JP3493990B2 - プラズマディスプレイ前面板 - Google Patents
プラズマディスプレイ前面板Info
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Description
レイ前面板に関する。
の反射や背景が映ることによる画像の不鮮明さを防止す
る目的や、ディスプレイ表面の保護、ディスプレイ表面
の汚れ防止などの目的で、反射防止性、耐擦傷性、防汚
性をもった種々のものが提案されている。ディスプレイ
のうち、プラズマディスプレイは、従来にない大画面の
平面ディスプレイとして注目されているが、画面及びそ
の周囲から発生する電磁波が周辺機器へ障害を与え、ま
た人体への影響が懸念されている。
止性、耐擦傷性、防汚性をもったディスプレイ前面板で
は、プラズマディスプレイからの電磁波を十分に遮蔽す
ることはできない。
磁波を十分に遮蔽できるプラズマディスプレイ前面板に
ついて鋭意検討した結果、透明基板にフィラメント表面
が金属メッキされた繊維網状体を積層一体化した前面板
がプラズマディスプレイからの電磁波を十分に遮蔽でき
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
とおりである。 (1)透明基板に、フィラメント表面が金属化された合
成繊維網状体が積層一体化されてなるプラズマディスプ
レイ前面板。 (2)不飽和二重結合を有する単量体、リン原子含有単
量体を共重合してなる共重合体及び銅原子を含有する化
合物を含有する樹脂組成物を成形してなる透明基板に、
フィラメント表面が金属化された合成繊維網状体が積層
一体化されてなるプラズマディスプレイ前面板。 (3)前記(1)または(2)記載の前面板の表面に、
ハードコート層及び/又は反射防止層及び/又は汚染防
止層を設けてなるプラズマディスプレイ前面板。
面板は、フィルムまたはシート状物である。大きさはプ
ラズマディスプレイの表示画面サイズに合わせて任意に
選択することができる。また、厚みも任意に選択できる
が、概ね0.01〜10mm程度である。
に適用される透明基板は、波長450nmから650n
mの範囲の平均光線透過率が50%以上、好ましくは6
0%以上のものである。50%より低くなるとディスプ
レイの映像が見え難くなり、好ましくない。さらに、波
長450nmから650nmの範囲の平均光線透過率が
50%以上で、波長800nmから1000nmの範囲
の平均光線透過率が30%以下、好ましくは20%以下
である近赤外線吸収能を有するものも好ましく用いられ
る。
どから形成される。その形状としてはフィルムまたはシ
ート状物である。中でも透明樹脂が耐衝撃性に優れ、好
ましい。
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル樹脂、トリ
アセチルセルロース、ジアセチルセルロースなどのセル
ロース系樹脂、スチレン系樹脂などである。中でも光透
過性、耐候性などの点からアクリル系樹脂が適してい
る。
ートも同様に用いることができる。また、必要に応じて
光拡散剤、着色剤、離型剤、安定剤、紫外線吸収剤、酸
化防止剤、帯電防止剤、難燃化剤などを加えたものを用
いてもよい。フィルム又はシートは単層でもよいし、複
数の樹脂を積層したものでもよい。
体又はそれらの混合物を重合、成形して得られる。不飽
和二重結合を有する単量体とは、ラジカル重合可能な不
飽和二重結合を分子内に少なくとも1個を有する単官能
又は多官能の単量体である。
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリ
レート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートなど
の(メタ)アクリル酸エステル類;ボルニル(メタ)ア
クリレート、フェンチル(メタ)アクリレート、1−メ
ンチル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)ア
クリレート、ジメチルアダマンチル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニ
ル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.0
2,6 ]デカ−8−イル=(メタ)アクリレート、ジシク
ロペンテニル(メタ)アクリレートなどの脂環式炭化水
素基を有する(メタ)アクリレートエステル類;スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、クロルスチ
レン、ブロムスチレンなどのスチレン系単量体;アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸などの不
飽和カルボン酸;無水マレイン酸、無水イタコン酸など
の酸無水物;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、テ
トラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、モノグリ
セロール(メタ)アクリレートなどのヒドロキシル基含
有単量体;アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、ジアセトンアクリル
アミド、ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの窒
素含有単量体;アリルグリジシルエーテル、グリジシル
アクリレート、グリジシルメタクリレートなどのエポキ
シ基含有単量体;ポリエチレングリコールモノメタクリ
レート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、ポリエチレングリコールモノアリルエーテルなどの
アルキレンオキサイド基含有単量体;酢酸ビニル、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、弗化ビニリデン、エチレンな
どのその他の単量体などが挙げられるが、特にこれらに
限定されるものではない。
ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレートのようなアルキルジオールジ(メタ)
アクリレート類;テトラエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレ
ートのようなアルキレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート類;ジビニルベンゼン、ジアリルフタレートのよう
な芳香族多官能化合物;ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレートのような多価アルコールの(メ
タ)アクリレートなどが挙げられるが、特にこれらに限
定されるものではない。
ートとは、アクリレートとメタクリレートとを示してい
る。
られる樹脂の透明性などから(メタ)アクリレート類、
スチレン系単量体が好ましく用いられる。なお、上記単
量体は2種以上併用できる。
たはその混合物を重合する方法は、塊状重合、懸濁重
合、乳化重合など公知の方法が挙げられる。また成形す
る方法も、押出成形、注型重合など公知の方法が挙げら
れる。このようにして得られる透明基板は、その波長4
50nmから650nmの範囲の平均光線透過率は、通
常90%以上のものとなる。
範囲の平均光線透過率が50%以上で、波長800nm
から1000nmの範囲の平均光線透過率が30%以下
の近赤外線を吸収することができる透明基板は、基板そ
のものが近赤外線吸収能を有している樹脂組成物から形
成されていてもよいし、近赤外線吸収能のない基板に近
赤外線吸収能を有する樹脂組成物からなる層を形成させ
てもよい。
は、以下のようなものなどが挙げられる。 (1)特開平6−118228号公報に示されているよ
うな、不飽和二重結合を有する単量体、リン原子含有単
量体を共重合してなる共重合体及び銅原子を含有する化
合物を含有する樹脂組成物。 (2)特公昭62−5190号公報に示されているよう
な、銅化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物。 (3)特開平6−73197号公報に示されているよう
な、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物。 (4)USP−3,647,729号に示されているよ
うな、タングステン系化合物を含有する樹脂組成物。
有する単量体、リン原子含有単量体を共重合してなる共
重合体、銅原子を含有する化合物を含有する樹脂組成物
が可視光域の透過率、また基板にした際の強度、耐久性
に優れており好ましい。不飽和二重結合を有する単量体
とは、上記のラジカル重合可能な不飽和二重結合を分子
内に少なくとも1個を有する単官能または多官能の単量
体でる。
ル重合可能な不飽和二重結合を有し、かつ分子内にリン
原子を有する単量体であれば特に制限はないが、下記の
一般式(1)で示される化合物が、得られる透明基板の
強度が強く、耐久性に優れ、好ましい。 [CH2=C(X)COO(Y)m]3-n-P(O)-(OH)n (1) (式中、nは1又は2、Xは水素原子又はメチル基、Y
は炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Yが炭素数2の
オキシアルキレン基の場合、mは数平均で8〜20、Y
が炭素数3のオキシアルキレン基の場合、mは数平均で
5〜20、Yが炭素数4のオキシアルキレン基の場合、
mは数平均で4〜20である)
素数3のプロピレンオキサイド基が、得られる透明基板
の吸湿性が低下することから好ましい。また[CH2=C(X)
COO(Y)m ] 基の炭素数の合計は数平均で20以上の方が
好ましい。この基の炭素数の合計が18以下である場
合、得られる透明基板の強度が低下したり、吸湿性が大
きくなる。Yが炭素数3のプロピレンオキサイド基でm
が6〜20のリン原子含有単量体が好ましく用いられ
る。
重結合を有する単量体とリン原子含有単量体の共重合体
中、0.1〜50重量%で、好ましくは0.5〜30重
量%である。リン原子含有単量体の使用量が0.1重量
%より少ないと良好な近赤外線吸収能を得ることができ
ない。また50重量%より多いと得られる共重合体の強
度が低下し、好ましくない。なお、上記リン原子含有単
量体は、2種以上併用することができる。
単量体を共重合してなる共重合体は、これらの単量体を
周知の重合方法、例えば塊状重合、懸濁重合、乳化重合
などによって得られる。
を含有していれば特に制限はなく、種々のものを用いる
ことができる。例えば、酢酸銅、ギ酸銅、プロピオン酸
銅、バレリン酸銅、ヘキサン酸銅、オクチル酸銅、デカ
ン酸銅、ラウリン酸銅、ステアリン酸銅、2−エチルヘ
キサン酸銅、ナフテン酸銅、安息香酸銅、クエン酸銅な
どのカルボン酸と銅イオンの塩、アセチルアセトンまた
はアセト酢酸と銅イオンの錯塩、塩化銅、ピロリン酸銅
などを用いることができる。
飽和二重結合を有する単量体とリン原子含有単量体を共
重合してなる共重合体100重量部に対し、0.01〜
30重量部、更に好ましくは0.1〜20重量部であ
る。これは、銅原子を含有する化合物1モルに対し、リ
ン原子含有単量体が、ほぼ0.05〜10モルに相当す
る。
和二重結合を有する単量体とリン原子含有単量体の混合
物、またはそれらの重合体、共重合体を含むいわゆるシ
ロップに銅原子を含有する化合物を均一に溶解し、例え
ば、セルや鋳型内で重合硬化させて所定の形状に賦形す
る方法や塊状重合する方法などがある。なお、この際の
重合は、周知のラジカル重合開始剤の存在下又はラジカ
ル重合開始剤と促進剤よりなる、いわゆる、レドックス
系開始剤の存在下による方法、紫外線又は放射線を照射
する方法など、周知の方法によって行うことができる。
また粉粒状の不飽和二重結合を有する単量体とリン原子
含有単量体の共重合体に、銅原子を含有する化合物を、
周知の溶融混練方法によって均一に配合するなど、均一
に混合できれば、いかなる方法でもよい。
ている透明基板を得る方法としては、次の方法などが挙
げられる。 (1)近赤外線吸収能を有する樹脂組成物を板状に成形
する方法。 (2)近赤外線吸収能を有する樹脂組成物の単量体成分
を注型重合させて板とする方法。
線吸収能を有する層を形成させる方法としては、次の方
法などが挙げられる。 (1)透明樹脂シート又はフィルムの表面に、近赤外線
吸収能を有する樹脂組成物をコーティングすることによ
って近赤外線吸収能を有する樹脂層を形成させる方法。 (2)透明樹脂シート又はフィルムの表面に近赤外線吸
収能を有する樹脂組成物からなるフィルムを貼合する方
法。 (3)透明樹脂シート又はフィルムと近赤外線吸収能を
有する樹脂組成物分を積層する方法。
る透明基板は、通常、その波長450nmから650n
mの範囲の平均光線透過率は60%以上で、波長800
nmから1000nmの範囲の平均光線透過率は20%
以下である。
網状体としては、フィラメント表面を銅あるいはニッケ
ルなどでメッキしたポリエステル沙織物などが挙げられ
る。合成繊維の種類としては各種考えられるが、強度、
耐久性、及びメッキの前処理であるエッチングのし易さ
などからポリエステルが好ましい。フィラメント表面を
金属化した上にさらに染料や顔料で艶あるいは暗色に着
色したものは、画像のちらつきや眩しさを抑制する上で
有効である。
し、一方細かくなると画像が見えにくくなる。従って網
目としては50〜300メッシュ、より好ましくは10
0〜200メッシュである。網状体の厚さとしては20
〜200μm、より好ましくは50〜100μmであ
る。
は、特に制限されるものではないが、透明基板と網状体
を加熱、加圧して積層一体化する方法が好ましく用いら
れる。例えば、通常の加圧プレス法で行うことができ、
プレス温度としては材料により適宜選択されるが、概ね
110〜180℃、プレス圧力としては10〜50kg
/cm2 の条件で行われる。また、通常の加熱ロールに
よる圧着貼合法で行うこともでき、この場合ロール表面
加熱温度は、通常、上記プレス法における温度範囲と同
様である。このようにして、透明基板の片面に網状体を
積層一体化した前面板、網状体を2枚の透明基板で挟ん
で積層一体化した前面板が得られる。
電磁波遮蔽性能の低下の原因となる網状体の劣化や、網
目の拡がり等の変形を防ぐために、透明基板と網状体の
間に、軟質透明熱可塑性フィルムを挟んで一体化するこ
とが好ましい。
低軟化点樹脂フィルムが用いられ、アクリルフィルム、
塩化ビニルフィルムなどが具体的に例示される。フィル
ムの軟化点としてはJIS K7206により測定した
ビカット軟化点が、40〜100℃、より好ましくは5
0〜80℃のものである。フィルムの厚さとしては10
〜200μm、より好ましくは20〜100μmであ
る。
た合成繊維網状体を一体積層化した前面板の方が、透明
基板に導電性フィルムを積層した前面板より高い電磁波
遮蔽性を示す。
に触れることが多く、また埃等の付着やその掃除等によ
り傷つきやすい。従ってハードコート層を形成させて、
その表面の硬度を高めることが好ましい。該ハードコー
ト層としては、この用途に用いられる公知のものでよ
い。例えば、多官能性モノマーを主成分として重合硬化
させることによって得られる硬化膜を挙げることができ
る。
ト、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル
(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリロイル基を2
個以上有する多官能重合性化合物を紫外線、電子線等の
活性化エネルギー線によって重合硬化させた層;および
シリコン系、メラミン系、エポキシ系の架橋性樹脂原料
を熱によって架橋硬化させたものなどを挙げることがで
きる。なかでも、耐久性や取り扱いの容易さの点でウレ
タンアクリレート系の樹脂原料を紫外線または電子線に
よって硬化させた層、シリコン系の樹脂原料を熱によっ
て硬化させた層が優れている。
させるために表面に凹凸を形成させる目的で、ハードコ
ート原料液中に無機化合物粒子を添加してもよい。用い
られる無機化合物としては、例えば、二酸化珪素、酸化
アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズ、一酸化珪
素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機酸化物を挙
げることができる。
は、まず、原料を通常のコーティング作業で用いられる
方法で、つまりスピン塗装法、浸漬塗装法、ロールコー
ト塗装法、グラビアコート塗装法、カーテンフロー塗装
法、バーコート塗装法等で塗布する。続いて用いた原料
に応じた方法により、硬化させる。この際、塗膜を密着
しやすくするために、あるいは塗膜の膜厚を調整するた
めにハードコート原料液を種々の溶剤により希釈しても
よい。ハードコート層の厚さは特に限定されるものでは
ないが、1〜20μmが好ましい。1μm以下であると
光の干渉模様が現れ、外観上好ましくない。また20μ
m以上になると塗膜にひびが入るなど、膜の強度上好ま
しくない。
は、周囲の景色等の映り込みを防ぎ、視認性を向上させ
るために、反射防止処理されることが好ましい。反射防
止層は基板の表面に直接、または基板表面のハードコー
ト層の表面に付与することができる。反射防止層はフッ
化マグネシウム、酸化珪素等の低屈折率物質と酸化チタ
ン、酸化タンタル、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジル
コニウム、酸化亜鉛等の高屈折率物質を組み合わせた多
層反射防止膜、又は低屈折率物質を主とする単層反射防
止膜、及びその密着性、硬度改良のため接着層、表面改
質層を形成させた物等が考えられるが、加工の容易さ、
反射防止性能等からフッ化マグネシウムを低屈折率層と
する反射防止層が好ましい。
プレイの画面側で使用される場合、画面からの熱による
温度変化に対して耐久性の優れた物が要求されるため、
酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸化珪素の3
層からなるものが特に好ましい。反射防止層は、塗布、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法等の公知の方法により形成される。
え、画面の視認性を高める一方で、手垢、指紋、化粧料
等の付着による汚れを目立ちやすくする。このような汚
れの付着を防ぎ、また付着した汚れを容易に除去できる
ように、反射防止層の上に汚染防止層を形成させてもよ
い。汚染防止層としては公知のもので特に限定はない
が、例えば、特開平3−266801号公報、特公平6
−29332号公報、特開平6−256756号公報、
あるいは特開平1−294709号公報に記載のフッ
素、シロキサン含有化合物からなる汚染防止層が挙げら
れる。
は透明基板表面又はフィラメント表面が金属化された合
成繊維網状体を積層一体化した前面板に直接形成しても
構わないし、それらの層が形成されたシートまたはフィ
ルムを積層または貼合してもよい。ハードコート層、反
射防止層、汚染防止層は前面板を使用する用途に応じ
て、前面板両面または片面に必要に応じて形成する。
コントラスト向上のために、その全光線透過率(JIS K7
105に従って測定)が30%以上75%以下が好まし
い。透明基板を染料、顔料などで着色したり、フィラメ
ント表面が金属化された合成繊維網状体の種類を変えた
り、多層化したりすることによって全光線透過率を75
%以下に調整することができる。
マディスプレイの前面に装着することによって、十分に
電磁波を遮蔽することができる。さらに、本発明の前面
板は、近赤外線吸収能、反射防止性、耐擦傷性、防汚性
を付加したものとすることもできる。
明する。なお、評価は下記の方法で行った。 (1)光線透過率:得られたサンプルの450〜100
0nmの範囲の分光透過率を日立製作所製自記分光光度
計330型を使用して測定した。 (2)視認性:プラズマディスプレイの前面に得られた
前面板を設置して透視し、設置前の画像の色、輪郭との
差を確認した。 (3)電磁波遮蔽性能:シールド材料評価システムR2
547型(株式会社アドバンテスト製)を使い評価し
た。各周波数での遮蔽性を下記の式(2)で評価した。 電磁遮蔽性(dB)=20×Log10(X0/X) (2) (式中、X0はサンプルを入れない場合の電磁波強度、X
はサンプルを入れた場合の電磁波強度を表す。) 電磁波遮蔽性が全くない場合、この値は0dBになり、
遮蔽性がよくなるほど大きい値を示す。 (4)リモートコントロール試験:家庭用TVのリモー
トコントロール受光部の前に得られた前面板を設置し
て、3m離れた場所のリモートコントローラーからリモ
ートコントロール信号(信号波長950nm)を送っ
て、反応するかを確認した。プラズマディスプレイ装置
から発生される近赤外線はリモートコントローラーから
発生するものより微弱であるため、この試験で反応しな
ければプラズマディスプレイ装置から発生する近赤外線
によるリモートコントロール障害防止が可能である。
(住友化学工業(株)製スミペックス000)を用い
た。次に、図1に示すように、透明基板(1)、大きさ
620×420mm、厚さ60μm、網目が135メッ
シュのフィラメント表面が銅メッキされたポリエステル
沙織物〔(株)セーレン製〕(2)、および大きさ60
0×400mm、厚さ20μmの軟質アクリルフィルム
〔商品名サンジュレンSD003:鐘淵化学工業(株)
製〕(3)を配置し、さらにこれらの上下に大きさ70
0×700mm、厚さ3mmの、透明基板と接する側が
鏡面仕上げされたステンレス製の当て板を当て、この状
態のまま、これらを50t油圧プレス機に装填し、プレ
ス温度150℃、プレス圧力40kg/cm2で10分
間加熱、加圧して積層一体化を行った。冷却後ステンレ
ス製の当て板を外し、そりやクラックのないプラッズマ
ディスプレイ前面板を得た。光線透過率を表1に、電磁
波遮蔽性能を表2に示した。
ET)フィルム(厚さ188μm:東洋紡製)に真空蒸
着により、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、酸
化珪素を順に積層し、反射防止層を形成させた。またハ
ードコート処理していないPETフィルム(厚さ188
μm:東洋紡製)にも同様にして反射防止層を形成させ
た。下記の化学式(3)で示される含フッ素シラン化合
物(ダイキン工業(株)製、数平均分子量が約500
0、ビニルトリクロルシラン単位の平均重合度が2)を
テトラデカフルオロヘキサンで希釈した0.1重量%溶
液を調整し防汚処理液とした。 C3F7-(OCF2CF2CF2)24-O(CF2)2-[CH2CH-Si-(OCH3)3]1-10−H (3)
Tフィルムの反射防止層を形成させた面の反対側にマス
クフィルムを装着した後、該フィルムを溶液中に浸漬
し、15cm/分の速さで引き上げて塗布した。塗布後
は室温下で一昼夜放置して溶剤を揮散させて汚染防止層
を反射防止層の表面に形成させた。マスクフィルムは後
述する前面板との貼合時に除去した。
面に、上記で得られた反射防止フィルム(ハードコート
処理のないもの)を貼合し、その裏面に上記で得られた
汚染防止処理反射防止フィルムを貼合してプラズマディ
スプレイ前面板を得た。この前面板を、汚染防止処理反
射防止フィルム側を外側にして、プラズマディスプレイ
の前面に設置した。この前面板は、外観も非常にきれい
な物であり反射像の写り込みも極めて少なかった。この
前面板はリモートコントロール試験を行った結果、反応
した。光線透過率を表1に、電磁波遮蔽性能を表2に示
した。
リレート25重量%、ポリエチレングリコール(平均分
子量200)ジメタクリレート30重量%からなる混合
物100重量部に、下記の化学式(4)で示されるリン
原子含有化合物を10重量部添加した。銅原子含有化合
物として無水安息香酸銅5重量部、ラジカル重合開始剤
としてt−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエー
ト0.5重量部を溶解した。この溶液を厚さ3mmのポ
リ塩化ビニル製ガスケットと620×420×10mm
二枚のガラス板からなる重合用セルに注入し、50℃で
12時間、100℃で2時間加熱重合して大きさ600
×400mm、厚さ3mmの板状の近赤外線吸収能を有
する透明基板を得た。 CH2=C(CH3)COO[CH2CH(CH3)O]5.5-P(O)(OH)2 (4)
明基板を用いた以外は実施例2と同様にしてプラズマデ
ィスプレイ前面板を得た。この前面板を、汚染防止処理
反射防止フィルム側を外側にして、プラズマディスプレ
イの前面に設置した。この前面板は透過色がうすい水色
で、外観も非常にきれいな物であり反射像の写り込みも
極めて少なかった。またこの前面板はリモートコントロ
ール試験では反応しなかった。この前面板の光線透過率
を表1に、電磁波遮蔽性能を表2に示した。
一体化せずに、近赤外線吸収能を有する透明基板に反射
防止フィルムを貼合した点以外は、実施例3と同様にし
て前面板を作製した。この前面板にリモートコントロー
ル試験を行った結果、反応しなかった。光線透過率を表
1に、電磁波遮蔽性能を表2に示した。
化学工業(株)製スミペックス000)を用いた。Ag
とInOxを交互に多層積層した導電性フィルム(サウ
スウォール社製のXIRフィルム)を透明基板の片面に
貼合して前面板を作製した。光線透過率を表1に、電磁
波遮蔽性能を表2に示した。
例2と同様にして前面板を作製した。光線透過率を表1
に、電磁波遮蔽性能を表2に示した。
が金属化された合成繊維網状体および軟質透明熱可塑性
フィルムの配置を示す断面図である。
Claims (12)
- 【請求項1】波長450nm〜650nmの範囲におけ
る平均光線透過率が50%以上であり、かつ波長800
nm〜1000nmの範囲における平均光線透過率が3
0%以下である透明基板に、フィラメント表面が金属化
された合成繊維網状体が積層一体化されてなるプラズマ
ディスプレイ前面板。 - 【請求項2】透明基板が、不飽和二重結合を有する単量
体を含有する樹脂組成物を成形してなる請求項1記載の
プラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項3】透明基板が、不飽和二重結合を有する単量
体、リン原子含有単量体を共重合してなる共重合体及び
銅原子を含有する化合物を含有する樹脂組成物を成形し
てなる請求項1記載のプラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項4】リン原子含有単量体が一般式(1) (式中、nは1又は2、Xは水素原子又はメチル基、Y
は炭素数2〜4のオキシアルキレン基、Yが炭素数2の
オキシアルキレン基の場合、mは数平均で8〜20、Y
が炭素数3のオキシアルキレン基の場合、mは数平均で
5〜20、Yが炭素数4のオキシアルキレン基の場合、
mは数平均で4〜20である。)で示される化合物であ
る請求項3記載のプラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項5】フィラメント表面が金属化された合成繊維
網状体が、フィラメント表面を銅またはニッケルでメッ
キしたポリエステル沙織物である請求項1記載のプラズ
マディスプレイ前面板。 - 【請求項6】透明基板と合成繊維網状体を加熱、加圧し
て積層一体化したものである請求項1記載のプラズマデ
ィスプレイ前面板。 - 【請求項7】透明基板と合成繊維網状体の間に軟質透明
熱可塑性フィルムを介して積層一体化したものである請
求項1記載のプラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項8】フィラメント表面が金属化された合成繊維
網状体の網目が50〜300メッシュである請求項1記
載のプラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項9】フィラメント表面が金属化された合成繊維
網状体の厚みが20〜200μmである請求項1記載の
プラズマディスプレイ前面板。 - 【請求項10】表面にハードコート層を有する請求項1
記載のディスプレイ前面板。 - 【請求項11】表面に反射防止層を有する請求項1記載
のディスプレイ前面板。 - 【請求項12】表面に汚染防止層を有する請求項1記載
のディスプレイ前面板。
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JP8-348934 | 1996-12-26 | ||
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JPH10241578A JPH10241578A (ja) | 1998-09-11 |
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1997
- 1997-12-25 JP JP35788797A patent/JP3493990B2/ja not_active Expired - Fee Related
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