）などの可塑剤を添加してガラスペースト組成
物を調製し、当該ガラスペースト組成物を支持フィルム
上に塗布することにより、形成される膜形成材料層に前
記可塑剤を含有させる方法が考えられる。しかしなが
ら、ＤＯＰなどの可塑剤が含有されてなる膜形成材料層
は、十分な膜強度を有するものとならず、そのような膜
形成材料層を備えてなる転写フィルムを使用して行う転
写工程において、ガラス基板に加熱接着された膜形成材
料層から支持フィルムを剥離するときに、当該膜形成材
料層が凝集破壊を起こすことがある。さらに、膜形成材
料層の焼成工程において、前記可塑剤が完全に分解除去
されることなく、形成される誘電体層中にその一部が残
留してしまい、当該誘電体層が着色されてその光透過性
が損なわれることもある。

【００１１】本発明は以上のような事情に基いてなされ
たものである。本発明の第１の目的は、転写フィルムを
製造するために好適に用いることができるガラスペース
ト組成物を提供することにある。本発明の第２の目的
は、可撓性に優れた膜形成材料層を支持フィルム上に形
成することができるガラスペースト組成物を提供するこ
とにある。本発明の第３の目的は、ガラス基板との（加
熱）接着性に優れた膜形成材料層を支持フィルム上に形
成することができるガラスペースト組成物を提供するこ
とにある。本発明の第４の目的は、膜強度の大きい膜形
成材料層を支持フィルム上に形成することができるガラ
スペースト組成物を提供することにある。本発明の第５
の目的は、膜形成材料層の転写性に優れた転写フィルム
を製造することができるガラスペースト組成物を提供す
ることにある。本発明の第６の目的は、高い光透過率を
有するガラス焼結体（例えばＰＤＰの誘電体層）を形成
することができるガラスペースト組成物を提供すること
にある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のガラスペースト
組成物は、（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂および
（Ｃ）ポリプロピレングリコールが含有されていること
を特徴とする。本発明のガラスペースト組成物におい
て、（Ｃ）ポリプロピレングリコールの重量平均分子量
（Ｍｗ）が２００〜３，０００の範囲にあること、特に
３００〜２，０００の範囲にあることが好ましい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明のガラスペースト組
成物について詳細に説明する。本発明のガラスペースト
組成物は、ガラス粉末、結着樹脂およびポリプロピレン
グリコールを必須成分として含有する。

【００１４】＜ガラス粉末＞本発明の組成物を構成する
ガラス粉体としては、特に限定されるものではないが、
その軟化点が４００〜６００℃の範囲内にあるものが好
ましい。ガラス粉末の軟化点が４００℃未満である場合
には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工程におい
て、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない
段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成される誘
電体層中に有機物質の一部が残留し、この結果、誘電体
層が着色されて、その光透過率が低下する傾向がある。
一方、ガラス粉末の軟化点が６００℃を超える場合に
は、６００℃より高温で焼成する必要があるために、ガ
ラス基板に歪みなどが発生しやすい。好適なガラス粉末
の具体例としては、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ
素（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系）の混合物、酸
化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−
ＳｉＯ₂系）の混合物、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化
ケイ素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ
₂−Ａｌ₂Ｏ₃系）の混合物、酸化鉛、酸化亜鉛、
酸化ホウ素、酸化ケイ素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ ₂Ｏ₃−
ＳｉＯ₂系）の混合物などを例示することができる。

【００１５】＜結着樹脂＞本発明の組成物は、結着樹脂
がアクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂として
アクリル樹脂が含有されていることにより、形成される
膜形成材料層には、ガラス基板に対する優れた（加熱）
接着性が発揮される。従って、本発明の組成物を支持フ
ィルム上に塗布して転写フィルムを製造する場合におい
て、得られる転写フィルムは、膜形成材料層の転写性
（ガラス基板への加熱接着性）に優れたものとなる。本
発明の組成物を構成するアクリル樹脂としては、適度な
粘着性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜
形成材料の焼成処理（４００℃〜６００℃）によって完
全に酸化除去される（共）重合体の中から選択される。
かかるアクリル樹脂には、下記一般式（１）で表される
（メタ）アクリレート化合物の単独重合体、下記一般式
（１）で表される（メタ）アクリレート化合物の２種以
上の共重合体、および下記一般式（１）で表される（メ
タ）アクリレート化合物と共重合性単量体との共重合体
が含まれる。

【００１６】

【化１】

【００１７】〔式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ²は１価の有機機を示す。〕

【００１８】上記一般式（１）で表される（メタ）アク
リレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メ
タ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレー
ト、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペン
チル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレー
ト、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メ
タ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オ
クチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）ア
クリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノ
ニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレー
ト、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラ
ウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アク
リレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどの
アルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロ
キシブチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート；フェノキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピ
ル（メタ）アクリレートなどのフェノキシアルキル（メ
タ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリ
レート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２
−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキ
シエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル
（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキル（メ
タ）アクリレート；ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メ
タ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポ
リプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニル
フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレ
ートなどのポリアルキレングリコール（メタ）アクリレ
ート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチ
ルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）ア
クリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボル
ニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メ
タ）アクリレートなどのシクロアルキル（メタ）アクリ
レート；ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル（メタ）アクリレートなどを挙げることがで
きる。これらのうち、上記一般式（１）中、Ｒ²で示さ
れる基が、アルキル基またはオキシアルキレン基を含有
する基であることが好ましく、特に好ましい（メタ）ア
クリレート化合物として、ブチル（メタ）アクリレー
ト、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル
（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレー
トおよび２−エトキシエチル（メタ）アクリレートを挙
げることができる。ここに、好ましいアクリル樹脂とし
ては、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリ
レート、メチルメタクリレート−ブチルメタクリレート
共重合体などを例示することができる。他の共重合性単
量体としては、上記（メタ）アクリレート化合物と共重
合可能な化合物ならば特に制限はないが、例えば、（メ
タ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マイレン酸、ビニル
フタル酸などの不飽和カルボン酸類；ビニルベンジルメ
チルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、
α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレンなどのビ
ニル基含有ラジカル重合性化合物が挙げられる。本発明
の組成物を構成するアクリル樹脂における、上記一般式
（１）で表される（メタ）アクリレート化合物由来の共
重合成分は、通常７０重量％以上、好ましくは９０重量
％以上、さらに好ましくは１００重量％である。

【００１９】本発明の組成物を構成するアクリル樹脂の
分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量
平均分子量として４，０００〜３００，０００であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜２０
０，０００とされる。本発明の組成物における結着樹脂
の含有割合としては、ガラス粉末１００重量部に対し
て、５〜４０重量部であることが好ましく、さらに好ま
しくは１０〜３０重量部とされる。結着樹脂の割合が過
小である場合には、ガラス粉末を確実に結着保持するこ
とができず、一方、この割合が過大である場合には、焼
成工程に長い時間を要したり、形成されるガラス焼結体
（誘電体層）が十分な強度や膜厚を有するものとならな
かったりする。

【００２０】＜ポリプロピレングリコール＞本発明の組
成物においては、ポリプロピレングリコールが含有され
ている点に特徴を有している。ポリプロピレングリコー
ルを組成物中に含有させることにより、形成される膜形
成材料層に良好な可撓性を発現させることができる。し
かも、ポリプロピレングリコールは、ＤＯＰなどの一般
的な可塑剤とは異なり、形成される膜形成材料層の膜強
度を低下させたり、当該膜形成材料層を焼成して得られ
る誘電体層の光透過率を低下させたりすることはない。

【００２１】かかるポリプロピレングリコールの重量平
均分子量（Ｍｗ）は、２００〜３，０００の範囲にある
ことが好ましく、３００〜２，０００の範囲にあること
が特に好ましい。ここに、重量平均分子量（Ｍｗ）はゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によ
り測定されたポリスチレン換算重量平均分子量をいうも
のとする。（以下、同じ。）ポリプロピレングリコールの重量平均分子量（Ｍｗ）が
２００未満である場合には、膜強度の大きい膜形成材料
層を支持フィルム上に形成することができず、当該膜形
成材料層を備えてなる転写フィルムを使用して行う転写
工程において、ガラス基板に加熱接着された膜形成材料
層から支持フィルムを剥離しようとすると、当該膜形成
材料層が凝集破壊を起こすことがある。一方、ポリプロ
ピレングリコールの重量平均分子量（Ｍｗ）が３，００
０を超える場合には、ガラス基板との加熱接着性の良好
な膜形成材料層を形成することが困難となる。

【００２２】本発明の組成物におけるポリプロピレング
リコールの含有割合としては、ガラス粉末１００重量部
に対して、０．１〜２０重量部であることが好ましく、
さらに好ましくは０．５〜１０重量部とされる。この割
合が過小である場合には、膜形成材料層における可撓性
の向上効果を十分に発揮させることができない。一方、
この割合が過大である場合には、得られるガラスペース
ト組成物から転写フィルムを作成したとき、ロール状に
巻き取った転写フィルム同士が固着してしまう現象（ブ
ロッキング現象）が起き、ロールから転写フィルムを引
き出すことができなくなる場合がある。

【００２３】＜溶剤＞本発明の組成物には、通常、溶剤
が含有される。上記溶剤としては、ガラス粉末との親和
性、結着樹脂の溶解性が良好で、ガラスペースト組成物
に適度な粘性を付与することができ、乾燥されることに
よって容易に蒸発除去できるものであることが好まし
い。かかる溶剤の具体例としては、ジエチルケトン、メ
チルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノ
ンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２
−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアル
コールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；
酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカ
ルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−
ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エト
キシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを
例示することができ、これらは、単独でまたは２種以上
を組み合わせて使用することができる。本発明の組成物
における溶剤の含有割合としては、組成物の粘度を好適
な範囲に維持する観点から、ガラス粉末１００重量部に
対して、４０重量部以下であることが好ましく、さらに
好ましくは５〜３０重量部とされる。

【００２４】本発明のガラスペースト組成物には、上記
の必須成分のほかに、可塑剤、分散剤、粘着性付与剤、
表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任
意成分として含有されていてもよい。好ましいガラスペ
ースト組成物の一例を示せば、ガラス粉末として、酸化
鉛５０〜８０重量％、酸化ホウ素５〜２０重量％、酸化
ケイ素１０〜３０重量％からなる混合物１００重量部
と、ポリブチルメタクリレート（アクリル樹脂）１０〜
３０重量部と、ポリプロピレングリコール０．１〜１０
重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル
（溶剤）１０〜５０重量部とを必須成分として含有する
組成物を挙げることができる。

【００２５】本発明の組成物は、上記ガラス粉末、アク
リル樹脂、ポリプロピレングリコールおよび溶剤並びに
任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサーな
どの混練機を用いて混練することにより調製することが
できる。上記のようにして調製される本発明の組成物
は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物で
あり、その粘度は、通常１，０００〜３０，０００ｃｐ
とされ、好ましくは３０００〜１００００ｃｐとされ
る。

【００２６】本発明の組成物は、転写フィルムを製造す
るために特に好適に使用することができる。この転写フ
ィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成
された膜形成材料層とにより構成され、ドライフィルム
法による誘電体層の形成工程に使用される複合材料であ
る。

【００２７】転写フィルムを構成する支持フィルムは、
耐熱性及び耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹
脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓
性を有することにより、ロールコーター、ブレードコー
ターなどによって本発明の組成物を塗布することがで
き、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、
供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂と
しては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セ
ルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚
さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。

【００２８】転写フィルムを構成する膜形成材料層は、
本発明の組成物を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を
乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成
することができる。本発明の組成物を支持フィルム上に
塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大
きい（例えば２０μｍ以上）塗膜を効率よく形成するこ
とができるものであることが好ましく、具体的には、ロ
ールコーターによる塗布方法、ブレードコーターによる
塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤー
コーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げ
ることができる。なお、本発明の組成物が塗布される支
持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好
ましい。これにより、ガラス基板への転写工程におい
て、支持フィルムの剥離操作をさらに容易に行うことが
できる。また、転写フィルムには、膜形成材料層の表面
に保護フィルム層が設けられてもよい。このような保護
フィルム層としては、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系
フィルムなどを挙げることができる。

【００２９】本発明の組成物は、上記のように、支持フ
ィルム上に膜形成材料層を形成して転写フィルムを製造
する際に特に好適に使用することができるが、これらの
用途に限定されるものではなく、従来において公知の膜
形成材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法な
どによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布
し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する
方法にも好適に使用することができる。

【００３０】

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。＜実施例１＞（１）ガラスペースト組成物の調製：ガラス粉末とし
て、酸化鉛７０重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化ケ
イ素２０重量％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−Ｓｉ
Ｏ₂系の混合物（軟化点５００℃）１００部、結着樹脂
としてポリブチルメタクリレート（重量平均分子量：５
０，０００）２０部、添加剤としてポリプロピレングリ
コール（重量平均分子量：４００）１部、溶剤としてプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル２０部を分散機
を用いて混練することにより、粘度が４，０００ｃｐで
ある本発明の組成物を調製した。

【００３１】（２）転写フィルムの製造：上記（１）で
調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）よりなる支持フィルム
（幅４００ｍｍ，長さ３０ｍ，厚さ３８μｍ）上にブレ
ードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を１００
℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去し、これによ
り、厚さ５０μｍの膜形成材料層が支持フィルム上に形
成されてなる転写フィルムを製造した。この転写フィル
ムは柔軟性を有しており、容易に、ロール状に巻き取る
ことができた。また、この転写フィルムを折り曲げて
も、膜形成材料層の表面にひび割れ（屈曲亀裂）が生じ
ることはなく、当該膜形成材料層は良好な可撓性を有す
るものであった。

【００３２】（３）膜形成材料層の転写：２０インチパ
ネル用のガラス基板の表面（バス電極の固定面）に、膜
形成材料層の表面が当接されるよう、上記（２）で製造
した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加
熱ロールにより熱圧着した。ここで、圧着条件として
は、加熱ロールの表面温度を１１０℃、ロール圧を３ｋ
ｇ／ｃｍ²、加熱ロールの移動速度を１ｍ／分とした。
熱圧着処理の終了後、ガラス基板の表面に固定（加熱接
着）された膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去
し、当該膜形成材料層の転写を完了した。この転写工程
において、支持フィルムを剥離するときに、膜形成材料
層が凝集破壊を起こすようなことはなく、当該膜形成材
料層は十分大きな膜強度を有するものであった。さら
に、転写された膜形成材料層は、ガラス基板の表面に対
して良好な接着性を有するものであった。

【００３３】（４）膜形成材料層の焼成（誘電体層の形
成）：上記（３）により膜形成材料層を転写形成したガ
ラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から
１０℃／分の昇温速度で５５０℃まで昇温し、５５０℃
の温度雰囲気下３０分間にわたって焼成処理することに
より、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる無色
の誘電体層を形成した。この誘電体層の膜厚（平均膜厚
および公差）を測定したところ３０μｍ±０．４μｍの
範囲にあり、膜厚の均一性に優れているものであった。
また、このようにして、誘電体層を有するガラス基板よ
りなるパネル材料を５台分作製し、形成された誘電体層
の光透過率（測定波長６００ｎｍ）を測定したところ９
５％であり、良好な透明性を有するものであることが認
められた。以上の結果を表１にまとめて示す。

【００３４】＜実施例２〜３＞表１に示す処方に従っ
て、実施例１に係るものとは重量平均分子量が異なるポ
リプロピレングリコールを添加剤として使用したこと以
外は実施例１と同様にして本発明のガラスペースト組成
物を調製した。次いで、得られたガラスペースト組成物
の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして転写
フィルムを製造した。その後、得られた転写フィルムの
各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして、膜形
成材料層の転写および膜形成材料層の焼成処理を行っ
て、２０インチパネル用のガラス基板の表面に無色の誘
電体層（厚さ３０μｍ±０．５μｍ）を形成した。

【００３５】実施例２〜３に係る組成物の各々により形
成された膜形成材料層（転写フィルムを構成する膜形成
材料層）について、可撓性、膜強度およびガラス基板に
対する接着性について評価し、形成された誘電体層の光
透過率を測定した。ここに、可撓性の評価としては、転
写フィルムを折り曲げたときに、膜形成材料層の表面に
屈曲亀裂が発生しなかった場合を「良好」と判定した。
また、膜強度の評価としては、支持フィルムを剥離した
ときに、膜形成材料層が凝集破壊を起こさなかった場合
を「良好」と判定した。また、ガラス基板に対する接着
性の評価としては、支持フィルムを剥離したときに、ガ
ラス基板の表面と膜形成材料層との間に界面剥離が起き
なかった場合（誘電体層を形成すべき全領域において界
面剥離が発生しなかった場合）を「良好」と判定した。
これらの結果を表１に示す。

【００３６】＜比較例１＞表１に示す処方に従って、ポ
リプロピレングリコールを含有させなかったこと以外は
実施例１と同様にして、比較用のガラスペースト組成物
を調製し、当該組成物を使用して転写フィルムを製造
し、当該転写フィルムを使用して膜形成材料層の転写お
よびその焼成処理を行うことにより、２０インチパネル
用のガラス基板の表面に無色の誘電体層（厚さ３０μｍ
±１．０μｍ）を形成した。この比較例１に係る組成物
を使用して得られた転写フィルムは柔軟性に乏しく、こ
の転写フィルムを折り曲げたところ、膜形成材料層の表
面に屈曲亀裂が発生し、当該膜形成材料層は良好な可撓
性を有するものでなかった。なお、比較例１により得ら
れた転写フィルムによれば、これを構成する膜形成材料
層をガラス基板の表面に転写することができ、当該膜形
成材料層を焼成処理して形成された誘電体層の光透過率
は９５％であった。以上の結果を表１にまとめて示す。

【００３７】＜比較例２＞表１に示す処方に従って、ポ
リプロピレングリコールに代えてポリエチレングリコー
ル（重量平均分子量：１，０００）３部を含有させたこ
と以外は実施例１と同様にして、比較用のガラスペース
ト組成物を調製し、当該組成物を使用して転写フィルム
を製造した。この転写フィルムは柔軟性を有しており、
この転写フィルムを折り曲げても、膜形成材料層の表面
に屈曲亀裂が発生することはなく、当該膜形成材料層は
良好な可撓性を有するものであった。この転写フィルム
を、２０インチパネル用のガラス基板の表面に膜形成材
料層の表面が当接されるよう重ね合わせ、実施例１と同
一の圧着条件で熱圧着した。次いで、ガラス基板の表面
における膜形成材料層から支持フィルムを剥離しようと
したところ、ガラス基板の表面と膜形成材料層との間に
界面剥離が起こり、膜形成材料層を転写することができ
なかった。このことから、比較例２に係る組成物により
形成された膜形成材料層は、ガラス基板の表面に対して
十分な接着性を有するものでないことが理解される。以
上の結果を表１にまとめて示す。

【００３８】＜比較例３＞表１に示す処方に従って、ポ
リプロピレングリコールに代えてフタル酸ジオクチル
（ＤＯＰ）１部を含有させたこと以外は実施例１と同様
にして、比較用のガラスペースト組成物を調製し、当該
組成物を使用して転写フィルムを製造し、当該転写フィ
ルムを使用して膜形成材料層の転写およびその焼成処理
を行うことにより、２０インチパネル用のガラス基板の
表面に誘電体層（厚さ３０μｍ±０．５μｍ）を形成し
た。この比較例３に係る組成物を使用して得られた転写
フィルムは柔軟性を有しており、この転写フィルムを折
り曲げても、膜形成材料層の表面に屈曲亀裂が発生する
ことはなく、当該膜形成材料層は良好な可撓性を有する
ものであった。この転写フィルムを、２０インチパネル
用のガラス基板の表面に膜形成材料層の表面が当接され
るよう重ね合わせ、実施例１と同一の圧着条件で熱圧着
した。次いで、ガラス基板の表面における膜形成材料層
から支持フィルムを剥離しようとしたところ、当該膜形
成材料層に凝集破壊が起こり、その一部が支持フィルム
側に付着していた。このことから、比較例３に係る組成
物により形成された膜形成材料層は、十分な膜強度を有
するものではないことが理解される。また、ガラス基板
の表面における転写された膜形成材料層の残部を焼成処
理して形成された誘電体層の光透過率は７０％であり、
透明性にも劣るものであった。以上の結果を表１にまと
めて示す。

【００３９】＜比較例４＞ガラス粉末として、酸化鉛７
０重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化ケイ素２０重量
％の組成を有するＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系の混合
物（軟化点５００℃）１００部、結着樹脂としてエチル
セルロース（重量平均分子量：３００，０００）５部、
溶剤としてαテルピネオール２０部を分散機を用いて混
練することにより、粘度が５０，０００ｃｐである比較
用のガラスペースト組成物を調製し、当該組成物を使用
して転写フィルムを製造した。この転写フィルムは柔軟
性に乏しく、この転写フィルムを折り曲げたところ、膜
形成材料層の表面に屈曲亀裂が発生し、当該膜形成材料
層は良好な可撓性を有するものでなかった。この転写フ
ィルムを、２０インチパネル用のガラス基板の表面に膜
形成材料層の表面が当接されるよう重ね合わせ、実施例
１と同一の圧着条件で熱圧着した。次いで、ガラス基板
の表面における膜形成材料層から支持フィルムを剥離し
ようとしたところ、ガラス基板の表面と膜形成材料層と
の間に界面剥離が起こり、膜形成材料層を転写すること
ができなかった。このことから、比較例４に係る組成物
により形成された膜形成材料層は、ガラス基板の表面に
対して良好な接着性を有するものでないことが理解され
る。以上の結果を表１にまとめて示す。

【００４０】

【表１】

【００４１】

【発明の効果】本発明の組成物によれば下記のような効
果が奏される。（１）転写フィルムを製造するために好適に用いること
ができる。（２）ポリプロピレングリコールが含有されていること
により、可撓性に優れた膜形成材料層を支持フィルム上
に形成することができ、柔軟性に優れた転写フィルムを
製造することができる。（３）ガラス基板との加熱接着性に優れた膜形成材料層
を支持フィルム上に形成することができる。（４）膜強度の大きい膜形成材料層を支持フィルム上に
形成することができる。（５）膜形成材料層の転写性に優れた転写フィルムを製
造することができる。（６）高い光透過率を有する無色のガラス焼結体（例え
ばＰＤＰの誘電体層）を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形
状を示す模式図である。

【符号の説明】

１ガラス基板２ガラス基板３隔壁４バス電極５アドレス電極６蛍光物質７誘電体層８保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宇田川忠彦東京都中央区築地２丁目11番24号日本合成ゴム株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）ガラス粉末、（Ｂ）結着樹脂およ
び（Ｃ）ポリプロピレングリコールが含有されているこ
とを特徴とするガラスペースト組成物。