JPH10298592A - カビ取り剤組成物 - Google Patents
カビ取り剤組成物Info
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- JPH10298592A JPH10298592A JP9320470A JP32047097A JPH10298592A JP H10298592 A JPH10298592 A JP H10298592A JP 9320470 A JP9320470 A JP 9320470A JP 32047097 A JP32047097 A JP 32047097A JP H10298592 A JPH10298592 A JP H10298592A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭のな
いカビ取り剤組成物を提供すること、更には経時による
カビ除去力の低下がなく、長期にわたり優れたカビの除
去性能を示し、しかも刺激臭のないカビ取り剤組成物を
提供すること。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環
式有機分子であるリガンドを有する金属錯体からなるも
のとするか、又は更に（Ｃ）金属錯体と同じ対イオンを
有する塩を含有する組成物とし、しかも（Ｂ）と（Ｃ）
に含まれる対イオンの合計が（Ｂ）に含まれる対イオン
に対し、モル比で１．１倍以上含まれているものとす
る。
いカビ取り剤組成物を提供すること、更には経時による
カビ除去力の低下がなく、長期にわたり優れたカビの除
去性能を示し、しかも刺激臭のないカビ取り剤組成物を
提供すること。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環
式有機分子であるリガンドを有する金属錯体からなるも
のとするか、又は更に（Ｃ）金属錯体と同じ対イオンを
有する塩を含有する組成物とし、しかも（Ｂ）と（Ｃ）
に含まれる対イオンの合計が（Ｂ）に含まれる対イオン
に対し、モル比で１．１倍以上含まれているものとす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り剤組成物に関する。
スの発生がなく、しかも刺激臭のないカビ取り用として
好適な酸素系のカビ取り剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系又は酸素系漂白剤を主成分とするものを
用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくすると
いう方法が採られてきた。
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系又は酸素系漂白剤を主成分とするものを
用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくすると
いう方法が採られてきた。
【０００３】しかし、次亜塩素酸ナトリウムのような塩
素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂白力と
カビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛める
危険性が大きい上、塩素臭が強く、使用する際には十分
な換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と誤
って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠点
を有している。
素系漂白剤を主成分とするものは、カビ色素の漂白力と
カビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛める
危険性が大きい上、塩素臭が強く、使用する際には十分
な換気に留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と誤
って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する等の欠点
を有している。
【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号、特開平２−１９６８９６号、特開昭６２−４
７９４号各公報）。
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号、特開平２−１９６８９６号、特開昭６２−４
７９４号各公報）。
【０００５】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向上
するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然不
十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいとい
う欠点は存続している。
剤を併用しても、カビ色素に対する漂白効果が若干向上
するのみで、カビ本来の除去という点に関しては依然不
十分であるために、繰り返しカビ汚れが付きやすいとい
う欠点は存続している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供すること
を、その目的とする。
従来技術の実情に鑑みてなされたものであって、刺激臭
が無く、カビ本来の除去に適した組成物を提供すること
を、その目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ取り能力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発す
るために、鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物
と、特定の金属錯体とを組み合わせることによって、前
記目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。
ビ取り能力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発す
るために、鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物
と、特定の金属錯体とを組み合わせることによって、前
記目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて
本発明を完成するに至った。
【０００８】即ち、本発明によれば、第一に、（Ａ）ペ
ルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機分子であるリガン
ドを有する金属錯体とを含有することを特徴とするカビ
取り剤組成物が提供される。第二に、前記金属錯体が、
下記一般式［Ａ］で表される化合物である上記第一に記
載したカビ取り剤組成物が提供される。
ルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機分子であるリガン
ドを有する金属錯体とを含有することを特徴とするカビ
取り剤組成物が提供される。第二に、前記金属錯体が、
下記一般式［Ａ］で表される化合物である上記第一に記
載したカビ取り剤組成物が提供される。
【化１】 〔式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2はＯ、Ｈ、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕 第三に、（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機
分子であるリガンドを有する金属錯体と、（Ｃ）該金属
錯体と同じ対イオンを有する塩を含有する組成物におい
て、（Ｂ）の金属錯体が、下記一般式［Ａ］：
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕 第三に、（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機
分子であるリガンドを有する金属錯体と、（Ｃ）該金属
錯体と同じ対イオンを有する塩を含有する組成物におい
て、（Ｂ）の金属錯体が、下記一般式［Ａ］：
【化１】 〔式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2はＯ、Ｈ、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕で表される金属錯体であ
り、しかもその組成中において（Ｂ）と（Ｃ）に含まれ
るＹの合計が（Ｂ）に含まれるＹに対し、モル比で１．
１倍量以上含まれていることを特徴とするカビ取り剤組
成物が提供される。
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕で表される金属錯体であ
り、しかもその組成中において（Ｂ）と（Ｃ）に含まれ
るＹの合計が（Ｂ）に含まれるＹに対し、モル比で１．
１倍量以上含まれていることを特徴とするカビ取り剤組
成物が提供される。
【０００９】即ち、本発明のカビ取り剤組成物は、
（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機分子であ
るリガンドを有する金属錯体、特に前記一般式［Ａ］で
表される金属錯体を含有するものとしたことから、高い
カビ除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させるこ
とが可能となり、もちろん刺激臭がなく且つ有害なガス
も発生しないものである。更に上記（Ａ）、（Ｂ）成分
に、（Ｃ）前記一般式［Ａ］で表される金属錯体と同じ
対イオンを有する塩を含有するものとすることにより、
経時によるカビ除去能力の低下が防止されるものとな
る。
（Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環式有機分子であ
るリガンドを有する金属錯体、特に前記一般式［Ａ］で
表される金属錯体を含有するものとしたことから、高い
カビ除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させるこ
とが可能となり、もちろん刺激臭がなく且つ有害なガス
も発生しないものである。更に上記（Ａ）、（Ｂ）成分
に、（Ｃ）前記一般式［Ａ］で表される金属錯体と同じ
対イオンを有する塩を含有するものとすることにより、
経時によるカビ除去能力の低下が防止されるものとな
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。本発明において、（Ａ）成分として用いるペルオ
キシ化合物には、過酸化水素、過酸化水素遊離化合物、
過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及びその塩、ペ
ルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの混合物があ
る。
する。本発明において、（Ａ）成分として用いるペルオ
キシ化合物には、過酸化水素、過酸化水素遊離化合物、
過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及びその塩、ペ
ルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの混合物があ
る。
【００１１】過酸化水素源としては、アルカリ金属の過
酸化物、過酸化尿素のような有機過酸化物、無機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは、過
酸化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び
過硫酸カリウムである。
酸化物、過酸化尿素のような有機過酸化物、無機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは、過
酸化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び
過硫酸カリウムである。
【００１２】これらの化合物は、単独で又はペルオキシ
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過酸化水素遊
離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的には、アシルフェノールスルホ
ネート、アシルアルキルフェノールスルホネート、アシ
ルフェノールカルボキシレート、アシル化クエン酸エス
テル、アシルアルキルフェノールカルボキシレート、芳
香族二価カルボン酸と四級化アミンを有するアルコール
とのエステル、等のエステル類；ナトリウム−４−ベン
ゾイルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウム−１−
メチル−２−ベンゾイルオキシベンゼン−４−スルホネ
ート、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカルボキシ
レート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカルボキ
シレート、アセチルトリエチルシトレート、２−（４−
メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリメチルエタンアミニウムメトサルフェート等が挙げ
られる。
酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。これらのペル
オキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過酸化水素遊
離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を生成するも
のが挙げられる。具体的には、アシルフェノールスルホ
ネート、アシルアルキルフェノールスルホネート、アシ
ルフェノールカルボキシレート、アシル化クエン酸エス
テル、アシルアルキルフェノールカルボキシレート、芳
香族二価カルボン酸と四級化アミンを有するアルコール
とのエステル、等のエステル類；ナトリウム−４−ベン
ゾイルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウム−１−
メチル−２−ベンゾイルオキシベンゼン−４−スルホネ
ート、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカルボキシ
レート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカルボキ
シレート、アセチルトリエチルシトレート、２−（４−
メトキシカルボニルベンゾイルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリメチルエタンアミニウムメトサルフェート等が挙げ
られる。
【００１３】また、アシルアミド類としては、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミンが、また
第４級アンモニウム置換ペルオキシ前駆体としては、
Ｎ，Ｎ，Ｎ，−トリメチルアンモニウムトルイルオキシ
ベンゼルスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル
アンモニウム）エチル−４−スルホフェニルカーボネー
ト等が挙げられる。
Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレンジアミンが、また
第４級アンモニウム置換ペルオキシ前駆体としては、
Ｎ，Ｎ，Ｎ，−トリメチルアンモニウムトルイルオキシ
ベンゼルスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル
アンモニウム）エチル−４−スルホフェニルカーボネー
ト等が挙げられる。
【００１４】これらペルオキシ化合物の含有量は特に限
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。
定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜３
０重量％、好ましくは５〜２０重量％である。
【００１５】本発明において、（Ｂ）成分として用いる
大環式有機分子であるリガンドを有する金属錯体として
は、例えば下記一般式［Ａ］で示されるものが挙げられ
る。
大環式有機分子であるリガンドを有する金属錯体として
は、例えば下記一般式［Ａ］で示されるものが挙げられ
る。
【化１】 〔式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］：
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2はＯ、Ｈ、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕
【００１６】即ち、中心金属としてＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅをベースとし、好ましくは、下記一般式
［Ａ］：
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅをベースとし、好ましくは、下記一般式
［Ａ］：
【化１】 〔式中、Ｍは上記金属においてII、III、IV若しくはＶ
価の酸化状態の金属又はその混合物を示し、Ｘは配位種
又は架橋種であって、例えばＨ2Ｏ、ＯＨ-、Ｏ2-、
Ｓ2-、＞Ｓ＝Ｏ、Ｎ3-、ＨＯＯ-、Ｏ2 2-、Ｏ2 -、Ｒ−Ｃ
ＯＯ-、ＲＯ-、ＮＲ3（但し、ＲはＨ又は置換若しくは
未置換のアルキル基若しくはアリール基）、芳香族窒素
化合物、アセチルアセトナート基、シュウ酸基、Ｃ
ｌ-、ＳＣＮ-等、又はその組み合わせを示し、ｐは０〜
１２好ましくは３〜６の整数を示し、Ｙは錯体の電荷ｚ
に基づく性質の対イオンを示し、ｚは錯体の電荷を正の
整数、０又は負の整数で示し、ｚが正の時Ｙはアニオ
ン、例えばＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3 -、ＣｌＯ4 -、Ｎ
ＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、ＣＦ3ＳＯ3 -、Ｒ
ＳＯ3 -、ＲＳＯ4 -等であり、ｚが負の時Ｙはカチオン、
例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウ
ムカチオン等を示し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）を示し、Ｌ
は下記一般式［Ｂ］：
価の酸化状態の金属又はその混合物を示し、Ｘは配位種
又は架橋種であって、例えばＨ2Ｏ、ＯＨ-、Ｏ2-、
Ｓ2-、＞Ｓ＝Ｏ、Ｎ3-、ＨＯＯ-、Ｏ2 2-、Ｏ2 -、Ｒ−Ｃ
ＯＯ-、ＲＯ-、ＮＲ3（但し、ＲはＨ又は置換若しくは
未置換のアルキル基若しくはアリール基）、芳香族窒素
化合物、アセチルアセトナート基、シュウ酸基、Ｃ
ｌ-、ＳＣＮ-等、又はその組み合わせを示し、ｐは０〜
１２好ましくは３〜６の整数を示し、Ｙは錯体の電荷ｚ
に基づく性質の対イオンを示し、ｚは錯体の電荷を正の
整数、０又は負の整数で示し、ｚが正の時Ｙはアニオ
ン、例えばＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3 -、ＣｌＯ4 -、Ｎ
ＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、ＣＦ3ＳＯ3 -、Ｒ
ＳＯ3 -、ＲＳＯ4 -等であり、ｚが負の時Ｙはカチオン、
例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウ
ムカチオン等を示し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）を示し、Ｌ
は下記一般式［Ｂ］：
【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2の各々は、Ｏ、Ｈ、置換若しくは未
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、Ｄは各々
は個別にＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又はＳで、ＲはＨ、置換若
しくは未置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、
ＤがＮの時このＤに結合したヘテロ炭素原子の１つが不
飽和で−Ｎ＝ＣＲ1−フラグメントを形成し、ｔ及び
ｔ’の各々は個別に２又は３の整数であり、ｓは２、
３、４又は５である、）で示される大環式有機分子から
なるリガンドである、〕で示される金属錯体が挙げられ
る。
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、Ｄは各々
は個別にＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又はＳで、ＲはＨ、置換若
しくは未置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、
ＤがＮの時このＤに結合したヘテロ炭素原子の１つが不
飽和で−Ｎ＝ＣＲ1−フラグメントを形成し、ｔ及び
ｔ’の各々は個別に２又は３の整数であり、ｓは２、
３、４又は５である、）で示される大環式有機分子から
なるリガンドである、〕で示される金属錯体が挙げられ
る。
【００１７】上記に示す金属錯体の一般式［Ａ］におい
て、配位種又は架橋種Ｘは、好ましくは小さい配位イオ
ン又は架橋分子又はその組み合わせがよく、リガンドＬ
は好ましくは下記一般式［Ｃ］：
て、配位種又は架橋種Ｘは、好ましくは小さい配位イオ
ン又は架橋分子又はその組み合わせがよく、リガンドＬ
は好ましくは下記一般式［Ｃ］：
【化３】 （式中、Ｒ1及びＲ2の各々は、Ｏ、Ｈ、置換若しくは未
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、Ｄ及び
Ｄ’の各々は個別にＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又はＳで、Ｒは
Ｈ、置換若しくは未置換のアルキル基若しくはアリール
基を示し、ｔ及びｔ’の各々は個別に２又は３の整数で
あり、ｓは２〜４の整数である、）で示される大環式有
機分子が挙げられる。
置換のアルキル基若しくはアリール基を示し、Ｄ及び
Ｄ’の各々は個別にＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又はＳで、Ｒは
Ｈ、置換若しくは未置換のアルキル基若しくはアリール
基を示し、ｔ及びｔ’の各々は個別に２又は３の整数で
あり、ｓは２〜４の整数である、）で示される大環式有
機分子が挙げられる。
【００１８】前記一般式［Ａ］において、好ましくはｎ
＝ｍ＝２である。また、好ましいリガンドは、前記一般
式［Ｂ］又は［Ｃ］において、Ｄ又はＤ’がＮＨ又はＮ
Ｒを示し、ｔ及びｔ’が２又は３で、ｓが２、Ｒ1及び
Ｒ2がＨ又はアルキル基を示す錯体であり、より好まし
いリガンドはＤ又はＤ’がＮＣＨ3で、ｔ＝ｔ’＝２、
ｓが２、Ｒ1及びＲ2の各々がＨ又はアルキル基を示す錯
体である。
＝ｍ＝２である。また、好ましいリガンドは、前記一般
式［Ｂ］又は［Ｃ］において、Ｄ又はＤ’がＮＨ又はＮ
Ｒを示し、ｔ及びｔ’が２又は３で、ｓが２、Ｒ1及び
Ｒ2がＨ又はアルキル基を示す錯体であり、より好まし
いリガンドはＤ又はＤ’がＮＣＨ3で、ｔ＝ｔ’＝２、
ｓが２、Ｒ1及びＲ2の各々がＨ又はアルキル基を示す錯
体である。
【００１９】最も簡単な形態のリガンドの例としては、
下記の式（Ｉ）〜（IV）で表されるものが挙げられる。
下記の式（Ｉ）〜（IV）で表されるものが挙げられる。
【００２０】
【化４】
【００２１】
【化５】
【００２２】
【化６】
【００２３】
【化７】
【００２４】これらのリガンドを有する金属錯体は、予
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらのリガンドを有する金属錯体は
単核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化
状態で、２核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体
中で配位種及び／又は架橋種が金属中心間の架橋を形成
している。
め形成されていても、カビ取り剤組成物浴中で形成され
てもよい。また、これらのリガンドを有する金属錯体は
単核でも多核でもよい。リガンドの種類及び金属の酸化
状態で、２核又は多核の金属錯体を形成し得る。該錯体
中で配位種及び／又は架橋種が金属中心間の架橋を形成
している。
【００２５】これらリガンドのうちで最も好ましいもの
としては、式（III）の１，４，７−トリメチル−１，
４，７−トリアザシクロノナン（略号Ｍｅ−ＴＡＣＮ）
が挙げられる。
としては、式（III）の１，４，７−トリメチル−１，
４，７−トリアザシクロノナン（略号Ｍｅ−ＴＡＣＮ）
が挙げられる。
【００２６】金属錯体の具体例としては、次の表１で示
されるものが挙げられる。
されるものが挙げられる。
【００２７】
【表１】
【００２８】本発明においては、前記（Ａ）及び（Ｂ）
成分以外に、（Ｃ）成分として前記一般式［Ａ］で表さ
れる金属錯体と同じ対イオンを有する塩を含有させる
と、経時によるカビ除去能力の低下が防止されるという
効果が生じるので非常に好ましい。この（Ｃ）成分とし
て用いる金属錯体と同じ対イオンを有する塩としては、
Ｙがアニオンの場合、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3 -、Ｃ
ｌＯ4 -、ＮＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、ＣＦ3
ＳＯ3 -、ＲＳＯ3 -、ＲＳＯ4 -等を含む塩、また、Ｙがカ
チオンの場合、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はア
ンモニウムカチオン等を含む塩であり、特に好ましいの
はＮａＰＦ6、ＫＰＦ6等のフルオロリン酸塩とアルカリ
金属の塩、又はＮａＣｌＯ4、ＫＣｌＯ4等の過塩素酸塩
とアルカリ金属との塩である。
成分以外に、（Ｃ）成分として前記一般式［Ａ］で表さ
れる金属錯体と同じ対イオンを有する塩を含有させる
と、経時によるカビ除去能力の低下が防止されるという
効果が生じるので非常に好ましい。この（Ｃ）成分とし
て用いる金属錯体と同じ対イオンを有する塩としては、
Ｙがアニオンの場合、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3 -、Ｃ
ｌＯ4 -、ＮＣＳ-、ＰＦ6 -、ＲＳＯ4 -、ＯＡｃ-、ＣＦ3
ＳＯ3 -、ＲＳＯ3 -、ＲＳＯ4 -等を含む塩、また、Ｙがカ
チオンの場合、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はア
ンモニウムカチオン等を含む塩であり、特に好ましいの
はＮａＰＦ6、ＫＰＦ6等のフルオロリン酸塩とアルカリ
金属の塩、又はＮａＣｌＯ4、ＫＣｌＯ4等の過塩素酸塩
とアルカリ金属との塩である。
【００２９】この金属錯体において、錯体の電荷ｚに基
づく性質の対イオンＹは、錯体自体の化学量論量に相当
する対イオン量に対して１．１倍量以上含まれている必
要がある。１．１倍量より低い場合は、カビ取り剤溶液
を調整後の経時によるカビ除去能力が低下するので好ま
しくない。
づく性質の対イオンＹは、錯体自体の化学量論量に相当
する対イオン量に対して１．１倍量以上含まれている必
要がある。１．１倍量より低い場合は、カビ取り剤溶液
を調整後の経時によるカビ除去能力が低下するので好ま
しくない。
【００３０】このカビ取り剤組成物中に金属錯体と同じ
対イオンを有する塩を混合するには、金属錯体の合成の
際に対イオンを過剰に加え、金属錯体と塩とを同時に析
出させても、また金属錯体と対イオンを含む塩とを別に
添加しても良い。
対イオンを有する塩を混合するには、金属錯体の合成の
際に対イオンを過剰に加え、金属錯体と塩とを同時に析
出させても、また金属錯体と対イオンを含む塩とを別に
添加しても良い。
【００３１】金属錯体の含有量は特に限定されないが、
カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜１０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
【００３２】本発明において、カビ取り剤溶液のｐＨは
任意であるが、好ましくはアルカリ性である。このため
のアルカリ性物質としては、アルカリ金属やアンモニウ
ムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解してア
ルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱いやすく
ｐＨの調整が容易であるという点で炭酸ナトリウム又は
炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭酸カリウ
ムである。
任意であるが、好ましくはアルカリ性である。このため
のアルカリ性物質としては、アルカリ金属やアンモニウ
ムの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩等、水に溶解してア
ルカリ性を呈するものであればよいが、取り扱いやすく
ｐＨの調整が容易であるという点で炭酸ナトリウム又は
炭酸カリウムが好ましい。特に好ましいのは炭酸カリウ
ムである。
【００３３】これらアルカリ性物質の含有量は特に限定
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００３４】本発明のカビ取り剤組成物には、更に界面
活性剤を配合すると、壁面における付着滞留性が向上す
るので、非常に好ましい。即ち、スプレー容器等で壁面
にカビ取り剤組成物を噴霧したときに、該組成物中に界
面活性剤が含まれていると、壁面における付着滞留性が
向上し、強力なカビ除去力を発揮し得るものとなる。
活性剤を配合すると、壁面における付着滞留性が向上す
るので、非常に好ましい。即ち、スプレー容器等で壁面
にカビ取り剤組成物を噴霧したときに、該組成物中に界
面活性剤が含まれていると、壁面における付着滞留性が
向上し、強力なカビ除去力を発揮し得るものとなる。
【００３５】この場合、界面活性剤としては、一般に使
用される界面活性剤を用いることが出来る。この界面活
性剤は、例えばアルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
塩、α−スルホ脂肪酸アルコールエステル塩、スルホコ
ハク酸モノエステル塩等の陰イオン性界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、アルキルグリコシド、アルキルグリコシド脂肪
酸エステル、等の非イオン性界面活性剤、長鎖モノ、ジ
アルキル四級アンモニウム塩、アミンオキシド等の陽イ
オン性界面活性剤、カルボシキベタイン、スルホベタイ
ン等の両性界面活性剤等が挙げられる。
用される界面活性剤を用いることが出来る。この界面活
性剤は、例えばアルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
塩、α−スルホ脂肪酸アルコールエステル塩、スルホコ
ハク酸モノエステル塩等の陰イオン性界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ソルビタン脂肪酸エ
ステル、アルキルグリコシド、アルキルグリコシド脂肪
酸エステル、等の非イオン性界面活性剤、長鎖モノ、ジ
アルキル四級アンモニウム塩、アミンオキシド等の陽イ
オン性界面活性剤、カルボシキベタイン、スルホベタイ
ン等の両性界面活性剤等が挙げられる。
【００３６】これらの界面活性剤は、単独でもあるいは
２種類以上組み合わせてもよい。これらの界面活性剤の
含有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中に
おいて、０．１〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％
である。
２種類以上組み合わせてもよい。これらの界面活性剤の
含有量は特に限定されないが、カビ取り剤組成物浴中に
おいて、０．１〜１０重量％、好ましくは１〜５重量％
である。
【００３７】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望によりビルダ
ー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘剤、香料、色
素、酵素などを適宜配合することが出来る。
性、使用性などを向上させる目的で、所望によりビルダ
ー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘剤、香料、色
素、酵素などを適宜配合することが出来る。
【００３８】本発明におけるカビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として過
酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分として過
酸化水素溶液を、（Ｂ）成分としてアルカリ剤、金属錯
体、場合により塩等の混合物を用意し、これを使用前に
混合してスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として過
酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分として過
酸化水素溶液を、（Ｂ）成分としてアルカリ剤、金属錯
体、場合により塩等の混合物を用意し、これを使用前に
混合してスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
【００３９】また、ペルオキシ化合物として過炭酸ナト
リウム等の粉体を用いる場合は、アルカリ剤、金属錯
体、場合により塩等と混合した成分を用意し、これを使
用前に水と混合してスプレー容器等を用いて噴霧すれば
よい。
リウム等の粉体を用いる場合は、アルカリ剤、金属錯
体、場合により塩等と混合した成分を用意し、これを使
用前に水と混合してスプレー容器等を用いて噴霧すれば
よい。
【００４０】
【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
【００４１】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｆは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学社製 ＰＣ；過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学社製 ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト社製 ＴＰＤＣ：２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート ３−ＮＰＡ：無水３−ニトロフタル酸；試薬 Ａ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］（ＰＦ6)2・
Ｈ2Ｏ Ｂ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)1(μ−ＯＡｃ)2(Ｍｅ−ＴＡＣ
Ｎ)2］(ＣｌＯ4)2・Ｈ2Ｏ Ｃ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)3(Ｍｅ／Ｍｅ−ＴＡＣＮ）2］(Ｐ
Ｆ6)2 Ｄ：［Ｃｏ2(μ−ＯＨ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
3 Ｅ：［Ｆｅ2(μ−ＯＨ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
2・２ＭｅＯＨ・２Ｈ2Ｏ Ｆ：［Ｃｕ2(μ−ＯＨ)2(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
2 炭酸カリウム；旭硝子社製 炭酸ナトリウム；旭硝子社製 ＮＥＳ：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルサ
ルフェート（ｐ＝９）；自社製 ＬＡＳ：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；
自社製 ＮＲＥ：ポリオキシエチレンラウリルエーテル（ｐ＝
９）；自社製
を持ち、ＴＰＤＣ及びＡ〜Ｆは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学社製 ＰＣ；過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学社製 ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト社製 ＴＰＤＣ：２−（４−メトキシカルボニルベンゾイルオ
キシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエタンアミニウム メ
トサルフェート ３−ＮＰＡ：無水３−ニトロフタル酸；試薬 Ａ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］（ＰＦ6)2・
Ｈ2Ｏ Ｂ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)1(μ−ＯＡｃ)2(Ｍｅ−ＴＡＣ
Ｎ)2］(ＣｌＯ4)2・Ｈ2Ｏ Ｃ：［Ｍｎ2(μ−Ｏ)3(Ｍｅ／Ｍｅ−ＴＡＣＮ）2］(Ｐ
Ｆ6)2 Ｄ：［Ｃｏ2(μ−ＯＨ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
3 Ｅ：［Ｆｅ2(μ−ＯＨ)3(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
2・２ＭｅＯＨ・２Ｈ2Ｏ Ｆ：［Ｃｕ2(μ−ＯＨ)2(Ｍｅ−ＴＡＣＮ)2］(ＣｌＯ4)
2 炭酸カリウム；旭硝子社製 炭酸ナトリウム；旭硝子社製 ＮＥＳ：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルサ
ルフェート（ｐ＝９）；自社製 ＬＡＳ：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；
自社製 ＮＲＥ：ポリオキシエチレンラウリルエーテル（ｐ＝
９）；自社製
【００４２】また、各例におけるカビの除去効果、刺激
臭の無さ及び付着滞留性は、次のようにして測定した。
臭の無さ及び付着滞留性は、次のようにして測定した。
【００４３】（イ）カビの除去効果；黒カビ（Ｃｌａｄ
ｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）
を培養し、付着させて調整した素焼きタイル表面（２．
５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下
する（実施例１〜１６＆比較例１〜４）か、又は同じく
付着させて調整した素焼きタイルを垂直に立てた表面
（３×３ｃｍ）に、各試料をトリガー（吉野工業所社
製）より等量（０．５ｍＬ）噴霧して（実施例１７〜３
２）、１５分間放置した後、水洗を行い、３０℃で２時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ（真菌用：
サブロー寒天）を１時間密着させ、３０℃による経時
（２日）変化を観察し、以下の評価基準で判定した。な
お、実施例３３〜４８及び比較例５においては、調整直
後及び３０分経時後の各試料を等量（０．５ｍＬ）素焼
タイル表面に滴下した。
ｏｓｐｏｒｉｕｍ ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）
を培養し、付着させて調整した素焼きタイル表面（２．
５×２．５ｃｍ）に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下
する（実施例１〜１６＆比較例１〜４）か、又は同じく
付着させて調整した素焼きタイルを垂直に立てた表面
（３×３ｃｍ）に、各試料をトリガー（吉野工業所社
製）より等量（０．５ｍＬ）噴霧して（実施例１７〜３
２）、１５分間放置した後、水洗を行い、３０℃で２時
間乾燥した。このタイルに、フードスタンプ（真菌用：
サブロー寒天）を１時間密着させ、３０℃による経時
（２日）変化を観察し、以下の評価基準で判定した。な
お、実施例３３〜４８及び比較例５においては、調整直
後及び３０分経時後の各試料を等量（０．５ｍＬ）素焼
タイル表面に滴下した。
【００４４】
【００４５】（ロ）刺激臭の無さ；５．５ｍ3の密閉さ
れた浴室の側面全体に、各試料２００ｍＬをトリガー容
器より満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で官能により判定し
た。尚、試験は５人で行った。
れた浴室の側面全体に、各試料２００ｍＬをトリガー容
器より満遍なく噴霧し、３分間そのままの状態でいた時
の刺激臭の程度を、以下の評価基準で官能により判定し
た。尚、試験は５人で行った。
【００４６】
【００４７】（ハ）付着滞留性；試料が定常状態で噴霧
されるように調整されたトリガー（吉野工業所社製）を
用いて、距離が２０ｃｍになる位置から、垂直に立てた
スプレーパネル（３０×３０ｃｍ）の中央部分に噴霧
し、１０秒後にパネルの重量を測定する。この試験を３
回行い、次式により付着滞留率を算出し、以下の評価基
準で判定した。
されるように調整されたトリガー（吉野工業所社製）を
用いて、距離が２０ｃｍになる位置から、垂直に立てた
スプレーパネル（３０×３０ｃｍ）の中央部分に噴霧
し、１０秒後にパネルの重量を測定する。この試験を３
回行い、次式により付着滞留率を算出し、以下の評価基
準で判定した。
【式１】
【００４８】
【００４９】（ニ）対イオンの量；蛍光Ｘ線（蛍光Ｘ線
分析装置ＳＹＳＴＥＭ３２７０：理学電機社製）を用い
て対イオンの定量を行った。先ず、遷移金属、対イオン
に基づく既知濃度に調整したサンプル各３点、計６点
（例えば二酸化マンガン、ヘキサフルオロリン酸ナトリ
ウム）を測定径３ｃｍのペレットにし、これを試料台に
セットして、測定電流５０ｍＡ、電圧５０ｋＶ、ＰＲガ
ス流量５０ｍＬにてＰのｋαスペクトル強度の測定を行
い、検量線を作成した。同様に本発明の金属錯体と金属
錯体と同じ対イオンを有する塩とを同時に析出させた混
合物を用いて測定を行い、検量線から遷移金属、対イオ
ン金属の配合量を求め、計算により、金属錯体に含まれ
る対イオンの量と混合物に含まれる対イオンの量を求め
た。
分析装置ＳＹＳＴＥＭ３２７０：理学電機社製）を用い
て対イオンの定量を行った。先ず、遷移金属、対イオン
に基づく既知濃度に調整したサンプル各３点、計６点
（例えば二酸化マンガン、ヘキサフルオロリン酸ナトリ
ウム）を測定径３ｃｍのペレットにし、これを試料台に
セットして、測定電流５０ｍＡ、電圧５０ｋＶ、ＰＲガ
ス流量５０ｍＬにてＰのｋαスペクトル強度の測定を行
い、検量線を作成した。同様に本発明の金属錯体と金属
錯体と同じ対イオンを有する塩とを同時に析出させた混
合物を用いて測定を行い、検量線から遷移金属、対イオ
ン金属の配合量を求め、計算により、金属錯体に含まれ
る対イオンの量と混合物に含まれる対イオンの量を求め
た。
【００５０】実施例１〜４及び比較例１〜３ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表２に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビ
の除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結
果を表２に示す。
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビ
の除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結
果を表２に示す。
【００５１】
【表２】
【００５２】実施例５〜９及び比較例４ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表３に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ、ＴＰＤＣ及び３−ＮＰＡ）と金属錯体及びアル
カリ性物質を混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無
さの試験を行った。その結果を表３に示す。
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ、ＴＰＤＣ及び３−ＮＰＡ）と金属錯体及びアル
カリ性物質を混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無
さの試験を行った。その結果を表３に示す。
【００５３】
【表３】
【００５４】実施例１０〜１６ 表４に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質を水に混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表４に示す。
ルオキシ化合物と金属錯体及びアルカリ性物質を水に混
合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行っ
た。その結果を表４に示す。
【００５５】
【表４】
【００５６】表２〜表４の結果から、本発明の（Ａ）ペ
ルオキシ化合物と、（Ｂ）金属錯体を含有するカビ取り
剤組成物は、強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭が
ないものであることが判る。
ルオキシ化合物と、（Ｂ）金属錯体を含有するカビ取り
剤組成物は、強力なカビ除去力を示し、しかも刺激臭が
ないものであることが判る。
【００５７】実施例１７〜２１ 濃度５重量％の過酸化水素と３重量％のＮＥＳ混合水溶
液に、表５に示す組成（前記水溶液に対する重量％）の
ペルオキシ化合物（ＴＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ
性物質を混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試
験を行った。また、界面活性剤（ＮＥＳ）を配合せず
に、濃度５重量％の過酸化水素溶液のみに、表５に示す
組成（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物
（ＴＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、
カビの除去効果、及び付着滞留性の試験を行った（実施
例２１）。その結果を表５に示す。
液に、表５に示す組成（前記水溶液に対する重量％）の
ペルオキシ化合物（ＴＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ
性物質を混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の試
験を行った。また、界面活性剤（ＮＥＳ）を配合せず
に、濃度５重量％の過酸化水素溶液のみに、表５に示す
組成（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物
（ＴＡＥＤ）と金属錯体及びアルカリ性物質を混合し、
カビの除去効果、及び付着滞留性の試験を行った（実施
例２１）。その結果を表５に示す。
【００５８】
【表５】
【００５９】実施例２２〜２７ 濃度５重量％の過酸化水素と表６に示す界面活性剤の混
合水溶液に、表６に示す組成（前記水溶液に対する重量
％）のペルオキシ化合物（ＴＡＥＤ、ＴＰＤＣ）と金属
錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及
び付着滞留性の試験を行った。その結果を表６に示す。
合水溶液に、表６に示す組成（前記水溶液に対する重量
％）のペルオキシ化合物（ＴＡＥＤ、ＴＰＤＣ）と金属
錯体及びアルカリ性物質を混合し、カビの除去効果、及
び付着滞留性の試験を行った。その結果を表６に示す。
【００６０】
【表６】
【００６１】実施例２８〜３２ 表７に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と金属錯体と界面活性剤及びアルカリ性
物質を水に混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の
試験を行った。また、界面活性剤（ＬＡＳ）を配合せず
に、表７に示す組成のペルオキシ化合物と金属錯体及び
アルカリ性物質を水に混合し、カビの除去効果、及び付
着滞留性の試験を行った（実施例３２）。その結果を表
７に示す。
ルオキシ化合物と金属錯体と界面活性剤及びアルカリ性
物質を水に混合し、カビの除去効果、及び付着滞留性の
試験を行った。また、界面活性剤（ＬＡＳ）を配合せず
に、表７に示す組成のペルオキシ化合物と金属錯体及び
アルカリ性物質を水に混合し、カビの除去効果、及び付
着滞留性の試験を行った（実施例３２）。その結果を表
７に示す。
【００６２】
【表７】
【００６３】表５〜表７の結果から、本発明の前記
（Ａ）及び（Ｂ）成分を含む組成物に更に界面活性剤を
含有するカビ取り剤組成物は、スプレー容器等で壁面に
該組成物を噴霧したときに付着滞留性が向上し、非常に
優れたカビ除去力を示すことが判る。
（Ａ）及び（Ｂ）成分を含む組成物に更に界面活性剤を
含有するカビ取り剤組成物は、スプレー容器等で壁面に
該組成物を噴霧したときに付着滞留性が向上し、非常に
優れたカビ除去力を示すことが判る。
【００６４】実施例３３ 脱気した水−エタノール混合溶媒（エタノール５０ｖｏ
ｌ％）１２０ｍＬにビス−アセタト−μ−オキソ−ビス
−［（１，４，７−トリメチル−１，４，７−トリアザ
シクロノナン）マンガン（IV）］過塩素酸塩２．６ｇ、
トリエチルアミン１５．３ｍＬ、ヘキサフルオロリン酸
ナトリウム７．０、９．０、１３．０、１６．０ｇを溶
解した。室温で３０分間静置し、生じた黒色沈殿を濾過
した後、溶液を冷蔵庫中で３日間静置することにより、
トリス−μ−オキソ−ビス−［（１，４，７−トリメチ
ル−１，４，７−トリアザシクロノナン）マンガン（I
V）］ヘキサフルオロリン酸塩とヘキサフルオロリン酸
ナトリウムの混合物４種類を得た。それぞれの混合物を
先の分析法により元素分析した結果、混合物中に含まれ
るヘキサフルオロリン酸イオンの量は、錯体の対イオン
として含まれるヘキサフルオロリン酸イオンの量に対し
て１．０２、１．１２、１．５０、２．０８倍量であっ
た。得られた金属錯体／同対イオン混合物を、それぞれ
金属錯体Ｇ、Ｈ、Ｉ、Ｊと表記する。
ｌ％）１２０ｍＬにビス−アセタト−μ−オキソ−ビス
−［（１，４，７−トリメチル−１，４，７−トリアザ
シクロノナン）マンガン（IV）］過塩素酸塩２．６ｇ、
トリエチルアミン１５．３ｍＬ、ヘキサフルオロリン酸
ナトリウム７．０、９．０、１３．０、１６．０ｇを溶
解した。室温で３０分間静置し、生じた黒色沈殿を濾過
した後、溶液を冷蔵庫中で３日間静置することにより、
トリス−μ−オキソ−ビス−［（１，４，７−トリメチ
ル−１，４，７−トリアザシクロノナン）マンガン（I
V）］ヘキサフルオロリン酸塩とヘキサフルオロリン酸
ナトリウムの混合物４種類を得た。それぞれの混合物を
先の分析法により元素分析した結果、混合物中に含まれ
るヘキサフルオロリン酸イオンの量は、錯体の対イオン
として含まれるヘキサフルオロリン酸イオンの量に対し
て１．０２、１．１２、１．５０、２．０８倍量であっ
た。得られた金属錯体／同対イオン混合物を、それぞれ
金属錯体Ｇ、Ｈ、Ｉ、Ｊと表記する。
【００６５】実施例３４〜３７及び比較例５ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表８に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ）と本発明の金属錯体と金属錯体と同じ対イオン
を有する塩の混合物等を混合し、カビの除去効果、及び
刺激臭の無さの試験を行った。その結果を表８に示す。
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ化合物（Ｔ
ＡＥＤ）と本発明の金属錯体と金属錯体と同じ対イオン
を有する塩の混合物等を混合し、カビの除去効果、及び
刺激臭の無さの試験を行った。その結果を表８に示す。
【００６６】
【表８】
【００６７】実施例３８〜４４ 表９に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物と本発明の金属錯体と金属錯体と同じ対
イオンを有する塩の混合物、及びアルカリ性物質を水に
混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行
った。その結果を表９に示す。
ルオキシ化合物と本発明の金属錯体と金属錯体と同じ対
イオンを有する塩の混合物、及びアルカリ性物質を水に
混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行
った。その結果を表９に示す。
【００６８】
【表９】
【００６９】実施例４５〜４８ 表１０に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）の
ペルオキシ化合物、本発明の金属錯体と金属錯体と同じ
対イオンを有する塩の混合物、及びアルカリ性物質を水
に混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を
行った。金属錯体と、金属錯体と同じ対イオンを有する
塩の混合物は、金属錯体とフルオロリン酸ナトリウムと
の混合により調整し、その組成は金属錯体に含まれる対
イオンに対し、混合物中の対イオンの総量が表１０に示
す倍量となるようにした。得られた金属錯体／同対イオ
ン混合物を、それぞれ金属錯体Ｋ、Ｌ、Ｍ、Ｎと表記す
る。
ペルオキシ化合物、本発明の金属錯体と金属錯体と同じ
対イオンを有する塩の混合物、及びアルカリ性物質を水
に混合し、カビの除去効果、及び刺激臭の無さの試験を
行った。金属錯体と、金属錯体と同じ対イオンを有する
塩の混合物は、金属錯体とフルオロリン酸ナトリウムと
の混合により調整し、その組成は金属錯体に含まれる対
イオンに対し、混合物中の対イオンの総量が表１０に示
す倍量となるようにした。得られた金属錯体／同対イオ
ン混合物を、それぞれ金属錯体Ｋ、Ｌ、Ｍ、Ｎと表記す
る。
【００７０】
【表１０】
【００７１】表８〜表１０の結果から、本発明の前記
（Ａ）ペルオキシ化合物と（Ｂ）金属錯体を含む組成物
に、更に（Ｃ）成分として該金属錯体と同じ対イオンを
有する塩を、（Ｂ）＋（Ｃ）成分中の対イオン全量が
（Ｂ）成分中の対イオンに対しモル比で１．１倍量以上
含有させたカビ取り剤組成物は、経時によるカビ除去能
力の低下が防止され、長期にわたり強力なカビ除去力を
示すことが判る。
（Ａ）ペルオキシ化合物と（Ｂ）金属錯体を含む組成物
に、更に（Ｃ）成分として該金属錯体と同じ対イオンを
有する塩を、（Ｂ）＋（Ｃ）成分中の対イオン全量が
（Ｂ）成分中の対イオンに対しモル比で１．１倍量以上
含有させたカビ取り剤組成物は、経時によるカビ除去能
力の低下が防止され、長期にわたり強力なカビ除去力を
示すことが判る。
【００７２】
【発明の効果】請求項１及び２のカビ取り剤組成物は、
高いカビ除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低
下させると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガ
スが発生する危険性がないので、実用上極めて有用であ
る。
高いカビ除去能力を有するため、カビの再繁殖を極力低
下させると共に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガ
スが発生する危険性がないので、実用上極めて有用であ
る。
【００７３】請求項３のカビ取り剤組成物は、経時によ
るカビ除去能力の低下が防止され、長期にわたり、高い
カビ除去能力を有するので、カビの再繁殖を極力低下さ
せる上に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが発
生する危険性がないので、実用上極めて有用である。
るカビ除去能力の低下が防止され、長期にわたり、高い
カビ除去能力を有するので、カビの再繁殖を極力低下さ
せる上に、刺激臭がなくしかも使用時に有害なガスが発
生する危険性がないので、実用上極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ａ０１Ｎ 55/02 Ａ０１Ｎ 55/02 Ｅ Ｇ 59/00 59/00 Ａ Ｃ Ｃ１１Ｄ 7/60 Ｃ１１Ｄ 7/60 //(Ｃ１１Ｄ 7/60 7:18 7:26 7:32 7:38 7:12） (72)発明者 久保園 隆康 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環
式有機分子であるリガンドを有する金属錯体とを含有す
ることを特徴とするカビ取り剤組成物。 - 【請求項２】 前記金属錯体が、下記一般式［Ａ］で表
される化合物である請求項１記載のカビ取り剤組成物。 【化１】 〔式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］： 【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2はＯ、Ｈ、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕 - 【請求項３】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）大環
式有機分子であるリガンドを有する金属錯体と、（Ｃ）
該金属錯体と同じ対イオンを有する塩を含有する組成物
において、（Ｂ）の金属錯体が、下記一般式［Ａ］： 【化１】 〔式中、ＭはＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｗ、Ｒｅより選ば
れるII〜Ｖ価の酸化状態の遷移金属、又はその混合物で
あり、ｎ及びｍはそれぞれ１〜４の整数であり、Ｘは配
位種又は架橋種を表し、ｐは０〜１２の整数であり、Ｙ
は対イオンであって、その種類は正、０若しくは負であ
り得る錯体の電荷ｚに依存し、ｑはｚ／（Ｙの電荷）で
あり、Ｌは下記一般式［Ｂ］： 【化２】 （式中、Ｒ1及びＲ2はＯ、Ｈ、任意に置換されたアルキ
ル基又はアリール基であり、ｔ及びｔ’はそれぞれ２〜
３の整数であり、各ＤはそれぞれＮ、ＮＲ、ＰＲ、Ｏ又
はＳであり、ここでＲはＨ、任意に置換されたアルキル
基又はアリール基であり、ｓは２〜５の整数である、）
を有するリガンドである。〕で表される金属錯体であ
り、しかもその組成中において（Ｂ）と（Ｃ）に含まれ
るＹの合計が（Ｂ）に含まれるＹに対し、モル比で１．
１倍量以上含まれていることを特徴とするカビ取り剤組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9320470A JPH10298592A (ja) | 1997-02-28 | 1997-11-06 | カビ取り剤組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-62272 | 1997-02-28 | ||
| JP6227297 | 1997-02-28 | ||
| JP9320470A JPH10298592A (ja) | 1997-02-28 | 1997-11-06 | カビ取り剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10298592A true JPH10298592A (ja) | 1998-11-10 |
Family
ID=26403340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9320470A Pending JPH10298592A (ja) | 1997-02-28 | 1997-11-06 | カビ取り剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10298592A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8592617B2 (en) | 2005-12-21 | 2013-11-26 | Roche Diagnostics Operations, Inc. | Redox mediators |
-
1997
- 1997-11-06 JP JP9320470A patent/JPH10298592A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8592617B2 (en) | 2005-12-21 | 2013-11-26 | Roche Diagnostics Operations, Inc. | Redox mediators |
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