JP3447384B2 - 排気ガス浄化用触媒 - Google Patents

排気ガス浄化用触媒

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    • Y10S502/525—Perovskite

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は排気ガス浄化用触媒に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、複酸化物とゼオライトとよりなる
排気ガス浄化用触媒が公知である（例えば、特開平２−
２９３０５０号公報参照）。
【０００３】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】一般に、前記複酸化物
は複数の結晶子が集合した多結晶粒子であるが、従来の
複酸化物は、その製造過程において高温焼成（例えば、
９００℃）されているため、それら結晶子の平均結晶子
径ＤがＤ≧５００Åと大きい。したがって、従来の複酸
化物はその比表面積が小さく、また微細孔も未発達であ
ることから、窒素酸化物との接触確率が低く、特に、酸
素過剰雰囲気下において、単位重量当りの窒素酸化物吸
着率が低下して窒素酸化物浄化能が低くなる、という問
題があった。
【０００５】
【０００６】
【０００７】
【０００８】本発明は前記に鑑み、特定の平均結晶子径
Ｄを有し、且つ窒素酸化物に対して優れた吸着能を持つ
改質ＣｅＯ2 を必須構成要素とし、広い排気ガス温度範
囲において窒素酸化物に対し優れた浄化能を発揮し得る
と共に良好な耐熱劣化性を備えた前記触媒を提供するこ
とを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る排気ガス浄
化用触媒は、平均結晶子径ＤがＤ＜５００Åである改質
ＣｅＯ2 とゼオライトとからなり、前記改質ＣｅＯ
2 は、ＣｅＯ 2 にＺｒ、ＬａおよびＳｉから選択される
少なくとも一種の改質用元素を保有させたものであっ
て、その改質ＣｅＯ2 の含有量Ｃが１０重量％≦Ｃ≦８
０重量％であることを特徴とする。
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【００１３】
【００１４】
【００１５】また触媒には、ゼオライトにＡｇを担持さ
せたものも含まれ、そのＡｇの担持量ＣＡは１重量％≦
ＣＡ≦１０重量％に設定される。
【００１６】さらに触媒には、ゼオライトとして、未改
質ゼオライトに脱Ａｌ処理を施して得られた耐熱性改質
ゼオライトを用いたものも含まれる。
【００１７】
【作用】前記のように改質ＣｅＯ 2 の平均結晶子径Ｄを
設定すると、改質ＣｅＯ 2 の比表面積を拡張し、また微
細孔も発達させることが可能であるから、改質ＣｅＯ 2
と窒素酸化物（ＮＯｘ）との接触確率を高めて、酸素過
剰雰囲気下においても、単位重量当りのＮＯｘ吸着率を
向上させることができる。
【００１８】また前記のような改質ＣｅＯ 2 とゼオライ
トとを組合せると、排気ガス中の炭化水素（ＨＣ）がゼ
オライトに吸着され、またＮＯｘが改質ＣｅＯ 2 に吸着
される。またゼオライトは比較的弱い酸化剤として機能
するので、ゼオライトに吸着されて活性化されたＨＣを
部分的に酸化するため活性ＣＨＯが生ずる。
【００１９】この活性ＣＨＯが、改質ＣｅＯ 2 に吸着さ
れて活性化されたＮＯｘを還元してＮ2 、ＣＯ2 および
Ｈ2 Ｏに転化し、これによりＮＯｘの浄化が達成され
る。この場合、活性ＣＨＯは、飽和ＨＣよりも不飽和Ｈ
Ｃから生じ易く、また遊離ＮＯｘは吸着されたＮＯｘに
比べて活性が低い。
【００２０】前記のようなＨＣおよびＮＯｘの吸着、Ｈ
Ｃの部分的酸化による活性ＣＨＯの生成およびその活性
ＣＨＯによるＮＯｘの還元は、排気ガスの低温域から高
温域において現出するので、触媒の活性温度範囲が拡張
される。
【００２１】さらにＺｒまたは、ＺｒおよびＬａを保有
する改質ＣｅＯ2 を用いた未使用触媒（製造後、排気ガ
スの浄化に供されていないもの）においては、その改質
ＣｅＯ2 の格子欠陥が増えてＮＯｘ吸着可能な活性点が
増加するので、ＮＯｘ浄化率が未改質のＣｅＯ2 を用い
た場合よりも向上する。
【００２２】一方、ＣｅＯ 2 は複数の結晶子が集合した
多結晶粒子であることから、それが高温環境下に曝され
ると、その平均結晶子径が大きくなってＮＯｘ吸着可能
な活性点が減少する傾向がある。
【００２３】ところが、少なくとも一種の改質用元素を
保有する改質ＣｅＯ 2 は高温下に曝されても、Ｚｒ等に
よってその平均結晶子径の増加が抑制される。これによ
り、改質ＣｅＯ 2 を用いた触媒は良好な耐熱劣化性を備
える。
【００２４】さらにまたゼオライトにＡｇを担持させる
と、ゼオライトにおける不飽和ＨＣの吸着量が増加し、
これにより活性ＣＨＯの生成量を増して、特に低温側に
おけるＮＯｘ浄化率を向上させることができる。
【００２５】またゼオライトとして、脱Ａｌ処理による
改質ゼオライトを用いると、その改質ゼオライトは、未
改質のものに比べて結晶性が向上し、また熱分解生成物
の発生が抑制されているので約１０００℃の耐熱温度を
有し、これにより触媒の耐熱性を向上させることができ
る。その上、改質ゼオライトは未改質のものに比べてＨ
Ｃ吸着能が高く、また広い排気ガス温度範囲において優
れたＨＣ吸着能を発揮する。
【００２６】ただし、前記触媒において、改質ＣｅＯ2
の含有量ＣがＣ＜１０重量％になると、その改質ＣｅＯ
2 によるＮＯｘ吸着率が低下し、その結果、ＮＯｘ浄化
率も低下する。
【００２７】一方、改質ＣｅＯ 2 の含有量Ｃがそれぞれ
Ｃ＞８０重量％になると、ゼオライト量が減少するた
め、そのゼオライトによるＨＣ吸着率が低下し、その結
果、ＮＯｘ浄化率も低下する。
【００２８】またＡｇ担持量ＣＡにおいて、ＣＡ＜１重
量％では不飽和ＨＣの吸着量増加効果が乏しく、一方、
ＣＡ＞１０重量％に設定しても顕著な効果は得られな
い。
【００２９】
【実施例】
Ａ．窒素酸化物用吸着材 図１において、窒素酸化物（ＮＯｘ、実施例ではＮＯ）
用吸着材を構成する酸化物系セラミックス１は複数の結
晶子２が集合した多結晶粒子であり、その平均結晶子径
ＤはＤ＜５００Åに設定される。
【００３０】このような酸化物系セラミックスには、ラ
ンタノイド酸化物、改質ランタノイド酸化物および複酸
化物が含まれる。ランタノイド酸化物としてはＣｅ
Ｏ2 、Ｐｒ6 Ｏ11、Ｔｂ4 Ｏ7 等が用いられ、このラン
タノイド酸化物はＮＯ吸着能、ＨＣに対する比較的弱い
酸化能および酸素貯蔵能を有する。
【００３１】改質ランタノイド酸化物は、前記ランタノ
イド酸化物にＺｒ、ＬａおよびＳｉから選択される少な
くとも一種の改質用元素を保有させたものである。ここ
で、保有とは、ランタノイド酸化物に改質用元素を機械
的、物理的或は化学的に担持させた状態および／または
ランタノイド酸化物と改質用元素の酸化物とが複酸化物
を構成している状態をいう。
【００３２】Ｚｒ、またはＺｒおよびＬａを保有する改
質ランタノイド酸化物においては、その格子欠陥が増え
てＮＯｘ吸着可能な活性点が増加する。また少なくとも
一種の改質用元素を保有する改質ランタノイド酸化物は
高温下に曝されても、Ｚｒ等によって、その平均結晶子
径の増加が抑制される。
【００３３】複酸化物としては、ＬａＣｏＯ3 、ＬａＭ
ｎＯ3 、Ｌａ0.8 Ｓｒ0.2 ＣｏＯ3等のペロブスカイト
型構造を有するものの外に、Ｌａ1.5 Ｓｒ0.5 Ｃｕ
Ｏ4 、ＹＢａ2 Ｃｕ3 Ｏ7 、Ｍｎ2 ＺｒＯ5 等も用いら
れ、この複酸化物はＮＯ吸着能およびＨＣに対する比較
的弱い酸化能を有する。
【００３４】ランタノイド酸化物の製造に当っては、炭
酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩等の種々の塩を、酸素存在下
において加熱する。希土類元素を含まない純粋なランタ
ノイド酸化物を得る場合には、加熱後のランタノイド酸
化物を硝酸にて洗浄する。
【００３５】平均結晶子径Ｄの制御は、前記製造過程に
おける加熱温度を調節することによって行われる。例え
ば平均結晶子径ＤがＤ＝２０ÅのＣｅＯ2 を得る場合に
は、硝酸塩を約２００℃に加熱する。また製造後のＣｅ
Ｏ2 に熱処理を施すことによっても、その平均結晶子径
Ｄを制御することができ、例えば、Ｄ＝２０ÅのＣｅＯ
2 に７００℃、２０時間の熱処理を施すと、Ｄ＝３００
ÅのＣｅＯ2 が得られる。
【００３６】改質ランタノイド酸化物の製造に当って
は、一般的には共沈法または含浸法が適用されるが、そ
の他の方法を適用してもよい。
【００３７】共沈法においては、（ａ） ランタノイド
の硝酸塩、例えばＣｅ（ＮＯ3 ）3 と、Ｚｒ（ＮＯ3 ）
4若しくはＬａ（ＮＯ3 ）3 またはケイ酸（例えばＨ4
ＳｉＯ4 ）とを水（ケイ酸の場合は、その溶解促進のた
め熱水）に溶解して溶解液を調製する、（ｂ） 溶解液
にＮＨ4 ＯＨを添加して加水分解することにより懸濁液
を調製する、（ｃ） 懸濁液を蒸発乾固して固形分を得
る、（ｄ） 固形分に、大気下、６００℃、１時間の焼
成処理を施す、といった手段が採用される。
【００３８】含浸法においては、（ａ） ＺｒＯ（ＮＯ
3 ）2 若しくはＬａ（ＮＯ3 ）3 またはケイ酸（例えば
Ｈ 4 ＳｉＯ4 ）を水（ケイ酸の場合は、その溶解促進の
ため熱水）に溶解して溶解液を調製する、（ｂ） 溶解
液にランタノイド酸化物粉末、例えばＣｅＯ2 粉末を分
散させて懸濁液を調製する、（ｃ） 懸濁液を蒸発乾固
して固形分を得る、（ｄ） 固形分に、大気下、６００
℃、１時間の焼成処理を施す、といった手段が採用され
る。
【００３９】ランタノイド酸化物に、例えば二種の改質
用元素を保有させる場合には、共沈法および含浸法が併
用される。
【００４０】前記方法により得られる改質ランタノイド
酸化物は、改質用元素を担持したランタノイド酸化物
と、改質用元素の酸化物およびランタノイド酸化物より
なる複酸化物との混合物である。
【００４１】改質ランタノイド酸化物における改質用元
素の含有量は、Ｚｒが単独で用いられる場合には３〜１
０重量％が適当であり、またＬａ，Ｓｉがそれぞれ単独
で用いられる場合には１〜１０重量％が適当である。二
種以上の改質用元素を用いる場合、それらの合計含有量
は２〜２０重量％が適当である。改質用元素の含有量が
少なくては前記のような改質効果が得られず、一方、過
剰になると、ランタノイド酸化物の特性が損なわれるか
らである。
【００４２】複酸化物の製造に当っては次のような方法
が実施される。即ち、（ａ）複数の酢酸塩を所定の割合
で純水に溶解する。（ｂ）溶解液にアルカリ溶液（例え
ば、ＮａＯＨ溶液）を滴下してｐＨ≧９にすると共に加
水分解を行って沈澱物を得る。（ｃ）沈澱物を濾別し、
その沈澱物を純水で洗浄した後１５０℃にて乾燥してケ
ークを得る。（ｄ）ケークに電気炉中、空気存在下にお
いて分解、焼成処理を施す。
【００４３】例えば、ＬａＣｏＯ3 を製造する場合、酢
酸塩としては、Ｌａ（ＯＣＯＣＨ3）3 およびＣｏ（Ｏ
ＣＯＣＨ3 ）2 が用いられ、焼成温度は７００℃に、焼
成時間は５時間にそれぞれ設定される。
【００４４】結晶子径Ｄ(hkl) の算出にはシェラー式、
即ち、Ｄ(hkl) ＝０．９λ／（β1/2 ・cos θ）を用い
た。ここで、ｈｋｌはミラー指数、λは特性Ｘ線の波長
（Å）、β1/2 は（ｈｋｌ）面の半価幅（ラジアン）、
θはＸ線反射角度である。したがって、酸化物系セラミ
ックスのＸ線回折図より（ｈｋｌ）面、例えばＣｅＯ2
では（１１１）面の半価幅β1/2 を測定することによっ
て各結晶子のＤ(111) を算出し、それらから平均結晶子
径Ｄを求めた。
【００４５】Ｂ．排気ガス浄化用触媒 触媒は、基本的には酸化物系セラミックスとゼオライト
とから構成される。
【００４６】酸化物系セラミックスとしてランタノイド
酸化物または改質ランタノイド酸化物を用いた場合に
は、その含有量Ｃは１０重量％≦Ｃ≦８０重量％に設定
される。また複酸化物を用いた場合には、その含有量Ｃ
は２０重量％≦Ｃ≦８０重量％に設定される。さらにラ
ンタノイド酸化物および複酸化物の混合物を用いた場合
には、その混合物の含有量Ｃは２０重量％≦Ｃ≦８０重
量％に設定され、且つランタノイド酸化物および複酸化
物の含有量Ｃ1 ，Ｃ2 はＣ1 ，Ｃ2 ≧１０重量％に設定
される。
【００４７】ゼオライトとしては、ＺＳＭ−５ゼオライ
ト、モルデナイト等が用いられる。ゼオライトは未改質
のものでもよいが、脱Ａｌ処理による改質ゼオライトは
１０００℃程度の耐熱温度を有し、また広い排気ガス温
度範囲において優れたＨＣ吸着能を発揮する。
【００４８】脱Ａｌ処理としては、酸処理、スチーム処
理または沸騰水処理の少なくとも一つの処理が適用され
る。
【００４９】酸処理は次のような手順で行われる。
（ａ）未改質ゼオライトを、水を入れた処理槽中に投入
して１２規定のＨＣｌを徐々に加え、また溶液を加熱し
て９０℃で、且つ５規定のＨＣｌ溶液にする。（ｂ）こ
の温度下に未改質ゼオライトを２０時間保持し、同時に
ＨＣｌ溶液を攪拌する。この場合、処理槽に冷却塔を付
設してＨＣｌ溶液の濃度を５規定に維持する。（ｃ）５
規定のＨＣｌ溶液を室温まで冷却する。（ｄ）このよう
にして得られた改質ゼオライトを濾別して、ｐＨ４以上
になるまで純水で洗浄し、次いで４００℃にて、２４時
間乾燥する。
【００５０】他の酸処理では、０．５〜５ＮのＨＣｌ溶
液を７０〜９０℃に昇温し、そのＨＣｌ溶液中に未改質
ゼオライトを投入して１〜２０時間攪拌する、といった
方法が採用される。
【００５１】また沸騰水処理では、未改質ゼオライトに
含水処理を施し、その含水状態の未改質ゼオライト周り
の雰囲気温度を５５０〜６００℃まで昇温し、その高温
雰囲気下に未改質ゼオライトを４時間程度保持する、と
いった方法が採用される。
【００５２】さらにスチーム処理では、未改質ゼオライ
トを、１０％程度の水分を含む７５０〜９００℃の雰囲
気下に１０〜２０時間保持する、といった方法が採用さ
れる。
【００５３】これら酸処理、沸騰水処理およびスチーム
処理は、単独または２以上組合わせて適用され、また必
要に応じて繰返される。これにより改質ゼオライトが得
られ、そのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比ＭｒはＭｒ＝３
６〜８００が適当である。
【００５４】またゼオライトとしては、ゼオライトにＡ
ｇを担持させたものも用いられ、そのＡｇの担持量ＣＡ
は１重量％≦ＣＡ≦１０重量％に設定される。このＡｇ
担持ゼオライトは不飽和ＨＣに対する吸着能が高く、ま
たその不飽和ＨＣからはＮＯ還元能の高い活性ＣＨＯが
生成され易いので、ＮＯ浄化率を向上させる上で有効で
ある。ゼオライトに対するＡｇの担持法としては含浸担
持法、イオン交換法等が適用される。
【００５５】〔例−Ｉ〕 ランタノイド酸化物であるＣｅＯ2 のＮＯ吸着能につい
て次のようなテストを行った。
【００５６】先ず、テスト用ガスとして、体積比率で、
１０％Ｏ2 、１０％ＣＯ2 、１２００ppm Ｃ3 Ｈ6 、１
０００ppm ＣＯ、１２００ppm ＮＯ、５００ppm Ｈ2 、
１０％Ｈ2 Ｏおよび残部Ｎ2 よりなるガスを調製した。
また平均結晶子径Ｄを異にする複数のＣｅＯ2 を調製し
た。
【００５７】ＮＯ吸着テストは、前記テスト用ガスを、
２０ｇのＣｅＯ2 ペレットを充填した常圧固定床反応管
内に流量２５０００ml／min で流通させると共にテスト
用ガスの温度を常温〜４００℃まで１５℃／min で昇温
させ、この間におけるＣｅＯ 2 １ｇ当りのＮＯ吸着量
（ml）を求めることによって行われた。
【００５８】表１は、ＣｅＯ2 の例１〜７の平均結晶子
径ＤとＮＯ吸着量を示す。
【００５９】
【表１】 図２は、表１に基づいてＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤとＮ
Ｏ吸着量との関係をプロットしたものである。図中、点
１〜７は例１〜７にそれぞれ対応する。この各点と各例
の関係は以後同じである。
【００６０】図２より、ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤをＤ
＜５００Åに設定した例１〜６は、Ｄ≧５００Åである
例７に比べて優れたＮＯ吸着能を有することが判る。Ｃ
ｅＯ 2 の平均結晶子径Ｄは好ましくはＤ≦３００Åであ
る。
【００６１】またＣｅＯ2 の例１および例７を用い、前
記ＮＯ吸着テストにおいて、テスト用ガスの温度を常温
〜５００℃まで１５℃／min で昇温させ、この間のＮＯ
吸着率を測定したところ、図３の結果を得た。
【００６２】図３において、ＮＯ吸着率がマイナスの値
をとる領域は、ＣｅＯ2 に吸着されたＮＯが離脱してい
ることを示し、したがってＮＯの離脱温度は約４００℃
であることが判る。
【００６３】このことから、ＣｅＯ2 の例１と、ガス温
度３００〜５００℃でＮＯ還元能を発揮する触媒、例え
ばＡｌ2 Ｏ3 にＰｔを担持させた触媒とを組合せること
により、ＣｅＯ2 のＮＯ濃縮能を有効に利用した排気ガ
ス浄化用触媒を構成することが可能である。
【００６４】〔例−II〕排 気ガス浄化用触媒は、平均結晶子径ＤがＤ＜５００Å
であるＣｅＯ2 と、ゼオライトとから構成され、ＣｅＯ
2 の含有量Ｃは１０重量％≦Ｃ≦８０重量％に設定され
た。
【００６５】ゼオライトとしては、ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ
3 モル比ＭｒがＭｒ＝３０の未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオ
ライトおよびそのゼオライトに前記脱Ａｌ処理を施して
得られたＭｒ＝３６（脱Ａｌ率１２％）の改質Ｈ型ＺＳ
Ｍ−５ゼオライトを用いた。
【００６６】触媒の製造は次のような方法で行われた。
先ず、所定の平均結晶子径Ｄを有するＣｅＯ2 と、前記
ゼオライトとを所定の重量比率で配合し、その配合物５
０ｇと、直径１０mmのアルミナボール１００ｇと、シリ
カゾル（ＳｉＯ2 量は２０重量％）２５ｇと、水５０ｇ
とをボールミルに投入して１２時間以上混合し、次いで
混合物を１５０℃にて乾燥し、その後４００℃で２０時
間焼成してペレット状触媒を得た。
【００６７】また比較のため、Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 触媒を
次のような方法で製造した。先ず、Ａｌ2 Ｏ3 として市
販の活性Ａｌ2 Ｏ3 ５０ｇと、前記同様のアルミナボー
ル１００ｇと、前記同様のシリカゾル２５ｇと、水５０
ｇとをボールミルに投入して１２時間以上混合し、次い
で混合物を１５０℃にて乾燥し、その後４００℃で２０
時間焼成してペレットを得た。そのペレットを９０mlの
塩化白金酸溶液（Ｐｔ濃度０．３５％）に２０時間浸漬
してペレットに塩化白金酸を含浸担持させ、次いでその
ペレットを濾別し、その後純水による洗浄、１５０℃に
て乾燥、６００℃で１時間の焼成を順次行って、触媒Ｐ
ｔ／Ａｌ2 Ｏ3 を得た。この触媒におけるＰｔ担持量は
０．５３重量％であった。
【００６８】ＮＯ浄化テストは、前記と同一組成のテス
ト用ガスを、２０ｇの触媒を充填した常圧固定床反応管
内に流量２５０００ml／min で流通させると共にテスト
用ガスの温度を常温〜約５７０℃まで１５℃／min で昇
温させ、この間のＮＯ浄化率を測定することによって行
われた。
【００６９】表２は、各種触媒の組成を示す。この場
合、ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤはＤ＝２１Åである。表
中、「改質ＺＳＭ−５」は改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライ
トを意味し、これは以後同じである。
【００７０】
【表２】 図４は、前記ＮＯ浄化テストにおける各触媒の例１〜８
のＣｅＯ2 含有量と最大ＮＯ浄化率との関係を示す。こ
のＮＯ浄化テストにおいては、最大ＮＯ浄化率が２５％
以上である場合を良とし、したがって図４よりＣｅＯ2
の含有量Ｃは、例２〜６の如く、１０重量％≦Ｃ≦８０
重量％に設定される。
【００７１】表３は、各種触媒の組成、ＣｅＯ2 の平均
結晶子径Ｄおよび各温度におけるＮＯ浄化率を示す。表
３には表２に挙げた例１，３〜５，８も含まれている。
表中、「未改質ＺＳＭ−５」は未改質Ｎａ型ＺＳＭ−５
ゼオライトを意味し、これは以後同じである。
【００７２】
【表３】 図５は、触媒の例４，１２〜１４のガス温度とＮＯ浄化
率との関係を示す。
【００７３】表３，図５より、触媒の例３〜５，９〜１
２は触媒の例１，８，１３，１４に比べて各温度におけ
るＮＯ浄化率が高いことが判る。
【００７４】図６は、触媒の例４におけるガス温度とＨ
ＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。図６において、Ｈ
Ｃの浄化は、主として改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトに
よるＨＣの吸着に起因するもので、したがって広いガス
温度範囲において前記ゼオライトによるＨＣの吸着、そ
の部分酸化による活性ＣＨＯの生成が行われており、そ
の結果、ＮＯ浄化率がガス温度の上昇に伴い増加する。
【００７５】図７は、触媒の例１４におけるガス温度と
ＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。図７のガス温度
約２５０〜約３００℃におけるＨＣの浄化はＰｔ／Ａｌ
2 Ｏ 3 触媒によるＨＣの吸着、その部分酸化に起因する
ものであり、その結果、ＮＯ浄化率は向上するが、ガス
温度が約３００℃を越えると、ＨＣの完全酸化、即ちＨ
Ｃ→Ｈ2 Ｏ＋ＣＯ2 の化学反応が主として進行するた
め、部分酸化反応の減退に伴い活性ＣＨＯの生成が極端
に減少し、その結果、ＮＯ浄化率は低下する。
【００７６】〔例−III 〕排 気ガス浄化用触媒の一例は、平均結晶子径ＤがＤ＜５
００ÅであるＬａＣｏＯ3 とゼオライトとから構成さ
れ、ＬａＣｏＯ3 の含有量Ｃは２０重量％≦Ｃ≦８０重
量％に設定された。
【００７７】また触媒の他例は、前記触媒におけるＬａ
ＣｏＯ3 にＰｔを担持させたものであり、この場合Ｐｔ
の担持量ＣＡは０．０１重量％≦ＣＡ≦０．５重量％に
設定された。Ｐｔは排気ガス温度約２５０〜約３５０℃
において、ＨＣの部分酸化を促進する作用を有する。Ｐ
ｔの担持量ＣＡがＣＡ＜０．０１重量％では前記作用を
得ることができず、一方、ＣＡ＞０．５重量％ではＨＣ
の完全酸化反応が進行する。
【００７８】ＬａＣｏＯ3 に対するＰｔの担持法として
は、ＬａＣｏＯ3 を塩化白金酸溶液に浸漬し、次いで６
００℃で焼成するか、またはＬａＣｏＯ3 の原料酸化物
中に白金塩を加え、次いで焼成する、といった方法を挙
げることができる。この例−III では、前者により０．
０３重量％のＰｔを担持させたＬａＣｏＯ3 を用いた。
【００７９】例−IIの改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトお
よび未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトと、ＬａＣｏＯ3
と、Ｐｔ／ＬａＣｏＯ3 とを用い、例−IIと同様の方法
により各種ペレット状触媒を製造し、それら触媒につい
て例−IIと同様のＮＯ浄化テストを行った。
【００８０】表４は、各種触媒の組成を示す。この場
合、ＬａＣｏＯ3 の平均結晶子径ＤはＤ＝４９０Åであ
る。
【００８１】
【表４】 図８は、前記ＮＯ浄化テストにおける各触媒の例１〜１
０のＬａＣｏＯ3 含有量と最大ＮＯ浄化率との関係を示
す。このＮＯ浄化テストにおいては、最大ＮＯ浄化率が
２０％以上である場合を良とし、したがって図８よりＬ
ａＣｏＯ3 の含有量Ｃは、例３〜８の如く、２０重量％
≦Ｃ≦８０重量％に設定される。
【００８２】表５は、各種触媒の組成および各温度にお
けるＮＯ浄化率を示す。表５には表４に挙げた例５も含
まれ、また比較のため前記触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 も例１
３として含まれている。
【００８３】
【表５】 図９は、触媒の例５，１１〜１３のガス温度とＮＯ浄化
率との関係を示す。
【００８４】表５，図９より、触媒の例５〜１２は触媒
の例１３に比べて各温度におけるＮＯ浄化率が高いこと
が判る。
【００８５】図１０は、触媒の例１１におけるガス温度
とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。比較のため、
例１３（Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 ）のＨＣおよびＮＯ浄化率も
挙げてある。
【００８６】図１０より触媒の例１１では広いガス温度
範囲において改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトによるＨＣ
の吸着、その部分酸化による活性ＣＨＯの生成が行われ
ており、その結果、ＮＯ浄化率がガス温度の上昇に伴い
増加することが判る。
【００８７】〔例−IV〕排 気ガス浄化用触媒の一例は、平均結晶子径ＤがＤ＜５
００ÅであるＣｅＯ2および同様の平均結晶子径Ｄを持
つＬａＣｏＯ3 の混合物と、ゼオライトとから構成さ
れ、混合物の含有量Ｃは２０重量％≦Ｃ≦８０重量％に
設定され、またＣｅＯ2 およびＬａＣｏＯ3 の含有量Ｃ
1 ，Ｃ2 はＣ1 ，Ｃ2 ≧１０重量％に設定された。
【００８８】また触媒の他例は、前記触媒におけるＬａ
ＣｏＯ3 に、例−III と同様にＰｔを担持させたもので
あり、この場合Ｐｔの担持量ＣＡは、例−III と同様に
０．０１重量％≦ＣＡ≦０．５重量％に設定された。
【００８９】例−IIの改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライト
と、ＣｅＯ2 と、ＬａＣｏＯ3 と、Ｐｔ／ＬａＣｏＯ3
とを用い、例−IIと同様の方法により各種ペレット状触
媒を製造し、それら触媒について例−IIと同様のＮＯ浄
化テストを行った。
【００９０】表６は、各種触媒の組成および最大ＮＯ浄
化率を示し、また図１１は表６の組成をグラフ化したも
のである。この場合、ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤはＤ＝
２１Åであり、またＬａＣｏＯ3 のそれＤはＤ＝４９０
Åである。
【００９１】
【表６】 このＮＯ浄化テストにおいては、最大ＮＯ浄化率が４０
％以上である場合を良とし、したがって表６，図１１よ
り、例１〜９の如く、混合物の含有量Ｃは、２０重量％
≦Ｃ≦８０重量％に、またＣｅＯ2 の含有量Ｃ1 はＣ1
≧１０重量％に、さらにＬａＣｏＯ3 の含有量Ｃ2 はＣ
2 ≧１０重量％にそれぞれ設定される。
【００９２】図１２は、触媒の例１と例１ａのガス温度
とＮＯ浄化率との関係を示す。その例１ａにおいては、
例１と同量のＬａＣｏＯ3 に０．０３重量％のＰｔを担
持させたＰｔ／ＬａＣｏＯ3 が用いられている。
【００９３】図１２から明らかなように、触媒の例１ａ
のようにＰｔ／ＬａＣｏＯ3 を用いると、例１に比べて
最大ＮＯ浄化率が低温側へ移行し、したがって低温側で
のＮＯ浄化能を向上させることができる。
【００９４】図１３は、触媒の例１におけるガス温度と
ＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。比較のため、前
記触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 のＨＣおよびＮＯ浄化率も挙げ
てある。
【００９５】図１３より、触媒の例１では広いガス温度
範囲において改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトによるＨＣ
の吸着、その部分酸化による活性ＣＨＯの生成が行われ
ており、その結果、ＮＯ浄化率が触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3
を用いた場合よりも増加することが判る。
【００９６】〔例−Ｖ〕排 気ガス浄化用触媒は、平均結晶子径ＤがＤ＜５００Å
であるＣｅＯ2 と、Ａｇを担持したゼオライトとから構
成され、ＣｅＯ2 の含有量Ｃは１０重量％≦Ｃ≦８０重
量％に、またＡｇの担持量ＣＡは１重量％≦ＣＡ≦１０
重量％にそれぞれ設定された。
【００９７】ゼオライトに対するＡｇの担持法としては
イオン交換法を適用した。例えば、改質Ｈ型ＺＳＭ−５
ゼオライト５０ｇを０．２mol ／リットルの硝酸銀溶液
に投入して５０℃にて１８時間攪拌し、次いで濾別、水
洗、４００℃で２４時間の焼成を順次行うことによっ
て、Ａｇ担持量ＣＡがＣＡ＝２．２重量％の改質Ｈ型Ｚ
ＳＭ−５ゼオライトを得ることができる。
【００９８】例−IIの改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトお
よび未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトにそれぞれＡｇを
担持させたものと、Ａｇを担持させてない改質Ｈ型ＺＳ
Ｍ−５ゼオライトと、ＣｅＯ2 とを用い、例−IIと同様
の方法により各種ペレット状触媒を製造し、それら触媒
について例−IIと同様のＮＯ浄化テストを行った。
【００９９】表７は、各種触媒の組成、ＣｅＯ2 の平均
結晶子径Ｄおよび各温度におけるＮＯ浄化率を示す。
【０１００】
【表７】 表７より、触媒の例１〜３および例５は触媒の例４に比
べて各温度におけるＮＯ浄化率が高いことが判る。
【０１０１】図１４は、触媒の例１，２，５のガス温度
とＮＯ浄化率との関係を示す。例１，２は、Ａｇの担持
に伴いガス温度４００℃と５００℃の間で最大ＮＯ浄化
率を示し、一方、例５はガス温度の上昇に伴いＮＯ浄化
率が向上している。したがって例１，２と例５とを組合
せることによって、広いガス温度範囲においてＮＯ浄化
能を発揮する触媒を構成することができる。
【０１０２】図１５は、触媒の例１におけるガス温度と
ＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。比較のため、前
記触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 のＨＣおよびＮＯ浄化率も挙げ
てある。
【０１０３】図１５より、触媒の例１では広いガス温度
範囲においてＡｇ担持改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトに
よるＨＣの吸着、その部分酸化による活性ＣＨＯの生成
が行われており、その結果、ＮＯ浄化率が触媒Ｐｔ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 を用いた場合よりも増加することが判る。
【０１０４】〔例−VI〕排 気ガス浄化用触媒の一例は、平均結晶子径ＤがＤ＜５
００ÅでをあるＬａＣｏＯ3 と、例−Ｖと同様にＡｇを
担持したゼオライトとから構成される。ＬａＣｏＯ3 の
含有量Ｃは２０重量％≦Ｃ≦８０重量％に、またＡｇの
担持量ＣＡは例−Ｖと同様に１重量％≦ＣＡ≦１０重量
％にそれぞれ設定された。
【０１０５】また触媒の他例は、前記触媒におけるＬａ
ＣｏＯ3 に例−III と同様にＰｔを担持させたものであ
り、この場合Ｐｔの担持量ＣＡは例−III と同様に０．
０１重量％≦ＣＡ≦０．５重量％に設定された。
【０１０６】例−IIの改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトお
よび未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトにそれぞれＡｇを
担持させたものと、Ａｇを担持させてない改質Ｈ型ＺＳ
Ｍ−５ゼオライトと、ＬａＣｏＯ3 と、０．０３重量％
のＰｔを担持したＰｔ／ＬａＣｏＯ3 とを用い、例−II
と同様の方法により各種ペレット状触媒を製造し、それ
ら触媒について例−IIと同様のＮＯ浄化テストを行っ
た。
【０１０７】表８は、各種触媒の組成および各温度にお
けるＮＯ浄化率を示す。この場合、ＬａＣｏＯ3 の平均
結晶子径ＤはＤ＝４９０Åである。
【０１０８】
【表８】 表８より、Ａｇを担持した改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライ
トを用いた触媒の例１，２は、Ａｇを持たない触媒の例
４に比べて各温度におけるＮＯ浄化率が高いことが判
る。未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトにＡｇを担持させ
た触媒の例３は、その特性が例１，２に比べて劣る。
【０１０９】図１６は、触媒の例１〜４のガス温度とＮ
Ｏ浄化率との関係を示す。例１〜３は、Ａｇの担持に伴
いガス温度４００℃と５００℃の間で最大ＮＯ浄化率を
示し、一方、例４はガス温度の上昇に伴いＮＯ浄化率が
向上している。したがって例１〜３と例４とを組合せる
ことによって、広いガス温度範囲においてＮＯ浄化能を
発揮する触媒を構成することができる。
【０１１０】図１７は、触媒の例１におけるＡｇ担持量
と最大ＮＯ浄化率との関係を示す。図１７から明らかな
ように、Ａｇの担持量ＣＡを１重量％≦ＣＡ≦１０重量
％に設定することによって、ＮＯ浄化能を向上させるこ
とができる。
【０１１１】図１８は、触媒の例１におけるガス温度と
ＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。比較のため、前
記触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 のＨＣおよびＮＯ浄化率も挙げ
てある。
【０１１２】図１８より、触媒の例１では広いガス温度
範囲においてＡｇ担持改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトに
よるＨＣの吸着、その部分酸化による活性ＣＨＯの生成
が行われており、その結果、ＮＯ浄化率が触媒Ｐｔ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 を用いた場合よりも増加することが判る。
【０１１３】〔例−VII 〕排 気ガス浄化用触媒の一例は、平均結晶子径ＤがＤ＜５
００ÅであるＣｅＯ2および同様の平均結晶子径Ｄを持
つＬａＣｏＯ3 の混合物と、例−Ｖと同様にＡｇを担持
したゼオライトとから構成される。混合物の含有量Ｃは
２０重量％≦Ｃ≦８０重量％に設定され、またＣｅＯ2
およびＬａＣｏＯ3 の含有量Ｃ1 ，Ｃ2はＣ1 ，Ｃ2 ≧
１０重量％に設定され、さらにＡｇの担持量ＣＡは例−
Ｖと同様に１重量％≦ＣＡ≦１０重量％に設定された。
【０１１４】また触媒の他例は、前記触媒におけるＬａ
ＣｏＯ3 に、例−III と同様にＰｔを担持させたもので
あり、この場合Ｐｔの担持量ＣＡは、例−III と同様に
０．０１重量％≦ＣＡ≦０．５重量％に設定された。
【０１１５】例−IIの改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトお
よび未改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトにそれぞれＡｇを
担持させたものと、Ａｇを担持させてない改質Ｈ型ＺＳ
Ｍ−５ゼオライトと、ＣｅＯ2 と、ＬａＣｏＯ3 と、
０．０３重量％のＰｔを担持したＰｔ／ＬａＣｏＯ3 と
を用い、例−IIと同様の方法により各種ペレット状触媒
を製造し、それら触媒について例−IIと同様のＮＯ浄化
テストを行った。
【０１１６】表９は、各種触媒の組成および各温度にお
けるＮＯ浄化率を示す。この場合、ＬａＣｏＯ3 の平均
結晶子径ＤはＤ＝４９０Åである。
【０１１７】
【表９】 図１９は、触媒の例１，２，５におけるガス温度とＮＯ
浄化率との関係を示す。表９，図１９より、触媒の例１
は触媒の例５に比べて、Ａｇの担持に伴いＮＯ浄化率が
向上することが判る。また触媒の例１，２を比較する
と、Ｐｔの担持に伴い最大ＮＯ浄化率が低温側へ移行す
る。
【０１１８】表９において、触媒の例２，３を比較する
と、ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤがＮＯ浄化率に影響を与
えていることが明らかであり、例３は未改質Ｈ型ＺＳＭ
−５ゼオライトを用いた例４よりも特性が低下する。
【０１１９】図２０は、触媒の例１におけるガス温度と
ＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示す。比較のため、前
記触媒Ｐｔ／Ａｌ2 Ｏ3 のＨＣおよびＮＯ浄化率も挙げ
てある。
【０１２０】図２０より、触媒の例１では広いガス温度
範囲においてＡｇ担持改質Ｈ型ＺＳＭ−５ゼオライトに
よるＨＣの吸着、その部分酸化による活性ＣＨＯの生成
が行われており、その結果、ＮＯ浄化率が触媒Ｐｔ／Ａ
ｌ2 Ｏ3 を用いた場合よりも増加することが判る。
【０１２１】〔例−VIII〕 Ａ．改質用元素を保有する改質ＣｅＯ2 の製造 Ｃｅ（ＮＯ3 ）3 およびＺｒ（ＮＯ3 ）4 を用い、前記
共沈法の適用下で、Ｚｒを保有する改質ＣｅＯ2 を製造
した。
【０１２２】またＣｅ（ＮＯ3 ）3 およびＺｒ（Ｎ
Ｏ3 ）4 を用い、前記共沈法の適用下で、Ｚｒを保有す
るＣｅＯ2 を製造し、次いでそのＣｅＯ2 を用い、また
Ｌａ（ＮＯ3 ）3 を用いて前記含浸法の適用下で、Ｚｒ
およびＬａを保有する改質ＣｅＯ 2 を製造した。
【０１２３】さらに、Ｌａ（ＮＯ3 ）3 およびＣｅＯ2
粉末を用い、前記含浸法の適用下で、Ｌａを保有する２
種の改質ＣｅＯ2 を製造した。
【０１２４】さらにまた、Ｃｅ（ＮＯ3 ）3 およびケイ
酸を用い、前記共沈法の適用下で、Ｓｉを保有する改質
ＣｅＯ2 を製造した。
【０１２５】比較のためＣｅ（ＮＯ3 ）3 およびＢａ
（ＮＯ3 ）2 を用い、前記共沈法の適用下で、Ｂａを保
有する改質ＣｅＯ2 を製造した。 Ｂ．改質ＺＳＭ−５ゼオライトの製造 （ａ） ＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比Ｍｒ＝３０の未改
質ＺＳＭ−５ゼオライト５００ｇを室温下の５Ｎ ＨＣ
ｌ溶液中に投入し、次いでそのＨＣｌ溶液を９０℃に昇
温し、その温度下で１２時間攪拌を行ってスラリー状物
を得た。 （ｂ） 冷却後、スラリー状物を濾過し、次いで濾液の
ｐＨがｐＨ≧４になるまで固形分を純水にて洗浄した。 （ｃ） 固形分に、大気中、１３０℃、５時間の条件で
乾燥処理を施し、次いで乾燥後の固形分に、大気中、４
００℃、１２時間の焼成処理を施して塊状の改質ＺＳＭ
−５ゼオライトを得た。 （ｄ） 塊状改質ＺＳＭ−５ゼオライトに粉砕処理を施
して粉末状改質ＺＳＭ−５ゼオライトを得た。この改質
ＺＳＭ−５ゼオライトのＳｉＯ2 ／Ａｌ2 Ｏ3 モル比Ｍ
ｒはＭｒ＝３９であり、したがって脱Ａｌが発生してい
ることが判る。また改質ＺＳＭ−５ゼオライトの耐熱温
度は１０００℃であった。 Ｃ．触媒の製造 改質ＣｅＯ2 １２０ｇ、改質ＺＳＭ−５ゼオライト６０
ｇ、２０％シリカゾル１００ｇおよび純水３６０ｇと、
アルミナボールとをポットに投入して、１２時間の湿式
粉砕を行ってスラリー状触媒を調製した。この場合、改
質ＣｅＯ2 含有量ＣはＣ≒６７重量％である。
【０１２６】このスラリー状触媒に直径２５．５mm、長
さ６０mm、４００セル／ｉｎ2 、６ミルのコージエライ
ト製ハニカム支持体を浸漬し、次いでそのハニカム支持
体をスラリー状触媒より取出して過剰分をエア噴射によ
り除去し、その後ハニカム支持体を１５０℃の加熱下に
１時間保持してスラリー状触媒を乾燥し、さらにハニカ
ム支持体に、電気炉を用いて大気中、４００℃、１２時
間の条件で焼成処理を施して、触媒をハニカム支持体に
保持させた。この場合、ハニカム支持体における触媒の
保持量は１５２ｇ／リットルであった。 Ｄ．排気ガス想定ＮＯ浄化テスト テスト用ガスとして、体積比率で、１０％ＣＯ2 、０．
０５％Ｈ2 、０．０８％Ｃ3 Ｈ6 、０．０８％ＮＯ、
０．１％ＣＯ、１０％Ｏ2 、１０％Ｈ2 Ｏおよび残部Ｎ
2 よりなるガスを調製した。
【０１２７】ＮＯ浄化テストは、触媒を保持するハニカ
ム支持体を固定床流通式反応装置に設置し、次いでその
装置内にテスト用ガスを空間速度Ｓ．Ｖ．＝５×１０4
ｈ-1で流通させ、またテスト用ガスの温度を所定の昇温
速度で５０℃宛上昇させると共にその温度下に保持す
る、つまり５０℃間隔の定常状態を現出させ、その温度
におけるＮＯ浄化率を測定することによって行われた。
【０１２８】表１０は、未使用触媒の例１〜７に関する
改質ＣｅＯ2 におけるＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄ、改質
用元素、改質ＣｅＯ2 における改質用元素の重量比率お
よび各測定温度におけるＮＯ浄化率を示す。表１０に
は、未改質のＣｅＯ2 を用い、改質ＣｅＯ2 を用いなか
った触媒の例８に関するデータも掲載されている。
【０１２９】
【表１０】 表１０より、触媒の例１〜５は、触媒の例６，７に比べ
て優れたＮＯ浄化率を有することが判る。また未使用状
態においては、Ｚｒ、またはＺｒおよびＬａを保有する
改質ＣｅＯ2 を用いた触媒の例１，２は未改質のＣｅＯ
2 を用いた触媒の例８に比べてＮＯ浄化率が高くなる
が、ＬａのみまたはＳｉのみを保有する改質ＣｅＯ2 を
用いた触媒の例３〜５は触媒の例８と略同等のＮＯ浄化
特性を示す。
【０１３０】次に、未使用触媒の例１〜５，８に、大気
中、７００℃、２０時間の熱劣化処理を施し、その後、
それら触媒の例１〜５，８を用いて前記と同一条件にて
ＮＯ浄化テストを行ったところ、表１１の結果を得た。
【０１３１】
【表１１】 表１１より、触媒の例１〜５は、熱劣化処理後におい
て、触媒の例８に比べＮＯ浄化率が大幅に高く、したが
って優れた耐熱劣化性を有することが判る。このＮＯ浄
化率の差は、改質ＣｅＯ2 と未改質のＣｅＯ2 との物性
差に起因する。なお、表１０，１１を比較すると、前記
熱劣化処理によりＣｅＯ2 の平均結晶子径Ｄが大きくな
ることが判る。
【０１３２】
【発明の効果】請求項１〜７記載の発明によれば、平均
結晶子径Ｄを前記のように特定されて窒素酸化物に対し
優れた吸着能を持つ改質ＣｅＯ2 を必須構成要素とし、
広い排気ガス温度範囲において窒素酸化物に対し浄化能
を発揮し得ると共に良好な耐熱劣化性を備えた排気ガス
浄化用触媒を提供することができる。
【０１３３】
【図面の簡単な説明】
【図１】酸化物系セラミックスの説明図である。
【図２】ＣｅＯ2 の平均結晶子径ＤとＮＯ吸着量との関
係を示すグラフである。
【図３】ガス温度とＮＯ吸着率との関係を示すグラフで
ある。
【図４】ＣｅＯ2 含有量と最大ＮＯ浄化率との関係を示
すグラフである。
【図５】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第１例の
グラフである。
【図６】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示
す第１例のグラフである。
【図７】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を示
す第２例のグラフである。
【図８】ＬａＣｏＯ3 含有量と最大ＮＯ浄化率との関係
を示すグラフである。
【図９】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第２例の
グラフである。
【図１０】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を
示す第３例のグラフである。
【図１１】触媒構成要素の含有量を示すグラフである。
【図１２】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第３例
のグラフである。
【図１３】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を
示す第４例のグラフである。
【図１４】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第４例
のグラフである。
【図１５】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を
示す第５例のグラフである。
【図１６】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第５例
のグラフである。
【図１７】Ａｇ担持量と最大ＮＯ浄化率との関係を示す
グラフである。
【図１８】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を
示す第６例のグラフである。
【図１９】ガス温度とＮＯ浄化率との関係を示す第６例
のグラフである。
【図２０】ガス温度とＨＣおよびＮＯ浄化率との関係を
示す第７例のグラフである。
【符号の説明】
１ 酸化物系セラミックス ２ 結晶子
フロントページの続き (72)発明者 藤澤 義和 埼玉県和光市中央１丁目４番１号 株式 会社本田技術研究所内 (56)参考文献 特開 平４−363143（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−271915（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−220394（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−208816（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−36094（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−338233（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−132231（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−177136（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−237382（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−202156（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−184930（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−236143（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−200251（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−271843（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−501355（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 29/00 B01D 53/56 B01D 53/81 B01D 53/94 B01J 20/06

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平均結晶子径ＤがＤ＜５００Åである改
    質ＣｅＯ2 とゼオライトとからなり、前記改質ＣｅＯ2
    は、ＣｅＯ2 にＺｒ、ＬａおよびＳｉから選択される少
    なくとも一種の改質用元素を保有させたものであって、
    その改質ＣｅＯ2 の含有量Ｃが１０重量％≦Ｃ≦８０重
    量％であることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
  2. 【請求項２】 前記改質用元素はＺｒである、請求項１
    記載の排気ガス浄化用触媒。
  3. 【請求項３】 前記改質用元素はＺｒおよびＬａであ
    る、請求項１記載の排気ガス浄化用触媒。
  4. 【請求項４】 前記改質用元素はＬａである、請求項１
    記載の排気ガス浄化用触媒。
  5. 【請求項５】 前記改質用元素はＳｉである、請求項１
    記載の排気ガス浄化用触媒。
  6. 【請求項６】 前記ゼオライトはＡｇを担持しており、
    そのＡｇの担持量ＣＡが１重量％≦ＣＡ≦１０重量％で
    ある、請求項１，２，３，４または５記載の排気ガス浄
    化用触媒。
  7. 【請求項７】 前記ゼオライトは、未改質ゼオライトに
    脱Ａｌ処理を施して得られた耐熱性改質ゼオライトであ
    る、請求項１，２，３，４，５または６記載の排気ガス
    浄化用触媒。
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