JPH0996763A - 照明光学系及び光源装置 - Google Patents
照明光学系及び光源装置Info
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- JPH0996763A JPH0996763A JP7278365A JP27836595A JPH0996763A JP H0996763 A JPH0996763 A JP H0996763A JP 7278365 A JP7278365 A JP 7278365A JP 27836595 A JP27836595 A JP 27836595A JP H0996763 A JPH0996763 A JP H0996763A
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Abstract
よる観察領域中心付近での照明光量不足や照度むらの影
響を除去すること。 【解決手段】 ハロゲンランプの輝点からの陰影光束が
照明光学系の光軸、あるいは照明光学系に導くためのフ
ァイバ−等のインプット手段の入射光軸に対して傾いて
配置されるように構成される照明光学系及び光源装置を
得ること。
Description
光学系を用いた装置に関するもので、物体に光を照射し
て、該物体からの反射あるいは透過光を結像光学系を用
いて投影する投影光学装置、例えば半導体露光装置であ
るステッパ−のアライメント用顕微鏡や露光光学系に好
適なものである。
く用いられている手法は光学顕微鏡による拡大像の観察
である。光学顕微鏡はレ−ザ−やハロゲンランプユニッ
トからなる照明光源より照射された光束を、照明光学系
により対象物体に導光し照明する。反射型顕微鏡では対
象物体からの反射光、回折光を再び光学系により導光
し、対象物体を目視モニタ−またはCCD上に結像させ
て観察可能ならしめている。通常の光学顕微鏡では照明
光源として白色で、取り扱いの容易なハロゲンランプユ
ニットが良く用いられる。ここでハロゲンランプユニッ
トとしたのは通常のハロゲンランプはFig.8 に示すよう
にランプと反射鏡が一体になった形の構成をしているた
めで、ランプ自体と反射鏡つきのランプ全体とを区別す
るため後者をハロゲンランプユニットと呼ぶこととし
た。
の像を照明光学系を介して観察対象物体と共役な位置に
置くクリティカル照明や、光源の像を照明光学系の瞳面
の位置に置くケ−ラ−照明などが知られている。実際は
フィラメントの像が観察対象物体上にできるなどして照
明にムラの起きやすいクリティカル照明よりも、光源の
ムラが物体上に現われないケ−ラ−照明が一般に用いら
れる。
トを用いた従来の光学顕微鏡の一般例として、反射型顕
微鏡の構成概略図を示したものである。ハロゲンランプ
ユニットはハロゲンランプ1の輝点となるハロゲン電極
3を楕円集光反射鏡2の第1焦点位置に置き、第2焦点
の位置4にハロゲン電極3の結像集光点を結ばせるタイ
プである。この集光光束がレンズ5を介して視野絞り6
で照明領域のみを照明する必要光束に限定されて、レン
ズ7からハ−フミラ−8の反射を介してレンズ9により
観察対象物体10を照射する。観察対象物体10で反
射、回折した光は再びレンズ9、ハ−フミラ−8を通過
してレンズ11を介してCCD12上に10の像を結像
させる。
ンランプユニットの構造を示したもので、コイル状に捲
回されたフィラメント40を有するハロゲンランプ41
に略椀型をなす回転体状のミラ−42が一体に設けられ
ている。ミラ−42の内側の面には回転放物面や楕円面
等の滑らかな曲面をなす鏡面状の反射面部43が形成さ
れている。ハロゲンランプ41の輝点44は反射面部4
3の焦点位置45に一致して配置され、43の中心軸は
ハロゲンランプ41の軸とほぼ一致している。またハロ
ゲンランプユニットの光軸は反射面部43の光軸と定義
する。
ら照射された光束は反射面部43により反射され、ミラ
−42の照射開口42aを介して照射される。反射面部
43が楕円集光反射鏡でハロゲンランプ41の輝点44
が43の第1焦点位置に配置されると、43で反射した
光束は第2焦点位置に集光される。
述のような楕円集光反射鏡によってハロゲン電極の輝点
を集光させるタイプのハロゲンランプユニットでは、集
光する第2焦点位置においてハロゲン電極自体で楕円ミ
ラ−からの集光光束が遮られ、集光する角度分布の中心
部分に強度の弱い成分である陰影光束部が生じてしま
う。この様子を示したのがFig.7 でハロゲン電極3が楕
円集光反射鏡2からの反射光を遮ることにより斜線で示
す陰影光束13が生じる。この陰影光束13はケ−ラ−
照明の照明光学系の場合、対象物体10の観察領域の中
心付近を照明する光束に対応する。従って陰影光束13
の存在は観察領域中心付近での照度低下を招き、照明光
量不足や照度むらが発生する原因となる。
物面鏡の場合にも楕円集光反射鏡と同様な問題が発生す
る。
束の影響を除去するためになされたもので、ハロゲンラ
ンプユニット等の光源装置からの光束でケ−ラ−照明を
行う時、該光束中の陰影光束が観察対象物体の照明に用
いられないよう、光源装置と照明光学系を構成すること
を特長としている。このため本発明ではハロゲンランプ
ユニットからの陰影光束が照明光学系の光軸、あるいは
照明光学系に導くためのオプティカルファイバ−等のイ
ンプット手段の入射光軸に対して傾いて入射する光学配
置を取ることを特長としている。陰影光束を傾いた配置
にすることにより、ハロゲン電極等の光源自体のけられ
によって発生する陰影光束が照明光学系で用いる照明光
の有効領域外に導かれるので、観察領域全域の照度を高
く、且つ均一に保つことができ、良好な顕微鏡観察が可
能となる。
顕微鏡系の概略図である。Fig.7 で説明した従来例と同
じ構成部材には同一の符号を付してある。本実施例の特
長はハロゲンランプユニットを集光位置である楕円集光
反射鏡の第2焦点4を中心にして角度θ傾けたことにあ
る。集光位置4はまた後続の照明光学系へのインプット
位置と考えることができる。集光位置4は5から7で構
成される光学顕微鏡系の照明光学系の光軸上に配置さ
れ、角度θは楕円集光反射鏡2からの集光光束中のハロ
ゲン電極3の陰影光束13が視野絞り6でけられて、対
象物体10の観察領域を照明する光束の外に位置するよ
うな角度とする。
度による光強度分布を示したグラフである。グラフでわ
かるとおり、ハロゲン電極の陰影光束13が影響する角
度0°付近は光強度が低下している。なおFig.1 等では
ハロゲン電極3の陰影光束13を他のけられのない領域
と二値的に分離した説明がされているが、実際にはFig.
2 に示すように不連続に特性が変わるのではなく、連続
性のあるプロファイルとなる。
明光学系の光軸と一致していたので、角度0°近傍の光
束をケ−ラ−照明に用いていた。本実施例ではFig.2 の
グラフに示された光強度の高い領域をケ−ラ−照明に用
いるため、より明るい照度で観察対象物体10を照明し
て観察することが可能となった。このため本実施例では
ハロゲンランプユニットの光軸と照明光学系の光軸との
傾け角θを10°程度とし、ケ−ラ−照明時に明るい光
束部を用いることを特徴としている。傾斜角はFig.2 に
示す特性から定まるので、実際には使用するハロゲンラ
ンプユニットの型に従って角度分布を求めて最適角を決
定するとよい。場合によっては最適角を調整する部材を
設けることも実用的である。
を下方向に変位させたが、方向性は問題ではなく、ハロ
ゲンランプユニットの光軸を照明光学系の光軸からθず
らすならどの方向でもよい。傾斜させたことにより集光
位置4における集光光束中で高強度の箇所を用いること
ができ、照明領域内の均一性も上がってハロゲンランプ
ユニットの性能を充分活かすことができる。
ンプユニットからの光をオプティカルファイバ−14で
照明光学系に導光する例を示したものである。光学顕微
鏡部と光源部の分離配置は、光源部が熱源となるだけ
に、温度環境にうるさい使用条件でよく実施される構成
である。本実施例においてもハロゲンランプユニットの
傾けは有効に機能する。
位置4にオプティカルファイバ−14の一端を置き、他
方の端を光学顕微鏡の照明光学系の瞳面に配置してい
る。オプティカルファイバ−14は入射光の角度特性を
保存して光伝送する特性を持っているので、ハロゲンラ
ンプユニットとオプティカルファイバ−14を正対させ
て配置する、即ちオプティカルファイバ−14の入射端
面の中央に立てた垂線がハロゲンランプ1の光軸と一致
するように配置すると、ハロゲン電極3の陰影光束13
が観察対象物体10の観察領域中心付近を照明する光束
となる。従って観察領域中心付近の照度が陰影光束13
の影響で低下してしまう。
トの光軸がオプティカルファイバ−14の入射端面の中
央を角度が該端面の垂線に対しθだけ傾いて通過するよ
うな配置とすることを特徴としている。このように配置
すると陰影光束13はオプティカルファイバ−14の射
出端で傾いて射出され、照明光学系中で13’、13”
と斜線で示した広がりを示す。これらの陰影光束は観察
領域に対応する視野絞り6でけられるため観察物体10
を照明することはない。観察領域を照明する光束はハロ
ゲン電極3の陰影でけられていないFig.2 で示す照度の
高い領域の光束となり、照度が高く、むらの少ない照明
及び観察が可能となる。
ンランプユニットの光軸とオプティカルファイバ−の端
面を相対的にθ傾けることが重要であるため、相対的な
角度関係さえ保っておれば傾ける方向については自由度
がある。
ゲンランプユニットを用い、光学系の構成で陰影光束の
影響を取り除く例を示したが、同様の効果はハロゲンラ
ンプ自体の構成を変えることによっても実現できる。Fi
g.4 は本発明の実施例3でハロゲンランプユニットの構
成を従来と変更した例である。本実施例のハロゲンラン
プユニットでは光源としてのハロゲンランプ21に反射
鏡として楕円集光反射鏡22が一体として取り付けられ
た構成となっているが、このときハロゲンランプ21の
輝点23が楕円集光反射鏡22の第1焦点位置24から
ずれた位置に配置されていることを特徴としている。
のガラスの筒の中に不活性ガスと微量のハロゲン化物が
フィラメント25と共に封止部26で封入される。フィ
ラメント25はいわゆる縦形継線で、ハロゲンランプ2
1の軸心を中心としてコイル状に捲回されている。楕円
集光反射鏡22には前端部に略円形をなす照射開口22
aが形成され、更に22の裏面部には略円筒状をなすネ
ック部27が設けられている。ネック部27の円筒の軸
はハロゲンランプ21の長手方向と一致する方向に設け
られ、この27に対しハロゲンランプ21の封止部26
が固定される。またハロゲンランプ21の長手方向は楕
円集光反射鏡22の第2焦点位置28とハロゲンランプ
21の輝点を結ぶ方向にほぼ一致するように設定され
る。
23が楕円集光反射鏡22の第1焦点24に対し、該楕
円集光反射鏡22の光軸と直交する方向にずれた位置に
配置されている。このずれ量に対応してハロゲンランプ
からの光は楕円集光反射鏡22の第2焦点位置28から
ずれた位置29に集光する。このときのハロゲン電極の
輝点23の陰影光束31は斜線で示したように照明光学
系の光軸32に対して角度θ傾斜する。陰影光束は33
で示される照明光学系の有効光束に含まれず、照度が高
くムラの少ない照明を達成することができる。
プユニットを示すものである。実施例3と同一の部材に
は同じ符号が付されている。実施例3との違いはハロゲ
ンランプ21の長手方向がハロゲンランプの輝点23と
23が楕円集光反射鏡22によって結像される集光点2
9とを結ぶ方向にほぼ一致するように配置されているこ
とで、その他の配置及び作用はFig.4 で説明したことと
同様である。陰影光束31は斜線で示したように照明光
学系の光軸32に対して角度θ傾斜するため、33で示
される照明光学系の有効光束に含まれず、照度が高くム
ラの少ない照明を達成することができる。
を実際に光学顕微鏡に適用した例である。ここでも先の
実施例と同一の部材については同じ符号が付されてい
る。Fig.4あるいはFig.5 で説明したように本発明のハ
ロゲンランプユニットではハロゲンランプ21の輝点2
3を楕円集光反射鏡22の第1焦点位置24からずらし
ている点にある。ずらし量は楕円集光反射鏡22による
29への集光光束中のハロゲン電極による陰影光束31
が、視野絞り6でけられて、照明に必要な光束に含まれ
ないように設定される。
の効果はFig.2 を用いて実施例1と同じ様に説明するこ
とができる。Fig.2 のグラフの横軸では従来例のハロゲ
ンランプユニットの光軸に沿っての角度をゼロとしてい
るが、本発明のハロゲンランプユニットではこのゼロの
位置が前述の角度θに対応する。従って照明光学系に入
射して有効光束として使われるのは−θ近傍の領域の光
となる。本実施例ではハロゲンランプユニットからの出
力光の陰影光束が照明系の光軸に対しθ=10°程度傾
いているため、ケ−ラ−照明を行う光学顕微鏡の照明光
学系では−θ=−10°近傍の明るい光束部を用いるこ
とができる。即ち本発明のハロゲンランプユニットを用
いると光強度の高い領域をケ−ラ−照明に用いることが
でき、より明るい照度で観察対象物体10を照明し観察
することが可能である。
で、実際には使用するハロゲンランプユニットの型に従
って角度分布を求めて最適角を決定するとよい。また、
Fig.6ではハロゲンランプユニットを下方向に変位させ
たが、方向性は特に問題ではなく、どの方向も用いるこ
とができる。
おける集光光束中で高強度の箇所を用いることができる
効果だけではない。ケ−ラ−照明では角度分布が観察領
域の照度の均一性に反映されるため、照明領域内の均一
性も上がって本発明の新しいハロゲンランプユニットの
性能を充分活かすことができる。これは本発明で説明し
た総ての実施例に共通する効果といえる。
ハロゲンランプユニットの光軸とを一致させておき、ハ
ロゲンランプユニットの取り付けマウントを従来のもの
と同一にすれば、Fig.4 あるいはFig.5 のハロゲンラン
プユニットを従来のものと取り換えるだけで、観察対象
領域の照度を高くした観察が可能である。
等の投影光学系を用いた装置において使用するハロゲン
ランプユニット等の光源ユニットのランプの存在によっ
て発生する陰影光束が後続の照明系の光軸、あるいは後
続の照明系へのインプット手段となるオプティカルファ
イバ−に対して斜めに入射するように、光源ユニットを
構成することで、観察対象物体に対し高強度でムラのな
い照明光束を供給することを可能とした。このため本発
明を観察に用いた時には明るく、均一な明るさの像が観
察可能である。また本発明は光源ユニットから出力され
る光束の角度分布を所定の関係に導くというものなの
で、実現が容易で、装置自体の複雑な構成変更を必要と
せず、コストをほとんど上昇させることなく実施するこ
とが可能である。
布を示す図
を示す図
を示す図
を光学顕微鏡に適用した場合の構成を示す図
Claims (13)
- 【請求項1】光源からの光で物体を照明する照明光学系
において、前記光源からの出力に存在する光源自身によ
るけられで生じる陰影光束の光路が、前記照明光学系の
入射光軸に対して傾いていることを特長とする照明光学
系。 - 【請求項2】前記光源の光軸が前記照明光学系の光軸に
対して傾いて配置されていることを特長とする請求項1
記載の照明光学系。 - 【請求項3】前記光源の光軸の前記照明光学系の光軸に
対する傾き角が、前記陰影光束が前記物体を照明する光
束に含まれないように設定されることを特長とする請求
項2記載の照明光学系。 - 【請求項4】前記光源の光軸が前記照明光学系に光を導
くオプティカルファイバ−の入射端面の垂線に対し傾い
て配置されていることを特長とする請求項1記載の照明
光学系。 - 【請求項5】前記光源の光軸の前記オプティカルファイ
バ−の入射端面に対する傾き角が、前記陰影光束が前記
ファイバ−で導光された状態で、前記照明光学系におい
て、前記物体を照明する光束に含まれないように設定さ
れることを特長とする請求項4記載の照明光学系。 - 【請求項6】光源からの出力に存在する光源自身による
けられで生じる陰影光束が照明光学系の光軸に対して傾
くことを特長とする光源装置。 - 【請求項7】投影光学装置に光を出力して物体を照明す
る光源装置において、前記投影光学装置の照明光学系の
インプット手段の入射光軸に対し、前記光源装置の光源
ランプ部によるけられで生じる陰影光束が傾いて入射す
るように出力光を出すことを特長とする光源装置。 - 【請求項8】前記光源装置が光源ランプ部と前記光源ラ
ンプと一体に構成された反射鏡部より成り、前記反射鏡
の焦点と前記光源ランプの発光部がずれていることを特
長とする請求項7記載の光源装置。 - 【請求項9】前記ずれの方向が前記反射鏡の光軸と直交
方向であることを特長とする請求項8記載の光源装置。 - 【請求項10】前記反射鏡が楕円鏡であることを特長と
する請求項9記載の光源装置。 - 【請求項11】前記光源ランプの長手方向が前記光源ラ
ンプの発光点と前記反射鏡の第2焦点とを結ぶ線の方向
に伸びていることを特長とする請求項10記載の光源装
置。 - 【請求項12】前記光源ランプの長手方向が前記光源ラ
ンプの発光点と前記反射鏡によって形成される前記発光
点の像を結ぶ線の方向に伸びていることを特長とする請
求項10記載の光源装置。 - 【請求項13】前記光源装置の取り付け部が反射鏡の焦
点と光源ランプの発光部がずれていない光源装置と共通
であることを特長とする請求項8記載の光源装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27836595A JP3437352B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 照明光学系及び光源装置 |
US08/725,657 US5971577A (en) | 1995-10-02 | 1996-10-01 | Light source device and illumination system |
US09/358,456 US6280062B1 (en) | 1995-10-02 | 1999-07-22 | Light source device and illumination system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27836595A JP3437352B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 照明光学系及び光源装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0996763A true JPH0996763A (ja) | 1997-04-08 |
JP3437352B2 JP3437352B2 (ja) | 2003-08-18 |
Family
ID=17596333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27836595A Expired - Fee Related JP3437352B2 (ja) | 1995-10-02 | 1995-10-02 | 照明光学系及び光源装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5971577A (ja) |
JP (1) | JP3437352B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015005542A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-01-08 | キヤノン株式会社 | 光源装置、およびリソグラフィ装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10005189A1 (de) | 2000-02-05 | 2001-08-09 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel |
US6632283B1 (en) | 2000-04-25 | 2003-10-14 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for illuminating a semiconductor processing system |
US6572252B1 (en) * | 2000-04-25 | 2003-06-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | System and method for illuminating a semiconductor processing system |
JP4579376B2 (ja) | 2000-06-19 | 2010-11-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2002217095A (ja) | 2000-11-14 | 2002-08-02 | Canon Inc | 露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場及び露光装置の保守方法並びに位置検出装置 |
JP4541571B2 (ja) * | 2001-01-23 | 2010-09-08 | キヤノン株式会社 | 半導体製造装置 |
JP3799275B2 (ja) * | 2002-01-08 | 2006-07-19 | キヤノン株式会社 | 走査露光装置及びその製造方法並びにデバイス製造方法 |
DE10202870A1 (de) * | 2002-01-11 | 2003-09-04 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Beleuchtungseinrichtung für Mikroskope |
JP4422394B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2010-02-24 | オリンパス株式会社 | 実体顕微鏡 |
US7341369B2 (en) * | 2004-10-01 | 2008-03-11 | Cytyc Corporation | Isotropic illumination |
DE102009017535A1 (de) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | Dft Digital Film Technology Holding Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Durchleuchten eines Films |
CN103115923A (zh) * | 2013-01-28 | 2013-05-22 | 上海新纤仪器有限公司 | 一种高发光强度光源显微镜及图像鉴别分析装置和应用 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS541255Y1 (ja) * | 1969-08-08 | 1979-01-20 | ||
JPS597359A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-14 | Canon Inc | 照明装置 |
JPS59211014A (ja) * | 1983-05-16 | 1984-11-29 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 変倍観察装置 |
US5091744A (en) * | 1984-02-13 | 1992-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
JPS60232552A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-19 | Canon Inc | 照明光学系 |
JPS622540A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Canon Inc | ライトインテグレ−タとそれを含むケ−ラ−照明系 |
US4734829A (en) * | 1985-11-12 | 1988-03-29 | The Perkin-Elmer Corporation | Short arc lamp image transformer |
JPS62115718A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Canon Inc | 照明光学系 |
JPS62115719A (ja) * | 1985-11-14 | 1987-05-27 | Canon Inc | 照明光学系 |
JPH01198708A (ja) * | 1988-02-03 | 1989-08-10 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 投光光学系 |
JPH01198709A (ja) * | 1988-02-03 | 1989-08-10 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 投光光学系 |
US5153773A (en) * | 1989-06-08 | 1992-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination device including amplitude-division and beam movements |
US5218660A (en) * | 1989-11-29 | 1993-06-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination device |
JP2890882B2 (ja) * | 1990-04-06 | 1999-05-17 | キヤノン株式会社 | 位置付け方法、半導体デバイスの製造方法及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2657957B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1997-09-30 | キヤノン株式会社 | 投影装置及び光照射方法 |
US5305054A (en) * | 1991-02-22 | 1994-04-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging method for manufacture of microdevices |
JP3109852B2 (ja) * | 1991-04-16 | 2000-11-20 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
JP2997351B2 (ja) * | 1991-08-12 | 2000-01-11 | 旭光学工業株式会社 | 照明光学装置 |
JP3304378B2 (ja) * | 1992-02-25 | 2002-07-22 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、及び素子製造方法 |
US5486919A (en) * | 1992-04-27 | 1996-01-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Inspection method and apparatus for inspecting a particle, if any, on a substrate having a pattern |
JP3216240B2 (ja) * | 1992-06-04 | 2001-10-09 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ方法及びそれを用いた投影露光装置 |
US5471371A (en) * | 1993-01-08 | 1995-11-28 | Ford Motor Company | High efficiency illuminator |
JPH06275101A (ja) * | 1993-03-17 | 1994-09-30 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 照明用反射鏡、ランプ、照明装置および照明器具 |
JPH07142336A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-06-02 | Canon Inc | 露光装置 |
US5440463A (en) * | 1993-09-08 | 1995-08-08 | Ellion; M. Edmund | Flashlight lamp configuration to produce either a spot or broad beam with enhanced brightness |
JP3420314B2 (ja) * | 1993-12-03 | 2003-06-23 | キヤノン株式会社 | 位置ずれ計測方法及びそれを用いた計測装置 |
JP3548298B2 (ja) | 1994-08-30 | 2004-07-28 | キヤノン株式会社 | 位置ずれ計測方法及びそれを用いた位置ずれ計測装置 |
US5751404A (en) | 1995-07-24 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and method wherein alignment is carried out by comparing marks which are incident on both reticle stage and wafer stage reference plates |
-
1995
- 1995-10-02 JP JP27836595A patent/JP3437352B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-01 US US08/725,657 patent/US5971577A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-22 US US09/358,456 patent/US6280062B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015005542A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-01-08 | キヤノン株式会社 | 光源装置、およびリソグラフィ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3437352B2 (ja) | 2003-08-18 |
US6280062B1 (en) | 2001-08-28 |
US5971577A (en) | 1999-10-26 |
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