JPH09872A - 排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法 - Google Patents

排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法

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Abstract

(57)【要約】 【構成】 内燃機関１３の排気管内に、下記（Ｃ）及び
（Ｄ）が配置されてなる排ガス浄化システム。 （Ｃ）：担体上に、電子供与性及び／又は二酸化窒素の
吸収及び放出作用を有する物質と貴金属とを含む触媒層
を担持してなる低温着火性触媒体２１。 （Ｄ）：担体上に、炭化水素吸着能を有する吸着層を担
持してなる吸着体３１。 【効果】 自動車等の内燃機関から放出される排ガス中
の有害物質、特にガソリンエンジンのコールドスタート
時に大量に放出されるＨＣを効果的に浄化することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車等の内燃機関か
ら放出される排ガス中の炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物
（ＮＯx）、一酸化炭素（ＣＯ）等の有害物質を浄化す
るための排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関から放出される排ガ
スを浄化するための触媒技術は、従来種々提案されてい
る。例えば、国際公開ＷＯ ９３／０７３６３号には、
排気通路内にＮＯx吸収剤を配置して、排気ガスの空燃
費がリーンのときにＮＯxを吸収し、排ガス中の酸素濃
度を低下させたときにＮＯxを放出するようにした排気
浄化装置が開示されている。
【０００３】また、米国特許４,９０２,４８７号には、
ディーゼル排ガス中のパーティキュレートをフィルター
で補集し、これをＮＯ2を酸化剤として使用することに
より２２５〜３００℃程度の低温で燃焼させるという技
術が開示されている。
【０００４】更に、Catalysis Today 22 (1994) 113-12
6には、いわゆるＰｄオンリー触媒に塩基性元素や遷移
金属酸化物を添加すると、電子供与効果によりＨＣ被毒
が低減され、結果としてＮＯx浄化能が向上することが
開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におい
てはガソリンエンジンのコールドスタート時に排出され
る未燃焼の可燃成分（ＨＣ、ＣＯ、Ｈ2等）、特にＨＣ
を効果的に浄化処理することが重要な技術課題の１つと
なっている。すなわち、コールドスタート時は、通常、
空燃比リッチの状態で運転されるため排ガス中に含まれ
るＨＣが多い上、触媒がその作用温度に到達していない
ため浄化能が低く、多くのＨＣが未浄化のまま大気中に
放出され易い。そこで、コールドスタート時における排
ガス中のＨＣを効果的に浄化できる技術が所望されてい
る。
【０００６】このような観点から、上記の従来技術を検
討した場合、国際公開ＷＯ ９３／０７３６３号のもの
は、リーンバーンエンジン及びディーゼルエンジンから
定常走行時に排出されるＮＯxの浄化を目的としたもの
であり、コールドスタート時のＨＣ浄化を考慮したもの
ではなく、また、反応熱を有効活用しようとする思想は
ない。更に、この浄化装置は、ＮＯx吸収剤が飽和する
前に、排ガスの空燃比をリーンから意図的に理論空燃比
又はリッチにしてＮＯxを放出させ、還元浄化するもの
で、リーンから理論空燃比又はリッチへの空燃比制御を
繰り返しながら、高温で長時間使用されるものである。
【０００７】米国特許４,９０２,４８７号に開示された
技術も、ディーゼル排ガスのパーティキュレートの処理
のためのものであって、ガソリンエンジンのコールドス
タート時の排ガス浄化を鑑みたものではない。また、パ
ーティキュレートを燃焼させるためのＮＯ2は、排ガス
中に含まれるＮＯからＰｔを触媒として得るとしている
が、ＮＯ2を吸蔵したり濃縮したりして用いるといった
思想がないため、ディーゼルパーティキュレートを処理
するに十分な量のＮＯ2を供給することが困難である。
更に、ディーゼル排ガスのパーティキュレートは、平均
粒径０．２μｍ程度の固形粒子であるため、ガソリンエ
ンジン排ガス中のＨＣ等の可燃成分とは異なり、貴金属
上に堆積はするが吸着はせず、このためディーゼルパー
ティキュレートがＮＯ2と貴金属上で出会って反応に至
る確率は低いと考えられる。
【０００８】Catalysis Today 22 (1994) 113-126に開
示された技術に関しては、たとえ電子供与効果によりＰ
ｄオンリー触媒のＮＯx浄化能、ひいてはＮＯx着火特性
を向上させることができたとしても、それだけではコー
ルドスタート時に大量に発生するＨＣを効果的に浄化す
ることはできない。
【０００９】なお、コールドスタート時に発生する未燃
焼のＨＣの浄化率向上を目的として、排気管内おいて触
媒の上流側に炭化水素吸着能を有するゼオライト等から
なる吸着材を設けた排ガス浄化システムも開発されてい
る。これは、下流側の触媒がその着火温度に達するまで
の間、吸着材上にＨＣを一時的に吸着しておくことを狙
いとしたものであるが、実際には、吸着材に吸着された
ＨＣは吸着材の温度が１５０℃程度に達すると吸着材か
ら脱離し始め、一方、下流側の触媒は３００〜３５０℃
程度にならないと着火しない。したがって、触媒の上流
側に吸着材を設けたとしても、従来の着火温度の高い触
媒を用いていたのでは、ＨＣの脱離開始温度と触媒の着
火温度とのギャップが大きすぎて、効果的な浄化が行え
ないのが実状であった。
【００１０】本発明は、これら従来技術では困難であっ
たコールドスタート時における排ガス中のＨＣの浄化を
効果的に行うべく、より低い温度で浄化能を発現する低
温着火性の触媒組成物又は触媒体と、ＨＣ吸着能を有す
る吸着材、吸着体又は吸着・触媒体とを組み合わせた排
ガス浄化システム及びそのシステムを用いた排ガス浄化
方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、内燃機
関の排気管内に、下記（Ａ）及び（Ｂ）が配置されてな
る排ガス浄化システム（第１発明）が提供される。 （Ａ）：電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放
出作用を有する物質と貴金属とを含む低温着火性触媒組
成物。 （Ｂ）：炭化水素吸着能を有する吸着材。
【００１２】また、本発明によれば、内燃機関の排気管
内に、下記（Ｃ）及び（Ｄ）が配置されてなる排ガス浄
化システム（第２発明）が提供される。 （Ｃ）：担体上に、電子供与性及び／又は二酸化窒素の
吸収及び放出作用を有する物質と貴金属とを含む触媒層
を担持してなる低温着火性触媒体。 （Ｄ）：担体上に、炭化水素吸着能を有する吸着層を担
持してなる吸着体。
【００１３】更に、本発明によれば、内燃機関の排気管
内に、下記（Ｅ）及び（Ｆ）が配置されてなる排ガス浄
化システム（第３発明）が提供される。 （Ｅ）：担体上に、電子供与性及び／又は二酸化窒素の
吸収及び放出作用を有する物質と貴金属とを含む触媒層
を担持してなる低温着火性触媒体。 （Ｆ）：モノリス担体上に、炭化水素吸着能を有する吸
着層と、三元性能又は酸化性能を有する触媒層とを、ガ
ス流れ方向と直角方向に、ある断面で分離して担持して
なる吸着・触媒体。
【００１４】更にまた、本発明によれば、上記した排ガ
ス浄化システムを用いて、排ガス中の有害物質を浄化す
るに当たり、エンジンのコールドスタート時のある一定
期間、排ガス中に酸化性ガスの添加を行うか、又は燃焼
用空気量と燃料量とを排ガス中の酸素量が増加する方向
へ調整することを特徴とする排ガス浄化方法（第４発
明）が提供される。
【００１５】以下、本発明を詳細に説明する。第１発明
に係る排ガス浄化システムは、内燃機関の排気管内に、
電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を
有する物質と貴金属とを含む低温着火性触媒組成物と、
炭化水素吸着能を有する吸着材を配置してなる。ここ
で、まず低温着火性触媒組成物について説明する。この
低温着火性触媒組成物は、（ａ）電子供与性、（ｂ）二
酸化窒素（ＮＯ2）の吸収及び放出作用、という２つの
作用のうち、少なくともいずれか１つの作用を有する物
質と、貴金属とを含む。
【００１６】まず、低温着火生触媒組成物が、電子供与
性を有する物質と貴金属とを含む場合の浄化機構を説明
する。排ガスが、排気管内に配置された触媒に接触する
と、従来の基体と貴金属とから成る触媒の場合にあって
は、低温時においては、貴金属表面を排ガス中に含まれ
る炭化水素（ＨＣ）及び／又は一酸化炭素（ＣＯ）が覆
ってしまうため、酸素（Ｏ2）が貴金属上に到達するこ
とができず、その結果、ＨＣ及び／又はＣＯとＯ2とが
反応できないことになる。そして、排ガス温度が上昇
し、貴金属表面を覆っているＨＣが脱離し始める温度に
なって、やっとＨＣ及び／又はＣＯとＯ2とが反応し始
めることになる。
【００１７】これに対し、本発明のように、電子供与性
を有する物質（電子供与性物質）と貴金属とを含む低温
着火性触媒組成物の場合には、電子供与性物質から貴金
属へ電子（ｅ-）が供与されるため、ＨＣ及び／又はＣ
Ｏの貴金属に対する吸着力が弱められる。その結果、電
子供与性物質を含まない場合よりも低い温度で、貴金属
表面のＨＣ及び／又はＣＯの吸着力が弱くなった部分に
容易にＯ2が吸着し、ＨＣ及び／又はＣＯとＯ2とが、こ
の電子供与性物質を含まない三元触媒の着火温度より低
い温度で反応を始める。
【００１８】次に、低温着火性触媒組成物が、ＮＯ2の
吸収及び放出作用を有する物質（二酸化窒素吸収剤）と
貴金属とを含む場合の浄化機構について説明する。ＮＯ
2はそれ自体が非常に活性なのでＯ2より低い温度にて可
燃成分と反応し得る。したがって、ＮＯ2を二酸化窒素
吸収剤に吸収させて濃縮し、コールドスタート時に放出
させることにより、貴金属上で排ガス中の可燃成分がＮ
Ｏ2と低い温度で反応し、この反応自体により排ガスの
一部を浄化するとともに、この反応で発生した反応熱で
当該触媒組成物自体の温度を上昇させて浄化能を一層向
上させる。また、この反応熱は当該触媒組成物自体の温
度を高めるだけでなく、その周囲の温度、特に当該触媒
組成物の配置位置より排ガス流れ方向下流側の温度も高
めるので、当該触媒組成物の配置位置より下流側に別個
の触媒体を設けて置けば、その触媒体の着火も促進され
る。
【００１９】このように、低温着火性触媒組成物が二酸
化窒素吸収剤を含む場合には、最初のＮＯ2の可燃成分
との反応が、いわば着火のトリガーとなって、触媒組成
物全体の浄化能を急峻に発現させる。なお、ＮＯ2がコ
ールドスタート時に発生する可燃成分に対し十分量存在
しなくても、可燃成分とＮＯ2との反応により生じた反
応熱によって低温着火性触媒組成物やその下流側に併載
された触媒体が、可燃成分とＯ2との反応が起こり得る
温度に到達すれば、後は可燃成分とＯ2との反応が並行
して（ＮＯ2が無くなればそれのみが）進行する。
【００２０】可燃成分との反応に供されるＮＯ2は、排
ガス中に当初より含まれている微量分以外は、貴金属上
での排ガス中の一酸化窒素（ＮＯ）とＯ2との反応によ
って得られたものでもよいし、外部より供給されたもの
でもよいが、自動車等の移動床の場合にはＮＯ2供給源
を搭載することの困難性の問題から前者の方が好まし
い。
【００２１】また、本発明では、ＮＯ2は二酸化窒素吸
収剤に一旦吸収された後、放出されて貴金属上での可燃
成分との反応に供されるが、ＮＯ2の吸収と放出とは、
コールドスタート時に同時に行われてもよいし、定常運
転時に予めＮＯ2を二酸化窒素吸収剤に吸収貯蔵してお
き、次のコールドスタート時にこの予め貯蔵しておいた
ＮＯ2を放出するようにしてもよい。また、定常運転時
に予めＮＯ2を二酸化窒素吸収剤に吸収貯蔵しておき、
なおかつコールドスタート時にも更にＮＯ2の吸収しな
がら放出するようにしてもよい。
【００２２】吸収と放出とを同時に行う方式は、コール
ドスタート時に比較的多量のＮＯが排出される系、ある
いは外部から比較的多量にＮＯ2を導入し得る系におい
て効果的である。一方、予めＮＯ2を貯蔵しておく方式
は、定常運転中に時間をかけてＮＯ2を貯蔵することが
できるので、コールドスタート時にＮＯを十分に供給で
きない場合にも可能である。ただし、コールドスタート
時のために貯蔵されるＮＯ2量が、前回の定常運転時の
運転状況に左右される。
【００２３】上記のように、本発明の低温着火性触媒組
成物は、（ａ）電子供与性、（ｂ）二酸化窒素（Ｎ
Ｏ2）の吸収及び放出作用、という２つの作用のうち、
少なくともいずれか１つの作用を奏する物質を含んでい
る。本発明では、排ガス中にＮＯ（これが貴金属上でＯ
2と反応してＮＯ2が生じる）が極めて少ない場合、又は
外部から供給されるＮＯ2量が極めて少ない場合には、
電子供与性に基づく反応機構が優勢となり、この機構に
よる低温着火によって、吸着材から脱離したＨＣが効果
的に浄化される。一方、着火トリガーとしての反応熱を
産み出し得るだけのＮＯ（これが貴金属上でＯ2と反応
してＮＯ2が生じる）が排ガス中に存在する場合、又は
着火トリガーとしての反応熱を産み出し得るだけのＮＯ
2を外部から供給できる場合には、二酸化窒素吸収剤に
よるＮＯ2の吸収及び放出作用に基づく反応機構が優勢
となり、この場合には、より大幅に低温着火するので、
一層効果的である。なお、勿論のことであるが、電子供
与性に基づく反応機構及びＮＯ2の吸収及び放出作用に
基づく反応機構（着火トリガー機構）が並行して起こっ
てもよい。
【００２４】貴金属は、電子供与性に基づく反応機構に
おいては、ＨＣとＯ2との反応のために必要である。一
方、ＮＯ2の吸収及び放出作用に基づく反応機構におい
ては、貴金属は、外部よりＮＯ2を供給する場合には、
ＮＯ2と可燃成分とを反応させるためにのみ必要であ
り、一方、排ガス中のＮＯとＯ2との反応によってＮＯ2
を得る場合には、ＮＯ2を発生させるためと、可燃成分
とＮＯ2とを反応させるためとに必要となる。
【００２５】ＮＯ2を発生させるための貴金属（以下、
「発生ＰＭ」という）と、可燃成分とＮＯ2とを反応さ
せるための貴金属（以下、「反応ＰＭ」という）は兼用
であってもよく、各々専用に設けてもよい。兼用である
場合には、必然的に貴金属は１つの場所（実質的に二酸
化窒素吸収剤も同じ場所となる）に配置されることにな
るが、専用である場合には、発生ＰＭと反応ＰＭは同種
でも異種でもよく、同じ場所に配置されていても、異な
る場所に配置されていてもよい。
【００２６】着火トリガー機構の場合、貴金属上で起こ
る反応のうち重要なものとして次の化１〜化３に示すも
のがある。
【００２７】
【化１】
【化２】
【化３】
【００２８】これらの反応及び電子供与性に基づく反応
機構を行わせるための貴金属として、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲ
ｈのうちの少なくとも１種が好適に用いられるが、Ｒｈ
を用いた場合には、上記反応の他、ＮＯx分解反応やＮ
Ｏx還元反応も併発するため、Ｐｔ及び／又はＰｄがよ
り好適に用いられる。
【００２９】本発明において、電子供与性及び／又はＮ
Ｏ2の吸収及び放出作用を有する物質（以下、「電子供
与性・二酸化窒素吸収剤」という）は、電子供与性及び
／又は二酸化窒素吸収作用を有する所定の金属元素又は
その酸化物（複合酸化物含む）から構成される。電子供
与性については、金属元素（Ｍ）の酸化物（ＭＯ）の固
体塩基性が大きいほど電子供与性が大きいと考えられ、
したがって、電子供与性の観点からは固体塩基性が大き
い物質が好ましい。一方、ＮＯ2を吸収・放出するとい
う現象については、どの金属元素（Ｍ）の酸化物（Ｍ
Ｏ）でも、次の平衡式が成り立つ。
【００３０】
【化４】
【００３１】しかし、ＮＯ2は酸性分子なので、金属酸
化物の固体塩基性が大きいほどＮＯ2をよく吸収する。
また、ＮＯ2の放出に関しては、固体塩基性が大きいほ
ど高温までＮＯ2を保持し、放出しにくい。そのため、
本発明では、適度に固体塩基性の大きい金属酸化物を選
ぶ必要がある。このような観点から、本発明において電
子供与性及び／又は電子供与性・二酸化窒素吸収剤にふ
さわしいものとして、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、希土類、遷移金属及びアクチニド元素からなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の元素又はその酸化物（複合
酸化物含む）が挙げられる。
【００３２】また、これらの内でも耐久性の点に好まし
いものとして、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、
Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｈ
及びＵからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素又
はその酸化物（複合酸化物含む）が挙げられる。更に、
コスト、耐久性等を考慮した場合、特に好ましいものと
して、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌ
ａ、Ｃｅ及びＴｈからなる群から選ばれる少なくとも１
種の元素又はその酸化物（複合酸化物含む）が挙げられ
る。
【００３３】本発明では、電子供与性に基づく反応機構
におけるＨＣとＯ2との反応促進、及び／又は、着火ト
リガー機構により生じた反応熱で可燃成分とＯ2との反
応が生じ得る温度に到達した後の可燃成分とＯ2との反
応を促進するため、Ｏ2の貯蔵・放出能を有するＣｅＯ2
を低温着火性触媒組成物中に添加しておくことが好まし
い。また、ＣｅＯ2を添加することにより、三元触媒操
作範囲（ウィンドウ）が広がるので、定常運転中の三元
性能も向上する。ただし、低温着火性触媒組成物中にＲ
ｈを含む場合には、ＲｈはＣｅＯ2等と固溶体を作り易
く失活の原因となるため、ＲｈとＣｅＯ2は分離した形
で低温着火性触媒組成物に含有されることが好ましい。
ＣｅＯ2は、ＺｒＯ2と複合酸化物を形成させることが、
酸素貯蔵能を更に向上させ好ましい。
【００３４】次に、第１発明において用いられる吸着材
について説明する。この吸着材は炭化水素吸着能を有す
るものである。炭化水素吸着能を有する物質としては、
ゼオライト、活性炭等が挙げられるが、内燃機関の排気
管内に配置するためには、少なくとも５００℃以上の耐
熱性が必要であり、ゼオライト、ＳＡＰＯ（シリコアル
ミノフォスフェート）、ＡｌＰＯ（アルミノフォスフェ
ート）等を主成分とするものが好ましく、中でもゼオラ
イトを主成分とするものが特に好ましい。ゼオライト
は、天然品、合成品のいずれでも良く、また種類は特に
限定されないが、耐熱性、耐久性、疎水性の点でＳｉＯ
2／Ａｌ2Ｏ3モル比４０以上のものが好ましく、ＳｉＯ2
／Ａｌ2Ｏ3モル比８０以上のものが更に好ましい。具体
的には、ＺＳＭ−５、ＵＳＹ、β−ゼオライト、シリカ
ライト、メタロシリケート等が好適に使用できる。
【００３５】また、ゼオライトは１種だけでなく複数種
を組み合わせて用いることもできる。この場合、異なる
細孔径を有する種を組み合わせることが、エチレン、プ
ロペン等の小分子からトルエン、キシレン等の大分子ま
で様々な大きさのＨＣを幅広く吸着することが可能とな
る点で好ましい。この複数種のゼオライトは、吸着材中
に混在していてもよく、層状に重ねて配置されてもよ
い。また、吸着材を担体上に担持して用いる場合には、
複数種のゼオライトを排ガス流れ方向に区分して担持す
るようにしてもよく、例えば１つのモノリス担体の上流
側と下流側とに区分して担持したり、それぞれ別個の担
体に担持してもよい。
【００３６】ゼオライトは単独でも使用できるが、ＨＣ
等の吸着時に並発するコーキングを制御するために、Ｐ
ｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等のうちの少なくとも１種以上の貴金属
を担持することが好ましく、これによりゼオライトの吸
着能が低下することなく再生できる。ゼオライトに担持
される貴金属としては、Ｐｄが最も安価で再生能が高く
好ましい。また、貴金属の担持方法としては、直接ゼオ
ライトに担持する場合には、熱的安定性の点でイオン交
換法によるのが好ましい。また、貴金属を活性アルミナ
等の無機酸化物に担持したものをゼオライトに混合する
ようにしても再生能は十分であり、かつこの場合には吸
着材が触媒作用も有することになるので好ましい。
【００３７】以上のように、ゼオライトに貴金属を担持
させた場合、結果として、貴金属はゼオライトの再生能
だけではなく触媒作用も有することになるが、ゼオライ
ト中の貴金属は凝集しやすく、触媒としては耐久性が不
十分であるので、吸着材に触媒作用も持たせたい場合に
は、吸着材中に別個に触媒成分を含ませることが好まし
い。なお、この触媒成分としては、貴金属のほか、上述
の低温着火性触媒組成物に含まれるような、電子供与性
・二酸化窒素吸収剤を含ませることもでき、この場合に
は吸着材中の触媒成分がより低温から触媒作用を発揮す
るので、吸着材から脱離するＨＣを浄化するために一層
効果的である。また、吸着材が触媒成分を含む場合に
は、ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2−ＺｒＯ2等の酸素貯
蔵能を有する希土類酸化物を含有させると、定常運転中
の三元性能が向上し好ましい。
【００３８】更に、ゼオライト中に周期表のＩＢ族元素
（Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）のイオンを少なくとも１種含ませ
ると、ゼオライトのＨＣ吸着能を向上するので好まし
い。この場合、上記イオンの含有率が小さいとＨＣ吸着
能向上に効果が薄いので、ゼオライトの上記イオンの含
有率は、ゼオライト中のＡｌ原子に対して２０％以上で
あることが好ましく、４０％以上であることがより好ま
しい。
【００３９】第１発明の排ガス浄化システムでは、以下
の理由から、吸着材が低温着火性触媒組成物よりも排ガ
ス流れ方向上流側に配置されるか、吸着材と低温着火性
触媒組成物とが、排ガス流れ方向に対して間隔を置か
ず、ほぼ同じ位置に配置（例えば、両者を混ぜ合わせて
混在させたり、両者を層状に重ねて配置）されることが
好ましい。すなわち、本発明において吸着材は、内燃機
関のコールドスタート時に発生する排ガス中のＨＣ等を
吸着し、排気ガスによる吸着材自体の温度上昇に伴って
それらを脱離させる。したがって、その排ガス流れ方向
下流側か、ほぼ同じ位置に低温着火性触媒組成物を配置
することにより、コールドスタート時に発生するＨＣ等
の浄化効率が飛躍的に向上する。なお、吸着材が触媒成
分を含む場合には、吸着材から脱離したＨＣ等は吸着材
自体によっても浄化される。この場合、触媒成分が低温
着火性触媒組成物に含まれるような貴金属と電子供与性
・二酸化窒素吸収剤であることが好ましい。
【００４０】本発明では、このように吸着材に吸着され
たＨＣ等が、吸着材の温度上昇に伴って脱離し、低温着
火性触媒組成物により浄化されるのであるが、上述のと
おり本発明で用いれる低温着火性触媒組成物は、電子供
与性に基づく反応機構及び／又はＮＯ2の吸収・放出作
用に基づく反応機構により、従来の触媒より低温で着火
するので、吸着材からＨＣの脱離が開始する温度と、触
媒組成物が着火する温度とのギャップが小さく、このた
めコールドスタート時に大量に発生するＨＣを効果的に
浄化することができる。
【００４１】なお、本発明の排ガス浄化システムにおい
ては、吸着材及び低温着火性触媒組成物の排ガス流れ方
向上流側及び／又は下流側に、更に別個の排ガス浄化用
触媒を配置してもよい。この別個の排ガス浄化用触媒も
低温着火性触媒組成物を含んでいることが好ましい。第
１発明における低温着火性触媒組成物及び吸着材の使用
形態は特に限定されず、例えばこの低温着火性触媒組成
物自体及び吸着材自体で所定の構造体を形成して用いて
もよいし、担体上に担持して用いてもよい。
【００４２】次に、第２発明について説明する。第２発
明の排ガス浄化システムにおける低温着火性触媒体は、
担体上に、電子供与性・二酸化窒素吸収剤と貴金属とを
含む触媒層が担持されてなる。この触媒体による排ガス
浄化機構は、上述した第１発明における低温着火性触媒
組成物のそれと同様である。ただし、この触媒体は、第
１発明での低温着火性触媒組成物に含まれるのと同じ電
子供与性・二酸化窒素吸収剤と貴金属とを含む触媒層を
所定の担体上に担持することにより構成されるものであ
る。
【００４３】担体の種類は特に限定されず、モノリス担
体、ペレット、ビーズ、リング等の各種担体を使用でき
るが、このうちモノリス担体を用いるのが最も好まし
い。モノリス担体とは、一般的にハニカム構造体といわ
れ、隔壁により仕切られた多数の貫通孔（セル）を有す
る構造体を意味する。モノリス担体の材料としてはコー
ディエライト、ムライト等のセラミック質のもの、Ｆｅ
−Ｃｒ−Ａｌ合金等の耐熱性ステンレス鋼よりなるフォ
イル型の金属質のもの、粉末冶金を利用してハニカム構
造に成形した金属質のものが好適に用いられる。
【００４４】また、モノリス担体の貫通孔形状（セル形
状）は、円形、多角形、コルゲート形等の任意の形状で
よく、モノリス担体の外形は設置する排気系の内形状に
適した所定形状に形成する。モノリス担体のセル密度も
特に限定されないが、６〜１５００セル／インチ2（ｃ
ｐｉ2）（０．９〜２３３セル／ｃｍ2）の範囲のセル密
度とすることが好ましい。また隔壁の厚さは５０〜２０
００μｍの範囲が好ましい。
【００４５】モノリス担体は多孔質であっても非多孔質
でもよくその気孔率は制限されないが、強度特性、耐酸
化性、耐食性、及び触媒層との密着性の点から、好まし
くは０〜５０％、更に好ましくは５〜２５％の範囲とす
る。また、金属質のモノリス担体に電極を設けて通電加
熱可能にしたもの（ハニカムヒーター）を用いてもよ
く、この場合には、低温着火性触媒体の着火を一層促進
することができる。
【００４６】担体上に担持される触媒層は、触媒層中
に、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤とが混在し
た状態で存在するものでもよく、また、担体としてモノ
リス担体を用いる場合には、触媒層を貴金属を含む層
と、電子供与性・二酸化窒素吸収剤を含む層とに分け
て、各層をそれぞれ別個のモノリス担体上に担持した
り、各層を１つのモノリス担体上において排ガス流れ方
向に分離して担持してもよい。また、上記各層を担体
（モノリス担体に限らない）上に層状に重ねて担持する
ようにしてもよい。
【００４７】触媒層中に貴金属と電子供与性・二酸化窒
素吸収剤とが混在する場合、及び各層を担体上に層状に
重ねて担持する場合には、貴金属と電子供与性・二酸化
窒素吸収剤とが、排ガス流れ方向に対して間隔を置か
ず、ほぼ同じ位置に存在する構成となる。特に、触媒層
中に貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤とが混在す
る場合には、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤と
の接触効率が高く、このため、貴金属上で発生させたＮ
Ｏ2の吸収効率が高くなる。また、電子供与性・二酸化
窒素吸収剤から放出されたＮＯ2が貴金属上で可燃成分
と出会って反応を起こす機会が増すという点でも好まし
い。また、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤との
接触効率が高いと、電子を供与し易くなる。
【００４８】貴金属を含む層と電子供与性・二酸化窒素
吸収剤を含む層とをモノリス担体上に層状に重ねて担持
した場合にも、各層に含まれる貴金属と電子供与性・二
酸化窒素吸収剤とは互いの層の境界面で十分広く接触し
ているので、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤と
が混在する場合と同様の効果が得られる。また、貴金属
と電子供与性・二酸化窒素吸収剤との耐熱性が大きく異
なる組み合わせとなる場合、これらが混在した状態のも
のは、耐熱性の低い方が凝集する際に、耐熱性の高い方
をも巻き込んで凝集する可能性が高いが、貴金属を含む
層と電子供与性・二酸化窒素吸収剤を含む層とを層状に
重ねたものでは、このような事態を防ぐことができる。
【００４９】なお、貴金属を含む層と電子供与性・二酸
化窒素吸収剤を含む層とを層状に重ねて担持する場合に
は、『気相中からのＮＯの貴金属上への吸着→ＮＯ2発
生→吸収→放出・拡散→反応→反応生成物（ＣＯ2、Ｈ2
Ｏ等）の気相中への放出』という流れがスムーズに進行
するように、貴金属を含む層を上層にし、電子供与性・
二酸化窒素吸収剤を含む層を下層とすることが好まし
い。
【００５０】また、２種以上の貴金属を使用する場合に
は、合金化を防ぐため、更に各貴金属毎に複数の層に分
けてこれらを層状に重ねて担持してもよい。２種以上の
電子供与性・二酸化窒素吸収剤を使用する場合には、そ
れらが混在していてもよいし、各電子供与性・二酸化窒
素吸収剤毎に複数の層に分けてこれらを層状に重ねて担
持してもよい。
【００５１】一方、触媒層を貴金属を含む層と電子供与
性・二酸化窒素吸収剤を含む層とに分けて、各層をそれ
ぞれ別個のモノリス担体上に担持した場合、及びこれら
各層を１つのモノリス担体上において排ガス流れ方向に
分離して担持した場合には、貴金属と電子供与性・二酸
化窒素吸収剤とが、排ガス流れ方向に分かれて存在する
構成となる。
【００５２】これらの場合には、貴金属と電子供与性・
二酸化窒素吸収剤との接触効率が低いため、貴金属上で
発生させたＮＯ2の吸収効率、及び電子供与性・二酸化
窒素吸収剤から放出されたＮＯ2が貴金属上で可燃成分
と出会って反応を起こす機会の多さや、電子の供与のし
易さの点では、上述の貴金属と電子供与性・二酸化窒素
吸収剤とが混在する場合や、層状に重ねて担持する場合
には及ばない。ただし、電子供与性・二酸化窒素吸収剤
との耐熱性が大きく異なる組み合わせとなる場合におい
て、耐熱性の低い方が凝集する際に、耐熱性の高い方を
も巻き込んで凝集するという事態を防止する観点から
は、上述の層状に重ねて担持する場合よりも更に好まし
い。
【００５３】また、貴金属を含む層と電子供与性・二酸
化窒素吸収剤を含む層とをそれぞれ別個のモノリス担体
上に担持する場合には、各層を担持する担体として、異
なる径や種類のモノリス担体を使用し得るという利点が
ある。貴金属を含む層と電子供与性・二酸化窒素吸収剤
を含む層とを１つのモノリス担体上において排ガス流れ
方向に分離して担持する場合には、このようなことはで
きないが、別個のモノリス担体に分けて担持する場合に
比して、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤とを近
接させることができ、また、担体と担体との間の熱損失
を防止できる。
【００５４】また、上述の第１発明で説明したのと同様
に、第２発明においても、排ガス中のＮＯとＯ2との反
応によってＮＯ2を得る場合には、発生ＰＭと反応ＰＭ
とを兼用にしても、それぞれ専用に設けてもよい。それ
ぞれ専用に設ける場合には、これらを触媒層中に混在さ
せてもよいし、触媒層を反応ＰＭを含む層と発生ＰＭを
含む層とに分けて、各層を別個のモノリス担体に担持し
たり、１つのモノリス担体上において層状に担持させた
り、異なる位置（例えば、上流側と下流側）に分けて担
持させてもよい。また、これらの場合において、電子供
与性・二酸化窒素吸収剤は、反応ＰＭを含む層と発生Ｐ
Ｍを含む層のどちらか一方又は両方に混在させてもよい
し、これらの層とは別に電子供与性・二酸化窒素吸収剤
を含む層を設けて、同一のモノリス担体上の別の位置又
は別個のモノリス担体上担持するようにしてもよい。
【００５５】このように、発生ＰＭ、反応ＰＭ及び電子
供与性・二酸化窒素吸収剤は、様々な配置をとることが
できるが、それぞれの存在位置は近接していることが好
ましい。排ガス流れ方向の上流側から、発生ＰＭ（ＮＯ
2を外部から供給する場合、及び電子供与性に基づく反
応機構にのみ依存する場合は不要）、電子供与性・二酸
化窒素吸収剤、反応ＰＭという順に並んでいれば、それ
ぞれが排ガス流れ方向に分かれて配置されても各々の役
割を果たし、（ＮＯ2発生→）吸収・貯蔵→放出→反応
というサイクルが効果的に起こり得るが、電子供与性・
二酸化窒素吸収剤から放出されたＮＯ2が反応ＰＭ上で
可燃成分と出会って反応を起こす機会を多くするために
は、電子供与性・二酸化窒素吸収剤と反応ＰＭとが、排
ガス流れ方向に対して間隔を置かず、ほぼ同じ位置に配
置されることが好ましい。また、可燃成分との反応に供
するＮＯ2を排ガス中のＮＯから得る場合には、発生Ｐ
Ｍ上で発生させたＮＯ2の吸収効率を上げるため、発生
ＰＭも電子供与性・二酸化窒素吸収剤と排ガス流れ方向
に対して間隔を置かず、ほぼ同じ位置に配置されること
が好ましい。
【００５６】なお、第２発明において、低温着火性触媒
体の触媒層に含まれる貴金属の種類、電子供与性・二酸
化窒素吸収剤を構成する元素やその酸化物の種類等は、
第１発明における低温着火性触媒組成物の場合と同様で
ある。また、第１発明と同様に、触媒層中にはＣｅＯ2
が添加されていることが好ましい。
【００５７】触媒層には、貴金属及び／又は電子供与性
・二酸化窒素吸収剤を高分散状態で担持させるための基
体となる比表面積の大きな耐熱性無機酸化物を加えても
よい。この基体としては、活性アルミナ、ジルコニア、
シリカ、チタニア、ゼオライト等が好適に使用できる
が、中でも比表面積５０ｍ2／ｇ以上の活性アルミナが
好ましい。このような、高比表面積の活性アルミナ上に
貴金属を担持させることにより、貴金属を高分散状態で
担持させることができるだけでなく、排ガスとの接触面
積も大きくすることができる。
【００５８】また、触媒層中の貴金属は、電子供与性・
二酸化窒素吸収剤上に直接担持された状態となっていて
もよく、この場合、貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸
収剤との接触効率が上がって、ＮＯ2の受け渡し効率が
良くなり、電子の供与もし易くなる。なお、電子供与性
・二酸化窒素吸収剤も一旦活性アルミナに担持すること
により排ガスとの接触効率を向上させることができる。
したがって、例えば、活性アルミナ粉末上に電子供与性
・二酸化窒素吸収剤と貴金属の両方を担持させた後、こ
れを触媒層としてモノリス担体上に担持するのも好適な
方法の１つである。
【００５９】使用される貴金属の量は、少なすぎると十
分な触媒効果が得られず、多すぎると焼結が起こって分
散性が低下し、コストも上昇する。好ましい貴金属量と
しては、担体としてモノリス担体を用いる場合、１０〜
７００ｇ／ｆｔ3（モノリス担体体積）の範囲であり、
より好ましくは３０〜２５０ｇ／ｆｔ3（モノリス担体
体積）の範囲である。
【００６０】また、貴金属を基体や電子供与性・二酸化
窒素吸収剤に担持する場合、これら基体や電子供与性・
二酸化窒素吸収剤に対する貴金属の担持量は、０．１〜
３０重量％が好ましい。０．１重量％未満では耐久性に
問題があり、３０重量％を超えると貴金属の分散性に問
題がある。更にコストの面を考慮すると０．１〜１５重
量％が好ましい。
【００６１】電子供与性・二酸化窒素吸収剤の量は、担
体としてモノリス担体を用いる場合、０．００５〜１．
０ｇ／ｃｃ（モノリス担体体積）とすることが好まし
い。０．００５ｇ／ｃｃ未満では効果が不十分であり、
１．０ｇ／ｃｃを超えると圧力損失が大きくなる。ま
た、電子供与性・二酸化窒素吸収剤を活性アルミナ等の
基体に担持する場合、基体に対する電子供与性・二酸化
窒素吸収剤の担持量は１０〜１００重量％が好ましく、
ＮＯ2吸収容量の点で３５〜１００重量％が更に好まし
い。
【００６２】担体上に担持される触媒層の膜厚は、１０
〜１５０μｍが好ましい。１０μｍ未満では耐久性に問
題があり、１５０μｍを超えると排ガスが触媒層の深層
部まで拡散しにくくなるため、深層部が有効に使われな
くなる。
【００６３】次に、第２発明に係る低温着火性触媒体の
調製法の例を説明する。調製法は、貴金属及び／又は電
子供与性・二酸化窒素吸収剤の担持方法の違いにより、
主に以下の含浸法とプレドープ法との２つに分けられ
る。
【００６４】〔含浸法〕：担体上に、貴金属及び／又は
電子供与性・二酸化窒素吸収剤を高分散させるための基
体となる活性アルミナを担持して焼成し、アルミナ付き
担体を作製する。そして、このアルミナに必要な貴金属
及び／又は電子供与性・二酸化窒素吸収剤を担持させる
ために、貴金属及び／又は電子供与性・二酸化窒素吸収
剤の溶けている溶液にアルミナ付き担体を浸し、その後
乾燥、焼成する。あるいは、担体に直接電子供与性・二
酸化窒素吸収剤を担持し、その電子供与性・二酸化窒素
吸収剤付き担体を貴金属の溶けている溶液に浸漬した
後、乾燥させ、焼成してもよい。また、担体にアルミナ
と電子供与性・二酸化窒素吸収剤との両方を担持し、そ
のアルミナと電子供与性・二酸化窒素吸収剤付き担体
を、貴金属と更に必要に応じて電子供与性・二酸化窒素
吸収剤の溶けている溶液に浸漬した後、乾燥させ、焼成
してもよい。
【００６５】〔プレドープ法〕：基体となる活性アルミ
ナ粉に、予め貴金属及び／又は電子供与性・二酸化窒素
吸収剤を担持した後、この貴金属及び／又は電子供与性
・二酸化窒素吸収剤担持アルミナ粉を担体上に担持して
焼成する。なお、貴金属は電子供与性・二酸化窒素吸収
剤の粉末に担持させてもよい。これらを担体上に担持す
るときには、必要に応じて更に電子供与性・二酸化窒素
吸収剤の粉末を添加してもよい。また、２種以上の貴金
属を担持する場合には、各貴金属同士を混ぜた後に活性
アルミナ粉や電子供与性・二酸化窒素吸収剤の粉末に担
持させると、貴金属同士で合金化して性能劣化を招くお
それがある。そのため、このような２種類以上の貴金属
を担持する場合には、例えばＰｔ担持アルミナ粉、Ｐｄ
担持アルミナ粉、Ｒｈ担持アルミナ粉といったように、
１種類の貴金属のみを担持する粉末をそれぞれ別個に作
った後、それらを混合して担体上に担持するのが好まし
い。なお、貴金属を担持する場合には、耐久性の点で含
浸法よりプレドープ法の方が好ましい。
【００６６】次に、第２発明において用いられる吸着体
について説明する。この吸着体は担体上に、炭化水素吸
着能を有する吸着層を担持してなるものである。担体の
種類は特に限定されず、モノリス担体、ペレット、ビー
ズ、リング等の各種担体を使用できるが、上記低温着火
性触媒体の場合と同様にモノリス担体を用いるのが好ま
しい。また、吸着体の吸着層は、第１発明における吸着
材と同様にゼオライトを主成分とすることが好ましい。
また、上述の第１発明における吸着材についてのゼオラ
イトの好適なＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3比や、ゼオライト中へ
の貴金属、ＩＢ属元素等の添加などに関する説明と同様
のことが、第２発明における吸着体の吸着層についても
言える。
【００６７】なお、担体としてモノリス担体を用い、ゼ
オライトに貴金属を担持させる場合、貴金属の担持量は
５〜２００ｇ／ｆｔ3（モノリス担体体積）が、コスト
及び再生能の点で好ましい。また、ゼオライトには、必
要に応じて５〜２０重量％のＡｌ2Ｏ3やＳｉＯ2等の無
機バインダーを含ませてもよく、これによりＨＣ等の吸
着能を損なうことなく、担体に強固に担持できる。
【００６８】吸着体に炭化水素吸着吸着能の他、触媒作
用も持たせたい場合には、第１発明における吸着材と同
様に、吸着層中に触媒成分を含ませることができる。な
お、この触媒成分として、低温着火性触媒体の触媒層に
含まれるような電子供与・二酸化窒素吸収材と貴金属と
を含んでもよい。また、吸着層の表面又は吸着層と担体
との間に、触媒成分を含む層を形成するようにしてもよ
い。例えば、ゼオライトからなる吸着層と、貴金属や電
子供与性・二酸化窒素吸収剤を活性アルミナ等の耐熱性
無機酸化物に担持したものからなる層とを、担体上に担
持するのは耐久性の点から好ましい形態の１つである。
この場合、触媒成分を含む層を吸着層の表面に形成した
方が、触媒作用を効果的に発揮し得る。触媒成分を含む
層には、希土類酸化物を含ませてもよい。
【００６９】また、吸着体の担体としてモノリス担体を
用いる場合には、モノリス担体の一部に排ガスが吹き抜
ける吹き抜け部を形成してもよい。この吹き抜け部と
は、モノリス担体の排ガス入口から出口へと形成され
た、空洞部又は吸着層が担持されていない部分（非担持
部）である。この空洞部又は非担持部は１箇所だけ設け
てもよいし、２箇所以上設けてもよい。空洞部又は非担
持部の断面積は、モノリス担体断面積の５０％未満であ
ることが好ましい。また、吹き抜け部は、モノリス担体
の貫通孔（セル）と実質的に平行に形成することが好ま
しい。吹き抜け部を有する吸着体の好ましい態様とし
て、例えば、図３４や図３５に示すようなものが挙げら
れる。図中、４１がモノリス担体であり、４４が吹き抜
け部（空洞部）である。
【００７０】第２発明の排ガス浄化システムは、内燃機
関の排気管内に、上記低温着火性触媒体及び吸着体を配
置して構成される。このシステムによる排ガス浄化の機
構は、上述した第１発明の排ガス浄化システムによる排
ガス浄化機構と同様である。また、第２発明のシステム
においても、第１発明のシステムにおけると同様の理由
から、吸着体が低温着火性触媒体よりも排ガス流れ方向
上流側に配置されることが好ましい。なお、本発明で
は、低温着火性触媒体の触媒層と吸着体の吸着層とを１
つのモノリス担体の別の位置（例えば上流側と下流側）
にそれぞれ担持させることにより、吸着体と低温着火性
触媒体とを単一のモノリス担体から構成することもでき
るが、この場合においても、モノリス担体の排ガス流れ
方向上流側に吸着体が存在し、下流側に低温着火性触媒
体が存在するようにするのが好ましい。
【００７１】また、このシステムにおいて、排気管内に
配置される低温着火性触媒体及び吸着体の数は、それぞ
れ１つずつでもよいし、低温着火性触媒体と吸着体のど
ちらか一方又は双方を複数設けてもよい。また、低温着
火性触媒体と吸着体以外の他の要素、例えば後述する第
３発明における吸着・触媒体をこれらと組み合わせて配
置してもよい。これらの要素を任意に組み合わせて排ガ
ス流内に連続して設置し、これらが全体としてコールド
スタート時に発生するＨＣ等を効率よく浄化し得るよう
に設計することが好ましい。このシステムにおいては、
配置される吸着体又は吸着・触媒体のうちの少なくとも
１つが、その吸着層に低温着火性触媒体の触媒層に含ま
れているような貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤
とを含むか、吸着体又は吸着・触媒体の下流側に低温着
火性触媒体が配置されることが好ましい。
【００７２】また、吸着体及び低温着火性触媒体の排ガ
ス流れ方向上流側及び／又は下流側に、あるいは吸着体
と低温着火性触媒体の間に、更に別個の排ガス浄化用触
媒体を配置してもよい。別個の排ガス浄化用触媒体を上
流側に配置した場合には、この触媒体が高い排気温を利
用して早期に着火し、その反応熱を下流側に併載される
他の触媒体等に伝達する効果があり、また、別個の排ガ
ス浄化用触媒体を下流側に配置した場合には、この触媒
体が低温着火性触媒体が発生する反応熱を得て早期に着
火し、吸着体や吸着・触媒体から脱離したＨＣ等の浄化
を補助する効果がある。この別個の排ガス浄化用触媒体
も、低温着火性触媒体の触媒層に含まれているような貴
金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤とを含んでいるこ
とが好ましい。
【００７３】また、米国排ガス規制強化に対応するＦＴ
Ｐ試験全体の浄化特性（主に定常運転時の浄化特性）も
向上させるため、システムの上流側及び／又は下流側に
設ける上記別個の排ガス浄化用触媒体の少なくとも１つ
が、エンジン排気量に対してある程度の容量（排気量の
５０〜１５０％程度の容量）を持った触媒体であること
が好ましい。上流側に配すれば、定常運転時この比較的
容量の大きい触媒体が排ガスの熱で高温となり高い活性
を示すという利点があり、下流側に配すれば、コールド
スタート時における排ガスの熱を、この比較的容量の大
きい触媒体によって奪われることなく低温着火性触媒体
に伝達できる利点がある。
【００７４】システムにおいて、排気管内に配置される
各要素の間隔は、低温着火性触媒体等で発生した反応熱
を、その下流側の他の触媒体等に迅速に伝えてその着火
を促進するために、近接していることが好ましい。
【００７５】次に、第３発明について説明する。第３発
明の排ガス浄化システムにおける低温着火性触媒体は、
その構成、浄化機構とも第２発明における低温着火性触
媒体と同様であるので、説明を省略する。第３発明にお
ける吸着・触媒体は、モノリス担体上に、炭化水素吸着
能を有する吸着層と、三元性能又は酸化性能を有する触
媒層とを、ガス流れ方向と直角方向に、ある断面で分離
して担持してなるものである。この触媒層と吸着層のう
ち、吸着層の構成等は、上述した第２発明における吸着
体の吸着層と同様である。
【００７６】一方、触媒層は三元性能又は酸化性能を発
現するため、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈのうちの少なくとも１種
の貴金属を含むものであり、貴金属はＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ
2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2等の耐熱性酸化物に担持されてい
ることが好ましい。また、触媒層には貴金属の他、低温
着火性触媒体の触媒層に含まれるような電子供与性・二
酸化窒素吸収剤が含まれることが好ましく、これによっ
て、より低温で着火して、吸着層から脱離したＨＣ等を
低温着火性触媒体とともに効果的に浄化できる。更に、
ＣｅＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2−ＺｒＯ2等の酸素貯蔵能
を有する酸化物を添加すると、定常活性が向上するので
好ましい。
【００７７】第３発明における吸着・触媒体は、これら
吸着層と触媒層とが、モノリス担体上に、ガス流れ方向
と直角方向に、ある断面で分離して担持されている。具
体的には、例えば図３６に示すように、円形断面を持つ
モノリス担体４１において、断面中心よりある半径を持
ち、排ガス流れ方向に円柱状に延びた部位４２に触媒層
を担持し、その外周部４３に吸着層を担持したものが好
ましい吸着・触媒体の一例として挙げられる。触媒層が
担持された部分（以下「触媒部」という）の断面積は、
モノリス担体の断面積の５〜８０％であると触媒部の早
期着火に特に好ましい。
【００７８】なお、吸着・触媒体のうち、吸着層が担持
された部分（以下「吸着部」という）は、コールドスタ
ート時に吸着したＨＣの脱離開始時期ができるだけ遅く
なるよう昇温速度が遅い方がよく、一方、触媒部はでき
るだけ早期に着火するよう昇温速度が速い方がよい。そ
こで、吸着部のリブ厚を厚くする、吸着部のセル密度を
高くする、吸着部におけるモノリス担体材料の気孔率を
小さくする、吸着部のモノリス担体の材質を金属等の熱
容量の大きな材質とする、吸着層の担持量を増やす等に
より、吸着部の熱容量を触媒部の熱容量より大きくする
ことが好ましい。なお、触媒部については逆のことが言
え、触媒部の熱容量を吸着部のそれより小さくする種々
の手法が用いられる。中でも、触媒部のリブ厚を薄くす
る、セル密度を低くする、触媒層の担持量を減らす等の
手法は触媒部の開口率を増大させ、その結果、触媒部の
低熱容量化、低圧損化にも寄与するので好ましい。
【００７９】また、触媒部の少なくとも一部分の排ガス
流れ方向に対する長さを、吸着部の排ガス流れ方向に対
する長さより短くすることが好ましく、これにより、触
媒部の熱容量が小さくなるとともに、圧損が小さくなる
ため、エンジン加速時に多くの排ガスが流れ、触媒部が
早期に着火する。このように触媒部を短くした状態は、
モノリス担体の排ガス流れ方向の一部のみに触媒層を担
持することでも得られるが、図３７の斜視図(ａ)及び断
面図(ｂ)に示すように、モノリス担体４１の一部をくり
ぬいて、触媒部４２の排ガス流れ方向の一部を空洞化す
ることで、触媒部４２の排ガス流れ方向に対する長さ
を、吸着部４３のそれより短くするのが特に好ましい。
【００８０】なお、、触媒部又は吸着部は、どちらか一
方が他方を取り囲む状態でなくてもよく、更に触媒部又
は吸着部がそれぞれ２箇所以上に分かれていてもよい。
また、吸着・触媒体の前端部若しくは後端部又は長さ方
向の少なくとも一部の断面の全体あるいは一部が、吸着
部あるいは触媒部となっていてもよく、吸着部あるいは
触媒部が排ガス流れ方向に連続していなくてもよい。
【００８１】第３発明の排ガス浄化システムは、内燃機
関の排気管内に、上記低温着火性触媒体及び吸着・触媒
体を配置して構成される。このシステムによる排ガス浄
化の機構は、上述した第１発明の排ガス浄化システムに
よる排ガス浄化機構と同様である。また、第３発明のシ
ステムにおいても、第１発明のシステムにおけると同様
の理由から、吸着・触媒体が低温着火性触媒体よりも排
ガス流れ方向上流側に配置されることが好ましい。な
お、本発明では、低温着火性触媒体の触媒層と吸着・触
媒体の吸着層及び触媒層とを１つのモノリス担体の別の
位置（例えば上流側と下流側）にそれぞれ担持させるこ
とにより、吸着・触媒体と低温着火性触媒体とを単一の
モノリス担体から構成することもできるが、この場合に
おいても、モノリス担体の排ガス流れ方向上流側に吸着
・触媒体が存在し、下流側に低温着火性触媒体が存在す
るようにするのが好ましい。
【００８２】また、このシステムにおいて、排気管内に
配置される低温着火性触媒体及び吸着・触媒体の数は、
それぞれ１つずつでもよいし、低温着火性触媒体と吸着
・触媒体のどちらか一方又は双方を複数設けてもよい。
また、低温着火性触媒体と吸着・触媒体以外の他の要
素、例えば上述した第２発明における吸着体をこれらと
組み合わせて配置してもよい。これらの要素を任意に組
み合わせて排ガス流内に連続して設置し、これらが全体
としてコールドスタート時に発生するＨＣ等を効率よく
浄化し得るように設計することが好ましい。このシステ
ムにおいては、配置される吸着・触媒体又は吸着体のう
ちの少なくとも１つが、その吸着層に低温着火性触媒体
の触媒層に含まれているような貴金属と電子供与性・二
酸化窒素吸収剤とを含むか、吸着・触媒体又は吸着体の
下流側に低温着火性触媒体が配置されることが好まし
い。
【００８３】また、吸着・触媒体及び低温着火性触媒体
の排ガス流れ方向上流側及び／又は下流側に、あるいは
吸着体と低温着火性触媒体の間に、更に別個の排ガス浄
化用触媒体を配置してもよい。この別個の排ガス浄化用
触媒体も、低温着火性触媒体の触媒層に含まれているよ
うな貴金属と電子供与性・二酸化窒素吸収剤とを含んで
いることが好ましい。これらの効果については、上述の
第２発明において説明した効果と同様である。また、第
２発明と同様に、システムの上流側及び／又は下流側に
設ける上記別個の排ガス浄化用触媒体の少なくとも１つ
が、エンジン排気量に対してある程度の容量を持った比
較的容量の大きい触媒体であることが好ましい。システ
ムにおいて、排気管内に配置される各要素の間隔は、低
温着火性触媒体等で発生した反応熱を、その下流側の触
媒体等に迅速に伝えてその着火を促進するために、近接
していることが好ましい。
【００８４】次に、第４発明に係る排ガス浄化方法につ
いて説明する。この方法では、第１〜第３発明に係る排
ガス浄化システムを用いて、排ガス中の有害物質を浄化
するに当たり、エンジンのコールドスタート時のある一
定期間、排ガス中に酸化性ガスの添加を行うか、又は燃
焼用空気量と燃料量とを排ガス中酸素量が増加する方向
へ調整する。コールドスタート時に大量に発生し、吸着
材、吸着体又は吸着・触媒体に吸着された後脱離してく
るＨＣを効果的に低減するためには、低温着火性触媒組
成物、低温着火性触媒体あるいは吸着体等に含まれる触
媒成分等を早期に着火させることが必要である。この早
期着火の手段の１つとして、コールドスタート時のある
一定期間、排ガス中に酸化性ガスの添加を行うか、又は
燃焼用空気量と燃料量とを排ガス中酸素量が増加する方
向へ調整することが非常に有効である。酸化性ガスとし
ては、オゾン（Ｏ3）、Ｏ2 -、二次空気等を用いること
ができるが、これらのうちエアポンプ等の簡易な装置で
導入可能な二次空気が最も好ましい。
【００８５】コールドスタート時の排ガスは通常燃料リ
ッチ雰囲気であり、更に吸着材、吸着体又は吸着・触媒
体の吸着部に吸着されたＨＣがこれらから脱離する時に
は一時的に一層リッチ側にシフトするため、酸化性ガス
の添加を行うか、あるいは燃焼用空気量と燃料量とを排
ガス中酸素量が増加する方向へ調整してリッチの度合い
を弱め、好ましくはストイキオメトリー（理論空燃比）
〜リーン側へシフトさせることにより、可燃成分とＯ2
（あるいはＯ3、Ｏ2 -等）との反応が起こり易くなる。
この結果、二酸化窒素の吸収及び放出作用に基づく反応
機構においては、当該反応機構による可燃成分とＮＯ2
との反応の着火温度に、可燃成分とＯ2との反応の着火
温度が接近し、前者で発生する反応熱が後者に対してよ
り有効に活用される。また、電子供与性に基づく反応機
構においては、その浄化反応が最初から可燃成分とＯ2
との反応なので、このような酸化性ガスの添加や空燃費
の制御が浄化能の向上に一層効果的である。
【００８６】なお、吸着体等に吸着されたＨＣが吸着体
等から脱離し始めたことを検知可能な検出手段、例えば
Ｏ2センサーやＨＣセンサーを、少なくとも吸着体等と
下流側の低温着火性触媒体等との間に設置して、ＨＣの
脱離をこの検出手段で検知し、その信号に従って酸化性
ガスを導入するための機構あるいは燃焼用空気量と燃料
量と調整するための機構を作動させることが好ましい。
【００８７】酸化性ガス（例えば二次空気）の導入位置
は、第１発明の低温着火性触媒組成物又は第２発明及び
第３発明の低温着火性触媒体を複数個配置し、又はこれ
ら以外の別個の触媒体も配置した場合には、少なくとも
これらのうちで最下流に搭載されるものより前（上流
側）とする。これにより、導入位置より下流側に配置さ
れた触媒体等が、それより上流側に配置された低温着火
性触媒体等で発生した反応熱と添加された酸化性ガスと
を有効活用して、可燃成分とＯ2との反応を促進でき
る。なお、低温着火性触媒組成物又は低温着火性触媒体
より前（上流側）から導入すれば、低温着火性触媒組成
物又は低温着火性触媒体自身が自ら発生した反応熱を一
層有効活用し、可燃成分とＮＯ2との反応に加えて、可
燃成分とＯ2との反応も併発できるので好ましい。な
お、酸化性ガスを導入するための機構は複数個設けてそ
れらを別の位置に配置してもよく、この場合それらを個
別に制御してもよく、連動させてもよい。また、酸化性
ガスの導入量は一定としても適宜可変させてもよい。
【００８８】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。
【００８９】［低温着火性触媒体の調製］以下の手順に
より触媒体を調製し、後述する実施例に供した。
【００９０】〔触媒体の調製方法の検討〕 （触媒体Ａ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝酸バリウム水溶液
を含浸担持し、７００℃で３時間で仮焼して、酸化バリ
ウム−アルミナ複合酸化物を得た。そして、得られた酸
化バリウム−アルミナ複合酸化物を解砕して酸化バリウ
ム−アルミナ複合酸化物粉末（以下「複合酸化物α」と
いう）にした。複合酸化物αに硝酸パラジウム水溶液と
適量の酢酸を添加してボールミルで１５時間解砕した。
次いで得られたスラリーを１００℃で１５時間乾燥し、
更に５５０℃で３時間焼成してＰｄ−ＢａＯプレドープ
Ａｌ2Ｏ3粉を得た。こうして得られたＰｄ−ＢａＯプレ
ドープＡｌ2Ｏ3粉と適量の水を混ぜ合わせ、更に適量の
酢酸と、アルミナ固形分２．５％のアルミナゾルを添加
し、ボールミルで１５時間解砕して、担持スラリーを調
製した。得られた担持スラリー中にモノリス担体（日本
碍子(株)製のコージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、
長さ１００ｍｍ）をディップして、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆ
ｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１
０ｇ／ｃｃとなるように被覆し、乾燥工程及び焼成工程
を経て、触媒体Ａを形成した。工程の概略を図１に示
す。
【００９１】（触媒体Ｂ）硝酸バリウム水溶液と硝酸パ
ラジウム水溶液を混合した混合液に、市販のγ−Ａｌ2
Ｏ3を混ぜて７００℃で３時間仮焼し、Ｐｄ−ＢａＯプ
レドープＡｌ2Ｏ3複合酸化物を得た。そして、得られた
Ｐｄ−ＢａＯＡｌ2Ｏ3複合酸化物を解砕した後、適量の
水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形分
２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５時
間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持ス
ラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージェラ
イトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディ
ップして、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２
５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように
被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、触媒体Ｂを形成
した。工程の概略を図２に示す。
【００９２】（触媒体Ｃ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3と酸化バ
リウム粒子とを混合したものに、硝酸パラジウム水溶液
を含浸担持し、５５０℃で３時間焼成し、Ｐｄプレドー
プＡｌ2Ｏ3・ＢａＯ複合酸化物を得た。得られたＰｄプ
レドープＡｌ2Ｏ3・ＢａＯ複合酸化物を解砕してＰｄプ
レドープＡｌ2Ｏ3・ＢａＯ複合酸化物粉末にした。この
ＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3・ＢａＯ複合酸化物に、適量の
水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形分
２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５時
間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持ス
ラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージェラ
イトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディ
ップして、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２
５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように
被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、触媒体Ｃを形成
した。工程の概略を図３に示す。
【００９３】（触媒体Ｄ）酸化バリウム粒子に適量の水
を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形分２．
５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５時間解
砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持スラリ
ー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージェライト
ハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディップ
して被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、中間触媒体
Ａを得た。次に、市販のＡｌ2Ｏ3粉末に硝酸パラジウム
水溶液と適量の酢酸を添加してボールミルで１５時間解
砕した。次いで得られたスラリーを１００℃で１５時間
乾燥、解砕し、更に５５０℃で３時間焼成してＰｄプレ
ドープＡｌ2Ｏ3粉（以下「複合酸化物β」という）を得
た。こうして得られたＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3粉と適量
の水とを混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形
分２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５
時間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持
スラリー中に中間触媒体Ａをディップして、Ｐｄ＝２０
０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3
＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように被覆し、乾燥工程及び
焼成工程を経て、触媒体Ｄを得た。工程の概略を図４に
示す。
【００９４】（触媒体Ｅ）硝酸パラジウム水溶液に、酸
化バリウム粒子を混ぜ５５０℃で３時間仮焼して、Ｐｄ
プレドープＢａＯ複合酸化物を得た。そして、得られた
ＰｄプレドープＢａＯ複合酸化物を解砕した後、適量の
水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形分
２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５時
間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持ス
ラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージェラ
イトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディ
ップして、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２
５ｇ／ｃｃとなるように被覆し、乾燥工程及び焼成工程
を経て、触媒体Ｅを形成した。工程の概略を図５に示
す。
【００９５】（触媒体Ｆ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝酸バ
リウム水溶液を含浸担持し、７００℃で３時間で仮焼し
て、酸化バリウム−アルミナ複合酸化物を得た。そし
て、得られた酸化バリウム−アルミナ複合酸化物を解砕
して酸化バリウム−アルミナ複合酸化物粉末に硝酸パラ
ジウム水溶液と適量の酢酸を添加してボールミルで１５
時間解砕した。次いで得られたスラリーを１００℃で１
５時間乾燥し、更に５５０℃で３時間焼成してＰｄ−Ｂ
ａＯプレドープＡｌ2Ｏ3粉を得た。こうして得られたＰ
ｄ−ＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3粉と適量の水、酸化バリ
ウム粉末を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固
形分２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１
５時間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担
持スラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージ
ェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）を
ディップして、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．
０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるよ
うに被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、触媒体Ｆを
形成した。工程の概略を図６に示す。
【００９６】（触媒体Ｇ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3、硝酸パ
ラジウム水溶液を含浸担持し、５５０℃で３時間焼成
し、ＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3を得た。得られたＰｄプレ
ドープＡｌ2Ｏ3を解砕した後、適量の水を混ぜ合わせ、
更に適量の酢酸と、アルミナ固形分２．５％のアルミナ
ゾルを添加し、ボールミルで１５時間解砕して、担持ス
ラリーを調製した。得られた担持スラリー中にモノリス
担体（日本碍子(株)製のコージェライトハニカム、直径
９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディップして被覆し、乾
燥工程及び焼成工程を経て、中間触媒体を形成した。こ
うして得た中間触媒体を硝酸バリウム水溶液に含浸させ
た後、７００℃で３時間焼成し、最終的にＰｄ＝２００
ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝
０．１０ｇ／ｃｃとなるようにして触媒体Ｇを得た。工
程の概略を図７に示す。
【００９７】（触媒体Ｈ）上記触媒体Ａの説明で述べた
複合酸化物αに適量の水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸
と、アルミナ固形分２．５％のアルミナゾルを添加し、
ボールミルで１５時間解砕して、担持スラリーを調製し
た。得られた担持スラリー中にモノリス担体（日本碍子
(株)製のコージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ
１００ｍｍ）をディップして被覆し、乾燥工程及び焼成
工程を経て、中間触媒体を形成した。こうして得た中間
触媒体を硝酸パラジウム水溶液に含浸させた後、５５０
℃で１時間焼成し、最終的にＰｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、
ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／
ｃｃとなるようにして触媒体Ｈを得た。工程の概略を図
８に示す。
【００９８】（触媒体Ｉ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に適量の
水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アルミナ固形分
２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミルで１５時
間解砕して、担持スラリーを調製した。得られた担持ス
ラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製のコージェラ
イトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍｍ）をディ
ップして被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、中間触
媒体を得た。この中間触媒体を硝酸バリウム水溶液と硝
酸パラジウム水溶液の混合液に含浸させた後、７００℃
で３時間焼成し、最終的にＰｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、Ｂ
ａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃ
ｃとなるようにして触媒体Ｉを得た。工程の概略を図９
に示す。
【００９９】（触媒体Ｊ）酸化バリウム粉末に硝酸パラ
ジウム水溶液と適量の酢酸を添加してボールミルで１５
時間解砕した。次いで得られたスラリーを１００℃で１
５時間乾燥し、更に５５０℃で３時間焼成してＰｄプレ
ドープＢａＯ粉を得た。こうして得られたＰｄプレドー
プＢａＯ粉に、上記触媒体Ａの説明で述べた複合酸化物
αと、適量の水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、アル
ミナ固形分２．５％のアルミナゾルを添加し、ボールミ
ルで１５時間解砕して、担持スラリーを調製した。得ら
れた担持スラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製の
コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍ
ｍ）をディップしてＰｄ＝２００ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝
０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとな
るように被覆し、乾燥工程及び焼成工程を経て、触媒体
Ｊを形成した。工程の概略を図１０に示す。
【０１００】（触媒体Ｋ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝酸パ
ラジウム水溶液と適量の酢酸を添加してボールミルで１
５時間解砕した。次いで得られたスラリーを１００℃で
１５時間乾燥し、更に５５０℃で３時間焼成してＰｄプ
レドープＡｌ2Ｏ3粉を得た。こうして得られたＰｄプレ
ドープＡｌ2Ｏ3粉と適量の水を混ぜ合わせ、更に適量の
酢酸と、アルミナ固形分２．５％のアルミナゾルを添加
し、ボールミルで１５時間解砕して、担持スラリーを調
製した。得られた担持スラリー中にモノリス担体（日本
碍子(株)製のコージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、
長さ１００ｍｍ）をディップしてＰｄ＝２００ｇ／ｆｔ
3、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように被覆し、
乾燥工程及び焼成工程を経て、触媒体Ｋを形成した。工
程の概略を図１１に示す。
【０１０１】（触媒体Ａ〜Ｋの着火温度測定）上記のよ
うにして得られた各触媒体について、そのＨＣ着火性能
を推定するために次の方式で検討した。すなわち、コー
ルドスタート時を模擬した合成排ガスを用い、表１に示
すようなリッチ側の排ガス組成（λ＝０．９５）におい
て、合成排ガス中のＨＣ成分の転化率が５０％となると
きの温度を着火温度として測定する方式（以下、この方
式を「測定方式１」という）である。まず、得られた触
媒体の着火温度を測定方式１で測定した。その後、各触
媒体を７５０℃の実エンジン排ガスにさらし、燃料カッ
トモードを取り入れて合計１００時間エージングした
（以下「７５０℃×１００時間エージング」という）。
そして、再び測定方式１によって着火温度を測定し、そ
の結果（実施例１〜１０、比較例１）を表２に示した。
なお、測定装置の概略は図１２に示す。図１２におい
て、１は測定に供する触媒体、９は合成排ガスの成分と
なる各種ガスが入ったボンベ、３は所定組成の合成排ガ
スを合成するための混合ガス製造装置、７は電気炉、５
はガス分析装置である。表２に示したとおり、二酸化窒
素吸収剤を含む触媒体Ａ〜Ｊは、いずれの調製方法を用
いることによっても、二酸化窒素吸収剤を含まない触媒
体Ｋより低い着火温度を示した。中でも触媒体Ａ及び触
媒体Ｆが着火性能及び耐久性の点で好ましいことがわか
った。すなわち、貴金属と二酸化窒素吸収剤とは近傍に
配置されていることが着火特性の点で好ましく、また、
含浸法よりはプレドープ法を用いる方が耐久性の点で好
ましいことがわかった。更に、二酸化窒素吸収剤の少な
くとも一部がＡｌ2Ｏ3にプレドープされていることが好
ましいこともわかった。
【０１０２】
【表１】
【０１０３】
【表２】
【０１０４】〔貴金属の種類の検討〕次に、貴金属の種
類の検討を行った。なお、以下の触媒体の調製において
は、表２に示す結果より着火特性、耐久性ともに特に良
好であった触媒体Ａの調製方法に基づいて、貴金属等を
アルミナ粉末にプレドープした後、担体にウォッシュコ
ートすることにした。上記触媒体Ａの調製方法におい
て、硝酸パラジウムの代わりに、塩化白金又は硝酸パラ
ジウムと塩化白金の両方を用いたり、また、硝酸バリウ
ムの代わりに、硝酸マグネシウム、硝酸セリウム、硝酸
ランタン又は硝酸ジルコニルを用いるなどして、表３に
示すような様々な貴金属と二酸化窒素吸収剤の組み合わ
せとなる触媒体を調製した。なお、貴金属として白金と
パラジウムの両方を用いる場合には、耐久性の面からＰ
ｄ−二酸化窒素吸収剤プレドープＡｌ2Ｏ3とＰｔ−二酸
化窒素吸収剤プレドープＡｌ2Ｏ3をそれぞれ別個に作成
した後混合し、ハニカム担体に担持した。また、比較と
して、二酸化窒素吸収剤を含まない触媒体を触媒体を、
触媒体Ｋの調製方法に準じて、硝酸パラジウムの代わり
に塩化白金又は硝酸パラジウムと塩化白金の両方を用い
て調製した。調製した触媒体を７５０℃×１００時間エ
ージングした後、測定方法１によって着火温度を調べ
た。その結果（実施例１０〜２４、比較例２〜４）を表
３に示す。これらの結果より、貴金属としては白金とパ
ラジウムの両方を用いることが好ましいことがわかっ
た。
【０１０５】
【表３】
【０１０６】〔二酸化窒素吸収剤の検討〕上記触媒体Ａ
の調製方法に準じ、貴金属としては白金とパラジウム
を、また、硝酸バリウムの代わりに、硝酸リチウム、硝
酸セシウム、硝酸マグネシウム、硝酸カルシウム、硝酸
ストロンチウム、硝酸イットリウム、硝酸ジルコニル、
硝酸ランタン、硝酸トリウム、硝酸カドミウム、硝酸カ
リウムを用いて、最終的にＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ
＝１５０ｇ／ｆｔ3、二酸化窒素吸収剤＝０．０２５ｇ
／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように触媒
体を調製した。また、触媒体Ｃの調製方法に準じ、貴金
属としては白金とパラジウムを、また、酸化バリウムの
代わりに、酸化ハフニウム、ＹＢａ2Ｃｕ3Ｏ7を用い
て、最終的にＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／
ｆｔ3、二酸化窒素吸収剤＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2
Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように触媒体を調製し
た。また、二酸化窒素吸収剤を含まない触媒体を触媒体
Ｋの調製方法と同様にして、硝酸パラジウムの代わりに
硝酸パラジウム及び塩化白金を用いて最終的にＰｔ＝５
０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、Ａｌ2Ｏ3＝０．
１０ｇ／ｃｃとなるように触媒体を調製した。これらの
触媒体について、７５０×１００時間エージングを行っ
た後、上述の測定方式１と以下に示す測定方式２及び測
定方式３との３種の方式で着火温度を測定した。その結
果（実施例２５〜４２、比較例５〜６）を表４に示す。
表４に示すように、いずれの場合も二酸化窒素吸収剤を
含まない触媒体より二酸化窒素吸収剤を含む触媒体の方
が低温で着火することがわかる。また、測定方式２で
は、測定方式１や測定方式３に比べ着火性能が良くな
い。これは二酸化窒素吸収剤として触媒体に混ぜた物質
が，ＮＯ2による着火温度低下というよりは主に貴金属
に電子供与を行う働きによって着火温度を下げていると
考えられる。また、測定方式１と測定方式３とではどち
らの方式でも、ＮＯ2によって着火温度を著しく下げる
ことができたと考えられる。また、二酸化窒素吸収剤と
してはＭｇ、Ｂａ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｓ、ＹＢａ2Ｃｕ3Ｏ
7等が含まれていることが好ましいことがわかる。
【０１０７】（測定方式２）各触媒体に、表５に示すよ
うな比較的一酸化窒素濃度が低いリッチ側の組成のガス
流し、合成排ガス中のＨＣ成分の転化率が５０％となる
ときの温度を測定し、これを着火温度とした。
【０１０８】（測定方式３）各触媒体に、表６に示すよ
うな理論空燃比（λ＝１．００）を模擬した組成のガス
を４００℃、３０分間流した。その後、触媒が室温まで
十分に冷えた後で、表５に示すようなコールドスタート
時を模擬したリッチ側組成（λ＝０．９５）の排ガスを
流し、合成排ガス中のＨＣ成分の転化率が５０％となる
ときの温度を測定し、これを着火温度とした。
【０１０９】
【表４】
【０１１０】
【表５】
【０１１１】
【表６】
【０１１２】〔触媒成分担持量の検討〕上記触媒体Ａの
調製方法に準じて、貴金属として白金とパラジウムの２
つをプレドープし、二酸化窒素吸収剤として酸化バリウ
ムをプレドープした触媒体を調製した。この調製の際、
各触媒体によって貴金属量と酸化バリウム量を変えて、
それぞれ表７に示す担持量とした。また、比較として、
二酸化窒素吸収剤を含まない触媒体を触媒体Ｋの調製方
法と同様にして、硝酸パラジウムの代わりに塩化白金と
硝酸パラジウムの両方を用いて調製した。これらの触媒
体を、７５０℃×１００時間エージングした後、測定方
式１で着火温度を測定した。その結果（実施例４４〜５
０、比較例７）を表７に示す。表７に示すように、酸化
バリウムを担持した実施例は、いずれも比較例７より低
温で着火しており、中でも担持量０．０２５ｇ／ｃｃの
ものが良好であった。これは、γ−Ａｌ2Ｏ3にプレドー
プした状態でモノリス担体に担持された酸化バリウム量
がＮＯ2の吸収容量として十分で、かつγ−Ａｌ2Ｏ3の
高比表面積を有効に活用し得る好適な量であったためと
推定される。また、貴金属担持量については、総担持量
が２００ｇ／ｆｔ3のとき良好な結果が得られた。この
結果より、基金属量が少なすぎると十分な触媒効果が得
られず、多すぎると焼結が起こって分散性が低下すると
推定される。
【０１１３】
【表７】
【０１１４】〔触媒成分の配置の検討〕触媒体を構成す
る貴金属、二酸化窒素吸収剤の配置の検討を行うため、
以下の触媒体Ｌ〜Ｔを作製した。
【０１１５】（触媒体Ｌ）上記触媒体Ａの説明で述べた
複合酸化物αに硝酸パラジウム水溶液と適量の酢酸を添
加してボールミルで１５時間解砕した。次いで得られた
スラリーを１００℃で１５時間乾燥し、更に５５０℃で
３時間焼成してＰｄ−ＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3粉を得
た。また、複合酸化物αにジニトロジアンミン白金水溶
液と適量の酢酸を添加してボールミルで１５時間解砕し
た。次いで得られたスラリーを１００℃で１５時間乾燥
し、更に５５０℃で３時間焼成してＰｔ−ＢａＯプレド
ープＡｌ2Ｏ3粉を得た。こうして得られたＰｄ−ＢａＯ
プレドープＡｌ2Ｏ3粉とＰｔ−ＢａＯプレドープＡｌ2
Ｏ3粉と適量の水を混ぜ合わせ、更に適量の酢酸と、ア
ルミナ固形分２．５％のアルミナゾルを添加し、ボール
ミルで１５時間解砕して、担持スラリーを調製した。得
られた担持スラリー中にモノリス担体（日本碍子(株)製
コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ１００ｍ
ｍ）をディップして、Ｐｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１
５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ
3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるように被覆し、乾燥工程及
び焼成工程を経て、触媒体Ｌを形成した。
【０１１６】（触媒体Ｍ）１つのモノリス担体（日本碍
子(株)製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ
１００ｍｍ）上にガス流れ方向に対して上流側にＰｔプ
レドープＡｌ2Ｏ3を、下流側にＰｄ・ＢａＯプレドープ
Ａｌ2Ｏ3を担持して、最終的にＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、
Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃ
ｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるようにした触媒
体Ｍを得た。
【０１１７】（触媒体Ｎ）１つのモノリス担体（日本碍
子(株)製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ
１００ｍｍ）上にガス流れ方向に対して上流側にＰｔ・
ＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3を、下流側にＰｄプレドープ
Ａｌ2Ｏ3を担持して、最終的にＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、
Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃ
ｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとなるようにした触媒
体Ｎを得た。
【０１１８】（触媒体Ｏ）１つのモノリス担体（日本碍
子(株)製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ
１００ｍｍ）上にガス流れ方向に対して上流側にＰｔプ
レドープＡｌ2Ｏ3を、中央部にＢａＯプレドープＡｌ2
Ｏ3を、下流側にＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3を担持して、
最終的にＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆ
ｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１
０ｇ／ｃｃとなるようにした触媒体Ｏを得た。
【０１１９】（触媒体Ｐ）１つのモノリス担体（日本碍
子(株)製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ
１００ｍｍ）上にガス流れ方向に対して上流側にＢａＯ
プレドープＡｌ2Ｏ3を、下流側に、ＰｔプレドープＡｌ
2Ｏ3とＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3を担持して、最終的にＰ
ｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝
０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃとな
るようにした触媒体Ｐを得た。
【０１２０】（触媒体Ｑ）モノリス担体（日本碍子(株)
製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ５０ｍ
ｍ）を２つ用いて、一方にＰｔプレドープＡｌ2Ｏ3を担
持し、もう一方にＰｄ・ＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3を担
持した。そして、この２つのモノリス担体の合計担持量
が２つのモノリス担体の総体積に対してＰｔ＝５０ｇ／
ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ
／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃになるようにし
た。この２つのモノリス担体を用いて、上流側にＰｔの
存在する担体を、下流側にＰｄとＢａＯの存在する担体
を配置した触媒体Ｑを得た。
【０１２１】（触媒体Ｒ）モノリス担体（日本碍子(株)
製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ５０ｍ
ｍ）を２つ用いて、一方にＰｔ・ＢａＯプレドープＡｌ
2Ｏ3を担持し、もう一方にＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3を担
持した。そして、この２つのモノリス担体の合計担持量
が２つのモノリス担体の総体積に対してＰｔ＝５０ｇ／
ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ
／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／ｃｃになるようにし
た。この２つのモノリスを用いて、上流側にＰｔとＢａ
Ｏの存在する担体を、下流側にＰｄの存在する担体を配
置した触媒体Ｒを得た。
【０１２２】（触媒体Ｓ）モノリス担体（日本碍子(株)
製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ３３ｍ
ｍ）を３つ用いて、一つにＰｔプレドープＡｌ2Ｏ3を担
持し、一つにＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3を担持し、もう
一つにＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3を担持した。そして、こ
の３つのモノリス担体の合計担持量が３つのモノリス担
体の総体積に対してＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５
０ｇ／ｆｔ3、ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3
＝０．１０ｇ／ｃｃになるようにした。この３つのモノ
リス担体を用いて、上流側にＰｔの存在する担体を、中
央部にＢａＯの存在する担体を、下流側にＰｄの存在す
る担体を配置した触媒体Ｓを得た。
【０１２３】（触媒体Ｔ）モノリス担体（日本碍子(株)
製コージェライトハニカム、直径９３ｍｍ、長さ５０ｍ
ｍ）を２つ用いて、一方にＢａＯプレドープＡｌ2Ｏ3を
担持し、もう一方に、ＰｄプレドープＡｌ2Ｏ3とＰｔプ
レドープＡｌ2Ｏ3を担持した。そして、この２つのモノ
リス担体の合計担持量が２つのモノリス担体の総体積に
対してＰｔ＝５０ｇ／ｆｔ3、Ｐｄ＝１５０ｇ／ｆｔ3、
ＢａＯ＝０．０２５ｇ／ｃｃ、Ａｌ2Ｏ3＝０．１０ｇ／
ｃｃになるようにした。この２つのモノリス担体を用い
て、上流側にＢａＯの存在する担体を、下流側にＰｔと
Ｐｄの存在する担体を配置した触媒体Ｔを得た。
【０１２４】（触媒体Ｌ〜Ｔの着火温度測定）上記のよ
うにして得られた触媒体Ｌ〜ＴのＨＣ着火性能を測定し
た。各触媒体を７５０℃×１００時間エージングした
後、測定方式１で着火温度を測定した。その結果（実施
例５１〜５９）を表８に示す。表８に示したとおり、貴
金属がＢａＯと混在した状態のものがより適しているこ
とがわかった。
【０１２５】
【表８】
【０１２６】［吸着体の作製］ （吸着体Ａ）直径１４４ｍｍφ、長さ１００ｍｍの日本
ガイシ(株)製コージェライト質ハニカム構造体（リブ厚
１５０μｍ、セル密度４００セル／平方インチ）にThe
PQ Corporation製のβ−ゼオライト（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ
3モル比＝１５０）を０．１５ｇ／ｃｃ担持し、５５０
℃で焼成して吸着体Ａを得た。
【０１２７】（吸着体Ａ’）β−ゼオライトの代わりに
The PQ Corporation製のＺＳＭ−５を用いた以外は上記
吸着体Ａと同様にして吸着体Ａ’を得た。
【０１２８】（吸着体Ｂ）上記吸着体Ａと同じハニカム
構造体を用いて、まず、The PQ Corporation製のβ−ゼ
オライト（ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル比＝１５０）を０．
１２ｇ／ｃｃ担持し、５５０℃で焼成して第１層とし
た。次に上記触媒体Ｄの説明で述べた複合酸化物βを第
１層上に担持し、焼成して第２層とし、吸着体Ｂを得
た。第２層の担持量はγ−Ａｌ2Ｏ3が０．０６ｇ／ｆｔ
3、Ｐｄが２００ｇ／ｆｔ3となった。
【０１２９】（吸着体Ｃ）複合酸化物βの代わりに、上
記触媒体Ａの説明で述べた複合酸化物αを用いた以外は
上記吸着体Ｂと同様にして吸着体Ｃを得た。第２層の担
持量は、γ−Ａｌ2Ｏ3が０．０６ｇ／ｆｔ3、ＢａＯが
０．０２ｇ／ｃｃ、Ｐｄが２００ｇ／ｆｔ3となった。
【０１３０】（吸着体Ｄ）外径１４４ｍｍφ、内径４５
ｍｍ、長さ１００ｍｍの中空円筒状の日本ガイシ(株)製
コージェライト質ハニカム構造体（リブ厚１５０μｍ、
セル密度４００セル／平方インチ）を、吸着体用担体と
した。この担体を用いた以外は上記吸着体Ｂと同様にし
て吸着体Ｄを得た。各担持量は、β−ゼオライトが０．
１２ｇ／ｃｃ、γ−Ａｌ2Ｏ3が０．０６ｇ／ｃｃ、Ｐｄ
＝２００ｇ／ｆｔ3となった。
【０１３１】（吸着体Ｄ’）β−ゼオライトの代わりに
ＺＳＭ−５を用いた以外は、上記吸着体Ｄと同様にして
吸着体Ｄ’を得た。
【０１３２】（吸着体Ｅ）複合酸化物βの代わりに、複
合酸化物αを用いた以外は、上記吸着体Ｄと同様にして
吸着体Ｅを得た。各担持量は、β−ゼオライトが０．１
２ｇ／ｃｃ、γ−Ａｌ2Ｏ3が０．０６ｇ／ｃｃ、ＢａＯ
＝０．０２ｇ／ｃｃ、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3となっ
た。
【０１３３】［吸着・触媒体の作製］ （吸着・触媒体Ａ）直径１４４ｍｍφ、長さ１００ｍｍ
の日本ガイシ(株)製コージェライト質ハニカム構造体
（リブ厚１５０μｍ、セル密度４００セル／平方イン
チ）の断面の中心点から半径４４ｍｍ、貫通孔の軸方向
長さ５０ｍｍの部分をくりぬいて、吸着・触媒体用担体
とした。まず、上記触媒体Ｄの説明で述べた複合酸化物
βを上記吸着・触媒体用担体の断面の中心から半径４４
ｍｍ、貫通孔の軸方向長さ５０ｍｍの部分（くり抜いた
部分から貫通孔方向に延長した部分）に担持し、焼成し
てγ−Ａｌ2Ｏ3が０．０９ｇ／ｃｃ、Ｐｄが２００ｇ／
ｆｔ3となる触媒層を形成した。次に、β−ゼオライト
を上記触媒層を担持した部分の外周部に担持し、５５０
℃で焼成し、β−ゼオライト担持量が０．１２ｇ／ｃｃ
となるようにして第１層とした。次に第１層の上に複合
酸化物βを担持し、焼成することによってγ−Ａｌ2Ｏ3
＝０．０９ｇ／ｃｃ、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3となるよ
うにして第２層とした。このようにして、吸着・触媒体
Ａを得た。
【０１３４】（吸着・触媒体Ｂ）複合酸化物βの代わり
に複合酸化物αを用いた以外は、吸着・触媒体Ａと同様
にして吸着・触媒体Ｂを得た。
【０１３５】（吸着・触媒体Ｃ）長径１７０ｍｍφ、短
径８１ｍｍφ、長さ１００ｍｍの、断面が楕円形状の日
本ガイシ(株)製コージェライト質ハニカム構造体（リブ
厚１５０μｍ、セル密度４００セル／平方インチ）を吸
着・触媒体用担体とした。この担体の長径方向の一端か
ら中心方向に向かって４０ｍｍまでの部分に複合酸化物
βを担持し、γ−Ａｌ2Ｏ3＝０．０９ｇ／ｃｃ、Ｐｄ＝
１２０ｇ／ｆｔ3となる触媒層を形成した。次に、触媒
層のない部分に、β−ゼオライトを担持し、５５０℃で
焼成し、β−ゼオライト担持量が０．１２ｇ／ｃｃとな
るようにして第１層とした。次に第１層の上に複合酸化
物βを担持し、焼成することによってγ−Ａｌ2Ｏ3＝
０．０９ｇ／ｃｃ、Ｐｄ＝２００ｇ／ｆｔ3となるよう
にして第２層とした。このようにして、吸着・触媒体Ｃ
を得た。
【０１３６】（吸着・触媒体Ｄ）複合酸化物βの代わり
に複合酸化物αを用いた以外は、上記吸着・触媒体Ｃと
同様にして吸着・触媒体Ｄを得た。
【０１３７】［その他の触媒体の調製］ （触媒体Ｌ’）モノリス担体の長さが３４ｍｍである以
外は、上記触媒体Ｌと同様にして触媒体Ｌ’を得た。
【０１３８】（触媒体Ｌ”）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝酸
マグネシウム水溶液を含浸担持し、７００℃で３時間で
仮焼して、マグネシア−アルミナ複合酸化物を得た。そ
して、得られたマグネシア−アルミナ複合酸化物を解砕
してマグネシア−アルミナ複合酸化物粉末にした。この
粉末を複合酸化物αの代わりに用いた以外は、上記触媒
体Ｌと同様にして触媒体Ｌ”を得た。
【０１３９】（触媒体Ｌ'''）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝
酸ランタン水溶液を含浸担持し、７００℃で３時間で仮
焼して、酸化ランタン−アルミナ複合酸化物を得た。そ
して、得られた酸化ランタン−アルミナ複合酸化物を解
砕して酸化ランタン−アルミナ複合酸化物粉末にした。
この粉末を複合酸化物αの代わりに用いた以外は、上記
触媒体Ｌと同様にして触媒体Ｌ'''を得た。
【０１４０】（触媒体Ｌ''''）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に硝
酸ジルコニル水溶液を含浸担持し、７００℃で３時間で
仮焼して、ジルコニア−アルミナ複合酸化物を得た。そ
して、得られたジルコニア−アルミナ複合酸化物を解砕
してジルコニア−アルミナ複合酸化物粉末にした。この
粉末を複合酸化物αの代わりに用いたこと、及びモノリ
ス担体の長さを３４ｍｍにしたこと以外は、上記触媒体
Ｌと同様にして触媒体Ｌ''''を得た。
【０１４１】（触媒体Ｕ）複合酸化物αの代わりに、複
合酸化物βを用いた以外は、上記触媒体Ａと同様にし
て、触媒体Ｕを得た。各担持量はγ−Ａｌ2Ｏ3＝０．０
９ｇ／ｃｃ、Ｐｄ＝１２０ｇ／ｆｔ3とした。
【０１４２】（触媒体Ｕ’）モノリス担体の長さが３４
ｍｍである以外は、上記触媒体Ｕと同様にして触媒体
Ｕ’を得た。
【０１４３】（触媒体Ｖ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に酢酸セ
リウムと酸化セリウム（定常走行時のＯＳＣ（酸素貯蔵
能）向上剤）を酸化物換算で３０重量％添加し、湿式で
解砕し、乾燥後５５０℃で仮焼してＡｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2
複合酸化物を得た。これにＨ2ＰｔＣｌ5、Ｒｈ（Ｎ
Ｏ3）3水溶液を用いてＰｔ、Ｒｈの各貴金属を含浸し、
乾燥後５００℃で焼成して２種類の貴金属担持Ａｌ2Ｏ3
・ＣｅＯ2粉を得た。更に、この２種類の貴金属担持Ａ
ｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉に別個に水と酢酸を適量添加し、モ
ノリス担体（日本ガイシ(株)製コージェライトハニカ
ム、隔壁厚６ｍｉｌ、セル密度４００ｃｐｉ2、１．７
リットル）に、まずＰｔ担持Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉を第
１触媒層として０．１５ｇ／ｃｃ担持し、更にＲｈ担持
Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉を第１触媒層上に第２触媒層とし
て０．０５ｇ／ｃｃ被覆担持し、最終的に５００℃で焼
成して、触媒体Ｖを作製した。なお、触媒体Ｖの貴金属
担持量は４０ｇ／ｆｔ3（Ｐｔ／Ｒｈ＝５／１）となっ
た。
【０１４４】（触媒体Ｗ）市販のγ−Ａｌ2Ｏ3に酢酸セ
リウムと酸化セリウム（定常走行時のＯＳＣ向上剤）を
酸化物換算で３０重量％添加し、湿式で解砕し、乾燥後
５５０℃で仮焼してＡｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2複合酸化物を得
た。得られたＡｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2複合酸化物に硝酸バリ
ウム水溶液を混ぜ、更に酢酸を加えて湿式で解砕し、乾
燥後７００℃で仮焼してＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2複
合酸化物（ＢａＯはＡｌ2Ｏ3の３０重量％）を得た。こ
れに塩化白金、Ｒｈ（ＮＯ3）3水溶液を用いてＰｔ、Ｒ
ｈの各貴金属を含浸し、乾燥後５００℃で焼成して２種
類の貴金属担持ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉を得た。
更に、この２種類の貴金属担持ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・Ｃｅ
Ｏ2粉に別個に水と酢酸を適量添加し、モノリス担体
（日本ガイシ(株)製のコージェライトハニカム、隔壁厚
６ｍｉｌ、セル密度４００ｃｐｉ2、体積１．７ｌ）
に、まずＰｔ担持ＢａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉を第１
触媒層として０．１５ｇ／ｃｃ担持し、更にＲｈ担持Ｂ
ａＯ・Ａｌ2Ｏ3・ＣｅＯ2粉を第１触媒層上に第２触媒
層として０．０５ｇ／ｃｃ被覆担持し、最終的に５００
℃で焼成して、触媒体Ｗを作製した。なお、触媒体Ｗの
貴金属担持量は４０ｇ／ｆｔ3（Ｐｔ／Ｒｈ＝５／１）
となった。
【０１４５】［排ガス浄化システムの構成］上記により
得られた触媒体、吸着体及び吸着・触媒体を用いて、以
下に示す排ガス浄化システムを構成した。なお、触媒
体、吸着体及び吸着・触媒体の種類を示すアルファベッ
トと図の参照符号との区別を明確にするため、以下のシ
ステムの説明において、図の参照符号は括弧( )を付し
て記述した。
【０１４６】（システムＡ1）図１３に示すように、エ
ンジン(１３)からの排ガス流路の上流側に吸着体Ｄ(３
１)を、その下流側に触媒体Ｌ(２１)を設置した。ま
た、エンジン(１３)と吸着体Ｄ(３１)との間には、上流
側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、下
流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設置した。
エンジンマニホールド出口より吸着体Ｄ(３１)までの距
離は６００ｍｍ、吸着体Ｄ(３１)と触媒体Ｌ(２１)との
間隔は３０ｍｍとした。更に、エンジンマニホールド出
口より１２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を設置し
た。
【０１４７】（システムＡ2）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ａ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成した。
【０１４８】（システムＡ3）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ａ’用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成し
た。
【０１４９】（システムＡ4）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｂ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成した。
【０１５０】（システムＡ5）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｃ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成した。
【０１５１】（システムＡ6）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｄ’用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成し
た。
【０１５２】（システムＡ7）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｅ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成した。
【０１５３】（システムＡ8）吸着体Ｄの代わりに吸着
・触媒体Ａ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成
した。
【０１５４】（システムＡ9）吸着体Ｄの代わりに吸着
・触媒体Ｂ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成
した。
【０１５５】（システムＡ10）吸着体Ｄの代わりに吸着
・触媒体Ｃ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成
した。
【０１５６】（システムＡ11）吸着体Ｄの代わりに吸着
・触媒体Ｄ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成
した。
【０１５７】（システムＡ12）触媒体Ｖの代わりに触媒
体Ｗ用いた以外は上記システムＡ1と同様に構成した。
【０１５８】（システムＢ）図１４に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順
に設置した。また、エンジン(１３)と吸着体Ｄ(３１)と
の間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)
を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１
９)を設置した。エンジンマニホールド出口より吸着体
Ｄ(３１)までの距離は６００ｍｍ、吸着体Ｄ(３１)、触
媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとし
た。更に、エンジンマニホールド出口より１２００ｍｍ
の位置に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１５９】（システムＣ）図１５に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、吸着体Ｅ(３５)を設置
した。また、エンジン(１３)と吸着体Ｅ(３５)のと間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より吸着体Ｅ(３５)
までの距離は６００ｍｍとした。更に、エンジンマニホ
ールド出口より１２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を
設置した。
【０１６０】（システムＤ）図１６に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路の上流側に吸着体Ｅ(35)
を、その下流側に触媒体Ｕ(２５)を設置した。また、エ
ンジン(１３)と吸着体Ｅ(３５)との間には、上流側にＡ
／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、下流側に
着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジ
ンマニホールド出口より吸着体Ｅ(３５)までの距離は６
００ｍｍ、吸着体Ｅ(３５)と触媒体Ｕ(２５)との間隔は
３０ｍｍとした。更に、エンジンマニホールド出口より
１２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１６１】（システムＥ）図１７に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)の
順に設置した。また、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２
７)との間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー
(１７)を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入
孔(１９)を設置した。エンジンマニホールド出口より触
媒体Ｕ’(２７)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’
(２７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｊ(２１)の各間隔は３
０ｍｍとした。更に、エンジンマニホールド出口より１
２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１６２】（システムＦ）図１８に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｅ(３５)、触媒体Ｕ(２５)の
順に設置した。また、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２
７)との間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー
(１７)を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入
孔(１９)を設置した。エンジンマニホールド出口より触
媒体Ｕ’(２７)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’
(２７)、吸着体Ｅ(３５)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３
０ｍｍとした。更に、エンジンマニホールド出口より１
２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１６３】（システムＧ1）図１９に示すように、エ
ンジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２
１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置した。また、エンジン
(１３)と触媒体Ｕ’(２７)との間には、上流側にＡ／Ｆ
調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、下流側に着火
促進用の二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジンマ
ニホールド出口より触媒体Ｕ’(２７)までの距離は６０
０ｍｍ、触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ
(２１)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。更
に、エンジンマニホールド出口より１２００ｍｍの位置
に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１６４】（システムＧ2）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ａを用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成し
た。
【０１６５】（システムＧ3）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｂを用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成し
た。
【０１６６】（システムＧ4）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｄ’を用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成
した。
【０１６７】（システムＧ5）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｄを用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成し
た。
【０１６８】（システムＧ6）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｍを用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成し
た。
【０１６９】（システムＧ7）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｑを用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成し
た。
【０１７０】（システムＧ8）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｌ”を用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成
した。
【０１７１】（システムＧ9）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｌ'''を用いた以外は、上記システムＧ1と同様に構成
した。
【０１７２】（システムＨ1）図２０に示すように、エ
ンジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら触媒体Ｌ’(２３)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２
１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置した。また、エンジン
(１３)と触媒体Ｌ’(２３)との間には、上流側にＡ／Ｆ
調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、下流側に着火
促進用の二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジンマ
ニホールド出口より触媒体Ｌ’(２３)までの距離は６０
０ｍｍ、触媒体Ｌ’(２３)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ
(２１)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。更
に、エンジンマニホールド出口より１２００ｍｍの位置
に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１７３】（システムＨ2）触媒体Ｌ’の代わりに触
媒体Ｌ''''を用いた以外は、上記システムＨ1と同様に
構成した。
【０１７４】（システムＩ）図２１に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着・触媒体Ｃ(３９)、触媒体Ｌ
(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置した。また、エンジ
ン(１３)と触媒体Ｕ’(２７)との間には、上流側にＡ／
Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、下流側に着
火促進用の二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジン
マニホールド出口より触媒体Ｕ’(２７)までの距離は６
００ｍｍ、触媒体Ｕ’(２７)、吸着・触媒体Ｃ(３９)、
触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍと
した。更に、エンジンマニホールド出口より１２００ｍ
ｍの位置に触媒体Ｖ(２９)を設置した。
【０１７５】（システムＪ）図２２に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ’(３３)、吸着体Ｄ(３
１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２７)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｕ’(２
７)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’(２７)、吸着
体Ｄ’(３３)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒
体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。更に、エンジン
マニホールド出口より１２００ｍｍの位置に触媒体Ｖ
(２９)を設置した。
【０１７６】（システムＫ）図２３に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ(３１)、吸着・触媒体Ａ
(３７)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２７)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｕ’(２
７)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’(２７)、吸着
体Ｄ(３１)、吸着・触媒体Ａ(３７)、触媒体Ｌ(２１)、
触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。更に、エン
ジンマニホールド出口より１２００ｍｍの位置に触媒体
Ｖ(２９)を設置した。
【０１７７】（システムＬ）図２４に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、
吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順
に設置した。また、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２７)
との間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１
７)を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入孔
(１９)を設置した。エンジンマニホールド出口より触媒
体Ｕ’(２７)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’(２
７)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、吸着体Ｄ(３
１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)、触媒体Ｖ(２
９)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１７８】（システムＭ）図２５に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)の順
に設置した。また、エンジン(１３)と触媒体Ｖ(２９)と
の間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)
を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１
９)を設置した。エンジンマニホールド出口より触媒体
Ｖ(２９)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｖ(２９)、吸
着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)の各間隔は３０ｍｍとし
た。
【０１７９】（システムＮ）図２６に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｅ(３５)、触媒体Ｕ(２５)の順
に設置した。また、エンジン(１３)と触媒体Ｖ(２９)と
の間には、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)
を、そして、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１
９)を設置した。エンジンマニホールド出口より触媒体
Ｖ(２９)までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｖ(２９)、吸
着体Ｅ(３５)、触媒体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとし
た。
【０１８０】（システムＯ1）図２７に示すように、エ
ンジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、
触媒体Ｕ(２５)の順に設置した。また、エンジン(１３)
と触媒体Ｖ(２９)との間には、上流側にＡ／Ｆ調節用の
Ｏ2センサー(１７)を、そして、下流側に着火促進用の
二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジンマニホール
ド出口より触媒体Ｖ(２９)までの距離は６００ｍｍ、触
媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒
体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１８１】（システムＯ2）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ａを用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成し
た。
【０１８２】（システムＯ3）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｂを用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成し
た。
【０１８３】（システムＯ4）吸着体Ｄの代わりに吸着
体Ｄ’を用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成
した。
【０１８４】（システムＯ5）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｄを用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成し
た。
【０１８５】（システムＯ6）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｍを用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成し
た。
【０１８６】（システムＯ7）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｑを用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成し
た。
【０１８７】（システムＯ8）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｌ”を用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成
した。
【０１８８】（システムＯ9）触媒体Ｌの代わりに触媒
体Ｌ'''を用いた以外は、上記システムＯ1と同様に構成
した。
【０１８９】（システムＰ）図２８に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、
触媒体Ｌ(２１)の順に設置した。また、エンジン(１３)
と触媒体Ｕ’(２７)との間には、上流側にＡ／Ｆ調節用
のＯ2センサー(１７)を、そして、下流側に着火促進用
の二次空気導入孔(１９)を設置した。エンジンマニホー
ルド出口より触媒体Ｖ(２９)までの距離は６００ｍｍ、
触媒体Ｕ’(２７)、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、
触媒体Ｌ(２１)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９０】（システムＱ）図２９に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側から
触媒体Ｕ’(２７)、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、
触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置した。ま
た、エンジン(１３)と触媒体Ｕ’(２７)との間には、上
流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そして、
下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設置し
た。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｖ(２９)まで
の距離は６００ｍｍ、触媒体Ｕ’(２７)、触媒体Ｖ(２
９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２
５)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９１】（システムＲ1）図３０に示すように、エ
ンジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら触媒体Ｌ’(２３)、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３
１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｌ’(２３)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｖ(２９)
までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｌ’(２３)、触媒体Ｖ
(２９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ
(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９２】（システムＲ2）触媒体Ｌ’の代わりに触
媒体Ｌ''''を用いた以外は、上記システムＲ1と同様に
構成した。
【０１９３】（システムＳ）図３１に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ’(３３)、吸着体Ｄ(３
１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｖ(２９)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｖ(２９)
までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ’
(３３)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ
(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９４】（システムＴ）図３２に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、吸着・触媒体Ａ
(３７)、触媒体Ｌ(２１)、触媒体Ｕ(２５)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｖ(２９)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｖ(２９)
までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ
(３１)、吸着・触媒体Ａ(３７)、触媒体Ｌ(２１)、触媒
体Ｕ(２５)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９５】（システムＵ）図３３に示すように、エン
ジン(１３)からの排ガス流路に、エンジン(１３)側か
ら、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２
１)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ(２１)の順に設置し
た。また、エンジン(１３)と触媒体Ｖ(２９)との間に
は、上流側にＡ／Ｆ調節用のＯ2センサー(１７)を、そ
して、下流側に着火促進用の二次空気導入孔(１９)を設
置した。エンジンマニホールド出口より触媒体Ｖ(２９)
までの距離は６００ｍｍ、触媒体Ｖ(２９)、吸着体Ｄ
(３１)、触媒体Ｌ(２１)、吸着体Ｄ(３１)、触媒体Ｌ
(２１)の各間隔は３０ｍｍとした。
【０１９６】［排ガス浄化システムの性能評価］上記各
システムについて排ガス浄化性能を調べるため、一酸化
窒素排出量の異なるエンジンを２つ用意し、各エンジン
でＦＴＰ試験（ＬＡ−４モード）を実施した。試験回数
は各システム３回づつであり、１回目は一酸化窒素排出
量の少ないエンジンを用いてコールドスタート時の排ガ
ス浄化性能を調べた。２回目は一酸化窒素排出量の比較
的多いエンジンを用いてコールドスタート時の排ガス浄
化性能を調べた。３回目は、まず一酸化窒素排出量の少
ないエンジンを用いて３０分間定常運転をした後、エン
ジンを停止し、十分にエンジンが冷えた後もう一度エン
ジンを始動してコールドスタート時の排ガス浄化性能を
調べた。なお、酸素過剰の排ガスを得るために簡易的に
二次空気をエアポンプで導入孔からエンジンクランクよ
り９０秒間、１００リットル／ｍｉｎで導入した。排ガ
スはＣＶＳ法により採取し、各システムのエミッション
値を算出した。その結果（実施例６０〜１０９）を表９
及び表１０に示す。表９及び表１０に示すように、全体
的に見て低温着火性触媒をシステムに取り入れることに
よってエミッション値が格段に下がることがわかる。
【０１９７】
【表９】
【０１９８】
【表１０】
【０１９９】
【発明の効果】本発明によれば、自動車等の内燃機関か
ら放出される排ガス中の有害物質、特にガソリンエンジ
ンのコールドスタート時に大量に放出されるＨＣを効果
的に浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】触媒体の調製工程の概略図である。
【図２】触媒体の調製工程の概略図である。
【図３】触媒体の調製工程の概略図である。
【図４】触媒体の調製工程の概略図である。
【図５】触媒体の調製工程の概略図である。
【図６】触媒体の調製工程の概略図である。
【図７】触媒体の調製工程の概略図である。
【図８】触媒体の調製工程の概略図である。
【図９】触媒体の調製工程の概略図である。
【図１０】触媒体の調製工程の概略図である。
【図１１】触媒体の調製工程の概略図である。
【図１２】着火温度測定装置の概略図である。
【図１３】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１４】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１５】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１６】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１７】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１８】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図１９】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２０】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２１】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２２】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２３】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２４】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２５】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２６】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２７】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２８】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図２９】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図３０】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図３１】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図３２】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図３３】排ガス浄化システムの一実施例を示す説明図
である。
【図３４】吸着体の一例を示す説明図である。
【図３５】吸着体の一例を示す説明図である。
【図３６】吸着・触媒体の一例を示す説明図である。
【図３７】吸着・触媒体の一例を示す説明図である。
【符号の説明】 １…触媒体、３…混合ガス製造装置、５…ガス分析装
置、７…電気炉、９…ボンベ、、１３…エンジン、１７
…Ｏ2センサー、１９…二次空気導入孔、２１…触媒体
Ｌ、２３…触媒体Ｌ’、２５…触媒体Ｕ、２７…触媒体
Ｕ’、２９…触媒体Ｖ、３１…吸着体Ｄ、３３…吸着体
Ｄ’、３５…吸着体Ｅ、３７…吸着・触媒体Ａ、３９…
吸着・触媒体Ｃ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/63 (72)発明者 高橋 章 愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日 本碍子株式会社内

Claims (79)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 内燃機関の排気管内に、下記（Ａ）及び
    （Ｂ）が配置されてなる排ガス浄化システム。 （Ａ）：電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放
    出作用を有する物質と貴金属とを含む低温着火性触媒組
    成物。 （Ｂ）：炭化水素吸着能を有する吸着材。
  2. 【請求項２】 前記低温着火性触媒組成物の存在下、排
    ガス中の可燃成分と二酸化窒素とが、排ガス中の可燃成
    分と酸素との酸化反応の着火温度より低い温度で反応
    し、排ガスの一部を浄化するとともに、その反応熱によ
    って当該低温着火性触媒組成物及びその周囲温度を高め
    ることにより、排ガス中の炭化水素、窒素酸化物及び一
    酸化炭素を浄化する請求項１記載の排ガス浄化システ
    ム。
  3. 【請求項３】 前記低温着火性触媒組成物の存在下、電
    子供与性物質から電子が貴金属に供給されることによ
    り、貴金属を覆う炭化水素及び／又は一酸化炭素の吸着
    力が弱められ、炭化水素及び／又は一酸化炭素と酸素と
    が、前記電子供与性物質を含まない三元触媒の着火温度
    より低い温度で反応し、排ガスの一部を浄化するととも
    に、その反応熱によって当該低温着火性触媒組成物及び
    その周囲温度を高めることにより、排ガス中の炭化水
    素、窒素酸化物及び一酸化炭素を浄化する請求項１記載
    の排ガス浄化システム。
  4. 【請求項４】 前記電子供与性及び／又は二酸化窒素の
    吸収及び放出作用を有する物質が、アルカリ金属、アル
    カリ土類金属、希土類元素、遷移金属及びアクチニド元
    素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素、その
    酸化物又は該元素を少なくとも１種含む複合酸化物であ
    る請求項１〜３のいずれかに記載の排ガス浄化システ
    ム。
  5. 【請求項５】 前記元素が、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、
    Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
    ｒ、Ｎｄ、Ｔｈ及びＵからなる群から選ばれる少なくと
    も１種である請求項４記載の排ガス浄化システム。
  6. 【請求項６】 前記元素が、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、
    Ｙ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ及びＴｈからなる群から選
    ばれる少なくとも１種である請求項４記載の排ガス浄化
    システム。
  7. 【請求項７】 前記貴金属が、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈのう
    ちの少なくとも１種である請求項１〜６のいずれかに記
    載の排ガス浄化システム。
  8. 【請求項８】 前記貴金属が、Ｐｔ及び／又はＰｄであ
    る請求項１〜６のいずれかに記載の排ガス浄化システ
    ム。
  9. 【請求項９】 前記吸着材中に触媒成分が含まれた請求
    項１〜８のいずれかに記載の排ガス浄化システム。
  10. 【請求項１０】 前記触媒成分を含む吸着材中に、電子
    供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を有す
    る物質と貴金属とが含まれた請求項９記載の排ガス浄化
    システム。
  11. 【請求項１１】 前記触媒成分を含む吸着材中に、希土
    類酸化物が含まれた請求項９又は１０記載の排ガス浄化
    システム。
  12. 【請求項１２】 前記吸着材が、ゼオライトを主成分と
    する請求項１〜１１のいずれかに記載の排ガス浄化シス
    テム。
  13. 【請求項１３】 ゼオライトのＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル
    比が４０以上である請求項１２記載の排ガス浄化システ
    ム。
  14. 【請求項１４】 ゼオライト中に、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈ
    のうちの少なくとも１種の貴金属が含まれる請求項１２
    記載の排ガス浄化システム。
  15. 【請求項１５】 ゼオライト中に、周期表のＩＢ族元素
    （Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）のイオンが少なくとも１種含まれ
    る請求項１２記載の排ガス浄化システム。
  16. 【請求項１６】 前記吸着材が、前記低温着火性触媒組
    成物よりも排ガス流れ方向上流側に配置された請求項１
    〜１５のいずれかに記載の排ガス浄化システム。
  17. 【請求項１７】 前記吸着材と低温着火性触媒組成物と
    が、排ガス流れ方向に対して間隔を置かず、ほぼ同じ位
    置に配置された請求項１〜１５のいずれかに記載の排ガ
    ス浄化システム。
  18. 【請求項１８】 前記吸着材及び低温着火性触媒組成物
    の排ガス流れ方向下流側に、更に別個の排ガス浄化用触
    媒を配置した請求項１〜１７のいずれかに記載の排ガス
    浄化システム。
  19. 【請求項１９】 前記吸着材及び低温着火性触媒組成物
    の排ガス流れ方向上流側に、更に別個の排ガス浄化用触
    媒を配置した請求項１〜１８のいずれかに記載の排ガス
    浄化システム。
  20. 【請求項２０】 内燃機関の排気管内に、下記（Ｃ）及
    び（Ｄ）が配置されてなる排ガス浄化システム。 （Ｃ）：担体上に、電子供与性及び／又は二酸化窒素の
    吸収及び放出作用を有する物質と貴金属とを含む触媒層
    を担持してなる低温着火性触媒体。 （Ｄ）：担体上に、炭化水素吸着能を有する吸着層を担
    持してなる吸着体。
  21. 【請求項２１】 前記低温着火性触媒体の存在下、排ガ
    ス中の可燃成分と二酸化窒素とが、排ガス中の可燃成分
    と酸素との酸化反応の着火温度より低い温度で反応し、
    排ガスの一部を浄化するとともに、その反応熱によって
    当該低温着火性触媒体及びその周囲温度を高めることに
    より、排ガス中の炭化水素、窒素酸化物及び一酸化炭素
    を浄化する請求項２０記載の排ガス浄化システム。
  22. 【請求項２２】 前記低温着火性触媒体の存在下、電子
    供与性物質から電子が貴金属に供給されることにより、
    貴金属を覆う炭化水素及び／又は一酸化炭素の吸着力が
    弱められ、炭化水素及び／又は一酸化炭素と酸素とが、
    前記電子供与性物質を含まない三元触媒の着火温度より
    低い温度で反応し、排ガスの一部を浄化するとともに、
    その反応熱によって当該低温着火性触媒体及びその周囲
    温度を高めることにより、排ガス中の炭化水素、窒素酸
    化物及び一酸化炭素を浄化する請求項２０記載の排ガス
    浄化システム。
  23. 【請求項２３】 前記低温着火性触媒体の担体が、モノ
    リス担体である請求項２０記載の排ガス浄化システム。
  24. 【請求項２４】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    それぞれ別個のモノリス担体上に担持されてなる請求項
    ２３記載の排ガス浄化システム。
  25. 【請求項２５】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    それぞれ１つのモノリス担体上において排ガス流れ方向
    に分離して担持されてなる請求項２３記載の排ガス浄化
    システム。
  26. 【請求項２６】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    担体上に層状に重ねて担持されてなる請求項２０又は２
    ３記載の排ガス浄化システム。
  27. 【請求項２７】 前記低温着火性触媒体の触媒層中に、
    貴金属と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放
    出作用を有する物質とが混在している請求項２０又は２
    ３記載の排ガス浄化システム。
  28. 【請求項２８】 前記電子供与性及び／又は二酸化窒素
    の吸収及び放出作用を有する物質が、アルカリ金属、ア
    ルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属及びアクチニド
    元素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素、そ
    の酸化物又は該元素を少なくとも１種含む複合酸化物で
    ある請求項２０〜２７のいずれかに記載の排ガス浄化シ
    ステム。
  29. 【請求項２９】 前記元素が、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃ
    ａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ、
    Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｈ及びＵからなる群から選ばれる少なく
    とも１種である請求項２８記載の排ガス浄化システム。
  30. 【請求項３０】 前記元素が、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂ
    ａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ及びＴｈからなる群か
    ら選ばれる少なくとも１種である請求項２８記載の排ガ
    ス浄化システム。
  31. 【請求項３１】 前記貴金属が、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの
    うちの少なくとも１種である請求項２０〜３０のいずれ
    かに記載の排ガス浄化システム。
  32. 【請求項３２】 前記貴金属が、Ｐｔ及び／又はＰｄで
    ある請求項２０〜３０のいずれかに記載の排ガス浄化シ
    ステム。
  33. 【請求項３３】 前記貴金属の担持量が、１０〜７００
    ｇ／ｆｔ3（モノリス担体体積）である請求項２３記載
    の排ガス浄化システム。
  34. 【請求項３４】 前記吸着体の担体が、モノリス担体で
    ある請求項２０記載の排ガス浄化システム。
  35. 【請求項３５】 前記吸着体の吸着層中に触媒成分が含
    まれた請求項２０〜３４のいずれかに記載の排ガス浄化
    システム。
  36. 【請求項３６】 前記触媒成分を含む吸着層に、電子供
    与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を有する
    物質と貴金属とが含まれた請求項３５記載の排ガス浄化
    システム。
  37. 【請求項３７】 前記触媒成分を含む吸着層に、希土類
    酸化物が含まれた請求項３５又は３６記載の排ガス浄化
    システム。
  38. 【請求項３８】 前記吸着体の吸着層表面又は吸着層と
    担体との間に、触媒成分を含む層が形成された請求項２
    ０〜３４のいずれかに記載の排ガス浄化システム。
  39. 【請求項３９】 前記触媒成分を含む層に、電子供与性
    及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を有する物質
    と貴金属とが含まれた請求項３８記載の排ガス浄化シス
    テム。
  40. 【請求項４０】 前記触媒成分を含む層に、希土類酸化
    物が含まれた請求項３８又は３９記載の排ガス浄化シス
    テム。
  41. 【請求項４１】 前記吸着体の吸着層が、ゼオライトを
    主成分とする請求項２０〜４０のいずれかに記載の排ガ
    ス浄化システム。
  42. 【請求項４２】 ゼオライトのＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル
    比が４０以上である請求項４１記載の排ガス浄化システ
    ム。
  43. 【請求項４３】 ゼオライト中に、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈ
    のうちの少なくとも１種の貴金属が含まれる請求項４１
    記載の排ガス浄化システム。
  44. 【請求項４４】 ゼオライト中に、周期表のＩＢ族元素
    （Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）のイオンが少なくとも１種含まれ
    る請求項４１記載の排ガス浄化システム。
  45. 【請求項４５】 前記モノリス担体の一部に、排ガスが
    吹き抜ける吹き抜け部が形成された請求項３４記載の排
    ガス浄化システム。
  46. 【請求項４６】 前記吹き抜け部が、モノリス担体の貫
    通孔と平行に形成された請求項４５記載の排ガス浄化シ
    ステム。
  47. 【請求項４７】 前記吸着体が、前記低温着火性触媒体
    よりも排ガス流れ方向上流側に配置された請求項２０〜
    ４６のいずれかに記載の排ガス浄化システム。
  48. 【請求項４８】 前記吸着体と前記低温着火性触媒体と
    が単一のモノリス担体から構成されており、当該モノリ
    ス担体の排ガス流れ方向上流側に吸着体が存在し、下流
    側に低温着火性触媒体が存在する請求項２０記載の排ガ
    ス浄化システム。
  49. 【請求項４９】 前記吸着体及び低温着火性触媒体の排
    ガス流れ方向下流側に、更に別個の排ガス浄化用触媒体
    を配置した請求項２０〜４８のいずれかに記載の排ガス
    浄化システム。
  50. 【請求項５０】 前記吸着体及び低温着火性触媒体の排
    ガス流れ方向上流側に、更に別個の排ガス浄化用触媒体
    を配置した請求項２０〜４９のいずれかに記載の排ガス
    浄化システム。
  51. 【請求項５１】 内燃機関の排気管内に、下記（Ｅ）及
    び（Ｆ）が配置されてなる排ガス浄化システム。 （Ｅ）：担体上に、電子供与性及び／又は二酸化窒素の
    吸収及び放出作用を有する物質と貴金属とを含む触媒層
    を担持してなる低温着火性触媒体。 （Ｆ）：モノリス担体上に、炭化水素吸着能を有する吸
    着層と、三元性能又は酸化性能を有する触媒層とを、ガ
    ス流れ方向と直角方向に、ある断面で分離して担持して
    なる吸着・触媒体。
  52. 【請求項５２】 前記低温着火性触媒体の存在下、排ガ
    ス中の可燃成分と二酸化窒素とが、排ガス中の可燃成分
    と酸素との酸化反応の着火温度より低い温度で反応し、
    排ガスの一部を浄化するとともに、その反応熱によって
    当該低温着火性触媒体及びその周囲温度を高めることに
    より、排ガス中の炭化水素、窒素酸化物及び一酸化炭素
    を浄化する請求項５１記載の排ガス浄化システム。
  53. 【請求項５３】 前記低温着火性触媒体の存在下、電子
    供与性物質から電子が貴金属に供給されることにより、
    貴金属を覆う炭化水素及び／又は一酸化炭素の吸着力が
    弱められ、炭化水素及び／又は一酸化炭素と酸素とが、
    前記電子供与性物質を含まない三元触媒より低い温度で
    反応し、排ガスの一部を浄化するとともに、その反応熱
    によって当該低温着火性触媒体及びその周囲温度を高め
    ることにより、排ガス中の炭化水素、窒素酸化物及び一
    酸化炭素を浄化する請求項５１記載の排ガス浄化システ
    ム。
  54. 【請求項５４】 前記低温着火性触媒体の担体が、モノ
    リス担体である請求項５１記載の排ガス浄化システム。
  55. 【請求項５５】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    それぞれ別個のモノリス担体上に担持されてなる請求項
    ５４記載の排ガス浄化システム。
  56. 【請求項５６】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    それぞれ１つのモノリス担体上において排ガス流れ方向
    に分離して担持されてなる請求項５４記載の排ガス浄化
    システム。
  57. 【請求項５７】 前記低温着火性触媒体の触媒層が、貴
    金属を含む層と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収
    及び放出作用を有する物質を含む層とからなり、各層が
    担体上に層状に重ねて担持されてなる請求項５１又は５
    ４記載の排ガス浄化システム。
  58. 【請求項５８】 前記低温着火性触媒体の触媒層中に、
    貴金属と電子供与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放
    出作用を有する物質とが混在している請求項５１又は５
    ４記載の排ガス浄化システム。
  59. 【請求項５９】 前記電子供与性及び／又は二酸化窒素
    の吸収及び放出作用を有する物質が、アルカリ金属、ア
    ルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属及びアクチニド
    元素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素、そ
    の酸化物又は該元素を少なくとも１種含む複合酸化物で
    ある請求項５１〜５８のいずれかに記載の排ガス浄化シ
    ステム。
  60. 【請求項６０】 前記元素が、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃ
    ａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ、
    Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｈ及びＵからなる群から選ばれる少なく
    とも１種である請求項５９記載の排ガス浄化システム。
  61. 【請求項６１】 前記元素が、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂ
    ａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｌａ、Ｃｅ及びＴｈからなる群か
    ら選ばれる少なくとも１種である請求項５９記載の排ガ
    ス浄化システム。
  62. 【請求項６２】 前記貴金属が、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの
    うちの少なくとも１種である請求項５１〜６１のいずれ
    かに記載の排ガス浄化システム。
  63. 【請求項６３】 前記貴金属が、Ｐｔ及び／又はＰｄで
    ある請求項５１〜６１のいずれかに記載の排ガス浄化シ
    ステム。
  64. 【請求項６４】 前記貴金属の担持量が、１０〜７００
    ｇ／ｆｔ3（モノリス担体体積）である請求項５４記載
    の排ガス浄化システム。
  65. 【請求項６５】 前記吸着・触媒体の吸着層中に触媒成
    分が含まれた請求項５１〜６４のいずれかに記載の排ガ
    ス浄化システム。
  66. 【請求項６６】 前記触媒成分を含む吸着層に、電子供
    与性及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を有する
    物質と貴金属とが含まれた請求項６５記載の排ガス浄化
    システム。
  67. 【請求項６７】 前記触媒成分を含む吸着層に、希土類
    酸化物が含まれた請求項６５又は６６記載の排ガス浄化
    システム。
  68. 【請求項６８】 前記吸着・触媒体の吸着層表面又は吸
    着層と担体との間に、触媒成分を含む層が形成された請
    求項５１〜６４のいずれかに記載の排ガス浄化システ
    ム。
  69. 【請求項６９】 前記触媒成分を含む層に、電子供与性
    及び／又は二酸化窒素の吸収及び放出作用を有する物質
    と貴金属とが含まれた請求項６８記載の排ガス浄化シス
    テム。
  70. 【請求項７０】 前記触媒成分を含む層に、希土類酸化
    物が含まれた請求項６８又は６９記載の排ガス浄化シス
    テム。
  71. 【請求項７１】 前記吸着・触媒体の吸着層が、ゼオラ
    イトを主成分とする請求項５１〜７０のいずれかに記載
    の排ガス浄化システム。
  72. 【請求項７２】 ゼオライトのＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3モル
    比が４０以上である請求項７１記載の排ガス浄化システ
    ム。
  73. 【請求項７３】 ゼオライト中に、Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈ
    のうちの少なくとも１種の貴金属が含まれる請求項７１
    記載の排ガス浄化システム。
  74. 【請求項７４】 ゼオライト中に、周期表のＩＢ族元素
    （Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ）のイオンが少なくとも１種含まれ
    る請求項７１記載の排ガス浄化システム。
  75. 【請求項７５】 前記吸着・触媒体が、前記低温着火性
    触媒体よりも排ガス流れ方向上流側に配置された請求項
    ５１〜７４のいずれかに記載の排ガス浄化システム。
  76. 【請求項７６】 前記吸着・触媒体と前記低温着火性触
    媒体とが単一のモノリス担体から構成されており、当該
    モノリス担体の排ガス流れ方向上流側に吸着・触媒体が
    存在し、下流側に低温着火性触媒体が存在する請求項５
    １記載の排ガス浄化システム。
  77. 【請求項７７】 前記吸着・触媒体及び低温着火性触媒
    体の排ガス流れ方向下流側に、更に別個の排ガス浄化用
    触媒体を配置した請求項５１〜７６のいずれかに記載の
    排ガス浄化システム。
  78. 【請求項７８】 前記吸着体及び低温着火性触媒体の排
    ガス流れ方向上流側に、更に別個の排ガス浄化用触媒体
    を配置した請求項５１〜７７のいずれかに記載の排ガス
    浄化システム。
  79. 【請求項７９】 請求項１〜７８のいずれかに記載の排
    ガス浄化システムを用いて、排ガス中の有害物質を浄化
    するに当たり、エンジンのコールドスタート時のある一
    定期間、排ガス中に酸化性ガスの添加を行うか、又は燃
    焼用空気量と燃料量とを排ガス中の酸素量が増加する方
    向へ調整することを特徴とする排ガス浄化方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6042797A (en) * 1997-07-02 2000-03-28 Tosoh Corporation Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas
JP2003509615A (ja) * 1999-09-14 2003-03-11 トゥブール，ダニエル 内燃機関を備える発動機の排気ガス処理装置
US6641788B1 (en) 1997-07-02 2003-11-04 Tosoh Corporation Absorbent for a hydrocarbon, and exhaust gas-purifying catalyst
US6953769B2 (en) 2001-03-26 2005-10-11 Mazda Motor Corporation Exhaust gas purifying catalyst
WO2006109417A1 (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 N.E. Chemcat Corporation 排気ガス浄化用酸化触媒、及びそれを用いた排気ガス浄化システム
WO2009116468A1 (ja) * 2008-03-19 2009-09-24 株式会社アイシーティー 内燃機関排気ガスの浄化用触媒および該触媒を用いた排気ガスの浄化方法
JPWO2012128297A1 (ja) * 2011-03-24 2014-07-24 ユミコア日本触媒株式会社 排ガス浄化用酸化触媒、その製造方法およびそれを用いた排ガス浄化方法

Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6111524A (en) * 1995-11-09 2000-08-29 Vehicle Enhancement Systems, Inc. Systems and methods for identifying tractor/trailers and components thereof
US6090744A (en) * 1996-03-28 2000-07-18 Mazda Motor Corporation Catalyst for cleaning exhaust gas
WO1998007504A1 (de) 1996-08-19 1998-02-26 Volkswagen Aktiengesellschaft NOx-ABSORBER
DE19712087C2 (de) * 1997-03-22 1999-07-22 Porsche Ag Adsorber-Katalysator-Kombination für Brennkraftmaschinen
JPH10328570A (ja) * 1997-03-31 1998-12-15 Mazda Motor Corp 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法並びに排気ガス浄化方法
JP4006061B2 (ja) 1997-07-28 2007-11-14 日本碍子株式会社 排ガス浄化システム
EP0935055B1 (en) * 1998-02-05 2006-01-11 Nissan Motor Company, Limited Method for purifying oxygen rich exhaust gas
DE19806033A1 (de) * 1998-02-13 1999-08-19 Emitec Emissionstechnologie Anordnung und Verfahren zur Umsetzung wenigstens einer Abgaskomponente eines Abgasstromes eines Verbrennungsmotors
JPH11267504A (ja) * 1998-03-24 1999-10-05 Ngk Insulators Ltd 排ガス浄化用触媒体とそれを用いた排ガス浄化システム
JP3388255B2 (ja) * 1998-06-03 2003-03-17 トヨタ自動車株式会社 排ガス浄化用触媒及びその製造方法
JP3370957B2 (ja) * 1998-09-18 2003-01-27 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置
DE19854794A1 (de) * 1998-11-27 2000-05-31 Degussa Katalysator für die Reinigung der Abgase eines Dieselmotors
EP1135581B1 (en) * 1998-12-05 2002-09-18 Johnson Matthey Public Limited Company Improvements in particulate control
DE19918756A1 (de) * 1999-04-24 2000-10-26 Volkswagen Ag Anordnung zur Reinigung eines Abgases einer Verbrennungsmaschine und Verfahren zum Betrieb einer solchen Anordnung
DE19921263A1 (de) * 1999-05-07 2000-11-16 Emitec Emissionstechnologie Brennkraftmaschine mit einem kleinvolumigen Katalysator
JP3489049B2 (ja) * 1999-07-15 2004-01-19 日産自動車株式会社 排気ガス浄化用触媒
JP3859940B2 (ja) * 1999-08-06 2006-12-20 日産自動車株式会社 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法
US6878354B1 (en) * 1999-09-03 2005-04-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Catalyst and process for exhaust purification
US6296822B1 (en) * 2000-03-29 2001-10-02 Ford Global Technologies, Inc Process for manufacturing nox traps with improved sulfur tolerance
JP3733834B2 (ja) * 2000-05-02 2006-01-11 日産自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置
JP4703818B2 (ja) * 2000-06-20 2011-06-15 株式会社アイシーティー 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化方法
EP1174173B1 (en) * 2000-07-17 2013-03-20 Mitsubishi Jidosha Kogyo Kabushiki Kaisha Exhaust gas purifying catalyst
US6617276B1 (en) * 2000-07-21 2003-09-09 Johnson Matthey Public Limited Company Hydrocarbon trap/catalyst for reducing cold-start emissions from internal combustion engines
DE50005206D1 (de) 2000-08-16 2004-03-11 Umicore Ag & Co Kg Abgasreinigungskatalysator für motornahen Einsatz und Verfahren zu seiner Herstellung
US6750168B2 (en) * 2000-12-05 2004-06-15 Delphi Technologies, Inc. High-temperature aging tolerance catalyzed adsorber system for treating internal combustion engine exhaust gas
US6670296B2 (en) 2001-01-11 2003-12-30 Delphi Technologies, Inc. Alumina/zeolite lean NOx catalyst
US6624113B2 (en) * 2001-03-13 2003-09-23 Delphi Technologies, Inc. Alkali metal/alkaline earth lean NOx catalyst
JP3981915B2 (ja) * 2001-04-03 2007-09-26 日産自動車株式会社 排気ガス浄化システム
US6777370B2 (en) 2001-04-13 2004-08-17 Engelhard Corporation SOx tolerant NOx trap catalysts and methods of making and using the same
DE60233798D1 (de) * 2001-07-13 2009-11-05 Ngk Insulators Ltd Wabenstrukturkörper, wabenfilter und verfahren zur herstellung des strukturkörpers und des filters
JP4696430B2 (ja) * 2001-09-26 2011-06-08 マツダ株式会社 排気ガス浄化用触媒
JP2003201832A (ja) * 2001-10-25 2003-07-18 Nissan Motor Co Ltd 排ガス浄化触媒システム
DE10214343A1 (de) * 2002-03-28 2003-10-09 Omg Ag & Co Kg Partikelfilter mit einer katalytisch aktiven Beschichtung zur Beschleunigung der Verbrennung der auf dem Filter gesammelten Rußpartikel während einer Regenerationsphase
US20030197595A1 (en) * 2002-04-22 2003-10-23 Johnson Controls Technology Company System and method for wireless control of multiple remote electronic systems
CN100436767C (zh) * 2002-07-15 2008-11-26 大众汽车股份公司 采用直喷式奥托发动机和催化器系统的内燃机设备
DE502004001869D1 (de) * 2003-02-05 2006-12-14 Volkswagen Ag Verfahren zur Auslegung eines Katalysatorsystems
US6938412B2 (en) * 2003-08-07 2005-09-06 General Motors Corporation Removing nitrogen oxides during a lean-burn engine cold start
US20050233380A1 (en) * 2004-04-19 2005-10-20 Sdc Materials, Llc. High throughput discovery of materials through vapor phase synthesis
US9180423B2 (en) 2005-04-19 2015-11-10 SDCmaterials, Inc. Highly turbulent quench chamber
US9818120B2 (en) 2015-02-20 2017-11-14 Innovative Global Systems, Llc Automated at-the-pump system and method for managing vehicle fuel purchases
US8626377B2 (en) 2005-08-15 2014-01-07 Innovative Global Systems, Llc Method for data communication between a vehicle and fuel pump
US7644578B2 (en) * 2005-11-07 2010-01-12 Delphi Technologies, Inc. Vehicle exhaust aftertreatment system
JP2007160168A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Toyota Motor Corp 排ガス浄化装置
US8418444B2 (en) * 2006-03-30 2013-04-16 Umicore Shokubai Japan Co., Ltd. Method for purification of exhaust gas from internal combustion engine
US7883563B2 (en) * 2006-04-25 2011-02-08 Sharp Kabushiki Kaisha Honeycomb structure and manufacturing method thereof, and air cleaner and water purifier containing the honeycomb structure
TWI423848B (zh) * 2006-07-13 2014-01-21 Umicore Shokubai Japan Co Ltd 內燃引擎的排氣之淨化方法
MX2009009095A (es) * 2007-02-27 2009-09-14 Basf Catalysts Llc Catalizadores de zeolita cha de cobre.
US7998423B2 (en) 2007-02-27 2011-08-16 Basf Corporation SCR on low thermal mass filter substrates
CN101730575B (zh) 2007-04-26 2013-01-02 约翰逊马西有限公司 过渡金属/沸石scr催化剂
FR2921848B1 (fr) * 2007-10-08 2011-03-18 Saint Gobain Ct Recherches Structure de purification texturee incorporant un systeme de catalyse electrochimique
US8575059B1 (en) 2007-10-15 2013-11-05 SDCmaterials, Inc. Method and system for forming plug and play metal compound catalysts
WO2009055654A1 (en) * 2007-10-26 2009-04-30 Eltron Research & Development, Inc. A metal oxide system for adsorbent applications
US20090196812A1 (en) * 2008-01-31 2009-08-06 Basf Catalysts Llc Catalysts, Systems and Methods Utilizing Non-Zeolitic Metal-Containing Molecular Sieves Having the CHA Crystal Structure
US10583424B2 (en) * 2008-11-06 2020-03-10 Basf Corporation Chabazite zeolite catalysts having low silica to alumina ratios
FR2939695B1 (fr) 2008-12-17 2011-12-30 Saint Gobain Ct Recherches Structure de purification incorporant un systeme de catalyse supporte par une zircone a l'etat reduit.
US8071504B2 (en) 2008-12-19 2011-12-06 Caterpillar Inc. Exhaust system having a gold-platinum group metal catalyst
US8211392B2 (en) * 2009-01-16 2012-07-03 Basf Corporation Diesel oxidation catalyst composite with layer structure for carbon monoxide and hydrocarbon conversion
KR101040885B1 (ko) * 2009-05-28 2011-06-16 삼성에스디아이 주식회사 촉매 연소기 및 이를 구비한 연료 개질기
US20110143930A1 (en) * 2009-12-15 2011-06-16 SDCmaterials, Inc. Tunable size of nano-active material on nano-support
US9149797B2 (en) * 2009-12-15 2015-10-06 SDCmaterials, Inc. Catalyst production method and system
US8557727B2 (en) 2009-12-15 2013-10-15 SDCmaterials, Inc. Method of forming a catalyst with inhibited mobility of nano-active material
US9126191B2 (en) * 2009-12-15 2015-09-08 SDCmaterials, Inc. Advanced catalysts for automotive applications
US20110144382A1 (en) * 2009-12-15 2011-06-16 SDCmaterials, Inc. Advanced catalysts for fine chemical and pharmaceutical applications
US8652992B2 (en) 2009-12-15 2014-02-18 SDCmaterials, Inc. Pinning and affixing nano-active material
US9090475B1 (en) 2009-12-15 2015-07-28 SDCmaterials, Inc. In situ oxide removal, dispersal and drying for silicon SiO2
US8803025B2 (en) 2009-12-15 2014-08-12 SDCmaterials, Inc. Non-plugging D.C. plasma gun
US8293199B2 (en) * 2009-12-18 2012-10-23 Basf Corporation Process for preparation of copper containing molecular sieves with the CHA structure, catalysts, systems and methods
US8293198B2 (en) * 2009-12-18 2012-10-23 Basf Corporation Process of direct copper exchange into Na+-form of chabazite molecular sieve, and catalysts, systems and methods
US8669202B2 (en) 2011-02-23 2014-03-11 SDCmaterials, Inc. Wet chemical and plasma methods of forming stable PtPd catalysts
WO2013028575A1 (en) 2011-08-19 2013-02-28 Sdc Materials Inc. Coated substrates for use in catalysis and catalytic converters and methods of coating substrates with washcoat compositions
US9511352B2 (en) 2012-11-21 2016-12-06 SDCmaterials, Inc. Three-way catalytic converter using nanoparticles
US9156025B2 (en) 2012-11-21 2015-10-13 SDCmaterials, Inc. Three-way catalytic converter using nanoparticles
US9586179B2 (en) 2013-07-25 2017-03-07 SDCmaterials, Inc. Washcoats and coated substrates for catalytic converters and methods of making and using same
CN103397256B (zh) * 2013-07-31 2015-12-23 成都易态科技有限公司 抗高温氧化的烧结Fe-Al基合金多孔材料及过滤元件
CA2926133A1 (en) 2013-10-22 2015-04-30 SDCmaterials, Inc. Catalyst design for heavy-duty diesel combustion engines
WO2015061482A1 (en) 2013-10-22 2015-04-30 SDCmaterials, Inc. Compositions of lean nox trap
WO2015143225A1 (en) 2014-03-21 2015-09-24 SDCmaterials, Inc. Compositions for passive nox adsorption (pna) systems
US9895674B1 (en) * 2015-09-14 2018-02-20 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Multi-functional media for the removal of basic and acidic gases and other toxic vapors
JP6935787B2 (ja) * 2018-08-23 2021-09-15 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置及び排気浄化方法
JP2020029841A (ja) * 2018-08-24 2020-02-27 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置及び排気浄化方法
CN112774399A (zh) * 2019-11-08 2021-05-11 中核四0四有限公司 一种铀纯化中含铀脱硝流化床尾气处理工艺

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56102940A (en) * 1980-01-18 1981-08-17 Toyota Motor Corp Catalyst for cleaning exhaust gas
US4863893A (en) * 1986-08-06 1989-09-05 Engelhard Corporation Low temperature light off ammonia oxidation
US4902487A (en) * 1988-05-13 1990-02-20 Johnson Matthey, Inc. Treatment of diesel exhaust gases
JPH0615016B2 (ja) * 1988-09-09 1994-03-02 トヨタ自動車株式会社 自動車排気ガス浄化装置
US5296198A (en) * 1990-11-09 1994-03-22 Ngk Insulators, Ltd. Heater and catalytic converter
US5139994A (en) * 1990-11-28 1992-08-18 Ford Motor Company Low temperature light-off platinum catalyst
WO1993007363A1 (fr) * 1991-10-03 1993-04-15 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Dispositif pour purifier les gaz d'echappement d'un moteur a combustion interne
JP2783074B2 (ja) * 1991-10-29 1998-08-06 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の排気浄化装置
JP3311051B2 (ja) * 1992-12-16 2002-08-05 日本碍子株式会社 排気ガス浄化方法及び装置
JP3281087B2 (ja) * 1993-02-10 2002-05-13 日本碍子株式会社 排ガス浄化用触媒
CA2127478A1 (en) * 1993-08-16 1995-02-17 William Hertl Modified zeolites for trapping hydrocarbons
JPH0763048A (ja) * 1993-08-20 1995-03-07 Ngk Insulators Ltd 排ガス浄化システム及び排ガス浄化方法
JP3447384B2 (ja) * 1993-09-29 2003-09-16 本田技研工業株式会社 排気ガス浄化用触媒
EP0664147B1 (en) * 1994-01-20 1998-07-22 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Catalyst for purifying exhaust gases
JP3363564B2 (ja) * 1994-02-04 2003-01-08 トヨタ自動車株式会社 排ガス浄化用触媒
US5687565A (en) * 1995-11-29 1997-11-18 Amoco Corporation Control of exhaust emissions from an internal combustion engine

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6309616B1 (en) 1977-11-26 2001-10-30 Tosoh Corporation Method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas
US6103208A (en) * 1997-07-02 2000-08-15 Tosoh Corporation Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas
US6641788B1 (en) 1997-07-02 2003-11-04 Tosoh Corporation Absorbent for a hydrocarbon, and exhaust gas-purifying catalyst
US6042797A (en) * 1997-07-02 2000-03-28 Tosoh Corporation Adsorbent for ethylene, method for adsorbing and removing ethylene and method for purifying an exhaust gas
JP4870303B2 (ja) * 1999-09-14 2012-02-08 トゥブール，ダニエル 内燃機関を備える発動機の排気ガス処理装置
JP2003509615A (ja) * 1999-09-14 2003-03-11 トゥブール，ダニエル 内燃機関を備える発動機の排気ガス処理装置
US6953769B2 (en) 2001-03-26 2005-10-11 Mazda Motor Corporation Exhaust gas purifying catalyst
WO2006109417A1 (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 N.E. Chemcat Corporation 排気ガス浄化用酸化触媒、及びそれを用いた排気ガス浄化システム
JP4681922B2 (ja) * 2005-04-01 2011-05-11 エヌ・イーケムキャット株式会社 排気ガス浄化用酸化触媒、及びそれを用いた排気ガス浄化システム
JP2006281127A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Ne Chemcat Corp 排気ガス浄化用酸化触媒、及びそれを用いた排気ガス浄化システム
WO2009116468A1 (ja) * 2008-03-19 2009-09-24 株式会社アイシーティー 内燃機関排気ガスの浄化用触媒および該触媒を用いた排気ガスの浄化方法
JP5528323B2 (ja) * 2008-03-19 2014-06-25 ユミコア日本触媒株式会社 内燃機関排気ガスの浄化用触媒および該触媒を用いた排気ガスの浄化方法
US8771624B2 (en) 2008-03-19 2014-07-08 Umicore Shokubai Japan Co., Ltd Catalyst for purifying exhaust gas from internal combustion engine and process for purifying exhaust gas using the same
JPWO2012128297A1 (ja) * 2011-03-24 2014-07-24 ユミコア日本触媒株式会社 排ガス浄化用酸化触媒、その製造方法およびそれを用いた排ガス浄化方法
JP6045490B2 (ja) * 2011-03-24 2016-12-14 ユミコア日本触媒株式会社 排ガス浄化用酸化触媒、その製造方法およびそれを用いた排ガス浄化方法

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