JPH10298017A

JPH10298017A - カビ取り剤組成物

Info

Publication number: JPH10298017A
Application number: JP9125084A
Authority: JP
Inventors: Takashi Nishino; 隆司西野; Nobuyuki Yamamoto; 信之山本; Minoru Kishi; 実岸; Junji Ono; 淳二小野
Original assignee: Lion Corp
Current assignee: Lion Corp
Priority date: 1997-04-28
Filing date: 1997-04-28
Publication date: 1998-11-10

Abstract

(57)【要約】【課題】使用時に有害なガスの発生がなく、しかも刺
激臭が無く、カビ取り剤として単独で用いて十分にカビ
の除去に適したカビ取り剤組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）ペルオキシ化合物、（Ｂ）金属錯
体及び（Ｃ）アルカリ性物質を含有し、しかも該金属錯
体が下記一般式（１）で表されるものとする。［ＬｎＭｍＤｐ］^ZＥｑ（１）［式中、ＭはII〜IV価の遷移金属。ｎは１〜８、ｍは１
〜４の整数。Ｄは配位種又は架橋種。ｐは０〜８の整
数。Ｅは対イオンで、錯体の電荷ｚに依存する。ｑはｚ
／（Ｅの電荷）。Ｌは、特定のシッフベース構造を有す
るリガンド。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り用組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】住居の中の浴室、浴槽、トイレ、流し台
等の特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビに起因
する有機物や不溶性の無機物によるものが多い。そし
て、これらの汚れを、界面活性剤を主成分とする通常の
洗浄剤により除去することは困難である。そこで、従来
から、これらのカビなどによる汚れを除去するには塩素
系又は酸素系漂白剤を主成分とする組成物をカビ取り剤
として用い、その組成物が有する漂白効果によりカビの
色を目立たなくするという方法が採られてきた。

【０００３】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするカビ取り剤は、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能の点では優れているものの、目や
皮膚を痛める危険性が大きいので、使用する際には十分
に注意すると共に換気された状態で行うことに留意しな
ければならず、時として誤って酸性の洗浄剤と併用した
場合には、有害な塩素ガスを発生し、使用者が危険にさ
れされる等の問題点を有している。

【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするカビ取り剤では、使用に際し塩素ガス
が発生するという取り扱い上の危険性はないが、過酸化
水素を単独で用いる場合には十分な漂白効果によるカビ
色素の退色効果を得ることができないことが分かった。
そのために有機過酸系漂白活性化剤などの各種の漂白活
性化剤を併用することが提案されている（例えば、特開
平２−２２５６００号公報、特開平２−１９６８９６号
公報、特開昭６２−４７９４号公報）。

【０００５】確かに、これら有機過酸系漂白活性化剤を
併用すると、カビ色素に対する漂白効果を若干向上させ
ることができるが、カビ取り剤の本来の目的であるカビ
本来の除去という点に関しては依然不十分であるため
に、しばらくすると再びカビ汚れが付着しやすいという
問題点を有している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、酸素
系成分により構成されるカビ取り剤であって、使用時に
有害なガスの発生がなく、また、刺激臭が無く、カビ取
り剤のみを単独で用いた場合であっても十分にカビの除
去に適したものであるカビ取り剤組成物を提供すること
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、特
定のシッフベース構造を有するリガンドを含む金属錯体
の組み合わせからなるカビ取り剤組成物を用いることに
より、前記課題を解決し得ることを見出し、この知見に
基づいて本発明を完成するに至った。

【０００８】すなわち、本発明によれば、（Ａ）ペルオ
キシ化合物、（Ｂ）金属錯体及び（Ｃ）アルカリ性物質
を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式（１）で表さ
れる化合物であることを特徴とするカビ取り剤組成物が
提供される。

【化１】［ＬｎＭｍＤｐ］^ZＥｑ（１）［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜４の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは、シッフベース構造を有するリガ
ンドを表し、その構造は、下記一般式（２）乃至（５）
のいずれかで表される。

【化２】

【化３】

【化４】

【化５】（式中、Ｒは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Ｙは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Ｘは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。）］

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明のカビ取り剤組成物は、
（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）特定のシッフベース
構造を有するリガンドを含む金属錯体と、（Ｃ）アルカ
リ性物質とを含有することを特徴とする。

【００１０】本発明において、（Ａ）成分として用いる
ペルオキシ化合物としては、過酸化水素、過酸化水素を
遊離する化合物、系中で過酸化水素を発生する化合物、
ペルオキシ酸及びその塩、ペルオキシ酸前駆体である物
質、並びにこれらの混合物が挙げられる。

【００１１】過酸化水素を遊離したり、発生する化合物
としては、アルカリ金属過酸化物、過酸化尿素のような
有機過酸化物、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過
リン酸塩及び過硫酸塩などの無機過酸化物が挙げられ
る。これらの化合物を２種以上混合してもよい。これら
の中でも特に好ましいのは過酸化水素、過炭酸ナトリウ
ム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫酸カリウムである。

【００１２】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体は、過酸化水素及び過酸化水素を遊離す
る化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的なペルオキシ酸前駆体には、ア
シルフェノールスルホネート、アシルアルキルフェノー
ルスルホネート、アシルフェノールカルボキシレート、
アシル化クエン酸エステル、アシルアルキルフェノール
カルボキシレート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミ
ンを有するアルコールとのエステル等のエステル類，ナ
トリウム−４ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、
ナトリウム−１−メチル−２ベンゾイルオキシベンゼン
−４−スルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベン
ゼンカルボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベ
ンゼンカルボキシレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウムメトサルフ
ェート等が挙げられる。

【００１３】また、アシルアミド類としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミン、第４級
アンモニウム置換ペルオキシ前駆体としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ−トリメチルアンモニウムトルイルオキシベンゼンス
ルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウ
ム）エチル−４−スルホフェニルカーボネート等が挙げ
られる。

【００１４】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。この範囲
を超えて用いても、量を多く用いたことによる効果は得
られず、経済的でなく、逆にこの範囲未満の場合にはカ
ビ取りの効果を十分に発揮できないこととなる。

【００１５】本発明において、（Ｂ）成分として用いる
金属錯体としては、特定のシッフベース構造を有するリ
ガンドを含むものが用いられる。この金属錯体は下記一
般式（１）で表される。

【化１】［ＬｎＭｍＤｐ］^ZＥｑ（１）［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、正、０若しくは負であり得る錯体の
電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅの電荷）で
ある。Ｌは特定のシッフベース構造を有するリガンドで
ある。］

【００１６】特定のシッフベース構造を有するリガンド
は、下記一般式（２）乃至（５）で表される。

【化２】

【化３】

【化４】

【化５】（式中、Ｒは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Ｙは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Ｘは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。）

【００１７】更に詳しくは、金属錯体の中心金属は、
Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍ
ｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ばれるものであ
り、下記一般式（１）で表される。

【化１】［ＬｎＭｍＤｐ］^ZＥｑ（１）［式中、Ｍは上記金属において、II、III若しくはIV価
の酸化状態の金属、又はその混合物である。Ｄは配位種
又は架橋種であり、具体的にはアセチルアセトナート
基、Ｎ（Ｒ₂）₃基（Ｒ₂は水素原子、置換若しくは未置
換のアルキル基又はアリール基）、芳香族窒素化合物、
フェノール性水酸基を有する化合物、Ｈ₂Ｏ、ＯＨ^-、Ｏ
^2-、Ｓ^2-、＞Ｓ＝Ｏ、Ｎ^3-、ＨＯＯ^-、Ｏ₂ ^2-、Ｏ₂ ^-、Ｃ
ｌ^-、ＳＣＮ^-、シュウ酸基、Ｒ₁ＣＯＯ^-基（Ｒ₁は水素
原子、置換若しくは未置換のアルキル基又はアリール
基）、又はこれらの組み合わせである。ｐは０〜８、好
ましくは０〜４の整数を示す。Ｅは対イオンであって、
錯体の電荷ｚに依存するものである。ｚは錯体の電荷で
あり、正の整数、０又は負の整数を示し、ｚが正の時は
Ｅはアニオンであり、例えばＣｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-、ＮＯ₃
^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＮＣＳ^-、ＰＦ₆ ^-、ＲＳＯ₄ ^-、ＯＡｃ^-、
ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、ＲＳＯ₃ ^-等であり、ｚが負の時はＥはカ
チオンであり、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属
又はアンモニウムカチオン等を示す。ｑはｚ／（Ｅの電
荷）である。Ｌは前述したシッフベース構造を有するリ
ガンドである。］

【００１８】本発明のシッフベース構造を有するリガン
ドは、次の一般式（２）乃至（５）で表される。

【化２】

【化３】

【化４】

【化５】（式中、Ｒは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル又はアリール基であり、Ｙは場合によっては
任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Ｘは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。水酸基
は金属に配位するために解離しいてもよく、また、シッ
フべースのＣ＝Ｎ結合を水素還元してもよい。）

【００１９】このリガンドの最も簡単な形態は次の通り
である。

【化６】

【化７】

【化８】

【化９】

【００２０】このシッフベース構造を有するリガントを
有する金属錯体の最も代表的な錯体としては、ＰＳＢ、
ＧＰＥＧ、ＨＰＤＥＤに、塩化マンガン、塩化コバル
ト、硝酸コバルト等を添加した系等を挙げることができ
る。しかしながら、金属錯体の金属と配位子の数多くの
組み合わせが考えられるので、これらの例示された金属
錯体に限定されるものではない。

【００２１】これらリガンドを有する金属錯体は単核で
も多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化状態
で、２核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体中で
配位種及び／又は架橋種が金属中心間の架橋を形成して
いる。

【００２２】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。

【００２３】本発明では、（Ｃ）成分としてアルカリ性
物質が用いられる。アルカリ性物質は、カビ取り剤組成
物をアルカリ性に保持する作用をする。本発明のカビ取
り剤組成物のｐＨは特別な範囲に限定されるものではな
いが、７〜１２、好ましくは８〜１１に調整されること
が好ましい。アルカリ性物質としては、アルカリ金属や
アンモニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等が挙げ
られる。これらは水に溶解してアルカリ性を呈するもの
であればよい。これらの中で取り扱いが便利で、ｐＨ調
整が簡単であるという点から、炭酸ナトリウム又は炭酸
カリウムが好ましい。中でも特に好ましいのは炭酸カリ
ウムである。アルカリ性物質の含有量は、カビ取り剤組
成物浴中の０．１〜２０重量％、好ましくは１〜１０重
量％である。

【００２４】本発明のカビ取り剤組成物には、付着滞留
性、保存安定性、使用性などを向上させる目的で、所望
により界面活性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコ
ール類、増粘剤、色素、酵素などを適宜配合することが
出来る。

【００２５】この場合、界面活性剤としては、例えばア
ルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、α−スルホ脂肪
酸アルコールエステル塩、スルホコハク酸モノエステル
塩等の陰イオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアル
キルエーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、アルキルグ
リコシド、アルキルグリコシド脂肪酸エステル、等の非
イオン性界面活性剤；長鎖モノ、ジアルキル四級アンモ
ニウム塩、アミンオキシド等の陽イオン性界面活性剤；
カルボシキベタイン、スルホベタイン等の両性界面活性
剤などが挙げられる。

【００２６】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ベルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。すなわち、ペルオキシ化合物とし
て、過酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分と
して過酸化水素溶液を、（Ｂ）成分として金属錯体等の
混合物を用意し、これを使用前に混合して使用すればよ
い。また、ペルオキシ化合物として、過炭酸ナトリウム
等の粉体を用いる場合は、金属錯体等と混合した成分を
用意し、これを使用前に水と混合して使用すればよい。

【００２７】

【実施例】次に本発明の実施例を示す。本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。

【００２８】本発明のカビ取り剤組成物の効果を確認す
るために、（１）カビの除去効果の確認試験、及び
（２）使用時の刺激臭の感知試験を行った。その内容は
次の通りである。

【００２９】（１）カビ除去効果の確認試験黒かび（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍｃｌａｄｏｓｐｏ
ｒｉｏｉｄｅｓ）を培養し、被着させて調整した素焼き
タイル表面（２．５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量
（０．５ｍＬ）滴下して、１５分間放置した後、水洗を
行い、３０℃で２時間乾燥させる。このタイルに、フー
ドスタンプ（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着さ
せ、３０℃による経時（２日経過後）変化を観察し、以
下の評価点法による評価基準で判定する。

【００３０】

【００３１】（２）使用時の刺激臭の感知試験５．５ｍ³の密閉された浴室の側面全体に、各試料２０
０ｍＬをスプレー容器により満遍なく噴霧し、３分間そ
のままの状態で放置した時の刺激臭の程度を、以下の評
価点法による評価基準で判定する。パネラーは５人であ
る。

【００３２】

【００３３】実施例１〜４、比較例１〜３濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表１に示す組成
（数字は前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合
物とシッフベース構造を有するリガンドを有する金属錯
体を混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の感知試験を
行った。その結果を表１に示す。

【００３４】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｃは合成品である。過酸化水素（三菱ガス化学株式会社製）ＰＣ：過炭酸ナトリウム（三菱ガス化学社製）ＴＡＥＤ：N,N,N',N'-テトラアセチルエチレンジアミン
（ヘキスト社製）ＴＰＤＣ：2-(4-メトキシカルボニルベンゾイルオキシ)
-N,N,N-トリメチルエタンアミニウムメトサルフェートＡ：ＰＳＢＢ：ＧＰＥＧＣ：ＨＰＤＥＤ塩化マンガン：試薬炭酸カリウム：旭硝子工業社製炭酸ナトリウム：旭硝子工業社製

【００３５】

【表１】（注）ペルオキシ化合物と金属錯体の代わりに、次亜塩
素酸ナトリウム２．５％水溶液を用いた。

【００３６】実施例５〜１１表２に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と金属錯体等を水に混合し、カビの除去
効果、及び刺激臭の感知試験を行った。その結果を表２
に示す。

【００３７】

【表２】

【００３８】

【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、高いカビ
取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下さ
せると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが
発生する危険性がないので、カビ取り剤として好適であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小野淳二東京都墨田区本所一丁目３番７号ライオン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）ペルオキシ化合物、（Ｂ）金属錯
体及び（Ｃ）アルカリ性物質を含有し、しかも該金属錯
体が下記一般式（１）で表される化合物であることを特
徴とするカビ取り剤組成物。【化１】［ＬｎＭｍＤｐ］^ZＥｑ（１）［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは、シッフベース構造を有するリガ
ンドを表し、その構造は、下記一般式（２）乃至（５）
のいずれかで表される。【化２】【化３】【化４】【化５】（式中、Ｒは水素原子、場合によっては任意に置換され
たアルキル基又はアリール基であり、Ｙは場合によって
は任意に置換されたメチレン鎖で構成される架橋種であ
り、Ｘは水素原子、場合によっては置換されたアルキル
基、アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、
四級アンモニウム基、ピリジニウム基、スルホン酸基、
チエニル基、カルボン酸基、又は水酸基を表す。）］