JPH10245310A - カビ取り剤組成物 - Google Patents
カビ取り剤組成物Info
- Publication number
- JPH10245310A JPH10245310A JP9062273A JP6227397A JPH10245310A JP H10245310 A JPH10245310 A JP H10245310A JP 9062273 A JP9062273 A JP 9062273A JP 6227397 A JP6227397 A JP 6227397A JP H10245310 A JPH10245310 A JP H10245310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- embedded image
- image embedded
- mold
- metal complex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用時に有害なガスの発生がなく、しかも刺
激臭が無く、カビ取り剤として単独で用いて十分にカビ
の除去に適したカビ取り剤組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物及び（Ｂ）金属
錯体を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式（１）で
表されるものとする。 ［式中、ＭはII〜IV価の遷移金属。ｎは１〜８、ｍは１
〜４の整数。Ｄは配位種又は架橋種。ｐは０〜８の整
数。Ｅは対イオンで、錯体の電荷ｚに依存する。ｑはｚ
／（Ｅの電荷）。Ｌは、配位性窒素原子を有するリガン
ド。］
激臭が無く、カビ取り剤として単独で用いて十分にカビ
の除去に適したカビ取り剤組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物及び（Ｂ）金属
錯体を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式（１）で
表されるものとする。 ［式中、ＭはII〜IV価の遷移金属。ｎは１〜８、ｍは１
〜４の整数。Ｄは配位種又は架橋種。ｐは０〜８の整
数。Ｅは対イオンで、錯体の電荷ｚに依存する。ｑはｚ
／（Ｅの電荷）。Ｌは、配位性窒素原子を有するリガン
ド。］
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り用組成物に関する。
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】住居の中の浴室、浴槽、トイレ、流し台
等の特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビに起因
する有機物や不溶性の無機物によるものが多い。そし
て、これらの汚れを、界面活性剤を主成分とする通常の
洗浄剤により除去することは困難である。そこで、従来
から、これらのカビなどによる汚れを除去するには塩素
系又は酸素系漂白剤を主成分とする組成物をカビ取り剤
として用い、その組成物が有する漂白効果によりカビの
色を目立たなくするという方法が採られてきた。
等の特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビに起因
する有機物や不溶性の無機物によるものが多い。そし
て、これらの汚れを、界面活性剤を主成分とする通常の
洗浄剤により除去することは困難である。そこで、従来
から、これらのカビなどによる汚れを除去するには塩素
系又は酸素系漂白剤を主成分とする組成物をカビ取り剤
として用い、その組成物が有する漂白効果によりカビの
色を目立たなくするという方法が採られてきた。
【０００３】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするカビ取り剤は、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能の点では優れているものの、目や
皮膚を痛める危険性が大きいので、使用する際には十分
に注意すると共に換気された状態で行うことに留意しな
ければならず、時として誤って酸性の洗浄剤と併用した
場合には、有害な塩素ガスを発生し、使用者が危険にさ
れされる等の問題点を有している。
素系漂白剤を主成分とするカビ取り剤は、カビ色素の漂
白力とカビの除去性能の点では優れているものの、目や
皮膚を痛める危険性が大きいので、使用する際には十分
に注意すると共に換気された状態で行うことに留意しな
ければならず、時として誤って酸性の洗浄剤と併用した
場合には、有害な塩素ガスを発生し、使用者が危険にさ
れされる等の問題点を有している。
【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするカビ取り剤では、使用に際し塩素ガス
が発生するという取り扱い上の危険性はないが、過酸化
水素を単独で用いる場合には十分な漂白効果によるカビ
色素の退色効果を得ることができないことが分かった。
そのために有機過酸系漂白活性化剤などの各種の漂白活
性化剤を併用することが提案されている（例えば、特開
平２−２２５６００号公報、特開平２−１９６８９６号
公報、特開昭６２−４７９４号公報）。
剤を主成分とするカビ取り剤では、使用に際し塩素ガス
が発生するという取り扱い上の危険性はないが、過酸化
水素を単独で用いる場合には十分な漂白効果によるカビ
色素の退色効果を得ることができないことが分かった。
そのために有機過酸系漂白活性化剤などの各種の漂白活
性化剤を併用することが提案されている（例えば、特開
平２−２２５６００号公報、特開平２−１９６８９６号
公報、特開昭６２−４７９４号公報）。
【０００５】確かに、これら有機過酸系漂白活性化剤を
併用すると、カビ色素に対する漂白効果を若干向上させ
ることができるが、カビ取り剤の本来の目的であるカビ
本来の除去という点に関しては依然不十分であるため
に、しばらくすると再びカビ汚れが付着しやすいという
問題点を有している。
併用すると、カビ色素に対する漂白効果を若干向上させ
ることができるが、カビ取り剤の本来の目的であるカビ
本来の除去という点に関しては依然不十分であるため
に、しばらくすると再びカビ汚れが付着しやすいという
問題点を有している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、酸素
系成分により構成されるカビ取り剤であって、使用時に
有害なガスの発生がなく、また刺激臭が無く、カビ取り
剤のみを単独で用いた場合であっても十分にカビの除去
に適したものであるカビ取り剤組成物を提供することで
ある。
系成分により構成されるカビ取り剤であって、使用時に
有害なガスの発生がなく、また刺激臭が無く、カビ取り
剤のみを単独で用いた場合であっても十分にカビの除去
に適したものであるカビ取り剤組成物を提供することで
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、特
定の構造を有する金属錯体の組み合わせからなるカビ取
り剤組成物を用いることにより、前記課題を解決し得る
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、特
定の構造を有する金属錯体の組み合わせからなるカビ取
り剤組成物を用いることにより、前記課題を解決し得る
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに
至った。
【０００８】すなわち、本発明によれば、（Ａ）ペルオ
キシ化合物及び（Ｂ）金属錯体を含有し、しかも該金属
錯体が下記一般式（１）で表される化合物であることを
特徴とするカビ取り剤組成物が提供される。
キシ化合物及び（Ｂ）金属錯体を含有し、しかも該金属
錯体が下記一般式（１）で表される化合物であることを
特徴とするカビ取り剤組成物が提供される。
【化１】 ［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンド
を表し、その代表的な構造は、下記一般式（２）乃至
（１０）のいずれかにより表される。
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンド
を表し、その代表的な構造は、下記一般式（２）乃至
（１０）のいずれかにより表される。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子若しくは任意に
置換されたアルキル基又はアリール基であり、Ｘは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモ
ニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによっ
て置換されたアルキル基若しくはアリール基であり、ｓ
及びｔは０〜８の整数である。）］
置換されたアルキル基又はアリール基であり、Ｘは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモ
ニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによっ
て置換されたアルキル基若しくはアリール基であり、ｓ
及びｔは０〜８の整数である。）］
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明のカビ取り剤組成物は、
（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）配位性窒素原子を有
するリガンドを含む金属錯体を含有することを特徴とす
る。
（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）配位性窒素原子を有
するリガンドを含む金属錯体を含有することを特徴とす
る。
【００１０】本発明において、（Ａ）成分として用いる
ペルオキシ化合物には、過酸化水素、過酸化水素を遊離
する化合物、系中で過酸化水素を発生する化合物、ペル
オキシ酸及びその塩、ペルオキシ酸前駆体である物質、
並びにこれらの混合物がある。
ペルオキシ化合物には、過酸化水素、過酸化水素を遊離
する化合物、系中で過酸化水素を発生する化合物、ペル
オキシ酸及びその塩、ペルオキシ酸前駆体である物質、
並びにこれらの混合物がある。
【００１１】過酸化水素を遊離したり、発生したりする
化合物としては、アルカリ金属過酸化物、過酸化尿素の
ような有機過酸化物、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸
塩、過リン酸塩及び過硫酸塩などの無機過酸化物が挙げ
られる。これらの化合物を２種以上混合してもよい。こ
れらの中でも特に好ましいのは過酸化水素、過炭酸ナト
リウム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫酸カリウムであ
る。
化合物としては、アルカリ金属過酸化物、過酸化尿素の
ような有機過酸化物、アルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸
塩、過リン酸塩及び過硫酸塩などの無機過酸化物が挙げ
られる。これらの化合物を２種以上混合してもよい。こ
れらの中でも特に好ましいのは過酸化水素、過炭酸ナト
リウム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫酸カリウムであ
る。
【００１２】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体は、過酸化水素及び過酸化水素を遊離す
る化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的なペルオキシ酸前駆体には、ア
シルフェノールスルホネート、アシルアルキルフェノー
ルスルホネート、アシルフェノールカルボキシレート、
アシル化クエン酸エステル、アシルアルキルフェノール
カルボキシレート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミ
ンを有するアルコールとのエステル等のエステル類；ナ
トリウム−４ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、
ナトリウム−１−メチル−２ベンゾイルオキシベンゼン
−４−スルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベン
ゼンカルボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベ
ンゼンカルボキシレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウムメトサルフ
ェート等が挙げられる。
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体は、過酸化水素及び過酸化水素を遊離す
る化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的なペルオキシ酸前駆体には、ア
シルフェノールスルホネート、アシルアルキルフェノー
ルスルホネート、アシルフェノールカルボキシレート、
アシル化クエン酸エステル、アシルアルキルフェノール
カルボキシレート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミ
ンを有するアルコールとのエステル等のエステル類；ナ
トリウム−４ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、
ナトリウム−１−メチル−２ベンゾイルオキシベンゼン
−４−スルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベン
ゼンカルボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベ
ンゼンカルボキシレート、アセチルトリエチルシトレー
ト、２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）
−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウムメトサルフ
ェート等が挙げられる。
【００１３】また、アシルアミド類としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミンが、第４
級アンモニウム置換ペルオキシ酸前駆体としては、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムトルイルオキシベンゼ
ンスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモ
ニウム）エチル−４−スルホフェニルカーボネート等が
挙げられる。
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミンが、第４
級アンモニウム置換ペルオキシ酸前駆体としては、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムトルイルオキシベンゼ
ンスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモ
ニウム）エチル−４−スルホフェニルカーボネート等が
挙げられる。
【００１４】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。この範囲
を超えて用いても、量を多く用いたことによる効果は得
られず、経済的でなく、逆にこの範囲未満の場合には、
カビ取りの効果を十分に発揮できないこととなる。
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。この範囲
を超えて用いても、量を多く用いたことによる効果は得
られず、経済的でなく、逆にこの範囲未満の場合には、
カビ取りの効果を十分に発揮できないこととなる。
【００１５】本発明において、（Ｂ）成分として用いる
金属錯体としては、配位性窒素原子を有するリガンドを
含むものが用いられる。この金属錯体は下記一般式
（１）で表される。
金属錯体としては、配位性窒素原子を有するリガンドを
含むものが用いられる。この金属錯体は下記一般式
（１）で表される。
【化１】 ［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンド
である。］
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンド
である。］
【００１６】配位性窒素原子を有する代表的なリガンド
は、下記一般式（２）〜（１０）で表される。
は、下記一般式（２）〜（１０）で表される。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子若しくは任意に
置換されたアルキル基又はアリール基であり、Ｘは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモ
ニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによっ
て置換されたアルキル基若しくはアリール基である。ｓ
及びｔは０〜８の整数である。）
置換されたアルキル基又はアリール基であり、Ｘは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモ
ニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによっ
て置換されたアルキル基若しくはアリール基である。ｓ
及びｔは０〜８の整数である。）
【００１７】更に詳しくは、金属錯体の中心金属はＶ、
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ばれるものであり、下
記一般式（１）で表される。
Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ばれるものであり、下
記一般式（１）で表される。
【化１】 ［式中、Ｍは上記金属においてII、III若しくはIV価の
酸化状態の金属、又はその混合物である。Ｄは配位種又
は架橋種であり、具体的には、アセチルアセトナート
基、Ｎ（Ｒ2）3基（Ｒ2は水素原子、置換若しくは未置
換のアルキル基又はアリール基）、芳香族窒素化合物、
フェノール性水酸基を有する化合物、Ｈ2Ｏ、ＯＨ-、Ｏ
2-、Ｓ2-、＞Ｓ＝Ｏ、Ｎ3-、ＨＯＯ-、Ｏ2 2-、Ｏ2 -、Ｃ
ｌ-、ＳＣＮ-、シュウ酸基、Ｒ1ＣＯＯ-基（Ｒ1は水素
原子、置換若しくは未置換のアルキル基又はアリール
基）、又はこれらの組み合わせである。ｐは０〜８、好
ましくは０〜４の整数を示す。Ｅは対イオンであって、
錯体の電荷ｚに依存するものである。ｚは錯体の電荷で
あり、正の整数、０又は負の整数を示し、ｚが正の時は
Ｅはアニオンであり、例えばＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3
-、ＣｌＯ4 -、ＮＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、
ＣＦ3ＳＯ3 -、ＲＳＯ3 -等であり、ｚが負の時はＥはカ
チオンであり、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属
又はアンモニウムカチオン等を示す。ｑはｚ／（Ｅの電
荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンドであ
る。］
酸化状態の金属、又はその混合物である。Ｄは配位種又
は架橋種であり、具体的には、アセチルアセトナート
基、Ｎ（Ｒ2）3基（Ｒ2は水素原子、置換若しくは未置
換のアルキル基又はアリール基）、芳香族窒素化合物、
フェノール性水酸基を有する化合物、Ｈ2Ｏ、ＯＨ-、Ｏ
2-、Ｓ2-、＞Ｓ＝Ｏ、Ｎ3-、ＨＯＯ-、Ｏ2 2-、Ｏ2 -、Ｃ
ｌ-、ＳＣＮ-、シュウ酸基、Ｒ1ＣＯＯ-基（Ｒ1は水素
原子、置換若しくは未置換のアルキル基又はアリール
基）、又はこれらの組み合わせである。ｐは０〜８、好
ましくは０〜４の整数を示す。Ｅは対イオンであって、
錯体の電荷ｚに依存するものである。ｚは錯体の電荷で
あり、正の整数、０又は負の整数を示し、ｚが正の時は
Ｅはアニオンであり、例えばＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3
-、ＣｌＯ4 -、ＮＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、
ＣＦ3ＳＯ3 -、ＲＳＯ3 -等であり、ｚが負の時はＥはカ
チオンであり、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属
又はアンモニウムカチオン等を示す。ｑはｚ／（Ｅの電
荷）である。Ｌは配位性窒素原子を有するリガンドであ
る。］
【００１８】配位性窒素原子を有するリガンドの代表的
なものは、次の一般式（２）〜（１０）で表される。
なものは、次の一般式（２）〜（１０）で表される。
【化２】
【化３】
【化４】
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【化１０】 （式中、Ｒは水素原子若しくは任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、Ｘは水素原子、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモニウム基、ピリ
ジニウム基、チエニル基、スルホン酸基、カルボン酸
基、若しくは水酸基等であり、又はそれらによって置換
されたアルキル基若しくはアリール基である。ｓ及びｔ
は０〜８の整数である。）
ル基又はアリール基であり、Ｘは水素原子、アルキル
基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ
基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモニウム基、ピリ
ジニウム基、チエニル基、スルホン酸基、カルボン酸
基、若しくは水酸基等であり、又はそれらによって置換
されたアルキル基若しくはアリール基である。ｓ及びｔ
は０〜８の整数である。）
【００１９】このリガンドの最も簡単な形態は次の通り
である。
である。
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】Ｈ2Ｎ(ＣＨ2ＣＨ2ＮＨ)sＨ （式中、Ｓは１〜５を示す。）
【化１９】
【化２０】 （式中、Ｓは１〜５を示す。）
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【００２０】配位性窒素原子を有するリガンドを有する
金属錯体の最も代表的な錯体としては、Ｍｎ(ｂｉｐｙ)
3(ＣｌＯ4)2、Ｍｎ(ｔｅｒｐｙ)3(ＣlＯ4)2、Ｍｎ(ｐｈ
ｅｎ)Ｃｌ3、Ｍｎ(ｐｈｅｎ)3(ＣlＯ4)2、[(ｐｈｅｎ)2
Ｍｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｐｈｅｎ)2]ＣlＯ4、[（ｂｉｐｙ)2
Ｍｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｂｉｐｙ)2](ＢＦ4)3、[（ｂｉｐ
ｙ)Ｍｎ(μ−Ｏ)(μ−ＡｃＯ)2Ｍｎ(ｂｉｐｙ)](ＰＦ6)
2、Ｆｅ(ｐｈｅｎ)3Ｃｌ2、Ｆｅ(ｂｉｐｙ)3Ｃｌ2、Ｆ
ｅ(ｐｈｅｎ)3(ＣｌＯ4)3、Ｃｕ(ｂｉｐｙ)2(ＮＯ3)2、
Ｃｏ(ｂｉｐｙ)3Ｃｌ2、Ｃｏ(ｐｈｅｎ)3(ＣlＯ4)2、Ｃ
ｕ(ＥＤ)2(ＳＯ4)、Ｍｎ(ＴＣＰＰ)Ｃｌ、Ｆｅ(ＴＰＰ
Ｓ)Ｃｌ等を挙げることができる。しかしながら、これ
らの金属錯体では金属と配位子の数多くの組み合わせが
考えられるので、特にこれらの例示されたものに限定さ
れるものではない。
金属錯体の最も代表的な錯体としては、Ｍｎ(ｂｉｐｙ)
3(ＣｌＯ4)2、Ｍｎ(ｔｅｒｐｙ)3(ＣlＯ4)2、Ｍｎ(ｐｈ
ｅｎ)Ｃｌ3、Ｍｎ(ｐｈｅｎ)3(ＣlＯ4)2、[(ｐｈｅｎ)2
Ｍｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｐｈｅｎ)2]ＣlＯ4、[（ｂｉｐｙ)2
Ｍｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｂｉｐｙ)2](ＢＦ4)3、[（ｂｉｐ
ｙ)Ｍｎ(μ−Ｏ)(μ−ＡｃＯ)2Ｍｎ(ｂｉｐｙ)](ＰＦ6)
2、Ｆｅ(ｐｈｅｎ)3Ｃｌ2、Ｆｅ(ｂｉｐｙ)3Ｃｌ2、Ｆ
ｅ(ｐｈｅｎ)3(ＣｌＯ4)3、Ｃｕ(ｂｉｐｙ)2(ＮＯ3)2、
Ｃｏ(ｂｉｐｙ)3Ｃｌ2、Ｃｏ(ｐｈｅｎ)3(ＣlＯ4)2、Ｃ
ｕ(ＥＤ)2(ＳＯ4)、Ｍｎ(ＴＣＰＰ)Ｃｌ、Ｆｅ(ＴＰＰ
Ｓ)Ｃｌ等を挙げることができる。しかしながら、これ
らの金属錯体では金属と配位子の数多くの組み合わせが
考えられるので、特にこれらの例示されたものに限定さ
れるものではない。
【００２１】これらのリガンドを有する金属錯体は、予
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらリガンドを有する金属錯体は単
核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化状
態で、２核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体中
で配位種及び／又は架橋種が金属中心間の架橋を形成し
ている。
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらリガンドを有する金属錯体は単
核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化状
態で、２核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体中
で配位種及び／又は架橋種が金属中心間の架橋を形成し
ている。
【００２２】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
いが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
【００２３】本発明のカビ取り剤組成物において、その
使用時の浴中のｐＨは特に限定されるものではないが、
７〜１２、好ましくは８〜１１に調整されることが好ま
しい。すなわち、本発明の組成物には、アルカリ性物質
を添加することが好ましい。この場合のアルカリ性物質
としては、アルカリ金属やアンモニウムの水酸化物、炭
酸塩、炭酸水素塩等が挙げられる。これらは水に溶解し
てアルカリ性を呈するものであればよい。これらの中で
取り扱いが便利で、ｐＨ調整が簡単であるという点か
ら、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムが好ましい。中で
も特に好ましいのは炭酸カリウムである。アルカリ性物
質の含有量は、カビ取り剤組成物浴中の０．１〜２０重
量％、好ましくは１〜１０重量％である。
使用時の浴中のｐＨは特に限定されるものではないが、
７〜１２、好ましくは８〜１１に調整されることが好ま
しい。すなわち、本発明の組成物には、アルカリ性物質
を添加することが好ましい。この場合のアルカリ性物質
としては、アルカリ金属やアンモニウムの水酸化物、炭
酸塩、炭酸水素塩等が挙げられる。これらは水に溶解し
てアルカリ性を呈するものであればよい。これらの中で
取り扱いが便利で、ｐＨ調整が簡単であるという点か
ら、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムが好ましい。中で
も特に好ましいのは炭酸カリウムである。アルカリ性物
質の含有量は、カビ取り剤組成物浴中の０．１〜２０重
量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００２４】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ベルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。すなわち、ペルオキシ化合物とし
て、過酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分と
して過酸化水素溶液を、（Ｂ）成分として金属錯体等の
混合物を用意し、これを使用前に混合して使用すればよ
い。
態は特に限定されないが、ベルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。すなわち、ペルオキシ化合物とし
て、過酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分と
して過酸化水素溶液を、（Ｂ）成分として金属錯体等の
混合物を用意し、これを使用前に混合して使用すればよ
い。
【００２５】また、ペルオキシ化合物として、過炭酸ナ
トリウム等の粉体を用いる場合は、金属錯体等と混合し
た成分を用意し、これを使用前に水と混合して使用すれ
ばよい。
トリウム等の粉体を用いる場合は、金属錯体等と混合し
た成分を用意し、これを使用前に水と混合して使用すれ
ばよい。
【００２６】
【実施例】次に、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
れらの実施例に限定されるものではない。
【００２７】本発明のカビ取り剤組成物の効果を確認す
るために（１）カビの除去効果の確認試験、及び（２）
使用時の刺激臭の感知試験を行った。その内容は次の通
りである。
るために（１）カビの除去効果の確認試験、及び（２）
使用時の刺激臭の感知試験を行った。その内容は次の通
りである。
【００２８】（１）カビ除去効果の確認試験 黒かび（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏｓｐｏ
ｒｉｏｉｄｅｓ）を培養し、被着させて調整した素焼き
タイル表面（２．５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量
（０．５ｍＬ）滴下して、１５分間放置した後、水洗を
行い、３０℃で２時間乾燥させる。このタイルに、フー
ドスタンプ（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着さ
せ、３０℃による経時（２日経過後）変化を観察し、以
下の評価点法による評価基準で判定する。
ｒｉｏｉｄｅｓ）を培養し、被着させて調整した素焼き
タイル表面（２．５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量
（０．５ｍＬ）滴下して、１５分間放置した後、水洗を
行い、３０℃で２時間乾燥させる。このタイルに、フー
ドスタンプ（真菌用：サブロー寒天）を１時間密着さ
せ、３０℃による経時（２日経過後）変化を観察し、以
下の評価点法による評価基準で判定する。
【００２９】
【００３０】（２）使用時の刺激臭の感知試験 ５．５ｍ3の密閉された浴室の側面全体に、各試料２０
０ｍＬをスプレー容器により平均して噴霧し、３分間そ
のままの状態で放置した時の刺激臭の程度を、以下の評
価点法による評価基準で判定する。パネラーは５人であ
る。
０ｍＬをスプレー容器により平均して噴霧し、３分間そ
のままの状態で放置した時の刺激臭の程度を、以下の評
価点法による評価基準で判定する。パネラーは５人であ
る。
【００３１】
【００３２】実施例１〜４、比較例１〜３ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表１に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物と配
位性窒素原子を有するリガンドを有する金属錯体等を混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の感知試験を行っ
た。その結果を表１に示す。
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物と配
位性窒素原子を有するリガンドを有する金属錯体等を混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の感知試験を行っ
た。その結果を表１に示す。
【００３３】尚、表における成分、記号は以下の意味を
持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｅは合成品である。 過酸化水素（三菱ガス化学社製） ＰＣ：過炭酸ナトリウム（三菱ガス化学社製） ＴＡＥＤ：N,N,N'-テトラアセチルエチレンジアミン
（ヘキスト社製） ＴＰＤＣ：2-(4-メトキシカルボニルベンゾイルオキシ)
-N,N,N-トリメチルエタンアミニウムメトサルフェート Ａ：Ｍｎ(ｂｉｐｙ)3(ＣｌＯ4)2 Ｂ：［(ｐｈｅｎ)zＭｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｐｈｅｎ)2］Ｃ
ｌＯ4 Ｃ：Ｆｅ(ｐｈｅｎ)3(ＣｌＯ4)3 Ｄ：Ｆｅ(ＴＰＰＳ)Ｃｌ Ｅ：Ｃｕ(ＥＤ)(ＳＯ4) 炭酸カリウム（旭硝子社製）
持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｅは合成品である。 過酸化水素（三菱ガス化学社製） ＰＣ：過炭酸ナトリウム（三菱ガス化学社製） ＴＡＥＤ：N,N,N'-テトラアセチルエチレンジアミン
（ヘキスト社製） ＴＰＤＣ：2-(4-メトキシカルボニルベンゾイルオキシ)
-N,N,N-トリメチルエタンアミニウムメトサルフェート Ａ：Ｍｎ(ｂｉｐｙ)3(ＣｌＯ4)2 Ｂ：［(ｐｈｅｎ)zＭｎ(μ−Ｏ)2Ｍｎ(ｐｈｅｎ)2］Ｃ
ｌＯ4 Ｃ：Ｆｅ(ｐｈｅｎ)3(ＣｌＯ4)3 Ｄ：Ｆｅ(ＴＰＰＳ)Ｃｌ Ｅ：Ｃｕ(ＥＤ)(ＳＯ4) 炭酸カリウム（旭硝子社製）
【００３４】
【表１】 （注）ペルオキシ化合物と金属錯体の替わりに、次亜塩
素酸ナトリウム２．５％水溶液を用いた。
素酸ナトリウム２．５％水溶液を用いた。
【００３５】実施例５〜１１ 表２に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と配位性窒素原子を有するリガンドを有
する金属錯体等を水に混合し、カビの除去効果、及び刺
激臭の感知試験を行った。その結果を表２に示す。
ルオキシ化合物と配位性窒素原子を有するリガンドを有
する金属錯体等を水に混合し、カビの除去効果、及び刺
激臭の感知試験を行った。その結果を表２に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】
【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、高いカビ
取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下さ
せると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが
発生する危険性がないので、カビ取り剤として好適であ
る。
取り除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低下さ
せると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが
発生する危険性がないので、カビ取り剤として好適であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 淳二 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）ペルオキシ化合物及び（Ｂ）金属
錯体を含有し、しかも該金属錯体が下記一般式（１）で
表される化合物であることを特徴とするカビ取り剤組成
物。 【化１】 ［式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜IV価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
ある。ｎは１〜８の、ｍは１〜４の整数である。Ｄは配
位種又は架橋種を表す。ｐは０〜８の整数である。Ｅは
対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であり
得る錯体の電荷ｚに依存するものである。ｑはｚ／（Ｅ
の電荷）である。Ｌは、配位性窒素原子を有するリガン
ドを表し、その代表的な構造は、下記一般式（２）乃至
（１０）のいずれかにより表される。 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 【化８】 【化９】 【化１０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子若しくは任意に
置換されたアルキル基又はアリール基であり、Ｘは水素
原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、アミノ基、ピリジル基、四級アンモ
ニウム基、ピリジニウム基、チエニル基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくは水酸基、又はそれらによっ
て置換されたアルキル基若しくはアリール基であり、ｓ
及びｔは０〜８の整数である。）］
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9062273A JPH10245310A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | カビ取り剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9062273A JPH10245310A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | カビ取り剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10245310A true JPH10245310A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=13195382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9062273A Pending JPH10245310A (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | カビ取り剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10245310A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011511864A (ja) * | 2008-02-11 | 2011-04-14 | イーコラブ インコーポレイティド | アルカリ過酸化物洗浄装置において低温洗浄を向上させるための活性化複合体の使用 |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP9062273A patent/JPH10245310A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011511864A (ja) * | 2008-02-11 | 2011-04-14 | イーコラブ インコーポレイティド | アルカリ過酸化物洗浄装置において低温洗浄を向上させるための活性化複合体の使用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5401034B2 (ja) | 漂白助剤、および該漂白助剤を含有する漂白助剤粒子 | |
| RU2013132311A (ru) | Катализаторы отбеливания | |
| US20160066575A1 (en) | Use of acylhydrazone in washing and cleaning agents | |
| JP2005513136A5 (ja) | ||
| JPH10245310A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH08245987A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10310796A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10279411A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10298017A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JP6279358B2 (ja) | 酸化性組成物 | |
| JPH11292724A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH0953095A (ja) | 漂白剤組成物 | |
| JP5645929B2 (ja) | 粉体混合物の製造方法 | |
| JPH11343208A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH1129420A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH11166196A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10279412A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JP2003336098A (ja) | 起泡性組成物 | |
| JPH1161191A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JP2000073094A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH11140496A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10298592A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH10265311A (ja) | カビ取り剤組成物 | |
| JPH1171597A (ja) | 洗濯機用洗浄剤組成物 | |
| JPH1143411A (ja) | カビ取り剤組成物 |