JP2000169306A - カビ取り剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭のな
いカビ取り剤組成物を提供すること、更にはスプレー容
器等で壁面に本組成物を噴霧したときに、非常に優れた
カビの除去性能を示し、しかも刺激臭のないカビ取り剤
組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）イミノ化合物、４級イミニウム化
合物、オキサゾリジン化合物及び４級オキサジリジニウ
ム化合物の少なくとも１種を含有する組成物とし、好ま
しくは更に（Ｂ）ペルオキシ化合物と（Ｃ）アルカリ性
物質を含有するものとする。特に、スプレー容器等を用
いて壁面等に噴霧する場合に有用なものとしては、上記
組成物に更に（Ｄ）界面活性剤を配合した組成物とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、更には壁面にお
ける付着滞留性の良好な、カビ取り用として好適な酸素
系のカビ取り用組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ない。そのため、これらの汚れを除去
するには、従来塩素系又は酸素系漂白剤を主成分とする
ものを用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなく
するという方法が採られてきた。

【０００３】しかし、次亜塩素酸ソーダのような塩素系
漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂白力とカビ
の除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛める危険
性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には十分な換気
に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と誤って併
用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠点を有し
ている。

【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
脱色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号、特開平２−１９６８９６号、特開昭６２−４
７９４号各公報）。

【０００５】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
化剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向
上するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然
不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいと
いう欠点があり、特にカビ取り剤組成物をスプレー容器
等で壁面に噴霧する場合は、付着滞留性に劣ることから
カビ取り除去効果が劣化してしまうという欠点がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供するこ
と、更にスプレー容器等で壁面に組成物を噴霧したとき
に、非常に優れたカビの除去性能を示す組成物を提供す
ることを、その目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために、更にはスプレー容器等で壁面にカビ取り剤組成
物を噴霧したときに、強力なカビ除去力を示し、しかも
刺激臭のない組成物を開発するために、鋭意研究を重ね
た結果、特定のイミノ化合物等を使用することによっ
て、より好ましくは特定のイミノ化合物等と、ペルオキ
シ化合物と、アルカリ性物質とを組み合わせることによ
って、特に壁面に噴霧する場合には、更に界面活性剤を
組み合わせることによって、前記目的を達成し得ること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。

【０００８】即ち、本発明によれば、第一に、（Ａ）イ
ミノ化合物、４級イミニウム化合物、オキサゾリジン化
合物及び４級オキサジリジニウム化合物の少なくとも１
種を含有することを特徴とするカビ取り剤組成物が提供
される。第二に、更に、（Ｂ）ペルオキシ化合物と
（Ｃ）アルカリ性物質を含有することを特徴とする上記
第一に記載したカビ取り剤組成物が提供される。第三
に、更に（Ｄ）界面活性剤を含有することを特徴とする
上記第一又は第二に記載したカビ取り剤組成物が提供さ
れる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明のカビ取り剤組成物は、（Ａ）イミノ化合
物、４級イミニウム化合物、オキサゾリジン化合物及び
４級オキサジリジニウム化合物の少なくとも１種を、場
合により更に（Ｂ）ペルオキシ化合物と（Ｃ）アルカリ
性物質を、場合により更に（Ｄ）界面活性剤を含有する
ことを特徴とする。

【００１０】本発明で用いられるイミノ化合物として
は、下記一般式（１）〜（５）で表される化合物が挙げ
られる。

【化１】 [式中、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ、水素原子又はフェニル
基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロアルキル
基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基とし
て、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、スルホン酸基、
アルキル基を１つ又はそれ以上有していてもよい）を表
し、Ｒ³はフェニル基又はアリール基、複素環、アルキ
ル基、シクロアルキル基（それぞれの基は未置換のまま
か、又は置換基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、アルコキシ基、フェニル基、アリール基、カルボ
ニル基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、複素
環、アルキル基を1つ又はそれ以上有していてもよい）
を表す。]

【００１１】

【化２】 [式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷はそれぞれ、水素原子又は
フェニル基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロ
アルキル基（それぞれの基は未置換のままか、又は置換
基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコ
キシ基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カル
ボキシル基、カルボアルコキシ基、複素環、スルホン酸
基、アルキル基を１つ又はそれ以上有していてもよい）
を表す。]

【００１２】

【化３】 [式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹はそれぞれ、水素原子又はフェニル
基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロアルキル
基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基とし
て、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、スルホン酸基、
アルキル基を１つ又はそれ以上有していてもよい）を表
し、Ｒ¹⁰はフェニル基又はアリール基、複素環、アルキ
ル基、シクロアルキル基（それぞれの基は未置換のまま
か、又は置換基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、アルコキシ基、フェニル基、アリール基、カルボ
ニル基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、複素
環、アルキル基を1つ又はそれ以上有していてもよい）
を表す。]

【００１３】

【化４】 [式中、Ｒ¹¹は、水素原子又はフェニル基、アリール
基、複素環、アルキル基、シクロアルキル基、（それぞ
れの基は未置換のままか、又は置換基として、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル
基、アリール基、カルボニル基、カルボキシル基、カル
ボアルコキシ基、複素環、アルキル基を１つ又はそれ以
上有していてもよい）を表し、Ｒ¹²は水素原子、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル
基、アリール基、カルボニル基、カルボキシル基、カル
ボアルコキシ基、複素環、アルキル基を表す。]

【００１４】

【化５】 [式中、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴はそれぞれ、水素原子又はフェニル
基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロアルキル
基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基とし
て、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を１
つ又はそれ以上有していてもよい）を表し、Ｒ¹⁵はフェ
ニル基又はアリール基、複素環、アルキル基、シクロア
ルキル基（それぞれの基は未置換のままか、又は置換と
して、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を1
つ又はそれ以上有していてもよい）を表す。]

【００１５】これらのイミノ化合物の含有量は特に限定
しないが、カビ取り剤組成物中において、０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％である。

【００１６】本発明で用いられる４級イミニウム化合物
としては、下記一般式(６)及び(７)で表される化合物が
挙げられる。

【化６】 [式中、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴はそれぞれ、水素原子
又はフェニル基、アリール基、複素環、アルキル基、シ
クロアルキル基、（それぞれの基は未置換のままか、又
は置換基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
アルコキシ基、フェニル基、アリール基、カルボニル
基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、スルホン酸
基、複素環、アルキル基を１つ又はそれ以上有していて
もよい）を表す。]

【００１７】

【化７】 [式中、Ｒ²⁵は、水素原子又はフェニル基、アリール
基、複素環、アルキル基、シクロアルキル基、（それぞ
れの基は未置換のままか、又は置換基として、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル
基、アリール基、カルボニル基、カルボキシル基、カル
ボアルコキシ基、スルホン酸基、複素環、アルキル基を
１つ又はそれ以上有していてもよい）を表し、Ｒ²⁶、Ｒ
²⁷は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、
カルボキシル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキ
ル基を表す。]

【００１８】これらの４級イミニウム化合物の含有量は
特に限定しないが、カビ取り剤組成物中において、０．
０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量％であ
る。

【００１９】本発明で用いられるオキサゾリジン化合物
としては、下記一般式（８）〜（１０）で表される化合
物が挙げられる。

【化８】 [式中、Ｒ³¹、Ｒ³²はそれぞれ、水素原子又はフェニル
基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロアルキル
基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基とし
て、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を１
つ又はそれ以上有していてもよい）を表し、Ｒ³³はフェ
ニル基又はアリール基、複素環、アルキル基、シクロア
ルキル基（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基
として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキ
シ基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボ
キシル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を
１つ又はそれ以上有していてもよい）を表す。]

【００２０】

【化９】 [式中、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶はそれぞれ、水素原子又はフ
ェニル基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロア
ルキル基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換
基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコ
キシ基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カル
ボキシル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基
を１つ又はそれ以上有していてもよい）を表す。]

【００２１】

【化１０】 [式中、Ｒ³⁷は水素原子又はフェニル基、アリール基、
複素環、アルキル基、シクロアルキル基、（それぞれの
基は未置換のままか、又は置換基として、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、フェニル基、
アリール基、カルボニル基、カルボキシル基、カルボア
ルコキシ基、複素環、アルキル基を１つ又はそれ以上有
していてもよい）を表し、Ｒ³⁸は水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、カルボニル
基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、フェニル
基、又はアリール基、複素環、アルキル基、シクロアル
キル基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基
として、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カル
ボキシル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基
を１つ又はそれ以上有していてもよい）を表す。]

【００２２】これらのオキサゾリジン化合物の含有量は
特に限定しないが、カビ取り剤組成物中において、０．
００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％で
ある。

【００２３】本発明で用いられる４級オキサジリジニウ
ム化合物としては、下記一般式（１１）及び（１２）で
表される化合物が挙げられる。

【化１１】 [式中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴はそれぞれ、水素原子
又はフェニル基、アリール基、複素環、アルキル基、シ
クロアルキル基、（それぞれの基は未置換のままか、又
は置換基として、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、
アルコキシ基、フェニル基、アリール基、カルボニル
基、カルボキシル基、カルボアルコキシ基、複素環、ア
ルキル基を１つ又はそれ以上有していてもよい）を表
す。]

【００２４】

【化１２】 [式中、Ｒ⁴⁵、Ｒ⁴⁶はそれぞれ、水素原子又はフェニル
基、アリール基、複素環、アルキル基、シクロアルキル
基、（それぞれの基は未置換のままか、又は置換基とし
て、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、オキソ基、カルボキシル
基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を１つ又
はそれ以上有していてもよい）を表し、Ｒ⁴⁷は水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ
基、フェニル基、アリール基、カルボニル基、カルボキ
シル基、カルボアルコキシ基、複素環、アルキル基を表
す。]

【００２５】これらの４級オキサジリジニウム化合物の
含有量は特に限定しないが、カビ取り剤組成物中におい
て、０．０１〜１０重量％、好ましくは０．１〜５重量
％である。

【００２６】本発明のカビ取り剤組成物は、上記の
（Ａ）イミノ化合物、４級イミニウム化合物、オキサゾ
リジン化合物及び４級オキサジリジニウム化合物の少な
くとも１種とともに、（Ｂ）ペルオキシ化合物と（Ｃ）
アルカリ性物質を併用することにより、より強力なカビ
除去力を有するものとなる。

【００２７】この場合の（Ｂ）成分として用いるペルオ
キシ化合物には、過酸化水素、過酸化水素遊離化合物、
過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及びその塩、ペ
ルオキシ酸前駆体システム、無機過酸化物、並びにこれ
らの混合物がある。

【００２８】過酸化水素源としては、アルカリ金属過酸
化物、過酸化尿素のような有機過酸化物、あるいはアル
カリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン酸塩及び過硫酸
塩等の無機過酸化物が挙げられる。これらの化合物を２
種以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは、
過酸化水素、過炭酸ソーダ、過ホウ酸ソーダ及び過硫酸
カリウムである。

【００２９】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。ペルオキシ酸
前駆体としては、過酸化水素及び過酸化水素遊離化合物
と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するものが挙げ
られる。具体的には、アシロキシベンゼン、アシロキシ
ベンゼンスルホン酸塩、アシロキシ安息香酸又はその
塩、アシル化クエン酸エステル、芳香族二価カルボン酸
と四級化アミノ基を有するアルコールとのエステル、特
に好ましいのはアセトキシベンゼン、ベンゾイルオキシ
ベンゼン、４−アセトキシベンゼンスルホン酸ソーダ、
４−ベンゾイルオキシベンゼンスルホン酸ソーダ、４−
オクタノイルオキシベンゼンスルホン酸ソーダ、４−ノ
ナノイルオキシベンゼンスルホン酸ソーダ、４−デカノ
イルオキシベンゼンスルホン酸ソーダ、４−アセトキシ
安息香酸、４−ベンゾイルオキシ安息香酸、４−オクタ
ノイルオキシ安息香酸、４−ノナノイルオキシ安息香
酸、４−デカノイルオキシ安息香酸、テレフタル酸ジコ
リンエステル等が挙げられる。

【００３０】また、アシルイミド類としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミン、Ｎ−ア
セチルカプロラクタムが挙げられる。

【００３１】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物中において、１〜３０
重量％、好ましくは５〜２０重量％である。

【００３２】本発明において、（Ｃ）成分として用いる
アルカリ性物質は、アルカリ金属やアンモニウムの水酸
化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解してアルカリ性
を呈するものであればよいが、取り扱いやすくｐＨの調
整が容易であるという点で炭酸ソーダ又は炭酸カリウム
が好ましい。特に好ましいのは炭酸カリウムである。

【００３３】これらアルカリ性物質の含有量は特に限定
されないが、カビ取り剤組成物中において、０．１〜２
０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。

【００３４】本発明のカビ取り剤組成物には、更に界面
活性剤を配合すると、壁面における付着滞留性が向上す
るので、非常に好ましい。即ち、スプレー容器等で壁面
にカビ取り剤組成物を噴霧したときに、該組成物中に界
面活性剤が含まれていると、壁面における付着滞留性が
向上し、強力なカビ除去力を発揮し得るものとなる。

【００３５】この場合、（Ｄ）成分として用いる界面活
性剤は、一般に使用される界面活性剤を用いることが出
来る。この界面活性剤は、例えばアルキル硫酸塩、アル
キルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル硫酸塩、α−スルホ脂肪酸アルコールエステ
ル塩、スルホコハク酸モノエステル塩等の陰イオン性界
面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ソル
ビタン脂肪酸エステル、アルキルグリコシド、アルキル
グリコシド脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステ
ル、アルキル(ポリ)グリセリルエーテル等の非イオン性
界面活性剤、長鎖モノ、ジアルキル四級アンモニウム
塩、アミンオキシド等の陽イオン性界面活性剤、カルボ
シキベタイン、スルホベタイン等の両性界面活性剤等が
挙げられる。

【００３６】これらの界面活性剤は、単独でもあるいは
２種類以上組み合わせてもよい。これらの界面活性剤の
含有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物中にお
いて、０．１〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％で
ある。

【００３７】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望によりビルダ
ー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘剤、香料、色
素、酵素などを適宜配合することが出来る。

【００３８】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物、界面活性
剤の性状により使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化
合物として過酸化水素等の溶液を、場合により界面活性
剤として水溶液を用いる場合は、（ａ）成分として過酸
化水素と界面活性剤の混合溶液を、（ｂ）成分としてア
ルカリ剤と酸素転移剤と界面活性剤との混合物を用意
し、これを使用前に混合してスプレー容器等を用いて噴
霧すればよい。

【００３９】また、ペルオキシ化合物として過炭酸ソー
ダ等の粉体を、場合により界面活性剤として粉粒状の物
質を用いる場合は、アルカリ剤と酸素転移剤とを混合し
た成分を用意し、これを使用前に水と混合してスプレー
容器等を用いて噴霧すればよい。

【００４０】

【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。

【００４１】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｐは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学社製 ＰＣ；過炭酸ソーダ；三菱ガス化学社製 ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト社製 ＴＰＤＣ：テレフタル酸ジコリンエステル ジメトサル
フェート：自社製 Ａ：Ｎ−（４−カルボキシベンジリデン）−４−クロロ
ベンゼンスルホンアミド Ｂ：Ｎ−ベンジリデン−ジメチルフォスファミド Ｃ：Ｎ−ベンジリデン−２−カルボキシベンズアミド Ｄ：３，４−ジメチル−１，２，５チアジアゾール−
１，１ジオキシド Ｅ：Ｎ−（４−カルボキシベンジリデン）−４−トリル
オキシスルホンアミド Ｆ：Ｎ−（４−メチルベンジリデン）−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルイミニウム テトラフルオロボレート Ｇ：Ｎ−メチル−２，３，４，５−テトラヒドロピリジ
ウム クロリド Ｈ：Ｎ−メチル−３，４−ジヒドロイソキノリニウム
ｐ−トシレート Ｉ：３−（３，４−ジヒドロイソキノリニウム）プロパ
ンスルホナート Ｊ：３−（４−カルボキシフェニル）−２−（４−クロ
ロベンゼンスルホニル−オキサジリジン Ｋ：２−ベンゼンスルホニル−３−（３−ピリジル）−
オキサジリジン Ｌ：３−フェニル−２−（４−カルボキシベンゾイル）
−オキサジリジン Ｍ：３−ブチル−１，１−ジオキシ−ベンズイソチアゾ
ール−オキシド Ｎ：３−フェニル−２，２，３−トリメチルオキサジリ
ジニウム テトラフルオロボレート Ｏ：１−メチル−１−アザニア−２−オキサ−ビシクロ
[４．１．０^1.3]ヘプタン クロリド Ｐ：１−メチル−１−アザニア−２−オキサ−４，５−
ベンズビシクロ[４．１．０^1.3]ヘプタン ｐ−トシレ
ート 炭酸カリウム：旭硝子社製 炭酸ソーダ：旭硝子社製 ＮＥＳ：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルサ
ルフェート（ｐ＝９）；自社製 ＬＡＳ：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；
自社製 ＮＲＥ：ポリオキシエチレンラウリルエーテル（ｐ＝
９）；自社製

【００４２】また、各例におけるカビの除去効果、刺激
臭の無さ及び付着滞留性は、次のようにして測定した。

【００４３】（イ）カビの除去効果；黒カビ（Ｃｌａｄ
ｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）
を培養し、付着させて調整した素焼きタイル表面（２．
５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下
する（実施例１〜４５＆比較例１〜４）か、又は同じく
付着させて調整した素焼きタイルを垂直に立てた表面
（３×３ｃｍ）に、各試料をトリガー（吉野工業所社
製）より等量（０．５ｍＬ）噴霧して（実施例４６〜９
２＆比較例５〜６）、１５分間放置した後、水洗を行
い、３０℃で２時間乾燥した。このタイルに、フードス
タンプ（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着させ、３
０℃による経時（２日）変化を観察し、以下の評価基準
で判定した。

【００４４】評価基準； ５（点） ・・・・・コロニーの発生なし ４・・・・・・・・・コロニーの発生数１〜１０ ３・・・・・・・・・コロニーの発生数１０〜１００ ２・・・・・・・・・コロニーの発生数１００以上

【００４５】（ロ）刺激臭の無さ；５．５ｍ³の密閉さ
れた浴室の側面全体に、各試料２００ｍＬをトリガー容
器より満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で官能により判定し
た。尚、試験は５人で行った。

【００４６】評価基準； 刺激臭が全くしない ５（点） ・・・・・刺激臭が全くしない ４・・・・・・・・・刺激臭が微かにする ３・・・・・・・・・刺激臭がする ２・・・・・・・・・刺激臭がかなりする １・・・・・・・・・刺激臭が激しくする

【００４７】（ハ）付着滞留性；試料が定常状態で噴霧
されるように調整されたトリガー（吉野工業所社製）を
用いて、距離が２０ｃｍになる位置から、垂直に立てた
スプレーパネル（３０×３０ｃｍ）の中央部分に噴霧
し、１０秒後にパネルの重量を測定する。この試験を３
回行い、次式により付着滞留率を算出し、以下の評価基
準で判定した。

【数１】

【００４８】評価基準； 〇・・・・・総平均付着滞留率が９０％以上 △・・・・・総平均付着滞留率が５０％以上９０％未満 ×・・・・・総平均付着滞留率が５０％未満

【００４９】実施例１〜１７及び比較例１〜３ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表１及び２に示す
組成（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物
（ＴＡＥＤ）とイミノ化合物等及びアルカリ性物質を混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表１及び２に示す。

【００５０】

【表１】

【００５１】

【表２】

【００５２】実施例１８〜３１及び比較例４ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表３及び４に示す
組成（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物
（ＴＡＥＤ、ＴＰＤＣ）とイミノ化合物及びアルカリ性
物質を混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試
験を行った。その結果を表３及び４に示す。

【００５３】

【表３】

【００５４】

【表４】

【００５５】実施例３２〜４５ 表５及び６に示す組成（トータル水溶液に対する重量
％）のペルオキシ化合物とイミノ化合物等及びアルカリ
性物質を水に混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無
さの試験を行った。その結果を表５及び６に示す。

【００５６】

【表５】

【００５７】

【表６】

【００５８】表１〜表６の結果から、本発明の（Ａ）イ
ミノ化合物等と、（Ｂ）ペルオキシ化合物と、（Ｃ）ア
ルカリ性物質を含有するカビ取り剤組成物は、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭がないものであることが
分かる。

【００５９】実施例４６〜６１ 濃度５重量％の過酸化水素と３重量％のＮＥＳ混合水溶
液に、表７及び８に示す組成（前記水溶液に対する重量
％）のペルオキシ化合物（ＴＰＤＣ）とイミノ化合物等
及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及び付
着滞留性の試験を行った。また、界面活性剤（ＮＥＳ）
を配合せずに、濃度５重量％の過酸化水素溶液のみに、
表７及び８に示す組成（前記水溶液に対する重量％）の
ペルオキシ化合物（ＴＰＤＣ）とイミノ化合物等及びア
ルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及び付着滞留
性の試験を行った（実施例４７、４８、５１、５３、５
５、５６、５９及び６１）。その結果を表７及び８に示
す。

【００６０】

【表７】

【００６１】

【表８】

【００６２】実施例６２〜７６ 濃度５重量％の過酸化水素と表９及び１０に示す界面活
性剤の混合水溶液に、表９及び１０に示す組成（前記水
溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（ＴＡＥＤ、
ＴＰＤＣ）とイミノ化合物等及びアルカリ性物質を混合
し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試験を行った。
その結果を表９及び１０に示す。

【００６３】

【表９】

【００６４】

【表１０】

【００６５】実施例７７〜９２及び比較例５〜６ 表１１及び１２に示す組成（トータル水溶液に対する重
量％）のペルオキシ化合物とイミノ化合物等と界面活性
剤及びアルカリ性物質を水に混合し、カビの除去効果、
及び付着滞留性の試験を行った。また、界面活性剤（Ｌ
ＡＳ）を配合せずに、表１１及び１２に示す組成のペル
オキシ化合物とイミノ化合物等及びアルカリ性物質を水
に混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試験を行
った（実施例７８、８２、８６、及び９０）。その結果
を表１１及び１２に示す。

【００６６】

【表１１】

【００６７】

【表１２】

【００６８】表７〜表１２の結果から、本発明の前記
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分を含む組成物に更に
（Ｄ）界面活性剤を含有するカビ取り剤組成物は、スプ
レー容器等で壁面に該組成物を噴霧したときに付着滞留
性が向上し、非常に優れたカビ除去力を示すことが判
る。

【００６９】

【発明の効果】請求項１のカビ取り剤組成物は、高いカ
ビ取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下
させると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガス
が発生する危険性がないので、実用上極めて有用であ
る。

【００７０】請求項２のカビ取り剤組成物は、ペルシオ
キ化合物とアルカリ性物質を併用したことにより、カビ
取り除去能力がより向上するという効果が加わる。

【００７１】請求項３のカビ取り剤組成物は、スプレー
容器等を用いて壁面に噴霧した場合に、高いカビ取り除
去能力を有するので、カビの再繁殖を極力低下させる上
に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが発生する
危険性がないので、実用上極めて有用である。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ０１Ｎ 43/72 Ａ０１Ｎ 43/72 43/80 １０２ 43/80 １０２ 43/90 １０２ 43/90 １０２ 57/26 57/26 Ｄ 59/00 59/00 Ａ Ｂ (72)発明者 高橋 正利 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 野村 安雄 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 4H011 AA03 BA04 BA05 BA06 BB04 BB07 BB08 BB09 BB10 BB17 BB18 BC06 BC07 BC18 DA13 DE16

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）イミノ化合物、４級イミニウム化
   合物、オキサゾリジン化合物及び４級オキサジリジニウ
   ム化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする
   カビ取り剤組成物。
2. 【請求項２】 更に、（Ｂ）ペルオキシ化合物と（Ｃ）
   アルカリ性物質を含有することを特徴とする請求項1記
   載のカビ取り剤組成物。
3. 【請求項３】 更に（Ｄ）界面活性剤を含有することを
   特徴とする請求項１又は２記載のカビ取り剤組成物。