JPH10158639A - ユーロピウム錯体を用いたエレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

ユーロピウム錯体を用いたエレクトロルミネッセンス素子

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JPH10158639A
JPH10158639A JP8325403A JP32540396A JPH10158639A JP H10158639 A JPH10158639 A JP H10158639A JP 8325403 A JP8325403 A JP 8325403A JP 32540396 A JP32540396 A JP 32540396A JP H10158639 A JPH10158639 A JP H10158639A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発光効率の高いエレクトロルミネッセンス素
子を提供する。 【解決手段】 一般式(1) で示される化合物を用いるエレクトロルミネッセンス素
子。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ユーロピウム錯体
を含有してなるエレクトロルミネッセンス素子に関す
る。
【0002】
【従来の技術】有機電界発光(エレクトロルミネッセン
ス;EL)素子は、S.A.VanSlyke,C.
H.Chen等が発光層にスチルベン系化合物、8−ヒ
ドロキシキノリン金属錯体を用い、正孔移動物質にトリ
フェニルアミン誘導体を用いる発明により、大きく進歩
を遂げた(特開昭58−194393号公報;J.Ap
pl.Phys.Lett.,51(12),913
(1987);J.Appl.Phys.,65(9)
3610(1989))。
【0003】その後、筒井、斉藤らにより、発光層、正
孔輸送層が検討され実用化に近づいている。(Japa
n Journal of Applyed Phys
ics vol 27 No.2 L269(198
8)、vol 27 No.4L713(1988)
他、総説として宮田ら「有機EL素子開発戦略」サイエ
ンスフォーラム社発行 1992年)。
【0004】一方、近年より高い発光量子効率を有し、
電気的な励起が可能な化合物として、様々な有機金属錯
体が評価されてきた。例えば特開昭61−37358号
公報乃至特開昭61−37891号公報、特開昭61−
43682号公報乃至特開昭61−43691号公報、
特開昭61−44974号公報乃至特開昭61−448
87号公報等に記載の化合物、特開平3−289089
号公報、特開平3−289090号公報等に記載の化合
物、特開平7−62339号公報記載の化合物などが挙
げられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
化合物を使用した場合、発光効率や短時間での成膜製造
に適用するには、必ずしも充分な性能を満たしていな
い。特に赤色に発光する有機金属錯体として、特開昭6
1−37358号公報、特開昭61−37891号公
報、特開昭61−43682号公報、特開昭61−43
691号公報、特開昭61−44974号公報、特開昭
61−44887号公報等に記載のピリジニウムカチオ
ンを持つユーロピウム錯体は、N−長鎖アルキル置換ピ
リジニウムの効果により、LB膜を製造するには好適で
あるものの、発光効率としては未だ充分でなく、また、
塗布法などの方法では、部分的な結晶化が発生すること
があり、こうした場合、輝度の低下や不均一な発光とな
る原因となっている。
【0006】また、特開平3−289089号公報、特
開平3−289090号公報および特開平7−6233
9号公報等に記載のユーロピウム錯体についても必ずし
も満足した発光効率を得られていないのが実情である。
本発明は、エレクトロルミネッセンス素子の発光層に用
いた時、均一に赤色に発光し、且つその発光効率が優れ
る化合物を供給することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】発明者らは、鋭意検討の
結果、均一に赤色に発光し、且つその発光効率が優れた
エレクトロルミネッセンス素子を見出し本発明に至っ
た。すなわち、本発明は下記一般式(1)
【0008】
【化2】 〔式(1)中、R1、R2は、各々独立に、置換又は無置
換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又
は無置換のヘテロアリール基を表し、A+は、4級アン
モニウム塩、4級ホスホニウム塩を表す。〕で示される
ユーロピウム錯体化合物を発光層に用いることを特徴と
するエレクトロルミネッセンス素子を提供するものであ
る。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、上記式(1)で示される化合物を用い
てエレクトロルミネッセンス素子を作製する方法として
は、特開昭58−194393号公報;J.Appl.
Phys.Lett.,51(12),913(198
7);J.Appl.Phys.,65(9)3610
(1989);Japan Journal of A
pplyed Physics vol 27 No.
2 L269(1988)、vol 27 No.4
L713(1988);宮田ら「有機EL素子開発戦
略」サイエンスフォーラム社発行 1992年などの公
知の文献記載の方法が利用できる。
【0010】詳しくは、EL素子は図1に示すように、
ガラス基板(ITOガラス基板)5上に陽極4、有機化
合物からなる正孔輸送層3、本発明に使用する化合物か
らなる発光層2および金属陰極1が順に積層された構造
を有している。更に、図2に示す様に、ガラス基板(I
TOガラス基板)5上に陽極4、有機化合物からなる正
孔輸送層3、本発明に使用する化合物からなる発光層
2、電子輸送層6および金属陰極1が順に積層された構
造を有していてもよい。上記素子構造に於ける発光層2
に使用する化合物は、単独または2種類以上を用いても
よい。また、上記素子構造に於ける正孔輸送層3に使用
可能な正孔輸送性化合物は、少なくとも1つの芳香族環
を結合する第3級アミンを含む化合物、または正孔輸送
性を有する他の低分子化合物あるいは高分子体であり、
好ましくは、一般式(2)または(3)で示されるトリ
フェニルアミン誘導体、またはピラゾリン誘導体、ポリ
ビニルカルバゾール、ポリシランである。その使用に際
しては、単独または2種類以上の化合物を混合してもよ
い。
【0011】
【化3】 〔式(2)中、a、b、c、d、e、f、g、h、kは
各々独立に0、1、2、3の整数を表す。但し、aは0
にはならない。〕
【0012】
【化4】 〔式(3)中、l、m、n、p、q、r、s、t、u、
v、w、x、y、z、α、βは、各々独立に0又は1を
表し、Aは2個の水素原子、−CH2−、−C(CH3
2−を表す。〕
【0013】正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極及
び陽極は、蒸着、スパッタリング、塗布等の一般的に知
られている薄膜形成方法により、作製することができ
る。
【0014】本発明のEL素子を作製するにあたり、使
用する正孔輸送層および電子輸送層の膜厚は、少なくと
もピンホールが発生しないような厚みが必要であるが、
あまり厚いと素子の抵抗が増加し、高い駆動電圧が必要
となり好ましくない。従って、正孔輸送層および電子輸
送層の膜厚は、通常1nm〜1000nm、好ましくは
5〜200nmである。
【0015】本発明のEL素子を作製するにあたり、使
用する発光層は、一般式(1)の化合物の使用量を多く
することで輝度を高くし、且つピンホールが発生しない
ような厚みが必要であるが、あまり厚いと素子の抵抗が
増加し、高い駆動電圧が必要となるため、通常1nm〜
1000nm、好ましくは3〜300nmである。電流
密度を上げて発光効率を上げるために5〜200nmの
範囲が好適に用いられる。本発明で使用する発光層を形
成するのに真空蒸着法などの各種の物理的または化学的
な薄膜形成法などで形成されるほか、塗布法が好適に用
いられる。
【0016】本発明のEL素子の発光層を形成するのに
塗布法を用いる場合、塗布法としては、スピンコーティ
ング法、キャスティング法、ディピング法、バーコート
法、ロールコート法などの塗布法により成膜する方法が
好ましい。塗布の際に利用する溶媒として、通常アルコ
ールもしくはアルコール水を使用する。一般式(1)で
示される各化合物を溶解するために、各化合物ごとに適
宜用いることが望ましい。また、正孔輸送層の化合物を
溶解しない、又はほぼ溶解しない溶媒を使用することが
望ましく、好ましくは85重量%以上のメタノール水ま
たはメタノール、85重量%以上エタノール水またはエ
タノール、85重量%以上のイソプロパノール水または
イソプロパノールを使用する。また、一般式(1)で示
される化合物を溶液化した場合の濃度としては、できる
限り高濃度、且つ完溶していることが必要で有り、好適
には1重量%以上、特に好適には3重量%以上の濃度と
して用いる。なお、発光層を塗布法により薄膜化した場
合には、発光層形成後に、減圧下または不活性雰囲気下
で、好ましくは20〜180℃、さらに好ましくは40
〜110℃の温度で乾燥加熱処理することが望ましい。
塗布法により、均一な膜厚が得られ、また、一般式
(1)で示される化合物を容易に堆積して層を形成する
ことができる。さらに、該化合物を使用することで、部
分的な結晶化による輝度の低下をきたすことなく、均一
に、安定した高輝度発光を行うことができる。
【0017】本発明のEL素子に使用する陽極材料とし
ては、仕事関数がなるべく大きなものが良く、例えば、
ニッケル、金、白金、パラジウム、セレン、イリジウム
やこれらの合金、あるいは、酸化錫、ITO、ヨウ化銅
が好ましい。ポリフェニレンスルフィドあるいはポリア
ニリンなどの導電性ポリマーも使用できる。
【0018】一方、陰極材料としては、仕事関数の小さ
なもの、銀、鉛、錫、マグネシウム、アルミニウム、カ
ルシウム、インジウム、クロム、リチウムあるいはこれ
らの合金が用いられる。また、陽極または陰極として用
いられる材料のうち一方は、素子の発振波長領域におい
て透過率が50%以上である事が望ましい。これら電極
層の厚みは、少なくともピンホールが発生しないような
厚みが必要であるが、あまり厚くすると柔軟性が損なわ
れ、また経済的でもないため、通常1〜1000nmが
用いられる。
【0019】本発明のEL素子に使用する透明電極基板
としては、ガラス、プラスチックフィルムが用いられ
る。
【0020】上記式(1)中、R1、R2が意味する置換
又は無置換のアルキル基としては、例としてメチル基、
エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−
ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、n−
ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル
基、3−メチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、
1,2−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル
基、1−エチルプロピル基、2−エチルプロピル基、n
−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、メ
チルシクロヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、エチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘ
キシル基、n−ノニル基、3,5,5−トリメチルヘキ
シル基、n−デシル基等の炭素数1〜10の直鎖、分岐
または環状のアルキル基、ベンジル基、フェニルエチル
基、トリルメチル基、メトキシフェニルメチル基、ナフ
チルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基、フ
ロロメチル基、ジフロロメチル基、トリフロロメチル
基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメ
チル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロ
モメチル基、ヨウ化メチル基、フロロエチル基、ジフロ
ロエチル基、トリフロロエチル基、テトラフロロエチル
基、ペンタフロロエチル基、クロロエチル基、ジクロロ
エチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル
基、ペンタクロロエチル基、ヘキサフロロ−iso−プ
ロピル基、トリフロロメチルシクロヘキシル基等のハロ
ゲン原子が1〜21個置換した炭素数1〜10の直鎖、
分岐または環状のハロゲン化アルキル基、メトキシメチ
ル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシ
エチル基、n−プロポキシエチル基、iso−プロポキ
シエチル基、n−ブトキシエチル基、iso−ブトキシ
エチル基、tert−ブトキシエチル基、n−ヘキシル
オキシエチル基、シクロヘキシルオキシエチル基、2−
メトキシプロピル基、メトキシ−iso−プロピル基、
2−エトキシプロピル基、エトキシ−iso−プロピル
基、2−プロポキシプロピル基、2−プロポキシ−is
o−プロピル基、2−(2−メトキシエトキシ)エチル
基、2−(2−エトキシエトキシ)エチル基等の炭素数
1〜10の直鎖、分岐または環状のアルコキシアルキル
基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、メチル
チオエチル基、エチルチオエチル基、n−プロピルチオ
エチル基、iso−プロピルチオエチル基、n−ブチル
チオエチル基、iso−ブチルチオエチル基、tert
−ブチルチオエチル基、n−ヘキシルチオエチル基、シ
クロヘキシルチオエチル基、2−メチルチオプロピル
基、メチルチオ−iso−プロピル基、2−エチルチオ
プロピル基、エチルチオ−iso−プロピル基、2−プ
ロピルチオプロピル基、プロピルチオ−iso−プロピ
ル基、2−(2−メチルチオエトキシ)エチル基、エチ
ルチオエチルチオエチル基等の炭素数1〜10の直鎖、
分岐または環状のアルキルチオアルキル基、N−メチル
アミノメチル基、N−メチルアミノエチル基、N−エチ
ルアミノメチル基、N−エチルアミノエチル基、N,N
−ジメチルアミノメチル基、N,N−ジエチルアミノメ
チル基、N,N−ジメチルアミノエチル基、N,N−ジ
エチルアミノエチル基等の炭素数1〜10の直鎖、分岐
または環状のN−アルキルアミノアルキル基、N,N−
ジアルキルアミノアルキル基が挙げられる。
【0021】置換又は無置換のアリール基とは、フェニ
ル基、ナフチル基、アンスラニル基、2−メチルフェニ
ル基、及び3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル
基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフ
ェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメ
チルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5
−ジメチルフェニル基、3,6−ジメチルフェニル基、
2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリ
メチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル
基、2,4,5−トリメチルフェニル基、2,4,6−
トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニ
ル基、2−エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシル
フェニル基、オクチルフェニル基、2−メチル−1−ナ
フチル基、3−メチル−1−ナフチル基、4−メチル−
1−ナフチル基、5−メチル−1−ナフチル基、6−メ
チル−1−ナフチル基、7−メチル−1−ナフチル基、
8−メチル−1−ナフチル基、1−メチル−2−ナフチ
ル基、3−メチル−2−ナフチル基、4−メチル−2−
ナフチル基、5−メチル−2−ナフチル基、6−メチル
−2−ナフチル基、7−メチル−2−ナフチル基、8−
メチル−2−ナフチル基、2−エチル−1−ナフチル基
等の炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状のアルキル基
が置換したアリール基等が挙げられ、3−メトキシフェ
ニル基、4−メトキシフェニル基、2,3−ジメトキシ
フェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−
ジメトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル
基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキ
シフェニル基、3,6−ジメトキシフェニル基、2,
3,4−トリメトキシフェニル基、2,3,5−トリメ
トキシフェニル基、2,3,6−トリメトキシフェニル
基、2,4,5−トリメトキシフェニル基、2,4,6
−トリメトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシ
フェニル基、2−エトキシフェニル基、プロポキシフェ
ニル基、ブトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル
基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシ
フェニル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、3−メト
キシ−1−ナフチル基、4−メトキシ−1−ナフチル
基、5−メトキシ−1−ナフチル基、6−メトキシ−1
−ナフチル基、7−メトキシ−1−ナフチル基、8−メ
トキシ−1−ナフチル基、1−メトキシ−2−ナフチル
基、3−メトキシ−2−ナフチル基、4−メトキシ−2
−ナフチル基、5−メトキシ−2−ナフチル基、6−メ
トキシ−2−ナフチル基、7−メトキシ−2−ナフチル
基、8−メトキシ−2−ナフチル基、2−エトキシ−1
−ナフチル基等の炭素数1〜10の直鎖、分岐又は環状
のアルコキシ基が置換したアリール基等が挙げられ、、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ヨ
ードフェニル基、フロロフェニル基、ジフロロフェニル
基、トリフロロフェニル基、テトラフロロフェニル基、
ペンタフロロフェニル基等のハロゲン原子が置換したア
リール基、トリフロロメチルフェニル基等のハロゲン化
アルキル基が置換したアリール基等が挙げられ、N,N
−ジメチルアミノフェニル基、N,N−ジエチルアミノ
フェニル基、N−フェニル−N−メチルアミノフェニル
基、N−トリル−N−エチルアミノフェニル基、N−ク
ロロフェニル−N−シクロヘキシルアミノフェニル基、
N,N−ジトリルアミノフェニル基等のN−モノ置換ア
ミノ置換アリール基、N,N−ジ置換アミノアリール基
が挙げられ、メチルチオフェニル基、エチルチオフェニ
ル基、メチルチオナフチル基、フェニルチオフェニル基
等のアルキルチオアリール基、アリールチオアリール基
等が挙げられる。
【0022】置換又は無置換のヘテロアリール基として
は、フリル基、チエニル基、チアンスニル基、ピラニル
基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニ
ル基、フェノキサンチニル基、2H−ピローリル基、ピ
ローリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、イソチア
ゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベ
ンゾチアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサゾリル
基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル
基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、イン
ドーリル基、イソインドーリル基、キノニル基、イソキ
ノニル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基およ
びそのアルキル基置換体、アリール基置換体、アルコキ
シ基置換体、アリールオキシ基置換体、ハロゲン原子置
換体、アルコキシカルボニル基置換体、ニトリル基置換
体等が挙げられる。
【0023】A+で示される4級アンモニウム塩として
は、下記式(4)
【化5】 〔式(4)中、R9、R10、R11、R12は、置換又は無
置換のアルキル基を表す。〕で示される基が挙げられ
る。
【0024】4級ホスホニウム塩としては、下記式
(5)
【化6】 〔式(5)中、R13、R14、R15、R16は、置換又は無
置換のアルキル基を表す。〕で示される基が挙げられ
る。
【0025】上記式(1)で示される化合物の製造方法
としては、下記式(6)
【化7】 〔式(6)中、R1、R2は、前記と同じ意味を表す。〕
で示されるβ−ジケトン又はその互変異性体の1〜4種
類、ユーロピウム誘導体と下記式(7)で示される4級
アンモニウム塩または下記式(8)で示される4級ホス
ホニウム塩とアルコール中アルカリ性条件下で反応して
得られる。
【0026】
【化8】 〔式(7)中、R9、〜R11は、前記と同じ意味を示
し,X-は、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イ
オン、ヨウ化物イオン、水酸化物イオン、トルエンスル
ホン酸イオンを表す。〕
【0027】
【化9】 〔式(8)中、R13〜R16は、前記と同じ意味を示し、
-は、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン、水酸化物イオン、トルエンスルホ
ン酸イオンを表す。〕
【0028】一般式(1)で示される化合物を合成する
ために使用するユーロピウム誘導体としては、酸化ユー
ロピウム、塩化ユーロピウム等が好ましい。
【0029】式(4)、(5)、(7)、(8)中、R
9、〜R16で示される置換又は無置換のアルキル基の例
としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、is
o−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、s
ec−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチルブチル
基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1,1
−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,
2−ジメチルブチル基、1−エチルプロピル基、2−エ
チルプロピル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
n−ヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、n−オクチ
ル基、2−エチルヘキシル基、エチルシクロヘキシル
基、ジメチルシクロヘキシル基、n−ノニル基、3,
5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基等の炭素
数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキル基、メト
キシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、
エトキシエチル基、n−プロポキシエチル基、iso−
プロポキシエチル基、n−ブトキシエチル基、iso−
ブトキシエチル基、tert−ブトキシエチル基、n−
ヘキシルオキシエチル基、シクロヘキシルオキシエチル
基、2−メトキシプロピル基、メトキシ−iso−プロ
ピル基、2−エトキシプロピル基、エトキシ−iso−
プロピル基、2−プロポキシプロピル基、プロポキシ−
iso−プロピル基、メトキシエトキシエチル基、エト
キシエトキシエチル基等の炭素数1〜10の直鎖、分岐
または環状のアルコキシアルキル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基、トリルメチル基、メトキシフェニルメチ
ル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラル
キル基が挙げられる。
【0030】本発明のエレクトロルミネッセンス素子
は、均一に赤色に発光し、且つその発光効率が優れてお
り、安定した発光が得られる。また、本発明に使用する
ユーロピウム錯体化合物の薄膜は、通常光下では無色で
あるため、他のEL発光層と重ね合わせてフルカラー表
示をすることが可能である。
【0031】
【実施例】以下に実施例を以て詳細に説明するが、本発
明は以下の例に限るものではない。 実施例1 (合成例−1)4,4,4−トリフロロ−1−(2−チ
エニル)−1,3−ブタンジオン 85.3gをエタノ
ール720gに溶解した。25〜35℃で95%粒状水
酸化ナトリウム16.2gを加え、1時間撹拌した。一
方、酸化ユーロピウム16.8gと35%塩酸31.2
gを混合して、90℃に加熱し、酸化ユーロピウムを溶
解し、水24gを加えた。この液を、25〜30℃で上
記反応液に滴下し、同温度で30分撹拌した。その後、
テトラブチルアンモニウムブロマイド31gをエタノー
ル120gに溶解した液を25〜30℃で滴下し、1時
間撹拌した後、水3600mlを加えた。1時間かけ晶
析を充分に行った後、濾過、水洗した。乾燥し、下記式
(A)の化合物を105.0g(収率86%)得た。
【0032】
【化10】
【0033】(EL素子製造例−1)ITOガラス基板
上に、4−(N−フェニル−N−トリル)アミノ−4’
−(N’−フェニル−N’−トリル)−1,1’−ジフ
ェニルを5×10-5torrの真空下で、抵抗加熱法に
より50nm積層する。続いて、上記式(A)の化合物
を4重量%溶解したエタノール溶液を用いてスピンコー
ト法により塗布後、乾燥加熱して50nm積層し、更
に、6×10-5torrの真空下アルミニウム電極を1
50nm蒸着した。この素子のITO側にプラス、アル
ミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子のITOガ
ラス基板面からの発光を観察した。電圧19V、電流密
度26mA/cm2においては、安定で、輝度338C
d/m2の均一な赤色発光であった。
【0034】実施例2 (合成例−2)合成例1で用いた4,4,4−トリフロ
ロ−1−(2−チエニル)−1,3−ブタンジオンの代
わりに、4,4,4−トリフロロ−1−(2−トリル)
−1,3−ブタンジオン88.4gを用いた以外は、合
成例1と同様に操作して、下記式(B)の化合物を10
1.8g(収率81%)得た。
【0035】
【化11】
【0036】(EL素子製造例−2)ITO透明電極を
形成したガラス基板上に、1,1−ビス(4−N,N−
ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサンを50
nm膜厚に積層した。その後、上記式(B)の化合物を
50nm膜厚に積層した。次いで、2,2’,6,6’
−テトラメチルジフェノキノンを50nmの膜厚で積層
した。インジウムを150nmに積層し背面電極を作成
した。19Vの電圧をかけたところ、317Cd/m2
の均一な赤色発光が得られた。
【0037】実施例3 (合成例−3)1,4−ジフェニル−1,3−ブタンジ
オン86.3gをエタノール720gに溶解した。25
〜35℃で95%粒状水酸化ナトリウム16.2gを加
え、1時間撹拌した。一方、塩化ユーロピウム・6水和
物35.2gを水20gと混合して、90℃に加熱して
均一溶液を得て、さらに水24gを加えた。この液を、
25〜30℃で上記反応液に滴下し、同温度で30分撹
拌した。その後、ベンジルトリメチルアンモニウムクロ
ライド17.8gをエタノール120gに溶解した液を
25〜30℃で滴下し、1時間撹拌した後、水3600
mlを加えた。1時間かけ晶析を充分に行った後、濾
過、水洗した。乾燥し、下記式(C)の化合物を98.
3g(収率82%)得た。
【0038】
【化12】
【0039】(EL素子製造例−3)ITOガラス基板
上に、N,N,N’,N’−テトラ(4−ジトリルアミ
ノフェニル)−1,4−フェニレンジアミンを5×10
-6torrの真空下で、抵抗加熱法により50nm積層
する。次いで、上記式(C)の化合物を50nm積層
し、更に、6×10-5torrの真空下アルミニウム電
極を150nm蒸着した。この素子のITO側にプラ
ス、アルミニウム側にマイナスの電場をかけて、素子の
ITOガラス基板面からの発光を観察した。電圧19V
においては、安定で、輝度306Cd/m2の均一な赤
色発光を得た。
【0040】実施例4 (合成例−4)合成例3で用いた1,4−ジフェニル−
1,3−ブタンジオンの代わりに、1−(2−ベンゾチ
アゾリル)−5,5−ビス(トリフロロメチル)−1,
3−ペンタンジオンを123g、またベンジルトリメチ
ルアンモニウムクロライドの代わりにテトラブチルホス
ホニウムブロマイド32.6gを用いる以外は、合成例
3と同様にして合成し、下記式(D)の化合物を13
6.8g(収率78%)得た。
【0041】
【化13】
【0042】(EL素子製造例−4)式(A)の化合物
の代わりに上記化合物を使用し、実施例−1と同様にE
L素子を作り、発光をさせた。輝度309Cd/m2
赤色の発光を得た。
【0043】実施例5 (合成例−5)合成例1で用いた4,4,4−トリフロ
ロ−1−(2−チエニル)−1,3−ブタンジオンの代
わりに、4,4,4−トリフロロ−1−(2−ナフチ
ル)−1,3−ブタンジオンを102.2g、テトラブ
チルアンモニウムブロマイドの代わりに、n−デシルト
リエチルホスニウムハイドロキサイド26.5gを水1
00gに溶解した水溶液を使用した以外は合成例1と同
様に合成し、下記式(E)の化合物を120.2g(収
率85%)得た。
【0044】
【化14】
【0045】(EL素子製造例−5)式(B)の化合物
の代わりに上記化合物を使用し、実施例−2と同様にE
L素子を作り、発光をさせた。輝度316Cd/m2
赤色の発光を得た。
【0046】実施例6 (合成例−6)合成例1で用いた4,4,4−トリフロ
ロ−1−(2−チエニル)−1,3−ブタンジオンの代
わりに、4,4,4−トリフロロ−1−(2−(5−エ
チル)フリル)−1,3−ブタンジオン89.9g、テ
トラブチルアンモニウムブロマイドの代わりに3,5,
5−トリメチルヘキシルトリメチルアンモニウムヨーダ
イド30.1gを用いる以外は、合成例1と同様に操作
して、下記式(F)の化合物を107.3g(収率88
%)得た。
【0047】
【化15】
【0048】(EL素子製造例−6)式(A)の化合物
の代わりに上記化合物を使用し、実施例−1と同様にE
L素子を作り、発光をさせた。輝度341Cd/m2
赤色の発光を得た。
【0049】実施例7 (合成例−7)合成例3で用いた1,4−ジフェニル−
1,3−ブタンジオンの代わりに、1−クロロメチル−
5,5−(ビス−トリフロロメチル)−1,3−ペンタ
ンジオン103.9g、またベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライドの代わりにシクロヘキシルメチルトリ
ス((2−エトキシ)エチル)ホスホニウムヨーダイド
39.6g用いる以外は、合成例3と同様に操作して下
記式(G)の化合物を117.7g(収率81%)得
た。
【0050】
【化16】
【0051】(EL素子製造例−7)式(C)の化合物
の代わりに上記化合物を使用し、実施例−1と同様にE
L素子を作り、発光をさせた。輝度312Cd/m2
均一な赤色発光を得た。
【0052】以下に合成例1と同様に操作して得られた
ユーロピウム錯体化合物の合成例8〜15を表1に示
す。また、実施例1と同様にしてEL素子を作製した。
これらのうちで、300Cd/m2以上の輝度を持つE
L素子を◎印、250Cd/m2以上の輝度を持つEL
素子を○印として表2に示した。
【0053】
【化17】
【0054】
【表1】
【0055】
【化18】
【0056】
【表2】
【0057】実施例16 実施例1で、式(A)の化合物の代わりに式(B)およ
び式(C)の化合物の混合物(混合比1:1)を50n
m積層する以外は、実施例1と同様な操作をして実施例
17のEL素子を作製した。電圧19Vをかけた結果、
輝度314Cd/m2の赤色発光を得た。
【0058】
【比較例】
比較例1 実施例−1の化合物(A)の代わりに、下記式(H)の
化合物を8×10-6torrの真空下で50nm積層し
た以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較例1のE
L素子を作製した。この素子の発光色は白で発光強度
は、80Cd/m 2と低かった。
【0059】
【化19】
【0060】比較例2 実施例−1の化合物(A)の代わりに、下記式(I)の
化合物を使用した以外は、実施例1と同様の操作を行
い、比較例2のEL素子を作製した。この素子の発光色
は赤色であったが、発光強度は191Cd/m2と低か
った。また、発光面の所々において、光の弱い箇所が確
認できた。
【0061】
【化20】
【0062】比較例3 実施例−1の化合物(A)の代わりに、下記式(J)の
化合物を8×10-6torrの真空下で50nm積層し
た以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較例1のE
L素子を作製した。この素子の発光色は赤色で発光強度
は、140Cd/m2と低かった。
【0063】
【化21】
【0064】比較例4 実施例−1の化合物(A)の代わりに、下記式(K)の
化合物を8×10-6torrの真空下で50nm積層し
た以外は、実施例1と同様の操作を行い、比較例1のE
L素子を作製した。この素子の発光色は赤色で発光強度
は、120Cd/m2と低かった。
【0065】
【化22】
【0066】比較例5 実施例−1の化合物(A)の代わりに、下記式(M)の
化合物を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、
比較例1のEL素子を作製した。この素子の発光色は赤
色で発光強度は、188Cd/m2と低かった。
【0067】
【化23】
【0068】
【発明の効果】本発明のユーロピウム錯体化合物を使用
することで、均一な赤色発光、且つ発光効率の高いエレ
クトロルミネッセンス素子を作製できるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】ガラス基板上に陽極、正孔輸送層、発光層およ
び陰極が順に積層された有機EL素子の1例を示す断面
図である。
【図2】ガラス基板上に陽極、正孔輸送層、発光層、電
子輸送層および陰極が順に積層された有機EL素子の1
例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 金属陰極 2 発光層 3 正孔輸送層 4 陽極 5 ガラス基板(ITOガラス基板) 6 電子輸送層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 〔式(1)中、R1、R2は、各々独立に、置換又は無置
    換のアルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又
    は無置換のヘテロアリール基を表し、A+は、4級アン
    モニウム塩、4級ホスホニウム塩を表す。〕で示される
    ユーロピウム錯体を用いることを特徴とするエレクトロ
    ルミネッセンス素子。
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