JPH11166196A - カビ取り剤組成物 - Google Patents
カビ取り剤組成物Info
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- JPH11166196A JPH11166196A JP35002697A JP35002697A JPH11166196A JP H11166196 A JPH11166196 A JP H11166196A JP 35002697 A JP35002697 A JP 35002697A JP 35002697 A JP35002697 A JP 35002697A JP H11166196 A JPH11166196 A JP H11166196A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用時に有害なガスの発生がなく、刺激臭が
無く、カビの除去及び長期にカビの発生防止をしうる組
成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）無機及び／又は有機過酸化物と、
（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表されるペルオキシ酸前駆体
と、（Ｃ）下記一般式（II）等で表される化合物の１種
または２種以上と、或いは更に金属錯体とを含有するこ
とを特徴とするカビ取り剤組成物。 【化１】 【化２】
無く、カビの除去及び長期にカビの発生防止をしうる組
成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）無機及び／又は有機過酸化物と、
（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で表されるペルオキシ酸前駆体
と、（Ｃ）下記一般式（II）等で表される化合物の１種
または２種以上と、或いは更に金属錯体とを含有するこ
とを特徴とするカビ取り剤組成物。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、カビを除去し、
しかもカビの発生を防止しうる優れた酸素系のカビ取り
用組成物に関する。
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、カビを除去し、
しかもカビの発生を防止しうる優れた酸素系のカビ取り
用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系または酸素系漂白剤を主成分とするもの
を用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくする
という方法が採られてきた。
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系または酸素系漂白剤を主成分とするもの
を用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくする
という方法が採られてきた。
【０００３】しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムのよ
うな塩素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を
痛める危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際に十
分な換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と
誤って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠
点を有している。
うな塩素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を
痛める危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際に十
分な換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と
誤って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠
点を有している。
【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号公報、特開平２−１９６８９６号公報、特開昭
６２−４７９４号公報）。
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号公報、特開平２−１９６８９６号公報、特開昭
６２−４７９４号公報）。
【０００５】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
化剤を使用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向
上するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然
不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいと
いう欠点を有している。
化剤を使用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向
上するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然
不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいと
いう欠点を有している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、使用時に有
害なガスの発生がなく、刺激臭が無く、カビ本来の除去
に適し、しかもカビの発生を長期に防止しうる組成物を
提供することを目的とする。
害なガスの発生がなく、刺激臭が無く、カビ本来の除去
に適し、しかもカビの発生を長期に防止しうる組成物を
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、（Ａ）無機及び／または
有機過酸化物と、（Ｂ）特定のペルオキシ酸前駆体、或
いは更に（Ｃ）それ以外の特定のペルオキシ酸前駆体を
組み合わせることにより、前記目的を達成しうることを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、（Ａ）無機及び／または
有機過酸化物と、（Ｂ）特定のペルオキシ酸前駆体、或
いは更に（Ｃ）それ以外の特定のペルオキシ酸前駆体を
組み合わせることにより、前記目的を達成しうることを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
【０００８】
【発明の実施の形態】即ち本発明によれば、（Ａ）無機
及び／または有機過酸化物と、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）
及び／または有機過酸化物と、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）
【化１】 ［式（Ｉ）中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されてもよいア
ルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレン
基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を有
していてもよく、互いに同一或いは異なるものであり、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -、Ｍ2 -は同一または異なる対イ
オンを示す。］で表されるペルオキシ酸前駆体と、及び
（Ｃ）下記一般式（II)、(III)、(IV)または（Ｖ）
ルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレン
基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を有
していてもよく、互いに同一或いは異なるものであり、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -、Ｍ2 -は同一または異なる対イ
オンを示す。］で表されるペルオキシ酸前駆体と、及び
（Ｃ）下記一般式（II)、(III)、(IV)または（Ｖ）
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】 ［式(II)〜(Ｖ)中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されてもよ
いアルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレ
ン基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を
有していてもよく、互いに同一或いは異なるものであ
り、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -は対イオンを示す。］で表され
る化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴と
するカビ取り組成物が提供される。また、本発明によれ
ば、更に金属錯体を含有することを特徴とする上記カビ
取り剤組成物が提供される。
いアルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレ
ン基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を
有していてもよく、互いに同一或いは異なるものであ
り、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -は対イオンを示す。］で表され
る化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴と
するカビ取り組成物が提供される。また、本発明によれ
ば、更に金属錯体を含有することを特徴とする上記カビ
取り剤組成物が提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明における（Ａ）成分として
用いる無機及び／または有機過酸化物としては、過酸化
水素、過酸化水素遊離化合物、過酸化水素発生システ
ム、ペルオキシ酸及びその塩、並びにこれらの混合物が
挙げられる。
用いる無機及び／または有機過酸化物としては、過酸化
水素、過酸化水素遊離化合物、過酸化水素発生システ
ム、ペルオキシ酸及びその塩、並びにこれらの混合物が
挙げられる。
【００１０】過酸化水素源としてはアルカリ金属の過酸
化物、過酸化尿素のような、無機過酸化物、有機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは過酸
化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過
硫酸カリウムである。
化物、過酸化尿素のような、無機過酸化物、有機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは過酸
化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過
硫酸カリウムである。
【００１１】これらの無機及びまたは有機過酸化物の含
有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中にお
いて、１〜２０重量％、好ましくは５〜１０重量％であ
る。
有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中にお
いて、１〜２０重量％、好ましくは５〜１０重量％であ
る。
【００１２】本発明において（Ｂ）成分として用いるペ
ルオキシ酸前駆体は、（Ａ）成分の過酸化物の作用によ
り、ペルオキシ酸に変化するものであり、該前駆体とし
ては、一般式（Ｉ）
ルオキシ酸前駆体は、（Ａ）成分の過酸化物の作用によ
り、ペルオキシ酸に変化するものであり、該前駆体とし
ては、一般式（Ｉ）
【化１】 ［式（Ｉ）中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されてもよいア
ルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレン
基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を有
していてもよく、互いに同一或いは異なるものであり、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -、Ｍ2 -は同一または異なる対イ
オンを示す。］
ルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレン
基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を有
していてもよく、互いに同一或いは異なるものであり、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -、Ｍ2 -は同一または異なる対イ
オンを示す。］
【００１３】この一般式（Ｉ）においてＲ1、Ｒ2、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は低級アルキル基であり、例えばメ
チル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、これらは
互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は低級アルキル基であり、例えばメ
チル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、これらは
互いに同一でも異なっていてもよい。
【００１４】また、Ｘ1及びＹ1は芳香環や脂環式環等の
炭素環で中断されてもよいアルキレン基またはアルケニ
レン基、シクロアルキレン基、或いはアリーレン基であ
って、これらは置換基を有していてもよく、また互いに
同一でも異なっていてもよい。これらにおけるアルキレ
ン基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン
基、オクチレン基等が挙げられ、アルケニレン基として
はビニレン基等が挙げられ、シクロアルキレン基として
はシクロヘキシレン基、シクロブチレン基等が挙げら
れ、アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基
等が挙げられる。
炭素環で中断されてもよいアルキレン基またはアルケニ
レン基、シクロアルキレン基、或いはアリーレン基であ
って、これらは置換基を有していてもよく、また互いに
同一でも異なっていてもよい。これらにおけるアルキレ
ン基としてはメチレン基、エチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン
基、オクチレン基等が挙げられ、アルケニレン基として
はビニレン基等が挙げられ、シクロアルキレン基として
はシクロヘキシレン基、シクロブチレン基等が挙げら
れ、アリーレン基としてはフェニレン基、ナフチレン基
等が挙げられる。
【００１５】Ｍ1 -、Ｍ2 -は対イオンであり、例えばＣｌ
-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣＨ3ＳＯ4 -、Ｃ2Ｈ5ＳＯ4 -、ＣＨ3Ｃ
ＯＯ-等の一価の陰イオン、または一価に相当するＳＯ4
2-等の二価の陰イオンが挙げられ、互いに同一でも異な
っていてもよい。
-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣＨ3ＳＯ4 -、Ｃ2Ｈ5ＳＯ4 -、ＣＨ3Ｃ
ＯＯ-等の一価の陰イオン、または一価に相当するＳＯ4
2-等の二価の陰イオンが挙げられ、互いに同一でも異な
っていてもよい。
【００１６】前記一般式（Ｉ）で表される成分の化合物
の合成法を、２、２’−テレフタロイルジオキシビス
［（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル）エチルアンモニウムメチ
ルスルファート］を例に取り説明する。先ず、テレフタ
ル酸と２−ジメチルアミノエタノールとのエステル化
法、テレフタル酸ジメチルと２−ジメチルアミノエタノ
ールとのエステル交換法、またはテレフタル酸ジクロリ
ドと２−ジメチルアミノエタノールとの酸ハライド法等
の方法により、テレフタル酸ジ（２−ジメチルアミノエ
チル）エステルを得る。次いで得られたエステルをジメ
チル硫酸を用いアミンの四級化反応を行うことにより、
対イオンがＣＨ3ＳＯ4の四級化物が得られる。また、ジ
メチル硫酸の代わりにメチルクロライド、酢酸メチルを
用いると、対イオンがＣｌ-、ＣＨ3ＣＯＯ-の四級化物
が得られる。
の合成法を、２、２’−テレフタロイルジオキシビス
［（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル）エチルアンモニウムメチ
ルスルファート］を例に取り説明する。先ず、テレフタ
ル酸と２−ジメチルアミノエタノールとのエステル化
法、テレフタル酸ジメチルと２−ジメチルアミノエタノ
ールとのエステル交換法、またはテレフタル酸ジクロリ
ドと２−ジメチルアミノエタノールとの酸ハライド法等
の方法により、テレフタル酸ジ（２−ジメチルアミノエ
チル）エステルを得る。次いで得られたエステルをジメ
チル硫酸を用いアミンの四級化反応を行うことにより、
対イオンがＣＨ3ＳＯ4の四級化物が得られる。また、ジ
メチル硫酸の代わりにメチルクロライド、酢酸メチルを
用いると、対イオンがＣｌ-、ＣＨ3ＣＯＯ-の四級化物
が得られる。
【００１７】これらペルオキシ酸前駆体の含有量は特に
限定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜
２０重量％、好ましくは５〜１５重量％である。
限定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜
２０重量％、好ましくは５〜１５重量％である。
【００１８】本発明においては、更に（Ｃ）成分として
下記一般式（II）、（III）、（IV）または（Ｖ）で表
されるペルオキシ酸前駆体の少なくとも１種を適宜用い
ることが出来、これら（Ｃ）成分を併用することによ
り、カビ取り効果は更に向上する。（Ｃ）成分も、
（Ａ）成分の過酸化物の作用によりペルオキシ酸に変化
するものである。
下記一般式（II）、（III）、（IV）または（Ｖ）で表
されるペルオキシ酸前駆体の少なくとも１種を適宜用い
ることが出来、これら（Ｃ）成分を併用することによ
り、カビ取り効果は更に向上する。（Ｃ）成分も、
（Ａ）成分の過酸化物の作用によりペルオキシ酸に変化
するものである。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】 ［式（II）〜（Ｖ）中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されて
もよいアルキレン基またはアルケニレン基、シクロアル
キレン基、或いはアリーレン基であって、これらは置換
基を有していてもよく、互いに同一或いは異なるもので
あり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一または異なる低
級アルキル基を示し、Ｍ1 -は対イオンを示す。］
もよいアルキレン基またはアルケニレン基、シクロアル
キレン基、或いはアリーレン基であって、これらは置換
基を有していてもよく、互いに同一或いは異なるもので
あり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一または異なる低
級アルキル基を示し、Ｍ1 -は対イオンを示す。］
【００１９】これらの一般式（II）〜（Ｖ）において、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は低級アルキル基であり、例
えばメチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、こ
れらは互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は低級アルキル基であり、例
えばメチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、こ
れらは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２０】また、Ｘ1及びＹ1は芳香環や脂環式環等の
炭素環で中断されてもよいアルキレン基またはアルケニ
レン基、シクロアルキレン基、或いはアリーレン基であ
って、これらは置換基を有していてもよく、また互いに
同一でも異なっていてもよい。
炭素環で中断されてもよいアルキレン基またはアルケニ
レン基、シクロアルキレン基、或いはアリーレン基であ
って、これらは置換基を有していてもよく、また互いに
同一でも異なっていてもよい。
【００２１】これらにおけるアルキレン基としてはメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペン
チレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基
等が挙げられ、アルケニレン基としてはビニレン基等が
挙げられ、シクロアルキレン基としてはシクロヘキシレ
ン基、シクロブチレン基等が挙げられ、アリーレン基と
してはフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペン
チレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基
等が挙げられ、アルケニレン基としてはビニレン基等が
挙げられ、シクロアルキレン基としてはシクロヘキシレ
ン基、シクロブチレン基等が挙げられ、アリーレン基と
してはフェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
【００２２】Ｍ1 -は対イオンであり、例えばＣｌ-、Ｂ
ｒ-、Ｉ-、ＣＨ3ＳＯ4 -、Ｃ2Ｈ5ＳＯ4 -、ＣＨ3ＣＯＯ-
等の一価の陰イオン、または一価に相当するＳＯ4 2-等
の二価の陰イオンが挙げられる。
ｒ-、Ｉ-、ＣＨ3ＳＯ4 -、Ｃ2Ｈ5ＳＯ4 -、ＣＨ3ＣＯＯ-
等の一価の陰イオン、または一価に相当するＳＯ4 2-等
の二価の陰イオンが挙げられる。
【００２３】これらのペルオキシ酸前駆体の含有量は特
に限定されないが、０．０１〜１０重量％、好ましくは
０．１〜５重量％である。また（Ｂ）成分と（Ｃ）成分
の含有比率は、９９／〜８５／１５が好ましい。
に限定されないが、０．０１〜１０重量％、好ましくは
０．１〜５重量％である。また（Ｂ）成分と（Ｃ）成分
の含有比率は、９９／〜８５／１５が好ましい。
【００２４】本発明においては、前記無機及び／または
有機過酸化物と、ペルオキシ酸前駆体を必須成分とする
ものであるが、更に金属錯体とアルカリ剤を配合させる
と、カビの除去能力が向上するので、非常に好ましい。
この場合、用いる金属錯体としては、中心金属のまわり
に配位子が結合しているものが挙げられる。具体的に
は、ピリジン、エチレンジアミン等の２座配位子、ター
ピリジン、ポルフィリン等の３座以上平面配位子、環状
アミン等の３座以上立体配位子、２核確定配位子等が挙
げられる。
有機過酸化物と、ペルオキシ酸前駆体を必須成分とする
ものであるが、更に金属錯体とアルカリ剤を配合させる
と、カビの除去能力が向上するので、非常に好ましい。
この場合、用いる金属錯体としては、中心金属のまわり
に配位子が結合しているものが挙げられる。具体的に
は、ピリジン、エチレンジアミン等の２座配位子、ター
ピリジン、ポルフィリン等の３座以上平面配位子、環状
アミン等の３座以上立体配位子、２核確定配位子等が挙
げられる。
【００２５】ここで中心金属としては、遷移金属が挙げ
られるが、その中でも特にＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕより選ばれるII〜VII
価の酸化状態の遷移金属が好ましい。
られるが、その中でも特にＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕより選ばれるII〜VII
価の酸化状態の遷移金属が好ましい。
【００２６】これらのリガンドを有する金属錯体は、予
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
ていてもよい。また、これらのリガンドを有する金属錯
体は単核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の
酸化状態で、２核または多核の金属錯体を形成し得る。
該錯体中で配位種及び／または架橋種が金属中心間の架
橋を形成している。
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
ていてもよい。また、これらのリガンドを有する金属錯
体は単核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の
酸化状態で、２核または多核の金属錯体を形成し得る。
該錯体中で配位種及び／または架橋種が金属中心間の架
橋を形成している。
【００２７】これらの金属錯体の含有量は特に限定され
ないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１
０００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
ないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１
０００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
【００２８】アルカリ剤としては、アルカリ金属やアン
モニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解
してアルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱い
やすくｐＨの調製が容易であるという点で炭酸ナトリウ
ムまたは炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭
酸カリウムである。
モニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解
してアルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱い
やすくｐＨの調製が容易であるという点で炭酸ナトリウ
ムまたは炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭
酸カリウムである。
【００２９】これらアルカリ性物質の含有量は特に限定
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００３０】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することが出来
る。
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することが出来
る。
【００３１】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、無機及び／または有機過酸化
物の性状により使用形態が異なる。即ち、無機及び／ま
たは有機過酸化物として、過酸化水素等の溶液を用いる
場合は、（Ａ）成分として過酸化水素溶液を、（Ｂ）、
或いは（Ｂ）及び（Ｃ）成分としてペルオキシ酸前駆
体、金属錯体等の混合物を用意し、これを使用前に混合
してスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
態は特に限定されないが、無機及び／または有機過酸化
物の性状により使用形態が異なる。即ち、無機及び／ま
たは有機過酸化物として、過酸化水素等の溶液を用いる
場合は、（Ａ）成分として過酸化水素溶液を、（Ｂ）、
或いは（Ｂ）及び（Ｃ）成分としてペルオキシ酸前駆
体、金属錯体等の混合物を用意し、これを使用前に混合
してスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
【００３２】また、無機及び／または有機過酸化物とし
て過炭酸ナトリウム等の粉体を用いる場合は、ペルオキ
シ酸前駆体、金属錯体等と混合した成分を用意し、これ
を使用前に水と混合してスプレー容器等を用いて噴霧す
ればよい。
て過炭酸ナトリウム等の粉体を用いる場合は、ペルオキ
シ酸前駆体、金属錯体等と混合した成分を用意し、これ
を使用前に水と混合してスプレー容器等を用いて噴霧す
ればよい。
【００３３】
【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
【００３４】尚、実施例及び比較例における成分を表す
記号は以下の意味を有する（各種ペルオキシ酸前駆体及
び金属錯体は合成品である）。また表１及び表２の成分
の使用量は重量％である。 過酸化水素；三菱ガス化学製 ＰＣ：過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学製 ＴＰＤＣ：テレフタル酸ジコリンエステル ＴＰＤＡ：テレフタル酸ジエタノールアミンエステル ＴＰＡＣ：テレフタル酸モノコリンモノアミンエステル ＴＰＣ：テレフタル酸モノコリンエステル ＴＰＭＣ：テレフタル酸モノコリンモノメチルエステル 金属錯体：トリス−μ−オキソ−ビス−〔（１，４，７
−トリメチル−１，４，７−トリアザシクロノナン）マ
ンガン（IV）〕ヘキサフルオロリン酸塩
記号は以下の意味を有する（各種ペルオキシ酸前駆体及
び金属錯体は合成品である）。また表１及び表２の成分
の使用量は重量％である。 過酸化水素；三菱ガス化学製 ＰＣ：過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学製 ＴＰＤＣ：テレフタル酸ジコリンエステル ＴＰＤＡ：テレフタル酸ジエタノールアミンエステル ＴＰＡＣ：テレフタル酸モノコリンモノアミンエステル ＴＰＣ：テレフタル酸モノコリンエステル ＴＰＭＣ：テレフタル酸モノコリンモノメチルエステル 金属錯体：トリス−μ−オキソ−ビス−〔（１，４，７
−トリメチル−１，４，７−トリアザシクロノナン）マ
ンガン（IV）〕ヘキサフルオロリン酸塩
【００３５】また、各例におけるカビの除去効果、及び
刺激臭の無さは次の様にして測定した。 カビの除去効果；黒カビ（Cladosporium cladosporioid
es）を培養し、被着させて調整した素焼きタイル表面
（２．５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍ
Ｌ）滴下して、１５分間放置した後、水洗を行い、３０
℃で２時間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ
（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着させ、３０℃に
よる経時（２日）変化を観察し、以下の評価基準で判定
した。
刺激臭の無さは次の様にして測定した。 カビの除去効果；黒カビ（Cladosporium cladosporioid
es）を培養し、被着させて調整した素焼きタイル表面
（２．５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍ
Ｌ）滴下して、１５分間放置した後、水洗を行い、３０
℃で２時間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ
（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着させ、３０℃に
よる経時（２日）変化を観察し、以下の評価基準で判定
した。
【００３６】刺激臭の無さ；５．５ｍ3の密閉された浴
室の側面全体に、各試料２００ｍＬをスプレー容器より
満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時の刺激
臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚試験は５人
で行ない、その平均値を示した。
室の側面全体に、各試料２００ｍＬをスプレー容器より
満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時の刺激
臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚試験は５人
で行ない、その平均値を示した。
【００３７】実施例１〜６及び比較例１〜４ 表１に示す組成（カビ取り剤溶液中での重量％）のペル
オキシ化合物とＴＰＤＣ、ＴＰＤＡ、金属錯体及びアル
カリ性物質を水に混合し、（過酸化水素は水溶液を用い
た）、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表１に示す。
オキシ化合物とＴＰＤＣ、ＴＰＤＡ、金属錯体及びアル
カリ性物質を水に混合し、（過酸化水素は水溶液を用い
た）、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表１に示す。
【００３８】
【表１】
【００３９】実施例７〜１１及び比較例４〜６ 表２に示す組成（カビ取り剤溶液中での重量％）のペル
オキシ化合物とペルオキシ酸前駆体、金属錯体及びアル
カリ性物質を水に混合し（過酸化水素は水溶液を用い
た）、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表２に示す。
オキシ化合物とペルオキシ酸前駆体、金属錯体及びアル
カリ性物質を水に混合し（過酸化水素は水溶液を用い
た）、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表２に示す。
【００４０】
【表２】
【００４１】
【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、高いカビ
取り除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させると
共に、刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生
する危険性がないので、カビ取り剤として極めて優れて
いる。
取り除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させると
共に、刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生
する危険性がないので、カビ取り剤として極めて優れて
いる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ１１Ｄ 7:54 7:22） (72)発明者 楠瀬 正浩 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）無機及び／または有機過酸化物
と、（Ｂ）下記一般式（Ｉ） 【化１】 ［式（Ｉ）中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されてもよいア
ルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレン
基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を有
していてもよく、互いに同一或いは異なるものであり、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -、Ｍ2 -は同一または異なる対イ
オンを示す。］で表されるペルオキシ酸前駆体と、及び
（Ｃ）下記一般式（II)、(III)、(IV)または（Ｖ） 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 ［式(II)〜(Ｖ)中、Ｘ1、Ｙ1は炭素環で中断されてもよ
いアルキレン基またはアルケニレン基、シクロアルキレ
ン基、或いはアリーレン基であって、これらは置換基を
有していてもよく、互いに同一或いは異なるものであ
り、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は同一または異なる低級
アルキル基を示し、Ｍ1 -は対イオンを示す。］で表され
る化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴と
するカビ取り組成物。 - 【請求項２】 更に、金属錯体を含有することを特徴と
する請求項１記載のカビ取り組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35002697A JPH11166196A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | カビ取り剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35002697A JPH11166196A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | カビ取り剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11166196A true JPH11166196A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18407741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35002697A Pending JPH11166196A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | カビ取り剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11166196A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005112647A3 (en) * | 2004-05-21 | 2006-04-27 | Fellows Adrian | An antimicrobial composition |
-
1997
- 1997-12-04 JP JP35002697A patent/JPH11166196A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005112647A3 (en) * | 2004-05-21 | 2006-04-27 | Fellows Adrian | An antimicrobial composition |
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