JPH1143411A - カビ取り剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭が無
く、カビ本来の除去に適したカビ取り剤組成物を提供す
ること。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）下記
配位子（１） 具体的には、例えば で示される遷移金属からなる金属錯体とを含有する組成
物とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系又は酸素系漂白剤を主成分とするものを
用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくすると
いう方法が採られてきた。

【０００３】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂白力と
カビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛める
危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には十分な
換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と誤っ
て併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠点を
有している。

【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号、特開平２−１９６８９６号、特開昭６２−４
７９４号各公報）。

【０００５】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
化剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向
上するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然
不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいと
いう欠点がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供すること
を、その目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために、鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、
特定のリガンドを有する金属錯体とを組み合わせること
によって、前記目的を達成し得ることを見出し、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。

【０００８】即ち、本発明によれば、少なくとも（Ａ）
ペルオキシ化合物と（Ｂ）金属錯体を含有するカビ取り
剤組成物において、該金属錯体が下記一般式で表される
配位性窒素原子を３個以上持つ２つのグループが架橋種
によって架橋された配位子（１）又は（２）若しくは
（２′）と遷移金属からなることを特徴とするカビ取り
剤組成物が提供される。

【化１】 〔式中、Ｘ、ｎ、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、Ｒ¹〜Ｒ⁴、Ａ及びＢ
は、それぞれ以下のものを示す。

【化２】 ｒ；０又は１、 ｎ；０〜２の整数、 ｍ；０〜２の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数、 Ｒ¹〜Ｒ⁵；それぞれ独立に、水素原子、場合によっては
置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール
基、

【化３】 ｔ；０〜４の整数、 ｕ；２〜７の整数、 ｖ；０〜７の整数、 ｗ；０〜７の整数、 Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹；それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 Ｒ⁸；水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、−ＮＲ¹²Ｒ¹³、−Ｎ⁺Ｒ¹²Ｒ
¹³Ｒ¹⁴、−Ｎ＝ＣＲ¹²Ｒ¹³、スルホン酸基、カルボン酸
基、水酸基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル
基、 Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴；それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕

【化４】

【化５】 〔式中、ｓ、ｐ、ｑ、Ｒ³〜Ｒ⁵、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、それ
ぞれ以下のものを示す。 ｓ；２〜５の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数 Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶；それぞれ独立に、水素原
子、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明のカビ取り剤組成物は、（Ａ）ペルオキシ
化合物と、（Ｂ）前記一般式で表される配位性窒素原子
を３個以上持つ２つのグループが架橋種によって架橋さ
れた配位子（１）又は（２）若しくは（２′）と遷移金
属からなる金属錯体とを含有することを特徴とする。

【００１０】本発明において、（Ａ）成分として用いる
ペルオキシ化合物としては、過酸化水素、過酸化水素遊
離化合物、過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及び
その塩、ペルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの
混合物が挙げられる。

【００１１】過酸化水素源としては、アルカリ金属酸化
物、過酸化尿素のような有機過酸化物、無機過酸化物、
例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン酸塩
及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種以上
混合してもよい。この中でも特に好ましいのは、過酸化
水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過硫
酸カリウムである。

【００１２】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過酸化水素遊
離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的には、アシルフェノールスルホ
ネート、アシルアルキルフェノールスルホネート、アシ
ルフェノールカルボキシレート、アルシ化クエン酸エス
テル、アシルアルキルフェノールカルボキシレート、芳
香族二価カルボン酸と四級化アミンを有するアルコール
とのエステル、等のエステル類；ナトリウム−４ベンゾ
イルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウム−１−メ
チル−２ベンゾイルオキシベンゼン−４−スルホネー
ト、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカルボキシレ
ート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカルボキシ
レート、アセチルトリエチルシトレート、２−（４−メ
トキシカルボニルベンゾイルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチルエタンアミニウムメトサルフェート等が挙げら
れる。

【００１３】また、アシルアミド類としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミンが、また
第４級アンモニウム置換ペルオキシ前駆体としては、
Ｎ，Ｎ，Ｎ，−トリメチルアンモニウムトルイルオキシ
ベンゼンスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル
アンモニウム）エチル−４−スルホフェニルカーボネー
ト等が挙げられる。

【００１４】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。

【００１５】本発明において、（Ｂ）成分として用いる
配位性窒素原子を３個以上持つ２つのグループが架橋種
によって架橋された配位子（１）又は（２）若しくは
（２′）と遷移金属よりなる金属錯体は、カビ取り剤組
成物浴中に遷移金属イオンと配位子を別々に添加しても
よいし、遷移金属イオンと配位子から錯体をあらかじめ
合成し、錯体として添加してもよい。また、錯体に配位
子又は遷移金属イオンを加えることにより遷移金属量、
配位子量を調整してもよい。

【００１６】遷移金属としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎ
ｉ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｖ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｒｅ、Ｗ、Ｍ
ｏ等が挙げられるが、環境安全性を考慮するとＭｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｕが好ましい。また、これらの金属が混合されて
使用されてもよい。

【００１７】遷移金属を金属イオンとして直接用いる場
合は、水溶性金属塩が好ましく、マンガンの場合は、硝
酸マンガン、硫酸マンガン、塩酸マンガン、酢酸マンガ
ン、過塩素酸マンガン、マンガンアセチルアセトナート
等が、鉄の場合は、硝酸鉄、硫酸鉄、塩化鉄、過塩素酸
鉄、鉄アセチルアセトナート、クエン酸鉄、クエン酸鉄
アンモニウム、シュウ酸鉄アンモニウム、硫酸鉄アンモ
ニウム等が、銅の場合は硝酸銅、硫酸銅、塩化銅、酢酸
銅、クエン酸銅、シアン化銅、シュウ酸銅、塩化アンモ
ニウム銅、酒石酸銅、過塩素酸銅等が好ましい。

【００１８】錯体をあらかじめ合成する場合の遷移金属
源も上記の水溶性塩を用いることが多いが、有機溶媒可
溶性塩や過マンガン酸カリウム等適宜適当な遷移金属源
を用いてもよい。

【００１９】遷移金属を全く添加しなくても、水道水中
から混入してくる遷移金属を配位子が錯形成して効果を
発揮する場合があるが、安定に効果を発現させるには所
定量の遷移金属の添加が好ましい。遷移金属量が少なす
ぎると安定的な効果や充分な効果が得られない場合があ
り、ある一定以上の添加は更なる効果の増大がみられな
くなるばかりか、遷移金属が酸化物や水酸化物となりペ
ルオキシ化合物を無駄に分解させるなど、好ましくない
問題が新たに生じる場合がある。

【００２０】配位子としては、下記の一般式で表される
配位性窒素原子を３個以上持つ２つのグループが架橋種
によって架橋された配位子（１）又は（２）若しくは
（２′）が挙げられ、１つの配位子で二個以上の遷移金
属に配位し、複核錯体を形成し得るものが好ましい。

【化１】 〔式中、Ｘ、ｎ、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、Ｒ¹〜Ｒ⁴、Ａ及びＢ
は、それぞれ以下のものを示す。

【化２】 ｒ；０又は１、 ｎ；０〜２の整数、 ｍ；０〜２の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数、 Ｒ¹〜Ｒ⁵；それぞれ独立に、水素原子、場合によっては
置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール
基、

【化３】 ｔ；０〜４の整数、 ｕ；２〜７の整数、 ｖ；０〜７の整数、 ｗ；０〜７の整数、 Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹；それぞれ独立に、水素原
子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
クロアルキル基又はアリール基、 Ｒ⁸；水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、ＮＲ¹²Ｒ¹³、Ｎ⁺Ｒ¹²Ｒ¹³Ｒ
¹⁴、Ｎ＝ＣＲ¹²Ｒ¹³、スルホン酸基、カルボン酸基、水
酸基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル基、 Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴；それぞれ独立に、水素原子、水酸
基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕

【化４】

【化５】 〔式中、ｓ、ｐ、ｑ、Ｒ³〜Ｒ⁵、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、それ
ぞれ以下のものを示す。 ｓ；２〜５の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数 Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶；それぞれ独立に、水素原
子、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
キル基又はアリール基。〕

【００２１】具体的な化合物の例としては、次の表１に
示されるものが挙げられる。

【００２２】

【表１−（１）】

【００２３】

【表１−（２）】

【００２４】これらの化合物の大部分は公知であるが、
新規のものもある。これらの化合物はいくつかの方法で
合成されるが、例えば以下の方法がある。 （１）の合成 エチレンジアミンと２−クロロメチルピリジンハイドロ
クロライドとの反応（Hsiu-Rong et.al., J.Am.Chem.So
c.,1990,112,6814 参照) （３）の合成 １，３−ジアミノ−２−プロパノールと２−クロロメチ
ルピリジンハイドロクロライドとの反応又は１，３−ジ
アミノ−２−プロパノールとピリジン−２−アルデヒド
との反応（Masatatsu Suzuki et.al., Chem. Lett. 198
9,1094 参照)

【００２５】配位子と遷移金属の割合はモル比で１：４
〜２００：１、好ましくは１：１〜５０：１である。カ
ビ取り剤組成物浴中で錯形成させる場合は、遷移金属に
対して過剰モル量添加することが好ましいが、必要以上
の多量の添加は経済的ではない。錯体をあらかじめ合成
する場合は、錯体構造に見合った割合で用いるか、又
は、どちらかを過剰量用い、錯体合成後、過剰分を取り
除けばよい。また、配位子を過剰に用いている場合は、
必ずしも取り除く必要はなく、そのまま用いてもよい。

【００２６】金属錯体は、同一の遷移金属と同一の配位
子を用いて形成される錯体（カビ取り剤組成物浴中で形
成される錯体を含む）であっても、その構造は１種に限
ったものではなく、２種以上である場合も多い。活性種
である真の錯体構造は明らかではないが、遷移金属あた
り、配位子の数は１個ないしは複数個の可能性があり、
錯体を構成する遷移金属も１個ないし複数個の可能性が
ある。

【００２７】本発明の配位子は配位性窒素原子を３個以
上持つ２つのグループからなるので、配位子１個に対し
て２個以上の遷移金属が入った複核又は多核錯体、及び
クラスターであることが好ましい。また、多核の錯体を
構成している遷移金属は、同種であっても異種であって
もよい。

【００２８】配位子は単独で用いられてもよく、異種の
ものと混合して用いられてもよいが、本発明の配位子が
少なくとも一種用いられることが必要である。遷移金属
には、本発明の配位子の他に水、水酸基、フェノール性
水酸基、アミン、カルボン酸基、ハロゲン原子等が配位
してもよい。多核錯体の架橋種としては、酸素、硫黄、
ハロゲン原子等がある。

【００２９】錯体中の遷移金属の価数は定かではなく、
低原子価の水溶性塩で添加しても、錯形成後、空気酸
化、若しくはカビ取り剤組成物浴中に添加されるペルオ
キシ化合物によって酸化されて、高原子価になっている
場合が多い。複核錯体の場合は同一でなくてもよく、混
合原子価であってもよい。

【００３０】錯体の対イオンは、用いられた遷移金属塩
由来のものでもよいし、目的にあわせて対イオン交換さ
れてもよい。好ましい対イオンとしては、Ｃｌ^-、Ｂ
ｒ^-、Ｉ^-、ＮＯ₃ ^-、ＯＨ^-、ＣｌＯ₄ ^-、ＮＣＳ^-、Ｐ
Ｆ₆ ^-、ＲＳＯ₄ ^-、ＯＡｃ^-、ＢＰｈ₄ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、Ｒ
ＳＯ₃ ^-、ＲＳＯ₄ ^-である。

【００３１】あらかじめ合成される場合の錯体は既知の
場合もあるし、新規の場合もある。錯体は主に他の配位
子を用いて合成された、例えば以下のような方法で合成
される。 遷移金属塩と配位子を水中又は有機溶媒中で混合
し、エバポレーターにより濃縮して錯体を得る。（ＷＯ
９５２５１５９、特開平８−６７６８７号公報参照） 遷移金属の過塩素酸塩と配位子を水中で混合し、そ
こに過酸化水素を加え、得られた沈殿を再結晶する。
（Masatatsu Suzuki et.al., Chem. Lett. 1988,477 参
照) 遷移金属塩と配位子を反応させ、一旦酸化剤で酸化
後、アルカリ性にして酸素酸化する。（特開平７−８８
０１号公報参照） 配位子と過マンガン酸カリウムを有機溶媒中で混合
し、得られた沈殿を濾別する。〔浅田ら、日本化学会第
70春季年会講演予稿集、p511(1996）参照〕

【００３２】これら金属錯体の含有量は特に限定されな
いが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０
００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。

【００３３】本発明のカビ取り剤組成物において、その
使用時の浴中のｐＨは特に限定されるものではないが、
７〜１２、好ましくは８〜１１に調整されることが好ま
しい。このための調整剤としては、アルカリ金属やアン
モニウムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解
してアルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱い
やすくｐＨの調整が容易であるという点で炭酸ナトリウ
ム又は炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭酸
カリウムである。

【００３４】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として過
酸化水素等の水溶液を用いる場合は、（ａ）成分として
過酸化水素水溶液を、（ｂ）成分として金属錯体等の混
合物を用意し、これらを使用前に混合して使用すればよ
い。

【００３５】また、ペルオキシ化合物として過炭酸ナト
リウム等の粉体を用いる場合は、それと金属錯体等とを
混合した成分を用意し、これを使用前に水と混合して使
用すればよい。また、遷移金属、配位子、又はそれらか
らなる錯体が組成物中で安定性を保持するために、適宜
それらは造粒又はマイクロカプセル化されてもよい。

【００３６】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することが出来
る。

【００３７】

【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。

【００３８】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、ＴＰＤＣ及び配位子Ａ、Ｂは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学社製 ＰＣ；過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学社製 ＴＰＤＣ：２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト社製 配位子Ａ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス〔（２−ピ
リジル）メチル〕エチレンジアミン 配位子Ｂ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス〔（２−ピ
リジル）メチル〕−１，３−ジアミノ−２−プロパノー
ル 金属塩Ｘ：塩化マンガン４水和物 金属塩Ｙ：酢酸マンガン２水和物 炭酸カリウム；旭硝子社製

【００３９】また、各例におけるカビの除去効果、及び
刺激臭の無さは、次のようにして測定した。

【００４０】（イ）カビの除去効果；黒カビ（Ｃｌａｄ
ｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）
を培養し、被着させて調整した素焼きタイル表面（２．
５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下
して、１５分間放置した後、水洗を行い、３０℃で２時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ（真菌用：
サブロー寒天）を１時間密着させ、３０℃による経時
（２日）変化を観察し、以下の評価基準で判定した。

【００４１】

【００４２】（ロ）刺激臭の無さ；５．５ｍ³の密閉さ
れた浴室の側面全体に、各試料２００ｍＬをスプレー容
器より満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚、試
験は５人で行った。

【００４３】

【００４４】実施例１ 脱イオン水５０ｍｌ中に２−（クロロメチル）ピリジン
の塩酸塩９．８４ｇ（６０ｍｍｏｌ）とエチレンジアミ
ン０．９０ｇ（１５ｍｍｏｌ）を溶解し、５．４Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液の滴下により、ｐＨを８にした。こ
こまでの操作はスターラーで撹拌しながら、０℃の条件
下で行った。ｐＨが８になったところで、反応溶液の温
度を６０℃に上昇させ、その温度を保ちながら６時間撹
拌した。その際、反応溶液のｐＨを８〜９の範囲に保つ
ため、５．４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液の滴下を随時行
った。５０×３ｍｌのジエチルエーテルを用いて反応溶
液中から目的の物質を抽出し、そのまま冷蔵庫中で放置
することにより黄色の結晶を析出させた。その結晶を再
度ジエチルエーテル中で再結晶させることにより、目的
の配位子Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス〔（２−ピリ
ジル）メチル〕エチレンジアミン（Ａ）の白色針状結晶
を得た。

【００４５】

【化６】

【００４６】実施例２ 脱イオン水５０ｍｌ中に２−（クロロメチル）ピリジン
の塩酸塩９．８４ｇ（６０ｍｍｏｌ）と１，３−ジアミ
ノ−２−プロパノール１．３５ｍｇ（１５ｍｍｏｌ）を
溶解し、５．４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液の滴下によ
り、ｐＨを８にした。ここまでの操作はスターラーで撹
拌しながら、０℃の条件下で行った。ｐＨが８になって
ところで、反応溶液の温度を６０℃に上昇させ、その温
度を保ちながら６時間撹拌した。その際、反応溶液のｐ
Ｈを８〜９の範囲に保つため、５．４Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液の滴下を随時行った。５０×３ｍｌのジエチル
エーテルを用いて反応溶液中から有機相を抽出し、ジエ
チルエーテル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエ
チルエーテルを減圧下で留去し、得られた油状の生成物
をシリカゲルのカラムで分取することにより、目的の配
位子Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス〔（２−ピリジ
ル）メチル〕−１，３−ジアミノ−２−プロパノール
（Ｂ）を得た。

【００４７】

【化７】

【００４８】実施例３〜６及び比較例１〜３ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表２に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物と配
位子及び金属塩等を混合し、カビの除去効果、及び刺激
臭の無さの試験を行った。その結果を表２に示す。

【００４９】

【表２】

【００５０】実施例７〜１４ 表３に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と配位子及び金属塩等を水に混合し、カ
ビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その
結果を表３に示す。

【００５１】

【表３】

【００５２】表２と表３の結果から、本発明の前記
（Ａ）及び（Ｂ）成分を含むカビ取り剤組成物は、刺激
臭がなく、しかも非常に優れたカビ除去力を示すことが
判る。

【００５３】

【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、（Ａ）ペ
ルオキシ化合物と（Ｂ）前記配位子（１）又は（２）若
しくは（２′）と遷移金属からなる金属錯体とを含有す
るものとしたことから、高いカビ除去能力を有するた
め、カビの再繁殖を極力低下させる上に、刺激臭がな
く、しかも使用時に有害なガスが発生する危険性がない
ので、実用上極めて有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ //(Ａ０１Ｎ 59/00 55:02） (72)発明者 木下 陽児 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも（Ａ）ペルオキシ化合物と
   （Ｂ）金属錯体を含有するカビ取り剤組成物において、
   該金属錯体が下記一般式で表される配位性窒素原子を３
   個以上持つ２つのグループが架橋種によって架橋された
   配位子（１）又は（２）若しくは（２′）と遷移金属か
   らなることを特徴とするカビ取り剤組成物。 【化１】 〔式中、Ｘ、ｎ、ｍ、ｐ、ｑ、ｒ、Ｒ¹〜Ｒ⁴、Ａ及びＢ
   は、それぞれ以下のものを示す。 【化２】 ｒ；０又は１、 ｎ；０〜２の整数、 ｍ；０〜２の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数、 Ｒ¹〜Ｒ⁵；それぞれ独立に、水素原子、場合によっては
   置換されたアルキル基、シクロアルキル基又はアリール
   基、 【化３】 ｔ；０〜４の整数、 ｕ；２〜７の整数、 ｖ；０〜７の整数、 ｗ；０〜７の整数、 Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹；それぞれ独立に、水素原
   子、水酸基、場合によっては置換されたアルキル基、シ
   クロアルキル基又はアリール基、 Ｒ⁸；水素原子、場合によって置換されたアルキル基、
   アリール基、場合によっては置換されたアルコキシ基、
   ハロゲン原子、シアノ基、−ＮＲ¹²Ｒ¹³、−Ｎ⁺Ｒ¹²Ｒ
   ¹³Ｒ¹⁴、−Ｎ＝ＣＲ¹²Ｒ¹³、スルホン酸基、カルボン酸
   基、水酸基、ピリジル基、ピリジニウム基又はチエニル
   基、 Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴；それぞれ独立に、水素原子、水酸
   基、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
   キル基又はアリール基。〕 【化４】 【化５】 〔式中、ｓ、ｐ、ｑ、Ｒ³〜Ｒ⁵、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、それ
   ぞれ以下のものを示す。 ｓ；２〜５の整数、 ｐ；０〜３の整数、 ｑ；０〜３の整数 Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶；それぞれ独立に、水素原
   子、場合によっては置換されたアルキル基、シクロアル
   キル基又はアリール基。〕