JPH10303024A - 軟磁性薄膜及び磁気ヘッド - Google Patents
軟磁性薄膜及び磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH10303024A JPH10303024A JP9113137A JP11313797A JPH10303024A JP H10303024 A JPH10303024 A JP H10303024A JP 9113137 A JP9113137 A JP 9113137A JP 11313797 A JP11313797 A JP 11313797A JP H10303024 A JPH10303024 A JP H10303024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- film
- soft magnetic
- soft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/13—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F10/131—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals containing iron or nickel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
- H01F10/265—Magnetic multilayers non exchange-coupled
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1272—Assembling or shaping of elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/11—Magnetic recording head
- Y10T428/115—Magnetic layer composition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
を有し、かつ、磁気的等方性を得ることができる軟磁性
薄膜及びこの軟磁性薄膜を磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 この軟磁性薄膜は、組成がFeaMbNc
Od(但し、MはTa,Zr,Hf,Nb,Tiのうち
の少なくとも一種であり、a,b,c,dは原子パーセ
ントを示す。)であり、a,b,c,dがそれぞれ71
≦a≦85,6≦b≦15,9≦c≦16,1≦d≦
3.5で表される範囲内である。
Description
の軟磁性薄膜が使用された磁気ヘッドに関する。
信号の高記録密度化、記録再生周波数の高周波化が進む
に従い、磁気記録媒体の高保磁力化とそれに伴う磁気ヘ
ッドの高飽和磁束密度化が重要な課題となっている。ま
た、一方で、磁気記録の分野においては、磁気記録媒体
の高記録密度化にともない磁気ヘッドの再生効率の向上
も重要な課題となっている。
を有する磁気記録媒体への高密度の記録を可能にし、か
つ高い電磁変換効率を得る目的で、磁路全体を飽和磁束
密度と透磁率の高い磁性膜で構成する積層型の磁気ヘッ
ドが実用化されている。このような磁気ヘッドに使用さ
れる軟磁性薄膜には、記録再生時においてループ状の磁
路が形成されるため、いづれの方向に対しても高い透磁
率を有する磁気的等方性が要求される。
ヘッドに使用される軟磁性薄膜には、高い透磁率を有
し、かつ、磁気的等方性を有することが要求されてい
る。
使用される軟磁性薄膜に要求される磁気的等方性を得る
ための手段としては、例えば軟磁性薄膜の成膜中もしく
は成膜後の熱処理中に回転磁界を軟磁性薄膜に印加する
ことにより磁気的等方性を誘導する手法が行われてい
る。
工程を経て軟磁性薄膜を有する磁気ヘッドを製造する磁
気ヘッド製造工程は、成膜装置の複雑化や製造プロセス
の増大により製造コストかかってしまうという問題を有
している。
場合においては、磁性膜を成膜する成膜装置内に複数の
非磁性基板を搭載させて成膜を行っている。このため、
それぞれの非磁性基板には、成膜される入射角が異なる
軟磁性薄膜が形成されてしまう。このように、成膜され
る入射角が異なる軟磁性薄膜は、それぞれの非磁性基板
毎で磁気的等方性及び透磁率が異なるものとなってしま
い、磁気的な異方性が生じてしまうことがある。
鑑みて提案されたものであり、複雑な製造工程を経るこ
となく、高い透磁率を有し、かつ、磁気的等方性を得る
ことができる軟磁性薄膜及び磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
生産しても、磁気的異方性が生ずるようなことがない軟
磁性薄膜及び磁気ヘッドを提供することを目的とする。
発明にかかる軟磁性薄膜は、組成がFeaMbNcOd(但
し、MはTa,Zr,Hf,Nb,Tiのうちの少なく
とも一種であり、a,b,c,dは原子パーセントを示
す。)であり、a,b,c,dがそれぞれ71≦a≦8
5,6≦b≦15,9≦c≦16,1≦d≦3.5で表
される範囲内であることを特徴とするものである。
1〜3.5原子パーセントとされているので、複雑な製
造工程を行うことなく、従来の軟磁性薄膜と比較して透
磁率を高くすることができるとともに、成膜時に生ずる
磁気的な異方性を抑制することができる。
の非磁性基板により磁性層を挟み込んでなる磁気コア半
体同士が上記磁性層の端面同士を対向させて突き合わさ
れ、これら磁性層が突き合わされた界面に磁気ギャップ
が形成されてなる磁気ヘッドにおいて、磁性層は、組成
がFeaMbNcOd(但し、MはTa,Zr,Hf,N
b,Tiのうちの少なくとも一種であり、a,b,c,
dは原子パーセントを示す。)であり、a,b,c,d
がそれぞれ71≦a≦85,6≦b≦15,9≦c≦1
6,1≦d≦3.5で表される範囲内であることを特徴
とするものである。
1〜3.5原子パーセントとされた磁性層を有するの
で、複雑な製造工程を経ることなく、従来の磁性層と比
較して透磁率を高くすることができるとともに、磁性層
の磁気的異方性を抑制することができ、記録再生特性を
向上させることができる。
及び磁気ヘッドについて図面を参照しながら詳細に説明
する。
の非磁性基板上に成膜され、これら非磁性基板を突き合
わせることにより磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッ
ドに使用される軟磁性薄膜に適用することができる。
で表されるものである。ここで、Mは、Ta,Zr,H
f,Nb,Tiのうちの少なくとも一種の原子が選択さ
れるが、複数の原子を選択しても良い。また、この軟磁
性薄膜は、軟磁気特性の観点から、それぞれの含有量
a,b,c,dを原子%としたとき、Feが約71≦a
≦約85、Mが約6≦b≦約15、窒素が約9≦c≦約
16、酸素が約1≦d≦約3.5である。
ガス中蒸着法、クラスターイオンビーム法やスパッタ法
等の真空薄膜形成法が用いられるが、非磁性基板との密
着性の観点から、スパッタ法により形成することが望ま
しい。このスパッタ法としては、例えば直流二極式スパ
ッタ法、高周波スパッタ法、バイアス式スパッタ法、対
向ターゲット式スパッタ法等が挙げられるが、いづれの
スパッタ法でも良い。
る軟磁性薄膜はFe−M合金ターゲットをアルゴンガス
と窒素ガスの混合雰囲気中で成膜するが、上述した真空
薄膜形成法において上述した軟磁性薄膜を形成する際に
は、アルゴンガスと窒素ガスの混合雰囲気中に酸素ガス
を導入することにより行われる。このように、成膜雰囲
気内に酸素ガスを導入することにより、軟磁性薄膜は、
酸素の含有量が制御される。すなわち、上述した軟磁性
薄膜の成膜時においては、成膜雰囲気に対する酸素分圧
を変化させることにより、軟磁性薄膜に含有される酸素
原子%を制御することができる。
%としたときの軟磁性薄膜の透磁率を示した図を図1に
示す。なお、この図1は、励磁磁界を約1MHzとして
測定したときの透磁率を示している。この透磁率の測定
においては、図2に示すように、非磁性基板1上に軟磁
性薄膜2を成膜し、酸素の原子%が約0%のときの磁化
困難軸方向をA方向とし、A方向と直交する方向をB方
向とする。そして、図1においては、A方向における透
磁率と酸素原子%との関係を●で示し、B方向における
透磁率と酸素原子%との関係を○で示している。
に含有される酸素原子%が約0%のときはA方向とB方
向とで大きく値が異なっており、A方向における透磁率
と比較してB方向における透磁率が小さいことがわか
る。すなわち、酸素原子%が0%の軟磁性薄膜は、磁気
的に異方性を有することとなる。
1%とした場合においては、A方向及びB方向の透磁率
が1000以上となり、約0%のときと比較してA方向
とB方向との透磁率の差が小さくなり、酸素原子%が約
0%のときと比較して磁気的に等方性となっていること
がわかる。
%とした場合においては、A方向とB方向との透磁率の
値が逆転し、B方向における透磁率の方がA方向におけ
る透磁率の値より大きくなっていることがわかる。ま
た、酸素原子%が約1%のときと比較してA方向におけ
る透磁率とB方向における透磁率との差がさらに小さく
なっており、酸素原子%が約1%のときと比較して磁気
的に等方性となっていることがわかる。
した場合においては、酸素原子%が2%の場合と比較し
てA方向における透磁率とB方向における透磁率との差
が大きくなる。また、透磁率の値は、酸素原子%が約
3.5%程度までにおいてA方向及びB方向において約
1000以上となっており、酸素原子%が0%のときの
透磁率の値と比較して大きくなっている。
おいては、A方向における透磁率とB方向における透磁
率との差がさらに大きくなってしまう。また、透磁率の
値もまたA方向において小さくなってしまう。このよう
に、酸素原子%が約4%の軟磁性薄膜は、磁気的に異方
性を有することとなる。
ば、酸素原子%を変化させることによりA方向における
透磁率及びB方向における透磁率を変化させることがで
きる。すなわち、この軟磁性薄膜は、酸素原子%を変化
させることにより、磁気的な異方性を制御し、磁気的に
等方性とすることができる。また、この軟磁性薄膜は、
酸素原子%を約1%〜約3.5%とすることにより、酸
素原子%が約0%のときの透磁率と比較してA方向及び
B方向においても透磁率を高くすることができるととも
に、A方向とB方向との透磁率の差を小さくして磁気的
な異方性を抑制し、磁気的に等方性とすることができ
る。
ヘッドの一例について説明する。
第1の磁気コア半体4と第2の磁気コア半体5とが突き
合わされて一体化されており、これら第1の磁気コア半
体4及び第2の磁気コア半体5が構成する突き合わせ面
において、磁気ギャップgを形成するようになってい
る。
非磁性基板6aに磁性層7aが挟み込まれるように配設
されて、一体化されてなる。また、第2の磁気コア半体
5は、第1の磁気コア半体4と同様に、一対の非磁性基
板6bに磁性層7aが挟み込まれるように配設されて、
一体化されてなる。そして、これら第1の磁気コア半体
4と第2の磁気コア半体5とは、磁性層7a,7bの端
面同士を対向させて突き合わされ、ガラス溶着により接
合一体化されて、内部に磁束が流れるように閉ループを
構成している。また、第1の磁気コア半体4及び第2の
磁気コア半体5は、媒体摺動面3aに磁気ギャップgを
構成して、一体化されている。
wは、非磁性基板6a,6bが非磁性体であることか
ら、磁性層7a,7bの膜厚によって規制される。ま
た、磁気記録媒体との当り幅は、トラック幅Twとガー
ド材4との当たり幅方向の長さ寸法で規制されている。
コア半体5の突き合わせ面には、磁気ギャップgのデプ
ス方向の長さ寸法Dpを規制するとともに、コイルを巻
くための巻線窓8が形成されている。このコイルは、磁
気記録媒体への記録時において、電流が供給されること
によって、磁気ギャップgから漏れ磁束を発生させて信
号を記録し、再生時において、磁気記録媒体に記録され
ている信号に対応した信号を検出する機能を有する。
り、磁気ヘッドの効率を向上させる目的で、図4に示す
ように、磁性膜9と非磁性膜10を交互に積層すること
により構成される単位積層膜11を絶縁膜12を介して
積層させた積層磁性膜となっている。
が約366nmのFe−Ta−N−O合金膜を使用して
いる。また、非磁性膜10としては、膜厚が約10nm
のSiO2を使用している。また、絶縁膜12として
は、膜厚が約200nmのSiO2を使用している。単
位積層膜11は、磁性膜9が非磁性膜10を介して8層
積層されてなり、全体としての膜厚が約3μmとされて
いる。また、積層磁性膜は、単位積層膜9が絶縁層10
を介して5層積層されてなり、全体としての膜厚が約1
5.8μmとなるように積層されている。また、図4に
示した磁性層7は、積層された磁性膜9が突き合わされ
ることにより端部で相互に静磁的に結合しているが、金
属磁性膜を絶縁膜を介して積層された磁性膜が相互に静
磁的に結合していない積層構造であっても良い。
通じて詳細に説明する。
ず、図4に示すように、非磁性基板6の突き合わせ面と
なる端面とその反対側の端面を鏡面状となるように研磨
を施した後、図5に示すように、非磁性基板6の一側面
に、上述した磁性層7を成膜する。この磁性層7の形成
時においては、アルゴンガスと窒素ガスの混合雰囲気中
に酸素ガスを導入することにより行われる。このよう
に、成膜雰囲気内に酸素ガスを導入することにより、磁
性層7を構成する軟磁性薄膜9の酸素の含有量を制御す
る。すなわち、上述した軟磁性薄膜9の成膜時において
は、成膜雰囲気に対する酸素分圧を変化させることによ
り、軟磁性薄膜9に含有される酸素原子%を制御するこ
とができる。
えばDCマグネトロンスパッタ装置により、例えばFe
87Ta13の組成のターゲットを用い、電力密度を約5.
0W/cm2とし、導入ガスとして例えばArとN2とO
2からなる混合ガスを用いてスパッタガス圧を例えば約
0.5Paとし、電極間距離を約60mmとした条件下
で成膜している。また、非磁性膜10及び絶縁膜12
は、例えば高周波スパッタ装置により成膜してもよい。
また、この非磁性膜10及び絶縁膜12のSiO2は、
電力密度を約1.0W/cm2、アルゴンガス圧を約
0.4Pa、電極間距離を約60mmとした条件下にお
いて成膜を行ってもよい。
性層7が形成された非磁性基板6を図6中の矢印で示す
方向に力を印加することにより、重ね合わせ、非磁性基
板6と磁性層7とが相互に積層された基板ブロック12
を形成する。
A線、B−B線及びC−C線で示すように、磁性層7の
長軸方向に対して直交して切断し、図7に示すような磁
気コア半体ブロック13を作製する。そして、この磁気
コア半体ブロック13の磁気ギャップg形成面となる面
にコイルを巻回させるための巻線溝を磁気コア半体ブロ
ックの突き合わせ面の全体に亘って作製する。
わせ面を鏡面状となるように処理を施した後、図8中の
矢印で示すように、一対の磁気コア半体ブロック13の
突き合わせ面を突き合わせる。なお、このように一対の
磁気コア半体ブロック13を突き合わせる際には、それ
ぞれの磁性層7の位置合わせを行い、接合一体化する。
このように、一対の磁気コア半体ブロック13を突き合
わせることにより、図3中で示した磁気ギャップgを形
成し、磁気コアブロック14を作製する。
対の磁気コア半体ブロック13が突き合わされて作製さ
れた磁気コアブロック14に対して、記録再生時におい
て磁気記録媒体との当たりを確保するために図3中に示
した媒体摺動面3aとなる面に対して上面側から図9中
の一点斜線に至るまで円筒研磨を施した後、図9中のD
−D線及びE−E線で示す位置で切断する。このよう
に、切断することにより、図3に示した磁気ヘッド3を
完成させる。
ける磁気ヘッドの各部の接合においては、従来公知の接
合方法が適用可能であり、例えば、接合面にそれぞれ金
属膜を形成し、これらの金属膜を熱拡散により接合する
低温熱拡散接合方法や、ボンディングガラス等による接
合方法により接合させても良い。
10に示すようなヘッド出力特性を示す。なお、この図
10は、縦軸として磁気ヘッド3で記録した信号を磁気
ヘッド3で再生したときの磁気ヘッド3の出力を示し、
横軸として磁性層7を構成する磁性膜9に含有される酸
素原子%との関係を示した図である。
の組成をFeTaNOxとした場合に含有される酸素原
子%xとの関係は、酸素原子%xを0%,1%,2%,
3%,4%とした場合について測定している。また、こ
の磁気ヘッド3の出力と磁性膜9に含有される酸素原子
%xとの関係は、記録再生周波数を約1MHzとし、磁
気記録媒体として保磁力Hcが約1450Oeのメタル
テープを使用して測定している。
に含有される酸素原子%xとの関係においては、酸素原
子%xを0%としたFeTaNOxの磁性膜9を備える
磁気ヘッドにより、記録し再生した出力を0dBとして
いる。
る酸素原子%を1%〜約3.5%程度の範囲内におい
て、磁気ヘッド3の出力が酸素原子%が0%の場合と比
較して約1dB以上向上していることがわかる。特に、
含有される酸素原子%が約2%の磁性膜9を使用して構
成された磁気ヘッド3においては、約2dB程度出力が
増加していることがわかる。これは、図1において説明
したように、酸素原子%の含有量を1%〜約3.5%程
度とした軟磁性薄膜2は、酸素原子%の含有量が0%の
軟磁性薄膜2と比較して透磁率が高く、かつ、磁気的な
異方性が抑制されていることに起因するもの考えられ
る。すなわち、含有される酸素原子%が1%〜約3.5
%程度の磁性膜9を使用して構成された磁気ヘッド3
は、磁性膜9に含有される酸素原子%を1%〜約3.5
程度とすることにより、磁性膜9の透磁率を高くし、磁
気的に等方性とすることによりヘッド特性を向上させる
ことができる。
な製造工程によって製造され、従来のように、大量生産
する際においても磁性層7の磁気的な異方性を抑制する
ために、成膜中や成膜後の熱処置中において磁性層に対
して回転磁界を印加する必要がなく、製造工程を簡略化
することができる。
かる軟磁性薄膜は、組成がFeaMbNcOdで表され、酸
素の含有量を1〜3.5原子%としたので、複雑な製造
工程を行うことなく、従来の軟磁性薄膜と比較して透磁
率を高くすることができるととに、成膜時に生ずる磁気
的な異方性を抑制して等方性とされている。また、この
軟磁性薄膜は、従来のように、磁気的な等方性を得るた
めに、成膜中または熱処理中に回転磁界を印加するよう
な工程を経ることなく製造することができるので、製造
プロセスを簡略化できるとともに、製造コストを低減さ
せることができる。
がFeaMbNcOdで表され、酸素の含有量が1〜3.5
原子%とされた磁性層を有するので、複雑な製造工程を
経ることなく、従来の磁性層と比較して透磁率を高くす
ることができるとともに、磁性層の磁気的異方性を抑制
することができ、記録再生特性を向上させることができ
る。また、この磁気ヘッドは、従来のように、磁気的な
等方性を得るために、成膜中または熱処理中に回転磁界
を印加するような工程を経ることなく、磁性層を形成し
て製造することができるので、製造プロセスを簡略化で
きるとともに、製造コストを低減させることができる。
子%と、透磁率との関係を示す図である。
示す図である。
ある。
平面図である。
示す斜視図である。
ブロックを作製した状態の一例を示す斜視図である。
気コア半体ブロックの一例を示す斜視図である。
て接合し、磁気コアブロックを作製した状態の一例を示
す斜視図である。
断することにより磁気ヘッドを作製する状態の一例を示
し斜視図である。
示す図である。
ッド、4 第1の磁気コア半体、5 第2の磁気コア半
体、7 磁性層
Claims (3)
- 【請求項1】 組成がFeaMbNcOd(但し、MはT
a,Zr,Hf,Nb,Tiのうちの少なくとも一種で
あり、a,b,c,dは原子パーセントを示す。)であ
り、a,b,c,dがそれぞれ 71≦a≦85 6≦b≦15 9≦c≦16 1≦d≦3.5で表される範囲内であることを特徴とす
る軟磁性薄膜。 - 【請求項2】 一対の非磁性基板により磁性層を挟み込
んでなる磁気コア半体同士が上記磁性層の端面同士を対
向させて突き合わされ、これら磁性層が突き合わされた
界面に磁気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおい
て、 上記磁性層は、組成がFeaMbNcOd(但し、MはT
a,Zr,Hf,Nb,Tiのうちの少なくとも一種で
あり、a,b,c,dは原子パーセントを示す。)であ
り、a,b,c,dがそれぞれ71≦a≦85,6≦b
≦15,9≦c≦16,1≦d≦3.5で表される範囲
内であることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項3】 上記金属磁性層が、磁性体膜と非磁性体
膜とを交互に積層してなる単位積層磁性体膜を、絶縁体
膜を介して積層された積層磁性体膜からなることを特徴
とする請求項2記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11313797A JP3772458B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
US09/066,785 US6136431A (en) | 1997-04-30 | 1998-04-28 | Soft magnetic thin film and magnetic head |
KR1019980015483A KR19980081856A (ko) | 1997-04-30 | 1998-04-30 | 연자기 박막 및 자기 헤드 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11313797A JP3772458B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10303024A true JPH10303024A (ja) | 1998-11-13 |
JP3772458B2 JP3772458B2 (ja) | 2006-05-10 |
Family
ID=14604506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11313797A Expired - Fee Related JP3772458B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6136431A (ja) |
JP (1) | JP3772458B2 (ja) |
KR (1) | KR19980081856A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7438946B2 (en) | 2002-09-13 | 2008-10-21 | Nec Tokin Corporation | Ferrite thin film, method of manufacturing the same and electromagnetic noise suppressor using the same |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002352990A1 (en) * | 2002-06-05 | 2004-02-02 | Seagate Technology Llc | Protective overcoatings |
FR2873849A1 (fr) * | 2004-07-27 | 2006-02-03 | St Microelectronics Sa | Procede d'obtention d'un film mince magnetique doux, a forte aimantation et isolant, film et circuit integre correspondants |
JP2006202354A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Shinka Jitsugyo Kk | 表面形成方法及び装置、磁気ヘッド及びその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2586367B2 (ja) * | 1992-04-15 | 1997-02-26 | 日本電気株式会社 | 軟磁性材料とその製造方法および磁気ヘッド |
US5538802A (en) * | 1992-09-18 | 1996-07-23 | Kao Corporation | Magnetic recording medium and process for producing the same |
JP3291099B2 (ja) * | 1993-03-05 | 2002-06-10 | アルプス電気株式会社 | 軟磁性合金および平面型磁気素子 |
JPH0785401A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-31 | Sony Corp | 磁気記録方式 |
US5837392A (en) * | 1995-11-30 | 1998-11-17 | Sony Corporation | Soft magnetic thin film and thin film magnetic head using same |
JPH0917632A (ja) * | 1995-06-28 | 1997-01-17 | Sony Corp | 軟磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド |
JPH09212846A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-08-15 | Kao Corp | 磁気記録媒体 |
-
1997
- 1997-04-30 JP JP11313797A patent/JP3772458B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-04-28 US US09/066,785 patent/US6136431A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-04-30 KR KR1019980015483A patent/KR19980081856A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7438946B2 (en) | 2002-09-13 | 2008-10-21 | Nec Tokin Corporation | Ferrite thin film, method of manufacturing the same and electromagnetic noise suppressor using the same |
US7648774B2 (en) | 2002-09-13 | 2010-01-19 | Nec Tokin Corporation | Ferrite thin film, method of manufacturing the same and electromagnetic noise suppressor using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6136431A (en) | 2000-10-24 |
KR19980081856A (ko) | 1998-11-25 |
JP3772458B2 (ja) | 2006-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0546010B2 (ja) | ||
JP3772458B2 (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPS6220607B2 (ja) | ||
JPH113506A (ja) | 磁気ヘッド | |
JP2933638B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JP3022206B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
KR100200861B1 (ko) | 기록 재생용 자기헤드 및 그 제조방법 | |
JPH0156445B2 (ja) | ||
JP2002304707A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法およびそれらを用いた磁気記録再生装置 | |
JPH0765316A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPS60185214A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPS60243810A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH0869609A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPH08263806A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPS62279508A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH07282414A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JP2001052303A (ja) | 磁気ヘッド | |
JP2004334970A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JPH0346108A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH06111230A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPS59160811A (ja) | 磁気ヘツド | |
JPH07225907A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JP2000306207A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法及びこれを用いた磁気記録再生装置 | |
JP2000149213A (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
JPH01303613A (ja) | 磁気ヘッド |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050719 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050920 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060206 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |