JPH11140496A - カビ取り剤組成物 - Google Patents
カビ取り剤組成物Info
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- JPH11140496A JPH11140496A JP9327087A JP32708797A JPH11140496A JP H11140496 A JPH11140496 A JP H11140496A JP 9327087 A JP9327087 A JP 9327087A JP 32708797 A JP32708797 A JP 32708797A JP H11140496 A JPH11140496 A JP H11140496A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 使用時に有害なガスの発生がなく、刺激臭が
無く、カビの除去及び長期にカビ発生防止しうる組成物
を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）フッ
素イオンまたはフッ素を含む配位子を含有する遷移金属
の錯体とを含有することを特徴とするカビ取り剤組成
物。
無く、カビの除去及び長期にカビ発生防止しうる組成物
を提供する。 【解決手段】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）フッ
素イオンまたはフッ素を含む配位子を含有する遷移金属
の錯体とを含有することを特徴とするカビ取り剤組成
物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、使用時に有害なガ
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、カビを除去し、
しかもカビの発生を防止しうる優れた酸素系のカビ取り
用組成物に関する。
スの発生がなく、しかも刺激臭のない、カビを除去し、
しかもカビの発生を防止しうる優れた酸素系のカビ取り
用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】住居廻りにおける浴室、浴槽、トイレ、
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系または酸素系漂白剤を主成分とするもの
を用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくする
という方法が採られてきた。
流し台等、特に水を頻繁に使用する箇所の汚れは、カビ
に起因する有機物や不溶性の無機物によるものが多く、
界面活性剤を主成分とする通常の洗浄剤ではなかなか除
去することが出来ないため、これらの汚れを除去するに
は、従来塩素系または酸素系漂白剤を主成分とするもの
を用い、その漂白効果によりカビの色を目立たなくする
という方法が採られてきた。
【０００３】しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムのよ
うな塩素系漂白剤を主成分とするのは、カビ色素の漂白
力とカビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛
める危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には十
分な換気を留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と
誤って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する欠点を
有している。
うな塩素系漂白剤を主成分とするのは、カビ色素の漂白
力とカビの除去性能は優れているものの、目や皮膚を痛
める危険性が大きい上、塩素臭が強く使用する際には十
分な換気を留意しなければならず、また酸性の洗浄剤と
誤って併用した場合、有害な塩素ガスを発生する欠点を
有している。
【０００４】一方、過酸化水素に代表される酸素系漂白
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号公報、特開平２−１９６８９６号公報、特開昭
６２−４７９４号公報）。
剤を主成分とするものは、塩素ガスを発生するという欠
点はないが、単独では十分な漂白効果によるカビ色素の
退色効果が得られず、そのため各種の漂白活性化剤を併
用しなければならなかった（例えば、特開平２−２２５
６００号公報、特開平２−１９６８９６号公報、特開昭
６２−４７９４号公報）。
【０００５】また、過酸化水素等の酸素系漂白剤に漂白
触媒としてポリオキソメタラートを併用した漂白組成物
も提案されている（特開平９−１１８８９９号公報）。
触媒としてポリオキソメタラートを併用した漂白組成物
も提案されている（特開平９−１１８８９９号公報）。
【０００６】しかしながら、これら有機過酸系漂白活性
化剤や漂白触媒を併用しても、カビ色素に対する漂白効
果が若干向上するのみで、カビ本来の除去という点に関
しては依然不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付
きやすいという欠点を有している。
化剤や漂白触媒を併用しても、カビ色素に対する漂白効
果が若干向上するのみで、カビ本来の除去という点に関
しては依然不十分であるために、繰り返しカビ汚れが付
きやすいという欠点を有している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、使用時に有
害なガスの発生がなく、刺激臭が無く、カビ本来の除去
に適し、しかもカビの発生を長期に防止しうる組成物を
提供することを目的とする。
害なガスの発生がなく、刺激臭が無く、カビ本来の除去
に適し、しかもカビの発生を長期に防止しうる組成物を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、強力なカ
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、フ
ッ素イオンまたはフッ素を配位子とする遷移金属の錯体
を組み合わせることにより、前記目的を達成しうること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
ビ除去力を示し、しかも刺激臭のない組成物を開発する
ために鋭意研究を重ねた結果、ペルオキシ化合物と、フ
ッ素イオンまたはフッ素を配位子とする遷移金属の錯体
を組み合わせることにより、前記目的を達成しうること
を見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
【０００９】即ち本発明によれば、（Ａ）ペルオキシ化
合物と、（Ｂ）遷移金属とフッ素イオンまたはフッ素を
含有する配位子を含む遷移金属錯体を含有することを特
徴とするカビ取り剤組成物を提供される。
合物と、（Ｂ）遷移金属とフッ素イオンまたはフッ素を
含有する配位子を含む遷移金属錯体を含有することを特
徴とするカビ取り剤組成物を提供される。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明における（Ａ）成分として
用いるペルオキシ化合物としては、無機及び／または有
機過酸化物であり、例えば過酸化水素、過酸化水素遊離
化合物、過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及びそ
の塩、ペルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの混
合物が挙げられる。
用いるペルオキシ化合物としては、無機及び／または有
機過酸化物であり、例えば過酸化水素、過酸化水素遊離
化合物、過酸化水素発生システム、ペルオキシ酸及びそ
の塩、ペルオキシ酸前駆体システム、並びにこれらの混
合物が挙げられる。
【００１１】過酸化水素源としてはアルカリ金属の過酸
化物、過酸化尿素のような、無機過酸化物、有機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは過酸
化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過
硫酸カリウムである。
化物、過酸化尿素のような、無機過酸化物、有機過酸化
物、例えばアルカリ金属過ホウ酸塩、過炭酸塩、過リン
酸塩及び過硫酸塩が挙げられる。これらの化合物を２種
以上混合してもよい。この中でも特に好ましいのは過酸
化水素、過炭酸ナトリウム、過ホウ酸ナトリウム及び過
硫酸カリウムである。
【００１２】該ペルオキシ化合物の含有量は、カビ取り
剤組成物中、１〜２０重量％が好ましく、特に５〜１０
重量％が好ましい。
剤組成物中、１〜２０重量％が好ましく、特に５〜１０
重量％が好ましい。
【００１３】これらペルオキシ化合物は単独で、または
ペルオキシ酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。こ
れらのペルオキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過
酸化水素遊離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を
生成するものが挙げられる。具体的には、アシルフェノ
ールスルホネート、アシルアルキルフェノールスルホネ
ート、アシルフェノールカルボキシレート、アシル化ク
エン酸エステル、アシルアルキルフェノールカルボキシ
レート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミンを有する
アルコールとのエステル、等のエステル類；ナトリウム
−４ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウ
ム−１−メチル−２ベンゾイルオキシベンゼン−４−ス
ルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカル
ボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカ
ルボキシレート、アセチルトリエチルシトレート、２，
２′−テレフタロイルジオキシビス〔（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチル）エチルアンモニウムメチルスルファート〕等
が挙げられる。
ペルオキシ酸前駆体と組み合わせて使用してもよい。こ
れらのペルオキシ酸前駆体としては、過酸化水素及び過
酸化水素遊離化合物と共に用いられ、浴中で有機過酸を
生成するものが挙げられる。具体的には、アシルフェノ
ールスルホネート、アシルアルキルフェノールスルホネ
ート、アシルフェノールカルボキシレート、アシル化ク
エン酸エステル、アシルアルキルフェノールカルボキシ
レート、芳香族二価カルボン酸と四級化アミンを有する
アルコールとのエステル、等のエステル類；ナトリウム
−４ベンゾイルオキシベンゼンスルホネート、ナトリウ
ム−１−メチル−２ベンゾイルオキシベンゼン−４−ス
ルホネート、ナトリウムノナノイルオキシベンゼンカル
ボキシレート、ナトリウムデカノイルオキシベンゼンカ
ルボキシレート、アセチルトリエチルシトレート、２，
２′−テレフタロイルジオキシビス〔（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチル）エチルアンモニウムメチルスルファート〕等
が挙げられる。
【００１４】また、アシルアミド類ペルオキシ酸前駆体
として；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラアセチルエチレン
ジアミン、更に第４級アンモニウム置換ペルオキシ酸前
駆体として；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムトル
イルオキシベンゼンスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリメチルアンモニウム）エチル−４−スルホフェニル
カーボネート等が挙げられる。
として；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラアセチルエチレン
ジアミン、更に第４級アンモニウム置換ペルオキシ酸前
駆体として；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムトル
イルオキシベンゼンスルホネート、２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリメチルアンモニウム）エチル−４−スルホフェニル
カーボネート等が挙げられる。
【００１５】これらペルオキシ酸前駆体の含有量は特に
限定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜
２０重量％、好ましくは５〜１０重量％である。また、
ペルオキシ化合物とペルオキシ酸前駆体との使用割合は
７／３〜５／５が好ましい。
限定されないが、カビ取り剤組成物浴中において、１〜
２０重量％、好ましくは５〜１０重量％である。また、
ペルオキシ化合物とペルオキシ酸前駆体との使用割合は
７／３〜５／５が好ましい。
【００１６】また、本発明において、（Ｂ）成分として
用いる金属錯体は、金属として遷移金属を有し、少なく
とも配位子としてフッ素イオンまたはフッ素を有する配
位子を有する錯体である。該錯体に、フッ素イオンまた
はフッ素を配位子として含有させるためには、用いる遷
移金属として遷移金属のフッ素化物を用いればよく、こ
のようなフッ素化物としては、フッ化バナジウム、フッ
化クロム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバル
ト、フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化モリブデン、フ
ッ化ルテニウム、フッ化ロジウム、フッ化パラジウム、
フッ化タングステン、フッ化レニウム、フッ化イリジウ
ム、フッ化白金等のフッ化物が挙げられる。このよう
な、配位子としてフッ素イオン又はフッ素を有する配位
子を含有する金属錯体は他の配位子を含有する金属錯体
に比べそのカビ取り能力が著しく優れたものである。こ
の理由は現時点では定かではないが、フッ素イオン又は
フッ素を有する配位子は中心金属の価数を高次元化させ
る機能を発揮し、このため該金属錯体の酸化力が高ま
り、カビ取り能力が増大するのもと思われる。
用いる金属錯体は、金属として遷移金属を有し、少なく
とも配位子としてフッ素イオンまたはフッ素を有する配
位子を有する錯体である。該錯体に、フッ素イオンまた
はフッ素を配位子として含有させるためには、用いる遷
移金属として遷移金属のフッ素化物を用いればよく、こ
のようなフッ素化物としては、フッ化バナジウム、フッ
化クロム、フッ化マンガン、フッ化鉄、フッ化コバル
ト、フッ化ニッケル、フッ化銅、フッ化モリブデン、フ
ッ化ルテニウム、フッ化ロジウム、フッ化パラジウム、
フッ化タングステン、フッ化レニウム、フッ化イリジウ
ム、フッ化白金等のフッ化物が挙げられる。このよう
な、配位子としてフッ素イオン又はフッ素を有する配位
子を含有する金属錯体は他の配位子を含有する金属錯体
に比べそのカビ取り能力が著しく優れたものである。こ
の理由は現時点では定かではないが、フッ素イオン又は
フッ素を有する配位子は中心金属の価数を高次元化させ
る機能を発揮し、このため該金属錯体の酸化力が高ま
り、カビ取り能力が増大するのもと思われる。
【００１７】遷移金属としては特に、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅより選ばれるII〜VI価の酸化状態の遷移金
属が好ましい。また、錯体形成後、フッ化ナトリウム等
のフッ化物塩を加えてもよい。
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｗ、Ｒｅより選ばれるII〜VI価の酸化状態の遷移金
属が好ましい。また、錯体形成後、フッ化ナトリウム等
のフッ化物塩を加えてもよい。
【００１８】また、本発明において、（Ｂ）成分とし
て、フッ素イオンまたはフッ素を有する配位子を用いる
ものであるが、これらの配位子と共に従来公知の配位子
を併用することができる。このような配位子としては、
ピリジン、エチレンジアミン等の２座配位子、ターピリ
ジン、ポルフィリン等の３座以上平面配位子、環状アミ
ン等の３座以上立体配位子、２核確定配位子等が挙げら
れる。
て、フッ素イオンまたはフッ素を有する配位子を用いる
ものであるが、これらの配位子と共に従来公知の配位子
を併用することができる。このような配位子としては、
ピリジン、エチレンジアミン等の２座配位子、ターピリ
ジン、ポルフィリン等の３座以上平面配位子、環状アミ
ン等の３座以上立体配位子、２核確定配位子等が挙げら
れる。
【００１９】これらのフッ素イオンまたはフッ素を含有
する配位子を含む遷移金属錯体は、予め形成されていて
も、カビ取り剤組成物浴中で形成されてもよい。また、
これら金属錯体は単核でも多核でもよい。配位子の種類
及び金属の酸化状態で、２核または多核の金属錯体を形
成し得る。該錯体中で配位種及び／または架橋種が金属
中心間の架橋を形成している。
する配位子を含む遷移金属錯体は、予め形成されていて
も、カビ取り剤組成物浴中で形成されてもよい。また、
これら金属錯体は単核でも多核でもよい。配位子の種類
及び金属の酸化状態で、２核または多核の金属錯体を形
成し得る。該錯体中で配位種及び／または架橋種が金属
中心間の架橋を形成している。
【００２０】これら遷移金属錯体の含有量は特に限定さ
れないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜
１０００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
れないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．０１〜
１０００ｐｐｍ、好ましくは１〜５００ｐｐｍである。
【００２１】本発明のカビ取り剤組成物のｐＨは特に限
定されないが、弱アルカリ性であることが好ましい。弱
アルカリ性とするための成分として用いるアルカリ性物
質は、アルカリ金属やアンモニウムの水酸化物、炭酸
塩、炭酸水素塩等、水に溶解してアルカリ性を呈するも
のであればよいが、取り扱いやすくｐＨの調整が容易で
あるという点で炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムが好
ましい。特に好ましいのは炭酸カリウムである。
定されないが、弱アルカリ性であることが好ましい。弱
アルカリ性とするための成分として用いるアルカリ性物
質は、アルカリ金属やアンモニウムの水酸化物、炭酸
塩、炭酸水素塩等、水に溶解してアルカリ性を呈するも
のであればよいが、取り扱いやすくｐＨの調整が容易で
あるという点で炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムが好
ましい。特に好ましいのは炭酸カリウムである。
【００２２】これらアルカリ性物質の含有量は特に限定
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
されないが、カビ取り剤組成物浴中において、０．１〜
２０重量％、好ましくは１〜１０重量％である。
【００２３】本発明のカビ取り剤組成物には、保存安定
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することができ
る。
性、使用性などを向上させる目的で、所望により界面活
性剤、ビルダー、ラジカル捕捉剤、アルコール類、増粘
剤、香料、色素、酵素などを適宜配合することができ
る。
【００２４】本発明におけるガビ取り剤組成物の使用形
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として、
過酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分として
過酸化水素溶液を、（Ｂ）成分として金属錯体、アルカ
リ剤等の混合物を用意し、これを使用前に混合してスプ
レー容器等を用いて噴霧すればよい。
態は特に限定されないが、ペルオキシ化合物の性状によ
り使用形態が異なる。即ち、ペルオキシ化合物として、
過酸化水素等の溶液を用いる場合は、（Ａ）成分として
過酸化水素溶液を、（Ｂ）成分として金属錯体、アルカ
リ剤等の混合物を用意し、これを使用前に混合してスプ
レー容器等を用いて噴霧すればよい。
【００２５】また、ペルオキシ化合物として、過炭酸ナ
トリウム等の粉体を用いる場合、金属錯体、アルカリ剤
等と混合した成分を用意し、これを使用前に水と混合し
てスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
トリウム等の粉体を用いる場合、金属錯体、アルカリ剤
等と混合した成分を用意し、これを使用前に水と混合し
てスプレー容器等を用いて噴霧すればよい。
【００２６】
【実施例】次に実施例により、本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。
【００２７】尚、各表における成分、記号は以下の意味
を持ち、ＴＰＤＣ及びＢ〜Ｄは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学製 ＰＣ：過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学製 ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト製 ＴＰＤＣ：２，２′−テレフタロイルジオキシビス
〔（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル）エチルアンモニウムメチ
ルスルファート〕 フッ化マンガン(III）；試薬 フッ化鉄(III）三水和物；試薬 フッ化コバルト(III）；試薬 配位子Ａ：１，１０−フェナントロリン；試薬 配位子Ｂ：１，４，７−トリメチル−１，４，７−トリ
アザシクロノナン 配位子Ｃ：トリス（２−ピリジル）アミン 配位子Ｄ：Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス［（２−ピ
リジル）メチル］エチレンジアミン 炭酸カリウム；旭硝子製
を持ち、ＴＰＤＣ及びＢ〜Ｄは合成品である。 過酸化水素；三菱ガス化学製 ＰＣ：過炭酸ナトリウム；三菱ガス化学製 ＴＡＥＤ：Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラアセチルエチレ
ンジアミン；ヘキスト製 ＴＰＤＣ：２，２′−テレフタロイルジオキシビス
〔（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル）エチルアンモニウムメチ
ルスルファート〕 フッ化マンガン(III）；試薬 フッ化鉄(III）三水和物；試薬 フッ化コバルト(III）；試薬 配位子Ａ：１，１０−フェナントロリン；試薬 配位子Ｂ：１，４，７−トリメチル−１，４，７−トリ
アザシクロノナン 配位子Ｃ：トリス（２−ピリジル）アミン 配位子Ｄ：Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラキス［（２−ピ
リジル）メチル］エチレンジアミン 炭酸カリウム；旭硝子製
【００２８】また、各例におけるカビの除去効果、及び
刺激臭の無さは次の様にして測定した。 カビの除去効果；黒カビ（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ
ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）を培養し、被着させ
て調整した素焼きタイル表面（２．５×２．５ｃｍ）
に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下して、１５分間放
置した後、水洗を行い、３０℃で２時間乾燥した。この
タイルに、フードスタンプ（真菌用：サブロー寒天）を
１時間密着させ、３０℃による経時（２日）変化を観察
し、以下の評価基準で判定した。 評価基準；
刺激臭の無さは次の様にして測定した。 カビの除去効果；黒カビ（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ
ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）を培養し、被着させ
て調整した素焼きタイル表面（２．５×２．５ｃｍ）
に、各試料を等量（０．５ｍＬ）滴下して、１５分間放
置した後、水洗を行い、３０℃で２時間乾燥した。この
タイルに、フードスタンプ（真菌用：サブロー寒天）を
１時間密着させ、３０℃による経時（２日）変化を観察
し、以下の評価基準で判定した。 評価基準；
【００２９】刺激臭の無さ；５．５ｍ3の密閉された浴
室の側面全体に、各試料２００ｍＬをスプレー容器より
満遍なく噴霧し、３分間そのまのの状態でいた時の刺激
臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚、試験は５
人で行ない、その平均値で示した。
室の側面全体に、各試料２００ｍＬをスプレー容器より
満遍なく噴霧し、３分間そのまのの状態でいた時の刺激
臭の程度を、以下の評価基準で判定した。尚、試験は５
人で行ない、その平均値で示した。
【００３０】実施例１〜４及び比較例１、２ 濃度５重量％の過酸化水素水溶液に、表１に示す組成
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ酸前駆体
（ＴＡＥＤ）とフッ化物及び配位子等を混合し、カビの
除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結果
を表１に示す。
（前記水溶液に対する重量％）のペルオキシ酸前駆体
（ＴＡＥＤ）とフッ化物及び配位子等を混合し、カビの
除去効果、及び刺激臭の無さの試験を行った。その結果
を表１に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】実施例５〜１１ 表２に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物とフッ化物及び配位子等を水に混合し、
実施例１と同様に、カビの除去効果、及び刺激臭の無さ
の試験を行った。その結果を表２に示す。
ルオキシ化合物とフッ化物及び配位子等を水に混合し、
実施例１と同様に、カビの除去効果、及び刺激臭の無さ
の試験を行った。その結果を表２に示す。
【００３３】
【表２】
【００３４】実施例１２〜１１ 表３に示す組成（トータル水溶液に対する重量％）のペ
ルオキシ化合物とフッ化物及び配位子等を水に混合し、
実施例１と同様に、カビの除去効果、及び刺激臭の無さ
の試験を行った。その結果を表３に示す。
ルオキシ化合物とフッ化物及び配位子等を水に混合し、
実施例１と同様に、カビの除去効果、及び刺激臭の無さ
の試験を行った。その結果を表３に示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】
【発明の効果】本発明のカビ取り剤組成物は、高いカビ
取り除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させると
共に、刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生
する危険性がないので、カビ取り剤として極めて優れて
いる。
取り除去能力を有し、カビの再繁殖を極力低下させると
共に、刺激臭がなく、しかも使用時に有害なガスが発生
する危険性がないので、カビ取り剤として極めて優れて
いる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ１１Ｄ 7:38 7:40） (72)発明者 生澤 拓也 東京都墨田区本所一丁目３番７号 ライオ ン株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）ペルオキシ化合物と、（Ｂ）遷移
金属とフッ素イオンまたはフッ素を含有する配位子を含
む遷移金属錯体を含有することを特徴とするカビ取り剤
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9327087A JPH11140496A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | カビ取り剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9327087A JPH11140496A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | カビ取り剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11140496A true JPH11140496A (ja) | 1999-05-25 |
Family
ID=18195156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9327087A Pending JPH11140496A (ja) | 1997-11-12 | 1997-11-12 | カビ取り剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11140496A (ja) |
-
1997
- 1997-11-12 JP JP9327087A patent/JPH11140496A/ja active Pending
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