JPH10153964A

JPH10153964A - ディスプレイ前面板

Info

Publication number: JPH10153964A
Application number: JP9119441A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Honda; 聡本多; Kayoko Ueda; 佳代子上田; Yukio Yasunori; 幸雄康乗
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1996-05-09
Filing date: 1997-05-09
Publication date: 1998-06-09

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスプレイ装置から発生する近赤外線によ
るディスプレイ装置周辺機器のリモートコントロールシ
ステムやデータ通信に及ぼす障害、さらには電磁波によ
る周辺機器への影響を防止するディスプレイ前面板を提
供する。【解決手段】４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均光線透
過率が５０％以上、８００ｎｍから１０００ｎｍの平均
光線透過率が３０％以下である透明基板からなるディス
プレイ前面板、さらにその表面に電磁波遮蔽層を積層し
てなるディスプレイ前面板を用いることによってディス
プレイ装置から発生する近赤外線、さらには電磁波の影
響を防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イ、ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイなどのディス
プレイ装置の前面に設置する近赤外線吸収性能、更には
電磁波遮蔽性能を有する透光性前面板に関する。

【０００２】

【従来の技術】ディスプレイ装置の前面板としては、照
明光の反射や背景が映ることによる画像の不鮮明さを防
止する目的や、ディスプレイ表面の保護、ディスプレイ
表面の汚れ防止などの目的で、反射防止性、耐擦傷性、
防汚性をもった種々のものが提案されている。プラズマ
ディスプレイ、ＥＬディスプレイディスプレイ装置の中
には可視光のみならず、８００〜１１００ｎｍのいわゆ
る近赤外領域の光線を発するものがある。特にプラズマ
ディスプレイでは、近赤外領域の発光強度が強い。

【０００３】一方、特開平２−３０９５０８号公報に示
されているように、家庭用の蛍光灯、ＴＶ、ＶＴＲ等の
リモートコントロールシステムには９５０ｎｍ付近の近
赤外領域の光線が利用されている。更に、近年コンピュ
ーター間でのデータ通信にも同領域の光線が利用されて
いる。上記のディスプレイ装置から発せされる近赤外領
域の光線によるものと考えられるが、これらの機器のリ
モートコントロールシステムやデータ通信に障害を及ぼ
すことがあった。

【０００４】また、ディスプレイ装置の中には、近赤外
領域の光線のみならず、電磁波を発生するものもあり、
電磁波による周辺機器の誤動作の問題が指摘されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来提
案されている反射防止性、耐擦傷性、防汚性をもったデ
ィスプレイ前面板では、近赤外領域の光線によるリモー
トコントロールシステムやデータ通信に与える障害、さ
らには電磁波による周辺機器への影響を防止することは
できない。

【０００６】そこで本発明者は、リモートコントロール
システムやデータ通信に障害与えるディスプレイ装置か
ら発生する近赤外領域の光を吸収し、かつ可視領域の光
を透過するディスプレイ前面板、さらには電磁波をも遮
蔽するディスプレイ前面板について鋭意検討した結果、
特定波長における光線透過率を制御した前面板とするこ
とによって、さらにはその表面に電磁波遮蔽層を積層す
ることによって、近赤外領域の光線による障害、さらに
は電磁波による障害をも防止できることを見出し、本発
明を完成するに至った。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は次のと
おりである。（１）４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均光線透過率が５
０％以上、８００ｎｍから１０００ｎｍの平均光線透過
率が３０％以下である透明基板からなるディスプレイ前
面板。（２）前記（１）に記載の透明基板に電磁波遮蔽層を積
層してなるディスプレイ前面板。以下、本発明を詳細に説明する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の前面板は、プラズマディ
スプレイ、ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイなどの
ディスプレイ装置の前面に設置するものであって、フィ
ルムまたはシート状物である。前面板は以下に説明する
透明基板や取り付け金具などから構成される。前面板の
大きさはディスプレイ装置の画面サイズに合わせ任意に
選択することができる。また、厚みも任意に選択できる
が、概ね０．０１〜１０ｍｍ程度である。

【０００９】前面板を構成する透明基板の４５０ｎｍか
ら６５０ｎｍの平均光線透過率は５０％以上、好ましく
は６０％以上であり、８００ｎｍから１０００ｎｍの平
均光線透過率は３０％以下、好ましくは２０％以下であ
る。このことにより映像が見え難くなることなく、近赤
外線を吸収することができる。４５０ｎｍから６５０ｎ
ｍの平均光線透過率が５０％以下であるとディスプレイ
装置の映像が見え難くなり、また、８００ｎｍから１０
００ｎｍの平均光線透過率が３０％以上になるとディス
プレイ装置からの近赤外線を吸収することができず、周
囲のリモートコントロール機器などに悪影響を及ぼす。

【００１０】この透明基板は、透明樹脂、ガラスなどか
ら形成することができる。その形状としてはフィルムま
たはシート状物である。なかでも透明樹脂板が耐衝撃性
に優れ、好ましい。透明樹脂としては、例えば、アクリ
ル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル樹
脂、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースな
どのセルロース系樹脂、スチレン系樹脂などである。中
でも光透過性、耐候性などの点からアクリル系樹脂が適
している。また、偏光特性を付与した光学フィルムまた
はシートも同様に挙げられる。必要に応じて光拡散剤、
着色剤、離型剤、安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、
帯電防止剤、難燃化剤などを加えたシートまたはフィル
ムを用いても良い。フィルムまたはシートは単層でも良
いし、複数の樹脂フィルムまたはシートを積層したもの
でも良い。

【００１１】透明基板は、透明基板そのものが近赤外線
吸収性能を有している樹脂組成物から形成されたもので
も良いし、近赤外線吸収性能をもたない透明基板に近赤
外線吸収性能を有する樹脂組成物からなる層を形成させ
たものでも良い。

【００１２】近赤外線吸収性能を有する樹脂組成物とし
て、次のものなどが挙げられる。（１）特公昭６２−５１９０号公報に示されたような、
ポリメタクリル酸メチル系重合体、リン原子含有化合物
および銅原子含有化合物を含有する樹脂組成物。（２）特開平６−７３１９７号公報に示されたような、
銅化合物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物。（３）ＵＳＰ−３，６４７，７２９号に示されているよ
うな、タングステン系化合物を含有する樹脂組成物。これらなの中で、メタクリル酸メチルなどの不飽和二重
結合を有する単量体を重合してなる樹脂、リン原子含有
化合物および銅原子含有化合物を含有する樹脂組成物が
可視光領域の光線透過率、また前面板にした際の強度、
耐久性に優れており好ましい。

【００１３】不飽和二重結合を有する単量体とは、ラジ
カル重合可能な不飽和二重結合を分子内に少なくとも一
個有する単官能または多官能の単量体であれば特に限定
されるものではない。

【００１４】単官能単量体としては、例えば、メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタク
リレート、ブチルメタクリレートなどのメタクリル酸エ
ステル類；メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プルピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチ
ルヘキシルアクリレートなどのアクリル酸エステル類；
ボルニル（メタ）アクリレート、フェンチル（メタ）ア
クリレート、１−メンチル（メタ）アクリレート、アダ
マンチル（メタ）アクリレート、ジメチルアダマンチル
（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリ
レート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシク
ロ〔５．２．１．０^2,6〕デカ−８−イル＝（メタ）ア
クリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート
などの脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレー
ト；スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンク
ロルスチレン、ブロムスチレンなどのスチレン系単量
体；アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン
酸などの不飽和カルボン酸；無水マレイン酸、無水イタ
コン酸などの酸無水物；２−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート、モノグリセロールアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、テトラヒドロフルフ
リルメタクリレート、モノグリセロールメタクリレート
などのヒドロキシル基含有単量体；アクリルアミド、メ
タクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、ジアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチル
メタクリレートなどの窒素含有単量体；アリルグリジシ
ルエーテル、グリジシルアクリレート、グリジシルメタ
クリレートなどのエポキシ基含有単量体；ポリエチレン
グリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノメタクリレート、ポリエチレングリコールモノ
アリルエーテルなどのアルキレンオキサイド基含有単量
体；酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、弗化ビ
ニリデン、エチレンなどのその他の単量体などが挙げら
れるが、これらに限定されるものでは無い。

【００１５】多官能単量体としてはエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレートのようなアルキルジオールジ（メタ）
アクリレート類；テトラエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレ
ートのようなアルキレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート類；ジビニルベンゼン、ジアリルフタレートのよう
な芳香族多官能化合物；ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレートのような多価アルコールの（メ
タ）アクリル酸エステルなどが挙げられるが、これらに
限定されるものではない。

【００１６】上記の単量体のなかでも入手のし易さや得
られる樹脂の透明性などから（メタ）アクリル酸エステ
ル類、スチレン系単量体が好ましい。なお、上記単量体
は２種以上併用できる。

【００１７】リン原子含有化合物としては下記の一般式
化３

【化３】(RO)_3-n−P(O)−(OH)_n （式中、Ｒは炭素数１〜１８のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルケニル基を、またはＲＯは炭素
数４〜１００のポリオキシアルキル基、（メタ）アクリ
ロイルオキシアルキル基、（メタ）アクリロイルポリオ
キシアルキル基を、ｎは１または２を表す）で示される
化合物である。

【００１８】なかでも分子内にラジカル重合可能な不飽
和二重結合を有し、かつ分子内にリン原子を有する化合
物が、不飽和二重結合を有する単量体と共重合体を形成
させることができるので好ましい。リン原子含有化合物
が分子内に不飽和二重結合を有する場合（以下、リン原
子含有単量体と称する）、不飽和二重結合を有する単量
体と共重合させる方法は、周知の重合方法、例えば塊状
重合、懸濁重合、乳化重合などによって行われる。

【００１９】分子内に不飽和二重結合を有するリン原子
含有単量体のうちで、下記の一般式化４

【化４】[CH₂＝C(X)COO(Y)_m]_3-n -P(O)-(OH) _n （式中、Ｘは水素原子またはメチル基を、Ｙは炭素数２
〜４のオキシアルキレン基を、Ｙが炭素数２のオキシア
ルキレン基の場合にｍは数平均で８〜２０を、Ｙが炭素
数３のオキシアルキレン基の場合にｍは数平均で５〜２
０を、Ｙが炭素数４のオキシアルキレン基の場合にｍは
数平均で４〜２０を、ｎは１または２を表す）で示され
る化合物が、得られる基板の強度が強く、耐久性に優
れ、より好ましい。

【００２０】一般式化４中のＹのアルキレンオキサイ
ド基としては炭素数３のプロピレンオキサイド基が、得
られる前面板の吸湿性が低下することから好ましい。ま
た[CH₂＝C(X)COO(Y)_m] 基の炭素数の合計は数平均で２
０以上の方が好ましい。Ｒの炭素数の合計が１８以下で
ある場合、得られる前面板の強度が低下したり、吸湿性
が大きくなる。Ｙが炭素数３のプロピレンオキサイド基
でｍが６〜２０のリン原子含有化合物が好ましく用いら
れる。

【００２１】リン原子含有化合物として具体的には、モ
ノエチルフォスフェート、ジエチルフォスフェート、モ
ノブチルフォスフェート、ジブチルフォスフェート、モ
ノヘキシルフォスフェート、ジヘキシルフォスフェー
ト、モノヘプチルフォスフェート、ジヘプチルフォスフ
ェート、モノオクチルフォスフェート、ジオクチルフォ
スフェート、モノラウリルフォスフェート、ジラウリル
フォスフェート、モノステアリルフォスフェート、ジス
テアリルフォスフェート、モノ−２−エチルヘキシルフ
ォスフェート、ジ−２−エチルヘキシルフォスフェー
ト、なとのアルキルフォスフェート；モノフェニルフォ
スフェート、ジフェニルフォスフェートなどのアリール
フォスフェート；モノ（ノニルフェニル）フォスフェー
ト、ビス（ノニルフェニル）フォスフェートなどのアラ
ルキルフォスフェート；モノアリルフォスフェート、ジ
アリルフォスフェートなどのアルケニルフォスフェー
ト；ポリエチレングリコールフォスフェートなどのポリ
オキシアルキルフォスフェート類；（メタ）アクリロイ
ルオキシエチルフォスフェート、ビス［（メタ）アクリ
ロイルオキシエチル］フォスフェート、（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピルフォスフェート、ビス［（メタ）
アクリロイルオキシプロピル］フォスフェートなどの
（メタ）アクリロイルオキシアルキルフォスフェート；
（メタ）アクリロイルポリオキシエチルフォスフェー
ト、（メタ）アクリロイルポリオキシプロピルフォスフ
ェートなどの（メタ）アクリロイルポリオキシアルキル
フォスフェートなどが挙げられる。なお、上記リン原子
含有化合物は、２種以上併用することができる。

【００２２】リン原子含有化合物の使用量は、不飽和二
重結合を有する単量体を重合してなる樹脂とリン原子含
有化合物の合計量の０．１〜５０重量％で、好ましくは
０．５〜３０重量％である。リン原子含有化合物の使用
量が０．１重量％より少ないと良好な近赤外線吸収性能
を得ることができない。また５０重量％より多いと得ら
れる樹脂組成物からなる基板の強度が低下し、好ましく
ない。

【００２３】銅原子含有化合物としては、銅原子を含有
していれば特に制限はなく、種々のものを用いることが
できる。例えば、酢酸銅、ギ酸銅、プロピオン酸銅、バ
レリン酸銅、ヘキサン酸銅、オクチル酸銅、デカン酸
銅、ラウリン酸銅、ステアリン酸銅、２−エチルヘキサ
ン酸銅、ナフテン酸銅、安息香酸銅、クエン酸銅などの
カルボン酸と銅イオンの塩、アセチルアセトンまたはア
セト酢酸と銅イオンの錯塩、塩化銅、ピロリン酸銅水酸
化銅などを用いることができる。

【００２４】銅原子含有化合物の使用量は、不飽和二重
結合を有する単量体を重合してなる樹脂とリン原子含有
化合物の合計１００重量部に対し、０．０１〜３０重量
部、更に好ましくは０．１〜２０重量部である。なお、
この量は、銅原子を含有する化合物１モルに対し、リン
原子含有化合物がほぼ０．０５〜１０モルに相当する。

【００２５】本発明における樹脂組成物を得る方法とし
ては、不飽和二重結合を有する単量体とリン原子含有化
合物の混合物、またはそれらの重合体、共重合体を含む
いわゆるシロップに銅原子含有化合物を均一に溶解し、
塊状重合、例えば、セルや鋳型内で重合硬化させて所定
の形状に賦形する方法がある。なお、この際の重合は、
周知のラジカル重合開始剤の存在下またはラジカル重合
開始剤と促進剤よりなる、いわゆる、レドックス系開始
剤の存在下による方法、紫外線または放射線を照射する
方法など、周知の方法によって行うことができる。また
粉粒状の不飽和二重結合を有する単量体とリン原子含有
単量体の共重合体に、銅原子含有化合物を、周知の溶融
混練方法によって均一に配合するなど、均一に混じり合
えば、いかなる方法でも良い。

【００２６】上記樹脂組成物から近赤外線吸収性能を有
している透明基板を得る方法としては、次の方法などが
挙げられる。（１）近赤外線吸収性能を有する樹脂組成物を板状に成
形する方法。（２）近赤外線吸収性能を有する樹脂組成物の単量体混
合物を注型重合させて透明基板とする方法。

【００２７】また、近赤外線吸収性能のない透明基板に
近赤外線吸収性能を有する層を形成させる方法として
は、次の方法などが挙げられる。（１）透明樹脂シートまたはフィルムの表面に、近赤外
線吸収性能を有する樹脂組成物をコーティングして近赤
外線吸収樹脂層を形成させる方法。（２）透明樹脂シートまたはフィルムの表面に、近赤外
線吸収性能を有する樹脂組成物からなるフィルムを貼合
する方法。（３）透明樹脂シートまたはフィルムと近赤外線吸収性
能を有する樹脂組成物を積層する方法。

【００２８】本発明における電磁波遮蔽層としては、前
面板として使用する際に表示面の明るさを損なわないと
いう観点から、導電性を有する透明板を用いることが望
ましい。電磁波遮蔽層の導電性は、表示装置前面より放
射される電磁波量に応じて設定すればよいが、十分な電
磁波遮蔽性を得るためには表面抵抗率が１００Ω／□以
下であることが好ましく、さらに好ましくは２０Ω／□
以下である。表面抵抗率が１００Ω／□より高いと十分
な電磁波遮蔽性が得られない場合がある。

【００２９】電磁波遮蔽層としては、表面抵抗率が上述
の条件を満たし、かつ光学的に透明であれば特に限定さ
れないが、透明板表面に導電性薄膜を形成したものが好
ましい。透明板としては、プラスチックフィルムもしく
はシートまたはガラス板が挙げられるが、取り扱いの容
易さからプラスチックフィルムが好ましい。プラスチッ
クフィルムとしては、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリエチレンテレフタレートおよびトリアセチルセ
ルロースなどが例示される。

【００３０】透明板表面に導電性薄膜を形成する方法と
しては、透明板表面に白金、金、銀、銅およびパラジウ
ム等の金属、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性金属
酸化物をメッキ、蒸着、スパッタリング等の方法で積層
する方法、透明板表面を導電塗料でコーティングする方
法、導電性高分子よりなる層を透明板表面に形成する方
法等、種々の公知の方法を用いることができる。製膜性
および膜質の観点から、真空蒸着法やスパッタリング法
が好ましく、金属層と金属酸化物、金属硫化物および金
属窒化物などの高屈折率誘電体層を交互に積層した構造
の薄膜、および導電性金属酸化物を含む構造の薄膜が、
導電性および光学特性の面から好ましい。また２枚の樹
脂層間に導電性繊維よりなるメッシュを挟んだもの、さ
らに樹脂中に金属粉、金属繊維等の導電性樹脂剤を充填
したものを用いることもできる。

【００３１】近赤外線吸収性能を有する透明基板に電磁
波遮蔽層を積層する方法としては、特に限定されるもの
ではなく、公知の方法が用いられるが、粘着剤を介して
貼合する方法が一般的である。なお、近赤外線吸収性能
を有する基板に直接、蒸着、スパッタリング、コーティ
ングなどの方法で電磁波遮蔽層を形成することもでき
る。

【００３２】本発明の前面板には使途によってその表面
に、ハードコート層、反射防止層、汚染防止層を形成し
ても良い。

【００３３】ハードコート層としては、この用途に用い
られる公知のものが挙げられる。例えば、多官能性モノ
マーを主成分として重合硬化させることによって得られ
る硬化膜を挙げることができる。具体的には、ウレタン
（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレ
ート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等の（メタ）
アクリロイル基を２個以上含んだ多官能重合性化合物を
紫外線、電子線等の活性化エネルギー線によって重合硬
化させた層；およびシリコン系、メラミン系、エポキシ
系の架橋性樹脂原料を熱によって架橋硬化させたものな
どを挙げることができる。なかでも、耐久性や取り扱い
の容易さの点でウレタンアクリレート系の樹脂原料を紫
外線または電子線によって硬化させた層、シリコン系の
樹脂原料を熱によって硬化させた層が優れている。

【００３４】またハードコート層に表面の光沢を減少さ
せるために表面に凹凸を形成させる目的で、ハードコー
ト原料液中に無機化合物粒子を添加しても良い。用いら
れる無機化合物としては、例えば、二酸化ケイ素、酸化
アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズ、一酸化ケ
イ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機酸化物を
挙げることができる。

【００３５】ハードコート層を形成させる方法として
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、つまりスピン塗装、浸漬塗装、ロールコート塗
装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装、バーコ
ート塗装等で塗布する。続いて用いた原料に応じた方法
により、硬化させる。この際、塗膜を密着しやすくする
ために、あるいは塗膜の膜厚を調整するためにハードコ
ート原料液を種々の溶剤により希釈しても良い。

【００３６】ハードコート層の厚さは特に限定されるも
のではないが、１〜３０μｍが好ましい。１μｍ以下で
あると光の干渉模様が現れ、外観上好ましくない。また
３０μｍ以上になると塗膜にひびが入るなど、膜の強度
上好ましくない。

【００３７】反射防止層は前面板の表面に直接、または
ハードコート層の表面に付与することができる。反射防
止膜としては特に限定されるものではなく、公知のもの
が挙げられるが、例えば、特開平４−３３８９０１号公
報、特開昭６４−８６１０１号公報、特開昭５６−１１
３１０１号公報に記載の、無機酸化物、無機ハロゲン化
物の単層または多層の薄膜からなるもので、真空状着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の公
知の方法により形成されるもの、または特開平７−１５
１９０４号公報に記載の含フッ素重合体からなる薄層な
どが挙げられる。

【００３８】汚染防止層は前面板の表面に直接、ハード
コート層の表面、反射防止層の表面に付与することがで
きる。汚染防止層としては特に限定されるものではな
く、公知のものが挙げられるが、例えば、特開平３−２
６６８０１号公報、特公平６−２９３３２号公報、特開
平６−２５６７５６号公報に記載のフッ素、シロキサン
含有化合物からなる汚染防止層が挙げられる。

【００３９】ハードコート層、反射防止層、汚染防止層
は前面板の表面に直接形成しても構わないし、それらの
層が形成されたシートまたはフィルムを前面板の表面に
積層または貼合しても良い。ハードコート層、反射防止
層、汚染防止層は前面板を使途に応じて、前面板両面ま
たは片面に必要に応じて形成する。

【００４０】

【発明の効果】本発明のディスプレイ前面板は、プラズ
マディスプレイ、ＥＬディスプレイ、液晶ディスプレイ
などのディスプレイ装置の前面に装着することによっ
て、近赤外線によるディスプレイ装置周辺の機器のリモ
ートコントロールシステムやデータ通信に障害を及ぼす
ことを防止できる。さらに電磁波をも遮蔽して周辺機器
への影響を防止することも可能である。

【００４１】

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例によってなんら制限さ
れるものではない。なお評価は下記方法で行った。（１）光線透過率：得られたサンプルの４５０〜１００
０ｎｍの範囲の分光透過率を日立製作所製自記分光光度
計３３０型を使用して測定した。（２）視認性：ディスプレイ装置の前面に得られた前面
板を取り付けて透視し、取り付ける前の画像の色、輪郭
との差を確認した。（３）リモートコントロール試験：家庭用ＴＶのリモー
トコントロール受光部の前に得られた前面板を設置し、
３ｍ離れた場所のリモートコントローラーからリモート
コントロール信号（信号波長９５０ｎｍ）を送って、反
応するかを確認した。ディスプレイ装置から発生される
近赤外線はリモートコントローラーから発生するものよ
り微弱であるため、この試験で反応しなければディスプ
レイ装置から発生する近赤外線によるリモートコントロ
ール障害防止が可能である。（４）曲げ強度：ＪＩＳＫ６７１８に準じて曲げ強
度を測定した。（５）電磁波遮蔽性：アドバンテスト（株）製プラスチ
ックシールド材評価装置ＴＲ１７３０１Ａを用いて測定
し、各周波数での遮蔽性を下式数１で表した。

【００４２】

【数１】電磁波遮蔽性（ｄＢ）＝２０Ｌｏｇ₁₀（Ｘ₀／Ｘ）（式中、Ｘ₀はサンプルを入れない場合の電磁波強度、
Ｘはサンプルを入れた場合の電磁波強度を表す。）

【００４３】実施例１メチルメタクリレート９０重量％、下記式化５で示さ
れるリン原子含有単量体１０重量％からなる単量体混合
物１００重量部に、銅原子含有化合物として無水安息香
酸銅５重量部、ラジカル重合開始剤としてｔ−ブチルパ
ーオキシ−２−エチルヘキサノエート１重量部を溶解し
た。この溶液をポリ塩化ビニル製ガスケットと大きさ２
２０×２２０ｍｍ、厚さ１０ｍｍの二枚のガラス板から
なる重合用セルに注入し、５５℃で１２時間、１００℃
で２時間加熱重合して、大きさ２００×２００ｍｍ、厚
さ３ｍｍの透明基板を得た。これをそのまま前面板とし
た。視認性は良好であった。リモートコントロール試験
では反応しなかった。光線透過率の評価結果を表１に示
す。

【００４４】

【化５】CH₂＝C(CH₃)COO[CH₂CH(CH₃)O]_5.5-P(O)-(OH)₂

【００４５】実施例２化５で示されるリン原子含有単量
体１０重量％の代わりに、下記式化６および化７をそ
れぞれ５重量％用いた以外は実施例１と同様にして透明
基板を得た。これをそのまま前面板とした。視認性は良
好であった。リモートコントロール試験では反応しなか
った。光線透過率の評価結果を表１に示す。

【００４６】

【化６】CH₂＝C(CH₃)COO-CH₂CH₂O-P(O)(OH)₂

【００４７】

【化７】[CH₂＝C(CH₃)COO-CH₂CH₂O]₂-P(O)-OH

【００４８】実施例３〔汚染防止層の付与された反射防止層付きアクリルフィ
ルムの作製〕片面にマスクフィルムを装着した大きさ６
００×４００ｍｍ、厚さ０．２５ｍｍの耐衝撃アクリル
フィルム（テクノロイ：住友化学工業（株）製）をウレ
タンアクリレート系ハードコート剤（ユニディック１７
−８０６：大日本インキ化学工業（株）製、固形分がト
ルエン中に３０％含有）中に浸漬し、４５ｃｍ／分の速
さで引き上げて塗布した。溶剤を揮散させた後にマスク
フィルムを取り除き、１２０Ｗのメタルハライドランプ
（アイグラフィックス社製ＵＢ０４５１）を２０ｃｍの
距離から１０秒間照射することにより、ハードコート層
をアクリルフィルムに形成させた。ハードコート層を形
成させていない面には再び、マスクフィルムを装着し
た。

【００４９】このハードコート層を付与したアクリルフ
ィルムを真空蒸着装置の真空蒸着槽にいれ、真空度を２
×１０^-5Ｔｏｒｒにした後、二酸化ケイ素、二酸化チタ
ン、二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化ケイ素の順序
で電子線により、各層の厚みが順に１５、１５、３０、
１１０、９０ｎｍとなるように蒸着して、反射防止膜を
付与した。次に、下式化８

【００５０】で示される含フッ素シラン化合物（ダイキン工業（株）
製、数平均分子量が約５０００、ビニルトリクロルシラ
ン単位の平均重合度が２）をテトラデカフルオロヘキサ
ンで希釈した０．１重量％溶液に、上記のハードコート
層、反射防止層を付与したアクリルフィルムを浸漬し、
１５ｃｍ／分の速さで引き上げて塗布した。塗布後は室
温下で一昼夜放置して溶剤を揮散させて汚染防止層を反
射防止層の表面に形成させた。

【００５１】〔前面板の作製〕このアクリルフィルム
を、マスクフィルムを取り除き、実施例１と同様の方法
で得られた透明基板の両面に、アクリル系粘着剤を用い
て貼合し、ハードコート層、反射防止層、汚染防止層を
有する前面板を得た。実施例１の前面板に比べ、背景の
写り込みが少なく、視認性は良好であった。リモートコ
ントロール試験では反応しなかった。光線透過率の評価
結果を表１に示す。

【００５２】実施例４〔汚染防止層の付与された防眩性アクリルフィルムの作
製〕固形分が３０％となるようにトルエンで希釈したウ
レタンアクリレート系ハードコート剤（ユニディック１
７−８０６：大日本インキ化学工業（株）製）にシリカ
微粒子（サイロイド２４４：富士デヴィソン化学製）を
ハードコート固形分１００重量部に対して６重量部添加
し、撹拌機で５分間撹拌し分散させた。

【００５３】この分散液中に、片面にマスクフィルムを
装着した大きさ６００×４００ｍｍ、厚さ０．２５ｍｍ
の耐衝撃アクリルフィルム（テクノロイ：住友化学工業
（株）製）を浸漬し、３０ｃｍ／分の速さで引き上げて
塗布した。溶剤を揮散させた後にマスクフィルムを取り
除き、１２０Ｗのメタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス社製ＵＢ０４５１）を２０ｃｍの距離から１０秒
間照射することにより、防眩層をアクリルフィルムの片
面に形成させた。防眩層を形成させていない表面には再
びマスクフィルムを装着した。

【００５４】得られた防眩層付きアクリルフィルムをコ
ロナ処理機（３００５ＤＷ−ＳＬＲ：ソフタル日本社
製）で４００Ｗ・分／ｍ２のエネルギーで防眩層の表面
をコロナ処理した。次に、コロナ処理した防眩層付きア
クリルフィルムに実施例３と同様にして防眩層上に含フ
ッ素シラン化合物の汚染防止層を付与した。

【００５５】〔前面板の作製〕このアクリルフィルム
を、マスクフィルムを取り除き、実施例１と同様の方法
で得られた透明基板の両面に、アクリル系粘着剤を用い
て貼合し、汚染防止層を付与された防眩層を有する前面
板を得た。実施例１の前面板に比べ、背景の写り込みが
少なく、視認性は良好であった。リモートコントロール
試験では反応しなかった。光線透過率の評価結果を表１
に示す。

【００５６】実施例５実施例１と同様の方法で得られた透明基板の片面に、実
施例４に従って得られた汚染防止層の付与された防眩性
アクリルフィルムをアクリル系粘着剤を用いて貼合し、
もう片面に実施例３に従って得られた汚染防止層の付与
された反射防止層付きアクリルフィルムをアクリル系粘
着剤を用いて貼合し、片面に汚染防止処理された防眩層
を有し、片面にハードコート層、反射防止層、汚染防止
層を有する前面板を得、反射防止層を外側にしてディス
プレイ装置に取り付けた。実施例１の前面板に比べ、背
景の写り込みが少なく、視認性は良好であった。リモー
トコントロール試験では反応しなかった。光線透過率の
評価結果を表１に示す。

【００５７】実施例６実施例１と同様の方法で得られた透明基板に直接、実施
例３に記載の方法と同様にしてハードコート層、反射防
止層、汚染防止層を形成し、前面板を得た。実施例１の
前面板に比べ、背景の写り込みが少なく、視認性は良好
であった。リモートコントロール試験では反応しなかっ
た。光線透過率の評価結果を表１に示す。

【００５８】比較例１市販の厚み３ｍｍのアクリル板（住友化学工業（株）製
スミペックス０００）をそのまま前面板として用いた。
背景の写り込みはあったが視認性は良好であった。リモ
ートコントロール試験では反応した。光線透過率の評価
結果を表１に示す。

【００５９】比較例２市販の反射防止層を有するディスプレイフィルター（住
友化学工業（株）製エスクリーンＦＤ）を前面板として
用いた。背景の写り込みは無く視認性は良好であった。
リモートコントロール試験では反応した。光線透過率の
評価結果を表１に示す。

【００６０】実施例７実施例１と同様の方法で得られた透明基板に導電性のポ
リエチレンテレフタレート製フィルム（ＩＤＯＸＯ／Ｐ
ＥＴ、出光興産製、表面抵抗率１０．９Ω／□）を積層
し、前面板とした。得られた前面板の光線透過率を表２
に、電磁波遮蔽性を表３に示した。

【００６１】比較例３市販の厚み３ｍｍのアクリル板（住友化学工業（株）製
スミペックス０００）に実施例７で用いたものと同じ導
電性フィルムを積層し、前面板とした。実施例７と同様
の測定を行い、結果を表２および表３に示した。

【００６２】実施例８透明板として市販のハードコートペット（東洋紡製）を
用い、この表面に二酸化セリウム／銀／二酸化セリウム
の層構造を有する導電性薄膜を真空蒸着法にて形成し、
導電性フィルムを作製した。水晶振動子法による膜厚
は、透明板側から二酸化セリウム（４０３Å）／銀（１
５０Å）／二酸化セリウム（４０７Å）であった。二酸
化セリウムは電子線加熱で、銀は抵抗加熱にて蒸着し
た。得られた導電性フィルムの表面抵抗率は６．０Ω／
□であった。この導電性フィルムを、実施例１と同様の
方法で得られた透明基板に積層し、前面板とした。実施
例７と同様の測定を行い、結果を表２および表３に示し
た。

【００６３】比較例４市販の厚み３ｍｍのアクリル板（住友化学工業（株）製
スミペックス０００）に実施例８で用いたものと同じ導
電性フィルムを積層し、前面板とした。実施例７と同様
の測定を行い、結果を表２および表３に示した。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【表２】

【００６６】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０８Ｌ 43/02 Ｃ０８Ｌ 43/02 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 5/22 5/22 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 17/16 17/16 Ｃ０８Ｆ 230/02 // Ｃ０８Ｆ 230/02 Ｇ０２Ｆ 1/1333 Ｇ０２Ｆ 1/1333 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均光線透
過率が５０％以上、８００ｎｍから１０００ｎｍの平均
光線透過率が３０％以下である透明基板からなるディス
プレイ前面板。
【請求項２】透明基板が、不飽和二重結合を有する単
量体を重合してなる樹脂、リン原子含有化合物および銅
原子含有化合物を含有する樹脂組成物からなる請求項１
記載のディスプレイ前面板。
【請求項３】リン原子含有化合物が一般式化１【化１】(RO)_3-n−P(O)−(OH)_n （式中、Ｒは炭素数１〜１８のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルケニル基を、またはＲＯは炭素
数４〜１００のポリオキシアルキル基、（メタ）アクリ
ロイルオキシアルキル基、（メタ）アクリロイルポリオ
キシアルキル基を、ｎは１または２を表す）で示される
化合物である請求項２記載のディスプレイ前面板。
【請求項４】リン原子含有化合物が一般式化２【化２】[CH₂＝C(X)COO(Y)_m]_3-n -P(O)-(OH) _n （式中、Ｘは水素原子またはメチル基を、Ｙは炭素数２
〜４のオキシアルキレン基を、Ｙが炭素数２のオキシア
ルキレン基の場合にｍは数平均で８〜２０を、Ｙが炭素
数３のオキシアルキレン基の場合にｍは数平均で５〜２
０を、Ｙが炭素数４のオキシアルキレン基の場合にｍは
数平均で４〜２０を、ｎは１または２を表す）で示され
る化合物である請求項２記載のディスプレイ前面板。
【請求項５】請求項１に記載の透明基板に電磁波遮蔽
層を積層してなるディスプレイ前面板。
【請求項６】電磁波遮蔽層が、導電性を有する透明板
である請求項５記載のディスプレイ前面板。
【請求項７】導電性を有する透明板が、表面に導電性
薄膜を有するプラスチックフィルムもしくはシートまた
はガラス板である請求項６記載のディスプレイ前面板。
【請求項８】導電性薄膜が、金属層と誘電体層を交互
に挟んで積層してなる請求項７記載のディスプレイ前面
板。
【請求項９】表面にハードコート層を有する請求項１
または請求項５記載のディスプレイ前面板。
【請求項10】表面に反射防止層を有する請求項１また
は請求項５記載のディスプレイ前面板。
【請求項11】表面に汚染防止層を有する請求項１また
は請求項５記載のディスプレイ前面板。
【請求項12】ディスプレイがプラズマディスプレイで
ある請求項１または請求項５記載のディスプレイ前面
板。