JP2003320256A - 排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置 - Google Patents
排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置Info
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- JP2003320256A JP2003320256A JP2002126680A JP2002126680A JP2003320256A JP 2003320256 A JP2003320256 A JP 2003320256A JP 2002126680 A JP2002126680 A JP 2002126680A JP 2002126680 A JP2002126680 A JP 2002126680A JP 2003320256 A JP2003320256 A JP 2003320256A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コールドＨＣに対する吸着効率に優れ、ＨＣ
浄化性能及びＮＯｘ浄化性能に優れた排気ガス浄化触媒
及びこれを用いた排気ガス浄化装置を提供すること。 【解決手段】 担体上にＨＣ吸着層及びこの層を多孔質
体を含むＨＣ透過触媒層で被覆して成る排気ガス浄化触
媒である。ＨＣ透過触媒層が、多孔体を当該ＨＣ透過触
媒層の総量に対して２０〜８０％の割合で含み、この多
孔体は平均細孔径がメソポア域である貫通孔を有する。
多孔体が４０〜２００Åに細孔径分布のピークを有す
る。多孔体としてメソポーラスシリカ、メソポーラスア
ルミノシリケート及びメソポーラスメタロシリケートな
どを用いる。内燃機関に接続された排気ガス通路の上流
側から三元触媒及び上記排気ガス浄化触媒を順次配設し
て成る排気ガス浄化装置である。
浄化性能及びＮＯｘ浄化性能に優れた排気ガス浄化触媒
及びこれを用いた排気ガス浄化装置を提供すること。 【解決手段】 担体上にＨＣ吸着層及びこの層を多孔質
体を含むＨＣ透過触媒層で被覆して成る排気ガス浄化触
媒である。ＨＣ透過触媒層が、多孔体を当該ＨＣ透過触
媒層の総量に対して２０〜８０％の割合で含み、この多
孔体は平均細孔径がメソポア域である貫通孔を有する。
多孔体が４０〜２００Åに細孔径分布のピークを有す
る。多孔体としてメソポーラスシリカ、メソポーラスア
ルミノシリケート及びメソポーラスメタロシリケートな
どを用いる。内燃機関に接続された排気ガス通路の上流
側から三元触媒及び上記排気ガス浄化触媒を順次配設し
て成る排気ガス浄化装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動車（ガソリ
ン、ディーゼル）、ボイラーなどの内燃機関から排出さ
れる排気ガス中の炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（Ｃ
Ｏ）及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化する排気ガス浄化
触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置に関する。
ン、ディーゼル）、ボイラーなどの内燃機関から排出さ
れる排気ガス中の炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（Ｃ
Ｏ）及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化する排気ガス浄化
触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、内燃機関のエンジン始動時の低温
域で大量に排出されるＨＣの浄化を目的に、ゼオライト
を用いたＨＣ吸着触媒が開発されている。かかるＨＣ吸
着触媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低
温域において大量に排出されるＨＣを一時的に吸着して
保持し、次に排気ガス温度が上昇することにより三元触
媒が活性化した時に、ＨＣを徐々に脱離して浄化するも
のである。このようなエンジン始動直後の低温時に排出
される排気ガス中のＨＣの低減を目的に、ＨＣを吸着材
を用いて一時的にＨＣを貯蔵し、三元触媒が活性化した
後に脱離させ、三元触媒で浄化する方法が検討されてい
る。
域で大量に排出されるＨＣの浄化を目的に、ゼオライト
を用いたＨＣ吸着触媒が開発されている。かかるＨＣ吸
着触媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低
温域において大量に排出されるＨＣを一時的に吸着して
保持し、次に排気ガス温度が上昇することにより三元触
媒が活性化した時に、ＨＣを徐々に脱離して浄化するも
のである。このようなエンジン始動直後の低温時に排出
される排気ガス中のＨＣの低減を目的に、ＨＣを吸着材
を用いて一時的にＨＣを貯蔵し、三元触媒が活性化した
後に脱離させ、三元触媒で浄化する方法が検討されてい
る。
【０００３】かかるＨＣ吸着材を用いた発明としては、
例えば、特開平２−５６２４７号公報には、ゼオライト
を主成分とする第１層の上に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴
金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄化用触媒
が提案されている。また、特開平６−７４０１９号公報
には、排気流路にバイパス流路を設け、エンジン始動直
後のコールド時に排出されるＨＣをバイパス流路に配置
したＨＣ吸着材に一旦吸着させ、その後流路を切り替
え、下流の三元触媒が活性化した後、排気ガスの一部を
ＨＣ吸着触媒に通じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元
触媒で浄化するシステムが提案されている。更に、特開
平６−１４２４５７号公報には、低温域で吸着したＨＣ
が脱離する際に、脱離ＨＣを含む排気ガスを熱交換器で
予熱し、三元触媒での浄化を促進するシステムが提案さ
れている。
例えば、特開平２−５６２４７号公報には、ゼオライト
を主成分とする第１層の上に、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴
金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄化用触媒
が提案されている。また、特開平６−７４０１９号公報
には、排気流路にバイパス流路を設け、エンジン始動直
後のコールド時に排出されるＨＣをバイパス流路に配置
したＨＣ吸着材に一旦吸着させ、その後流路を切り替
え、下流の三元触媒が活性化した後、排気ガスの一部を
ＨＣ吸着触媒に通じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元
触媒で浄化するシステムが提案されている。更に、特開
平６−１４２４５７号公報には、低温域で吸着したＨＣ
が脱離する際に、脱離ＨＣを含む排気ガスを熱交換器で
予熱し、三元触媒での浄化を促進するシステムが提案さ
れている。
【０００４】一方、近年、自動車の低燃費化の要請によ
り、酸素過剰の混合気で燃焼させる、いわゆるリーンバ
ーンエンジンが開発された。このリーンバーンエンジン
からの排気ガスは酸素過剰雰囲気であり、上記のような
三元触媒では十分に排気ガスを浄化することができな
い。そこで、このような酸素過剰下においてＮＯｘの還
元とＣＯ及びＨＣの酸化反応を同時に行う触媒（リーン
ＮＯｘ触媒）が各種提案されている。例えば、特開平１
０−５７７６３号公報には、触媒担体表面上にＨＣ吸着
層とＨＣ吸着層上に形成された触媒担持層とを具備した
窒素酸化物（ＮＯｘ）を効率的に浄化する触媒が提案さ
れている。かかる触媒では、ＨＣ吸着層上の触媒担持層
の厚さは、ＨＣ吸着層の厚さの等倍〜１／３程度が好ま
しいとされている。また、特開２０００−１２６６０３
号公報に提案されている触媒では、第１層（ゼオライト
層）と第２層（三元層）との総コート量重量比は、１：
０．３〜１：１．５が好ましいとされている。
り、酸素過剰の混合気で燃焼させる、いわゆるリーンバ
ーンエンジンが開発された。このリーンバーンエンジン
からの排気ガスは酸素過剰雰囲気であり、上記のような
三元触媒では十分に排気ガスを浄化することができな
い。そこで、このような酸素過剰下においてＮＯｘの還
元とＣＯ及びＨＣの酸化反応を同時に行う触媒（リーン
ＮＯｘ触媒）が各種提案されている。例えば、特開平１
０−５７７６３号公報には、触媒担体表面上にＨＣ吸着
層とＨＣ吸着層上に形成された触媒担持層とを具備した
窒素酸化物（ＮＯｘ）を効率的に浄化する触媒が提案さ
れている。かかる触媒では、ＨＣ吸着層上の触媒担持層
の厚さは、ＨＣ吸着層の厚さの等倍〜１／３程度が好ま
しいとされている。また、特開２０００−１２６６０３
号公報に提案されている触媒では、第１層（ゼオライト
層）と第２層（三元層）との総コート量重量比は、１：
０．３〜１：１．５が好ましいとされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記ゼ
オライト層に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒では、
内燃機関の始動直後の排気ガス低温域においてゼオライ
トに吸着されたＨＣが、排気ガス温度の上昇に伴い脱離
する際に、上層の三元触媒の活性が不十分であると脱離
ＨＣが未浄化のまま排出されるため、エミッションの低
減効果が十分に得られないという問題点がある。即ち、
ゼオライトに吸着されたＨＣが排気ガス温度の上昇に伴
い脱離するタイミングと、その脱離ＨＣを浄化するため
の三元触媒の活性化のタイミングとのマッチングが十分
に図れていることが有効なエミッション低減につなが
る。
オライト層に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒では、
内燃機関の始動直後の排気ガス低温域においてゼオライ
トに吸着されたＨＣが、排気ガス温度の上昇に伴い脱離
する際に、上層の三元触媒の活性が不十分であると脱離
ＨＣが未浄化のまま排出されるため、エミッションの低
減効果が十分に得られないという問題点がある。即ち、
ゼオライトに吸着されたＨＣが排気ガス温度の上昇に伴
い脱離するタイミングと、その脱離ＨＣを浄化するため
の三元触媒の活性化のタイミングとのマッチングが十分
に図れていることが有効なエミッション低減につなが
る。
【０００６】また、上記ＨＣ吸着材を用いたシステムで
は、高温ガスのバイパス法や三元触媒暖気のための熱交
換器を使用して、ＨＣの脱離遅延化や三元触媒の早期活
性化を図っているが、システム構成が煩雑化し、しかも
十分な効果が得られないため、コストが著しく向上す
る。従って、有効且つ安価なＨＣ脱離域と三元活性化域
とのマッチング技術が望まれている。
は、高温ガスのバイパス法や三元触媒暖気のための熱交
換器を使用して、ＨＣの脱離遅延化や三元触媒の早期活
性化を図っているが、システム構成が煩雑化し、しかも
十分な効果が得られないため、コストが著しく向上す
る。従って、有効且つ安価なＨＣ脱離域と三元活性化域
とのマッチング技術が望まれている。
【０００７】更に、特開平１０−５７７６３号公報や特
開２０００−１２６６０３号公報に開示されているよう
な触媒では、触媒担持層（三元層）の厚さ、総コート量
重量比における三元層の割合が、所定値より大きくなる
と、下層であるＨＣ吸着層（ゼオライト層等）へのガス
拡散性が悪くなり十分な吸着性能が得られず、結果的に
ＨＣやＮＯｘの浄化が充分に行われないという問題点が
ある。
開２０００−１２６６０３号公報に開示されているよう
な触媒では、触媒担持層（三元層）の厚さ、総コート量
重量比における三元層の割合が、所定値より大きくなる
と、下層であるＨＣ吸着層（ゼオライト層等）へのガス
拡散性が悪くなり十分な吸着性能が得られず、結果的に
ＨＣやＮＯｘの浄化が充分に行われないという問題点が
ある。
【０００８】本発明は、このような従来技術の有する課
題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、コールドＨＣに対する吸着効率に優れ、ＨＣ浄化性
能及びＮＯｘ浄化性能に優れた排気ガス浄化触媒及びこ
れを用いた排気ガス浄化装置を提供することにある。
題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、コールドＨＣに対する吸着効率に優れ、ＨＣ浄化性
能及びＮＯｘ浄化性能に優れた排気ガス浄化触媒及びこ
れを用いた排気ガス浄化装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ＨＣ吸着層上に排気
ガス成分の拡散性に優れたコート層を配設することによ
り、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成す
るに至った。
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ＨＣ吸着層上に排気
ガス成分の拡散性に優れたコート層を配設することによ
り、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【００１０】即ち、本発明の排気ガス浄化触媒は、担体
上にＨＣ吸着層及びこの層を多孔質体を含むＨＣ透過触
媒層で被覆して成る。
上にＨＣ吸着層及びこの層を多孔質体を含むＨＣ透過触
媒層で被覆して成る。
【００１１】また、本発明の排気ガス浄化装置は、内燃
機関に接続された排気ガス通路の上流側から三元触媒及
び上記排気ガス浄化触媒を順次配設して成る。
機関に接続された排気ガス通路の上流側から三元触媒及
び上記排気ガス浄化触媒を順次配設して成る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の排気ガス浄化触媒
について詳細に説明する。なお、本明細書において
「％」は、特記しない限り質量百分率を示す。
について詳細に説明する。なお、本明細書において
「％」は、特記しない限り質量百分率を示す。
【００１３】本発明の排気ガス浄化触媒は、ＨＣ吸着層
及び多孔体を含むＨＣ透過触媒層を順次被覆して成る。
ＨＣ吸着層上に、触媒成分層としてＨＣ透過触媒層を配
設することにより、触媒成分層に厚みがあってもＨＣ吸
着層へのＨＣの透過が阻害されない。また、ＨＣ吸着層
のコールドＨＣに対する吸着効率が向上し、ＨＣの浄化
効率が向上する。更に、ＨＣ透過触媒層に酸素過剰雰囲
気で使用されるリーンＮＯｘ触媒が含まれるときは、当
該ＨＣ透過触媒層に厚みがあっても、優れたＮＯｘ浄化
性能を発揮し得る。
及び多孔体を含むＨＣ透過触媒層を順次被覆して成る。
ＨＣ吸着層上に、触媒成分層としてＨＣ透過触媒層を配
設することにより、触媒成分層に厚みがあってもＨＣ吸
着層へのＨＣの透過が阻害されない。また、ＨＣ吸着層
のコールドＨＣに対する吸着効率が向上し、ＨＣの浄化
効率が向上する。更に、ＨＣ透過触媒層に酸素過剰雰囲
気で使用されるリーンＮＯｘ触媒が含まれるときは、当
該ＨＣ透過触媒層に厚みがあっても、優れたＮＯｘ浄化
性能を発揮し得る。
【００１４】具体的には、例えば、一体構造型触媒コー
ト層構成において、モノリス担体上に炭化水素（ＨＣ）
の吸着に有効なゼオライトを主成分とする第１層を設
け、この層上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白
金（Ｐｔ）又はロジウム（Ｒｈ）、及びこれらの任意の
組合せに係る貴金属を含むＨＣ透過触媒層を設けること
ができる。この場合は、モノリス担体上に配設したＨＣ
吸着層がゼオライトを主成分とし、また、その上に配設
したＨＣ透過触媒層が三元触媒成分を含むこととなる。
これより、ＨＣ吸着層はＨＣ透過触媒層に比べて暖気が
遅いため、吸着ＨＣを少しでも長く保持でき、これに対
してＨＣ透過触媒層は速やかに暖気され活性化されるた
め、ＨＣの吸着・脱離・浄化のバランスが良好になる。
ト層構成において、モノリス担体上に炭化水素（ＨＣ）
の吸着に有効なゼオライトを主成分とする第１層を設
け、この層上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白
金（Ｐｔ）又はロジウム（Ｒｈ）、及びこれらの任意の
組合せに係る貴金属を含むＨＣ透過触媒層を設けること
ができる。この場合は、モノリス担体上に配設したＨＣ
吸着層がゼオライトを主成分とし、また、その上に配設
したＨＣ透過触媒層が三元触媒成分を含むこととなる。
これより、ＨＣ吸着層はＨＣ透過触媒層に比べて暖気が
遅いため、吸着ＨＣを少しでも長く保持でき、これに対
してＨＣ透過触媒層は速やかに暖気され活性化されるた
め、ＨＣの吸着・脱離・浄化のバランスが良好になる。
【００１５】また、上記ＨＣ透過触媒層は、当該ＨＣ透
過触媒層の総量に対して２０〜８０％の割合で多孔体を
含み、この多孔体は平均細孔径がメソポア域にある貫通
孔を有することが好適である。これより、ＨＣ透過触媒
層におけるＨＣ等の排気ガス成分の透過拡散性が良好と
なり、ＨＣ吸着層上のコート層が厚い場合でも所望のＨ
Ｃ吸着量を確保できる。また、このような構成を有する
リーンＮＯｘ触媒とするときは、ＮＯｘ浄化性能を改善
できる。但し、上記多孔体の含有量が２０％未満では、
ＨＣの吸着効率の向上が見られなくなることがあり、８
０％を超えると、吸着ＨＣの保持を長くできなくなるこ
とがある。なお、上記メソポア域とは、多孔体の細孔径
分布のピークが４０〜２００Åにあることをいい、上記
貫通孔とは１つの孔が貫通する場合に限定されず、複数
個の孔が互いに連通している結果貫通する場合をも含
む。また、上記ＨＣ透過触媒層は、単一層に限定され
ず、複数層から構成されてもよいが、この場合は各層に
上記多孔体が含まれることがよい。更に、含有される多
孔体は、一種類に限定されず、複数種を混合して用いて
もよい。
過触媒層の総量に対して２０〜８０％の割合で多孔体を
含み、この多孔体は平均細孔径がメソポア域にある貫通
孔を有することが好適である。これより、ＨＣ透過触媒
層におけるＨＣ等の排気ガス成分の透過拡散性が良好と
なり、ＨＣ吸着層上のコート層が厚い場合でも所望のＨ
Ｃ吸着量を確保できる。また、このような構成を有する
リーンＮＯｘ触媒とするときは、ＮＯｘ浄化性能を改善
できる。但し、上記多孔体の含有量が２０％未満では、
ＨＣの吸着効率の向上が見られなくなることがあり、８
０％を超えると、吸着ＨＣの保持を長くできなくなるこ
とがある。なお、上記メソポア域とは、多孔体の細孔径
分布のピークが４０〜２００Åにあることをいい、上記
貫通孔とは１つの孔が貫通する場合に限定されず、複数
個の孔が互いに連通している結果貫通する場合をも含
む。また、上記ＨＣ透過触媒層は、単一層に限定され
ず、複数層から構成されてもよいが、この場合は各層に
上記多孔体が含まれることがよい。更に、含有される多
孔体は、一種類に限定されず、複数種を混合して用いて
もよい。
【００１６】また、上記多孔体は、４０〜２００Å（４
〜２０ｎｍ）に細孔径分布のピークを有することが好適
である。４０Å未満の平均細孔径では、ゼオライト細孔
などＨＣ吸着層への排気ガス成分の透過拡散が阻害され
易いとともに、シンタリングによる細孔閉塞が大きく影
響し易い。また、２００Åを超える平均細孔径では透過
拡散の効果が頭打ちとなり、孔径を大きくする効果に乏
しい。
〜２０ｎｍ）に細孔径分布のピークを有することが好適
である。４０Å未満の平均細孔径では、ゼオライト細孔
などＨＣ吸着層への排気ガス成分の透過拡散が阻害され
易いとともに、シンタリングによる細孔閉塞が大きく影
響し易い。また、２００Åを超える平均細孔径では透過
拡散の効果が頭打ちとなり、孔径を大きくする効果に乏
しい。
【００１７】更に、上記多孔体としては、例えば、メソ
ポーラスシリカ、メソポーラスアルミノシリケート又は
メソポーラスメタロシリケート（メソポーラスアルミノ
シリケートを除く）、及びこれらの任意の組合せに係る
ものを挙げることができる。これらをＨＣ透過触媒層
（ＨＣ吸着層上の各層）に含有させることで、良好なＨ
Ｃ透過性（例えば、ゼオライト層のＨＣ吸着効率向上）
を発揮させ得る。
ポーラスシリカ、メソポーラスアルミノシリケート又は
メソポーラスメタロシリケート（メソポーラスアルミノ
シリケートを除く）、及びこれらの任意の組合せに係る
ものを挙げることができる。これらをＨＣ透過触媒層
（ＨＣ吸着層上の各層）に含有させることで、良好なＨ
Ｃ透過性（例えば、ゼオライト層のＨＣ吸着効率向上）
を発揮させ得る。
【００１８】次に、本発明の排気ガス浄化装置について
詳細に説明する。本発明の排気ガス浄化装置は、内燃機
関の排気ガス通路の内燃機関側に三元触媒を配設し、こ
の下流側に上述の排気ガス浄化触媒を配設して成る。例
えば、図１に示すように、排気ガス通路上において、上
記排気ガス浄化触媒よりも上流側に三元触媒を配設する
装置が挙げられる。このとき、三元触媒としては、低温
活性に優れ、エンジン始動直後の低温時に排出されるＨ
Ｃ量を、該排気ガス浄化触媒が吸着するＨＣ量である８
０％以下まで浄化して、脱離ＨＣの浄化性能を向上させ
るものが望ましい。これより、コールド域でのＨＣの大
気中への流出を未然に防止できるので有効である。
詳細に説明する。本発明の排気ガス浄化装置は、内燃機
関の排気ガス通路の内燃機関側に三元触媒を配設し、こ
の下流側に上述の排気ガス浄化触媒を配設して成る。例
えば、図１に示すように、排気ガス通路上において、上
記排気ガス浄化触媒よりも上流側に三元触媒を配設する
装置が挙げられる。このとき、三元触媒としては、低温
活性に優れ、エンジン始動直後の低温時に排出されるＨ
Ｃ量を、該排気ガス浄化触媒が吸着するＨＣ量である８
０％以下まで浄化して、脱離ＨＣの浄化性能を向上させ
るものが望ましい。これより、コールド域でのＨＣの大
気中への流出を未然に防止できるので有効である。
【００１９】
【実施例】以下、本発明を、実施例及び比較例により更
に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、実施例１〜７及び比較例１で
は、排気ガス浄化触媒としてＨＣ吸着触媒を作製した。
また、実施例８〜１４及び比較例２では、排気ガス浄化
触媒として酸素過剰雰囲気下で使用するリーンＮＯｘ触
媒を作製した。
に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。なお、実施例１〜７及び比較例１で
は、排気ガス浄化触媒としてＨＣ吸着触媒を作製した。
また、実施例８〜１４及び比較例２では、排気ガス浄化
触媒として酸素過剰雰囲気下で使用するリーンＮＯｘ触
媒を作製した。
【００２０】（実施例１）βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓ
ｉ／２Ａｌ＝２５）５７６ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）７２０ｇ及び水５０４ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を
コージエライト質モノリス担体（１．３Ｌ、４００セ
ル、４ミル）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のス
ラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この時の塗布量として、焼成後に約１６０ｇ／Ｌに
なるまでコーティング作業を繰り返し、触媒Ａを得た。
ｉ／２Ａｌ＝２５）５７６ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）７２０ｇ及び水５０４ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を
コージエライト質モノリス担体（１．３Ｌ、４００セ
ル、４ミル）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のス
ラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この時の塗布量として、焼成後に約１６０ｇ／Ｌに
なるまでコーティング作業を繰り返し、触媒Ａを得た。
【００２１】Ｚｒ３％を含むアルミナ粉末に、メソポー
ラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピークをもち、貫通
孔を有するもの）を２２％となるように加え、攪拌混合
する。この混合粉末に硝酸ロジウム水溶液を含浸又は高
速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾操した後、４
００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ
担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ２
０）を得た。この粉末Ａ２０のＲｈ濃度は０．６３％で
あった。酸化セリウム９％、酸化ジルコニウム６．５
％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカ（細孔径：
５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するもの）を２
２％となるように加え、攪拌混合する。この混合粉末
に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速攪拌中
で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、４００℃で
１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持メソ
ポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ２０）
を得た。この粉末Ｂ２０のＰｔ濃度は１．０％であっ
た。酸化セリウム２５％担持ジルコニウム酸化物粉末
に、メソポーラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピーク
をもち、貫通孔を有するもの）を２２％となるように加
え、攪拌混合する。この混合粉末にジニトロジアミン白
金水溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２
４時間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６００℃
で１時間焼成し、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有ジル
コニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０）を得た。この粉末Ｃ
２０のＰｔ濃度は１．０％であった。酸化セリウム９
％、酸化ジルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末に、
メソポーラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピークをも
ち、貫通孔を有するもの）を２２％となるように加え、
攪拌混合する。ジニトロジアミンパラジウム水溶液を含
浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆し
た後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成
し、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉
末（粉末Ｄ２０）を得た。この粉末Ｄ２０のＰｄ濃度は
１．５％であった。酸化ジルコニウム２５％担持セリウ
ム酸化物粉末に、メソポーラスシリカ（細孔径：５．１
ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するもの）を２２％と
なるように加え、攪拌混合する。ジニトロジアミンパラ
ジウム水溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃
で２４時間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６０
０℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有
セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０）を得た。この粉末Ｅ
２０のＰｔ濃度は０．８％であった。
ラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピークをもち、貫通
孔を有するもの）を２２％となるように加え、攪拌混合
する。この混合粉末に硝酸ロジウム水溶液を含浸又は高
速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾操した後、４
００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ
担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ２
０）を得た。この粉末Ａ２０のＲｈ濃度は０．６３％で
あった。酸化セリウム９％、酸化ジルコニウム６．５
％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカ（細孔径：
５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するもの）を２
２％となるように加え、攪拌混合する。この混合粉末
に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速攪拌中
で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、４００℃で
１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持メソ
ポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ２０）
を得た。この粉末Ｂ２０のＰｔ濃度は１．０％であっ
た。酸化セリウム２５％担持ジルコニウム酸化物粉末
に、メソポーラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピーク
をもち、貫通孔を有するもの）を２２％となるように加
え、攪拌混合する。この混合粉末にジニトロジアミン白
金水溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２
４時間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６００℃
で１時間焼成し、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有ジル
コニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０）を得た。この粉末Ｃ
２０のＰｔ濃度は１．０％であった。酸化セリウム９
％、酸化ジルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末に、
メソポーラスシリカ（細孔径：５．１ｎｍにピークをも
ち、貫通孔を有するもの）を２２％となるように加え、
攪拌混合する。ジニトロジアミンパラジウム水溶液を含
浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆し
た後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成
し、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉
末（粉末Ｄ２０）を得た。この粉末Ｄ２０のＰｄ濃度は
１．５％であった。酸化ジルコニウム２５％担持セリウ
ム酸化物粉末に、メソポーラスシリカ（細孔径：５．１
ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するもの）を２２％と
なるように加え、攪拌混合する。ジニトロジアミンパラ
ジウム水溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃
で２４時間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６０
０℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有
セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０）を得た。この粉末Ｅ
２０のＰｔ濃度は０．８％であった。
【００２２】上記パラジウム担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０）１０２２．４ｇ、
Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉末
（粉末Ｅ２０）３４５．６ｇ、３．３％ベーマイトアル
ミナ水溶液２１６０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
粉砕して平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒Ａに付着させ、空気流にてセル内
の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時
間焼成し、コート層重量１８０ｇ／Ｌを形成し、触媒Ｂ
２０を得た。
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０）１０２２．４ｇ、
Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉末
（粉末Ｅ２０）３４５．６ｇ、３．３％ベーマイトアル
ミナ水溶液２１６０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
粉砕して平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒Ａに付着させ、空気流にてセル内
の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時
間焼成し、コート層重量１８０ｇ／Ｌを形成し、触媒Ｂ
２０を得た。
【００２３】Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
粉末（粉末Ａ２０）５５１ｇ、Ｐｔ担持メソポーラスシ
リカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ２０）５５１ｇ、
Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉
末（粉末Ｃ２０）５５１ｇ、５％ベーマイトアルミナ水
溶液１９４７ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕し
て平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒Ｂ２０に付着させ、空気流にてセル内の
余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間
焼成し、コート層重量１２０ｇ／Ｌを塗布し、触媒Ｃ２
０を得た。
粉末（粉末Ａ２０）５５１ｇ、Ｐｔ担持メソポーラスシ
リカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ２０）５５１ｇ、
Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉
末（粉末Ｃ２０）５５１ｇ、５％ベーマイトアルミナ水
溶液１９４７ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕し
て平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒Ｂ２０に付着させ、空気流にてセル内の
余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間
焼成し、コート層重量１２０ｇ／Ｌを塗布し、触媒Ｃ２
０を得た。
【００２４】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ２０）に酢酸バリウム溶液を付
着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１
０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体（触媒Ｃ２０）に酢酸バリウム溶液を付
着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１
０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００２５】（実施例２）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を４３％とした以外は、実施例１と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ａ４０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ４０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ４
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ４０）、及びＰｄ担持メソポーラスシリカ
含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ４０）を得た。更に、
粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ４０及び粉
末Ｅ４０を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ｂ４０を得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ４０、粉末Ｂ
４０及び粉末Ｃ４０を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｃ４０を得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を４３％とした以外は、実施例１と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ａ４０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ４０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ４
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ４０）、及びＰｄ担持メソポーラスシリカ
含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ４０）を得た。更に、
粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ４０及び粉
末Ｅ４０を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ｂ４０を得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ４０、粉末Ｂ
４０及び粉末Ｃ４０を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｃ４０を得た。
【００２６】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ４０）に酢酸バリウム溶液を付
着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして
１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体（触媒Ｃ４０）に酢酸バリウム溶液を付
着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして
１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００２７】（実施例３）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を６３％とした以外は、実施例１と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ａ６０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ６０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ６
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ６０）、及びＰｄ担持メソポーラスシリカ
含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ６０）を得た。更に、
粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ６０及び粉
末Ｅ６０を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ｂ６０を得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ６０、粉末Ｂ
６０及び粉末Ｃ６０を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｃ６０を得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を６３％とした以外は、実施例１と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ａ６０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ６０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ６
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ６０）、及びＰｄ担持メソポーラスシリカ
含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ６０）を得た。更に、
粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ６０及び粉
末Ｅ６０を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ｂ６０を得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ６０、粉末Ｂ
６０及び粉末Ｃ６０を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｃ６０を得た。
【００２８】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ６０）に酢酸バリウム溶液を付
着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして
１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た
質モノリス担体（触媒Ｃ６０）に酢酸バリウム溶液を付
着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして
１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た
【００２９】（実施例４）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
４．０ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカ
を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、
Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ
２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｂ２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−
４）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ２０−４）、及びＰｄ担持メソポーラスシ
リカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０−４）を得
た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ
２０−４及び粉末Ｅ２０−４を用いた以外は、実施例１
と同様の操作を繰り返して、触媒Ｂ２０−４を得た。更
にまた、粉末Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わ
りに粉末Ａ２０−４、粉末Ｂ２０−４及び粉末Ｃ２０−
４を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｃ２０−４を得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
４．０ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカ
を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、
Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ
２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｂ２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−
４）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ２０−４）、及びＰｄ担持メソポーラスシ
リカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０−４）を得
た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ
２０−４及び粉末Ｅ２０−４を用いた以外は、実施例１
と同様の操作を繰り返して、触媒Ｂ２０−４を得た。更
にまた、粉末Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わ
りに粉末Ａ２０−４、粉末Ｂ２０−４及び粉末Ｃ２０−
４を用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｃ２０−４を得た。
【００３０】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−４）に酢酸バリウム溶液
を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯと
して１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−４）に酢酸バリウム溶液
を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯと
して１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
【００３１】（実施例５）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを１
３ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカを用
いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、Ｒｈ
担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０
−１３）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸
化物粉末（粉末Ｂ２０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−１
３）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ２０−１３）、及びＰｄ担持メソポーラス
シリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０−１３）を
得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末
Ｄ２０−１３及び粉末Ｅ２０−１３を用いた以外は、実
施例１と同様の操作を繰り返して、触媒Ｂ２０−１３を
得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２
０の代わりに粉末Ａ２０−１３、粉末Ｂ２０−１３及び
粉末Ｃ２０−１３を用いた以外は、実施例１と同様の操
作を繰り返して、触媒Ｃ２０−１３を得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを１
３ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカを用
いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、Ｒｈ
担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０
−１３）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸
化物粉末（粉末Ｂ２０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−１
３）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｄ２０−１３）、及びＰｄ担持メソポーラス
シリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ２０−１３）を
得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末
Ｄ２０−１３及び粉末Ｅ２０−１３を用いた以外は、実
施例１と同様の操作を繰り返して、触媒Ｂ２０−１３を
得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２
０の代わりに粉末Ａ２０−１３、粉末Ｂ２０−１３及び
粉末Ｃ２０−１３を用いた以外は、実施例１と同様の操
作を繰り返して、触媒Ｃ２０−１３を得た。
【００３２】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−１３）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−１３）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
【００３３】（実施例６）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の代わりにメソポーラスアルミノシリケート（細孔径の
ピークを５．９ｎｍに有し、貫通孔を有し、Ａｌ２Ｏ３
を１１％含有する）を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスアルミノシリ
ケート含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担
持メソポーラスアルミノシリケート含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｂ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担持メソポーラスアル
ミノシリケート含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２
０−ＡＬ）、Ｐｄ担持メソポーラスアルミノシリケート
含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０−ＡＬ）、及びＰ
ｄ担持メソポーラスアルミノシリケート含有セリウム酸
化物粉末（粉末Ｅ２０−ＡＬ）を得た。更に、粉末Ｄ２
０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ２０−ＡＬ及び粉末
Ｅ２０−ＡＬを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
繰り返して、触媒Ｂ２０−ＡＬを得た。更にまた、粉末
Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ２
０−ＡＬ、粉末Ｂ２０−ＡＬ及び粉末Ｃ２０−ＡＬを用
いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、触媒
Ｃ２０−ＡＬを得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の代わりにメソポーラスアルミノシリケート（細孔径の
ピークを５．９ｎｍに有し、貫通孔を有し、Ａｌ２Ｏ３
を１１％含有する）を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスアルミノシリ
ケート含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担
持メソポーラスアルミノシリケート含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｂ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担持メソポーラスアル
ミノシリケート含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２
０−ＡＬ）、Ｐｄ担持メソポーラスアルミノシリケート
含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０−ＡＬ）、及びＰ
ｄ担持メソポーラスアルミノシリケート含有セリウム酸
化物粉末（粉末Ｅ２０−ＡＬ）を得た。更に、粉末Ｄ２
０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ２０−ＡＬ及び粉末
Ｅ２０−ＡＬを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
繰り返して、触媒Ｂ２０−ＡＬを得た。更にまた、粉末
Ａ２０、粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ２
０−ＡＬ、粉末Ｂ２０−ＡＬ及び粉末Ｃ２０−ＡＬを用
いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、触媒
Ｃ２０−ＡＬを得た。
【００３４】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−ＡＬ）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−ＡＬ）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
【００３５】（実施例７）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の代わりにメソポーラスメタロシリケート（細孔径のピ
ークを４．４ｎｍに有し、貫通孔を有し、ＴｉＯ２を
３．１％含有する）を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスメタロシリケ
ート含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０−Ｔｉ）、Ｐｔ担持
メソポーラスメタロシリケート含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｂ２０−Ｔｉ）、Ｐｔ担持メソポーラスメタロシ
リケート含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−Ｔ
ｉ）、Ｐｄ担持メソポーラスメタロシリケート含有アル
ミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０−Ｔｉ）、及びＰｄ担持メ
ソポーラスメタロシリケート含有セリウム酸化物粉末
（粉末Ｅ２０−Ｔｉ）を得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉
末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ２０−Ｔｉ及び粉末Ｅ２０−
Ｔｉを用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｂ２０−Ｔｉを得た。更にまた、粉末Ａ２０、
粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ２０−Ｔ
ｉ、粉末Ｂ２０−Ｔｉ及び粉末Ｃ２０−Ｔｉを用いた以
外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、触媒Ｃ２０
−Ｔｉを得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の代わりにメソポーラスメタロシリケート（細孔径のピ
ークを４．４ｎｍに有し、貫通孔を有し、ＴｉＯ２を
３．１％含有する）を用いた以外は、実施例１と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスメタロシリケ
ート含有アルミナ粉末（粉末Ａ２０−Ｔｉ）、Ｐｔ担持
メソポーラスメタロシリケート含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｂ２０−Ｔｉ）、Ｐｔ担持メソポーラスメタロシ
リケート含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｃ２０−Ｔ
ｉ）、Ｐｄ担持メソポーラスメタロシリケート含有アル
ミナ酸化物粉末（粉末Ｄ２０−Ｔｉ）、及びＰｄ担持メ
ソポーラスメタロシリケート含有セリウム酸化物粉末
（粉末Ｅ２０−Ｔｉ）を得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉
末Ｅ２０の代わりに粉末Ｄ２０−Ｔｉ及び粉末Ｅ２０−
Ｔｉを用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｂ２０−Ｔｉを得た。更にまた、粉末Ａ２０、
粉末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ２０−Ｔ
ｉ、粉末Ｂ２０−Ｔｉ及び粉末Ｃ２０−Ｔｉを用いた以
外は、実施例１と同様の操作を繰り返して、触媒Ｃ２０
−Ｔｉを得た。
【００３６】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−ＴＩ）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
質モノリス担体（触媒Ｃ２０−ＴＩ）に酢酸バリウム溶
液を付着させたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得
た。
【００３７】（比較例１）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
を添加しなかった以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末Ａ）、Ｐｔ担持ア
ルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ）、Ｐｔ担持ジルコニウム酸
化物粉末（粉末Ｃ）、Ｐｄ担持アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｄ）、及びＰｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ）を
得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末
Ｄ及び粉末Ｅを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
繰り返して、触媒Ｂを得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ、粉末Ｂ及び
粉末Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返
して、触媒Ｃを得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
を添加しなかった以外は、実施例１と同様の操作を繰り
返して、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末Ａ）、Ｐｔ担持ア
ルミナ酸化物粉末（粉末Ｂ）、Ｐｔ担持ジルコニウム酸
化物粉末（粉末Ｃ）、Ｐｄ担持アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｄ）、及びＰｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末Ｅ）を
得た。更に、粉末Ｄ２０及び粉末Ｅ２０の代わりに粉末
Ｄ及び粉末Ｅを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
繰り返して、触媒Ｂを得た。更にまた、粉末Ａ２０、粉
末Ｂ２０及び粉末Ｃ２０の代わりに粉末Ａ、粉末Ｂ及び
粉末Ｃを用いた以外は、実施例１と同様の操作を繰り返
して、触媒Ｃを得た。
【００３８】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体（触媒Ｃ）に酢酸バリウム溶液を付着さ
せたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０
ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体（触媒Ｃ）に酢酸バリウム溶液を付着さ
せたあと、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０
ｇ／Ｌを含有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００３９】（実施例８）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、Ｚｒ３％を含むアル
ミナ粉末にメソポーラスシリカ（細孔径５．１ｎｍにピ
ークをもち、貫通孔を有するもの）を２２％になるよう
に加え攪拌混合する。この混合粉末に硝酸ロジウム水溶
液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間
乾操した後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１時
間焼成し、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉
末（粉末Ｆ２０）を得た。この粉末Ｆ２０のＲｈ濃度は
１．３４％であつた。酸化セリウム３％、酸化ジルコニ
ウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカ
（細孔径５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するも
の）を２２％になるように加え攪拌混合する。この混合
粉末にジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速攪拌
中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、４００℃
で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持メ
ソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ２
０）を得た。この粉末Ｇ−２０のＰｔ濃度は１．７％で
あった。酸化ジルコニウム２５％担持セリウム酸化物粉
末にメソポーラスシリカ（細孔径５．１ｎｍにピークを
もち、貫通孔を有するもの）を２２％になるように加え
攪拌混合する。この混合粉末にジニトロジアミン白金水
溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時
間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１
時間焼成し、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有セリウム
酸化物粉末（粉末Ｈ２０）を得た。この粉末Ｈ−２０の
Ｐｔ濃度は２．１％であった。酸化セリウム３％、酸化
ジルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラ
スシリカ（細孔径５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を
有するもの）を２２％になるように加え攪拌混合する。
この混合粉末にジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は
高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、
４００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐ
ｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｉ２０）を得た。この粉末Ｉ２０のＰｔ濃度は０．６
５％であった。
返して、触媒Ａを調製した。また、Ｚｒ３％を含むアル
ミナ粉末にメソポーラスシリカ（細孔径５．１ｎｍにピ
ークをもち、貫通孔を有するもの）を２２％になるよう
に加え攪拌混合する。この混合粉末に硝酸ロジウム水溶
液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間
乾操した後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１時
間焼成し、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉
末（粉末Ｆ２０）を得た。この粉末Ｆ２０のＲｈ濃度は
１．３４％であつた。酸化セリウム３％、酸化ジルコニ
ウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカ
（細孔径５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を有するも
の）を２２％になるように加え攪拌混合する。この混合
粉末にジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は高速攪拌
中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、４００℃
で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｔ担持メ
ソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ２
０）を得た。この粉末Ｇ−２０のＰｔ濃度は１．７％で
あった。酸化ジルコニウム２５％担持セリウム酸化物粉
末にメソポーラスシリカ（細孔径５．１ｎｍにピークを
もち、貫通孔を有するもの）を２２％になるように加え
攪拌混合する。この混合粉末にジニトロジアミン白金水
溶液を含浸又は高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時
間乾爆した後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１
時間焼成し、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有セリウム
酸化物粉末（粉末Ｈ２０）を得た。この粉末Ｈ−２０の
Ｐｔ濃度は２．１％であった。酸化セリウム３％、酸化
ジルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラ
スシリカ（細孔径５．１ｎｍにピークをもち、貫通孔を
有するもの）を２２％になるように加え攪拌混合する。
この混合粉末にジニトロジアミン白金水溶液を含浸又は
高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾爆した後、
４００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐ
ｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｉ２０）を得た。この粉末Ｉ２０のＰｔ濃度は０．６
５％であった。
【００４０】上記Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アル
ミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０）１２１６ｇと、Ｐｔ担持
メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２
０）８０ｇ、酸化セリウム３％、酸化ジルコニウム６．
５％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカを２２％
混合した粉末１０４ｇ、１．８％ベーマイトアルミナ水
溶液２２００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕し
て平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒Ａに付着させ、空気流にてセル内の余剰
のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成
し、コート層重量１８０ｇ／Ｌを形成し、触媒Ｄ２０を
得た。
ミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０）１２１６ｇと、Ｐｔ担持
メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２
０）８０ｇ、酸化セリウム３％、酸化ジルコニウム６．
５％、担持アルミナ粉末にメソポーラスシリカを２２％
混合した粉末１０４ｇ、１．８％ベーマイトアルミナ水
溶液２２００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕し
て平均粒径３μのスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒Ａに付着させ、空気流にてセル内の余剰
のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成
し、コート層重量１８０ｇ／Ｌを形成し、触媒Ｄ２０を
得た。
【００４１】Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
粉末（粉末Ｆ２０）４２０ｇと、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ２０）６６０
ｇ、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉
末（粉末Ｈ２０）１２０ｇ、酸化セリウム３％、酸化ジ
ルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラス
シリカを２２％混合した粉末１０４ｇ、２．７％ベーマ
イトアルミナ水溶液２２２０ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕して平均粒径３μのスラリー液を得た。こ
のスラリー液を上記コート触媒Ｄ２０に付着させ、空気
流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４
００℃で１時間焼成し、コート層重量１２０ｇ／Ｌを塗
布し、触媒Ｅ２０を得た。
粉末（粉末Ｆ２０）４２０ｇと、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ２０）６６０
ｇ、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有セリウム酸化物粉
末（粉末Ｈ２０）１２０ｇ、酸化セリウム３％、酸化ジ
ルコニウム６．５％、担持アルミナ粉末にメソポーラス
シリカを２２％混合した粉末１０４ｇ、２．７％ベーマ
イトアルミナ水溶液２２２０ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕して平均粒径３μのスラリー液を得た。こ
のスラリー液を上記コート触媒Ｄ２０に付着させ、空気
流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４
００℃で１時間焼成し、コート層重量１２０ｇ／Ｌを塗
布し、触媒Ｅ２０を得た。
【００４２】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００４３】（実施例９）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を４３％とした以外は、実施例８と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ｆ４０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ４０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ４
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｉ４０）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりにＩ４０及び粉末Ｈ４０を用いた以
外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ４０
を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ
２０の代わりに粉末Ｆ４０、粉末Ｇ４０及び粉末Ｈ４０
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
触媒Ｅ４０を得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
の含有率を４３％とした以外は、実施例８と同様の操作
を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミ
ナ粉末（粉末Ｆ４０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含
有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ４０）、Ｐｔ担持メソポ
ーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ４
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｉ４０）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりにＩ４０及び粉末Ｈ４０を用いた以
外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ４０
を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ
２０の代わりに粉末Ｆ４０、粉末Ｇ４０及び粉末Ｈ４０
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
触媒Ｅ４０を得た。
【００４４】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００４５】（実施例１０）実施例１と同様の操作を繰
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの含有率を６３％とした以外は、実施例８と同様の操
作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アル
ミナ粉末（粉末Ｆ６０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ
含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ６０）、Ｐｔ担持メソ
ポーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ６
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｉ６０）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ６０及び粉末Ｈ６０を用い
た以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ
６０を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉
末Ｈ２０の代わりに粉末Ｆ６０、粉末Ｇ６０及び粉末Ｈ
６０を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｅ６０を得た。
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの含有率を６３％とした以外は、実施例８と同様の操
作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アル
ミナ粉末（粉末Ｆ６０）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ
含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ６０）、Ｐｔ担持メソ
ポーラスシリカ含有ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ６
０）、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物
粉末（粉末Ｉ６０）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ６０及び粉末Ｈ６０を用い
た以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ
６０を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉
末Ｈ２０の代わりに粉末Ｆ６０、粉末Ｇ６０及び粉末Ｈ
６０を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｅ６０を得た。
【００４６】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００４７】（実施例１１）実施例１と同様の操作を繰
り返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
４．０ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカ
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ｆ
２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｇ２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−４）、及
びＰｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｉ２０−４）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２０−４及び粉末Ｈ２０−
４を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｄ２０−４を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉
末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末Ｆ２０−４、粉
末Ｇ２０−４及び粉末Ｈ２０−４を用いた以外は、実施
例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｅ２０−４を得
た。
り返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
４．０ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカ
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
Ｒｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ｆ
２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｇ２０−４）、Ｐｔ担持メソポーラス
シリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−４）、及
びＰｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｉ２０−４）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末
Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２０−４及び粉末Ｈ２０−
４を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返し
て、触媒Ｄ２０−４を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉
末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末Ｆ２０−４、粉
末Ｇ２０−４及び粉末Ｈ２０−４を用いた以外は、実施
例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｅ２０−４を得
た。
【００４８】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００４９】（実施例１２）実施例１と同様の操作を繰
り返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
１３ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカを
用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、Ｒ
ｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２
０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｇ２０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラ
スシリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−１
３）、及びＰｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸
化物粉末（粉末Ｉ２０−１３）を得た。更に、粉末Ｉ２
０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２０−１３及び
粉末Ｈ２０−１３を用いた以外は、実施例８と同様の操
作を繰り返して、触媒Ｄ２０−１３を得た。更にまた、
粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末
Ｆ２０−１３、粉末Ｇ２０−１３及び粉末Ｈ２０−１３
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
触媒Ｅ２０−１３を得た。
り返して、触媒Ａを調製した。また、細孔径のピークを
１３ｎｍに有し、貫通孔を有するメソポーラスシリカを
用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、Ｒ
ｈ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２
０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ
酸化物粉末（粉末Ｇ２０−１３）、Ｐｔ担持メソポーラ
スシリカ含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−１
３）、及びＰｔ担持メソポーラスシリカ含有アルミナ酸
化物粉末（粉末Ｉ２０−１３）を得た。更に、粉末Ｉ２
０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２０−１３及び
粉末Ｈ２０−１３を用いた以外は、実施例８と同様の操
作を繰り返して、触媒Ｄ２０−１３を得た。更にまた、
粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末
Ｆ２０−１３、粉末Ｇ２０−１３及び粉末Ｈ２０−１３
を用いた以外は、実施例８と同様の操作を繰り返して、
触媒Ｅ２０−１３を得た。
【００５０】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００５１】（実施例１３）実施例１と同様の操作を繰
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの代わりにメソポーラスアルミノシリケート（細孔径
のピークを５．９ｎｍに有し、貫通孔を有し、Ａｌ２Ｏ
３を１１％含有する）を用いた以外は、実施例８と同様
の操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスアルミノシ
リケート含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２０−ＡＬ）、Ｐｔ
担持メソポーラスアルミノシリケート含有アルミナ酸化
物粉末（粉末Ｇ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担持メソポーラスア
ルミノシリケート含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０
−ＡＬ）、及びＰｔ担持メソポーラスアルミノシリケー
ト含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０−ＡＬ）を得
た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉
末Ｉ２０−ＡＬ及び粉末Ｈ２０−ＡＬを用いた以外は、
実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ２０−ＡＬ
を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ
２０の代わりに粉末Ｆ２０−ＡＬ、粉末Ｇ２０−ＡＬ及
び粉末Ｈ２０−ＡＬを用いた以外は、実施例８と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｅ２０−ＡＬを得た。
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの代わりにメソポーラスアルミノシリケート（細孔径
のピークを５．９ｎｍに有し、貫通孔を有し、Ａｌ２Ｏ
３を１１％含有する）を用いた以外は、実施例８と同様
の操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスアルミノシ
リケート含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２０−ＡＬ）、Ｐｔ
担持メソポーラスアルミノシリケート含有アルミナ酸化
物粉末（粉末Ｇ２０−ＡＬ）、Ｐｔ担持メソポーラスア
ルミノシリケート含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０
−ＡＬ）、及びＰｔ担持メソポーラスアルミノシリケー
ト含有アルミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０−ＡＬ）を得
た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉
末Ｉ２０−ＡＬ及び粉末Ｈ２０−ＡＬを用いた以外は、
実施例８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ２０−ＡＬ
を得た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ
２０の代わりに粉末Ｆ２０−ＡＬ、粉末Ｇ２０−ＡＬ及
び粉末Ｈ２０−ＡＬを用いた以外は、実施例８と同様の
操作を繰り返して、触媒Ｅ２０−ＡＬを得た。
【００５２】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００５３】（実施例１４）実施例１と同様の操作を繰
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの代わりにメソポーラスメタロシリケート（細孔径の
ピークを４．４ｎｍに有し、貫通孔を有し、ＴｉＯ２を
３．１％含有する）を用いた以外は、実施例８と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスメタロシリケ
ート含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２０−ＴＩ）、Ｐｔ担持
メソポーラスメタロシリケート含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｇ２０−ＴＩ）、Ｐｔ担持メソポーラスメタロシ
リケート含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−Ｔ
Ｉ）、及びＰｔ担持メソポーラスメタロシリケート含有
アルミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０−ＴＩ）を得た。更
に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２
０−ＴＩ及び粉末Ｈ２０−ＴＩを用いた以外は、実施例
８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ２０−ＴＩを得
た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０
の代わりに粉末Ｆ２０−ＴＩ、粉末Ｇ２０−ＴＩ及び粉
末Ｈ２０−ＴＩを用いた以外は、実施例８と同様の操作
を繰り返して、触媒Ｅ２０−ＴＩを得た。
り返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリ
カの代わりにメソポーラスメタロシリケート（細孔径の
ピークを４．４ｎｍに有し、貫通孔を有し、ＴｉＯ２を
３．１％含有する）を用いた以外は、実施例８と同様の
操作を繰り返して、Ｒｈ担持メソポーラスメタロシリケ
ート含有アルミナ粉末（粉末Ｆ２０−ＴＩ）、Ｐｔ担持
メソポーラスメタロシリケート含有アルミナ酸化物粉末
（粉末Ｇ２０−ＴＩ）、Ｐｔ担持メソポーラスメタロシ
リケート含有セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ２０−Ｔ
Ｉ）、及びＰｔ担持メソポーラスメタロシリケート含有
アルミナ酸化物粉末（粉末Ｉ２０−ＴＩ）を得た。更
に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の代わりに粉末Ｉ２
０−ＴＩ及び粉末Ｈ２０−ＴＩを用いた以外は、実施例
８と同様の操作を繰り返して、触媒Ｄ２０−ＴＩを得
た。更にまた、粉末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０
の代わりに粉末Ｆ２０−ＴＩ、粉末Ｇ２０−ＴＩ及び粉
末Ｈ２０−ＴＩを用いた以外は、実施例８と同様の操作
を繰り返して、触媒Ｅ２０−ＴＩを得た。
【００５４】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００５５】（比較例２）実施例１と同様の操作を繰り
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
を添加しなかった以外は、実施例８と同様の操作を繰り
返して、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末Ｆ）、Ｐｔ担持ア
ルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ）、Ｐｔ担持セリウム酸化物
粉末（粉末Ｈ）、及びＰｔ担持アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｉ）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の
代わりに粉末Ｉ及び粉末Ｈを用いた以外は、実施例８と
同様の操作を繰り返して、触媒Ｄを得た。更にまた、粉
末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末
Ｆ、粉末Ｇ及び粉末Ｈを用いた以外は、実施例８と同様
の操作を繰り返して、触媒Ｅを得た。
返して、触媒Ａを調製した。また、メソポーラスシリカ
を添加しなかった以外は、実施例８と同様の操作を繰り
返して、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末Ｆ）、Ｐｔ担持ア
ルミナ酸化物粉末（粉末Ｇ）、Ｐｔ担持セリウム酸化物
粉末（粉末Ｈ）、及びＰｔ担持アルミナ酸化物粉末（粉
末Ｉ）を得た。更に、粉末Ｉ２０及び粉末Ｈ２０粉末の
代わりに粉末Ｉ及び粉末Ｈを用いた以外は、実施例８と
同様の操作を繰り返して、触媒Ｄを得た。更にまた、粉
末Ｆ２０、粉末Ｇ２０及び粉末Ｈ２０の代わりに粉末
Ｆ、粉末Ｇ及び粉末Ｈを用いた以外は、実施例８と同様
の操作を繰り返して、触媒Ｅを得た。
【００５６】次いで、上記触媒成分担持コージエライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させたあと、
４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして３０ｇ／Ｌを含
有させて、排気ガス浄化触媒を得た。
【００５７】〔試験例〕上記実施例１〜１４及び比較例
１、２で得られた排気ガス浄化用触媒について、以下の
耐久条件により耐久評価試験を行なった。 ・エンジン排気量 ３０００ｃｃ ・燃料 ガソリン（国内無鉛レギュラー） ・触媒入口ガス温度 ６５０℃ ・耐久時間 ５０時間 なお、実施例１〜７及び比較例１の評価モードは、ＥＣ
Ｅモード（欧州で用いられている排ガステスト運転モー
ド）で実施した。 ・触媒容量 １．３Ｌ ・評価車両（図１） 日産自動車株式会社製 Ｖ型６気
筒３３００ｃｃエンジン
１、２で得られた排気ガス浄化用触媒について、以下の
耐久条件により耐久評価試験を行なった。 ・エンジン排気量 ３０００ｃｃ ・燃料 ガソリン（国内無鉛レギュラー） ・触媒入口ガス温度 ６５０℃ ・耐久時間 ５０時間 なお、実施例１〜７及び比較例１の評価モードは、ＥＣ
Ｅモード（欧州で用いられている排ガステスト運転モー
ド）で実施した。 ・触媒容量 １．３Ｌ ・評価車両（図１） 日産自動車株式会社製 Ｖ型６気
筒３３００ｃｃエンジン
【００５８】また、実施例８〜１４及び比較例２のＮＯ
ｘ浄化の評価は、台上で実施した。 ・触媒容量 １．３Ｌ ・評価エンジン 日産自動車株式会社製、直列４気筒２０００ｃｃエンジン 触媒入口温度３００℃とし、ＮＯｘの濃度を１００ｐｐｍ として、リーン時間４０秒、リッチ時間２秒を繰り返し、 供試触媒出口ＮＯｘ濃度を測定し下記式によりＮＯｘ浄化 率を求めた。 （リーン時Ａ／Ｆ＝１８．５、リッチ時Ａ／Ｆ＝１１．０） ・ＮＯｘ浄化率（％） ＝（入口ＮＯｘ濃度−出口ＮＯｘ濃度）×１００／入口ＮＯｘ濃度
ｘ浄化の評価は、台上で実施した。 ・触媒容量 １．３Ｌ ・評価エンジン 日産自動車株式会社製、直列４気筒２０００ｃｃエンジン 触媒入口温度３００℃とし、ＮＯｘの濃度を１００ｐｐｍ として、リーン時間４０秒、リッチ時間２秒を繰り返し、 供試触媒出口ＮＯｘ濃度を測定し下記式によりＮＯｘ浄化 率を求めた。 （リーン時Ａ／Ｆ＝１８．５、リッチ時Ａ／Ｆ＝１１．０） ・ＮＯｘ浄化率（％） ＝（入口ＮＯｘ濃度−出口ＮＯｘ濃度）×１００／入口ＮＯｘ濃度
【００５９】上記実施例１〜１４及び比較例１、２で得
られた触媒の第２層以降に加えたメソポーラスシリカを
表１に示す。
られた触媒の第２層以降に加えたメソポーラスシリカを
表１に示す。
【００６０】
【表１】
【００６１】実施例１〜７及び比較例１で得られた各排
気ガス浄化触媒の耐久後のＨＣ低減率（％）及び脱離Ｈ
Ｃ浄化量（ｇ）を表２に示す。但し、ＨＣ低減率は、０
〜４０秒区間での排出ＨＣ量のうちどれだけ吸着能によ
り低減できたかを示す。また、脱離ＨＣ浄化量は、上述
した吸着ＨＣを昇温・脱離時にどれだけ浄化できたかを
示す。
気ガス浄化触媒の耐久後のＨＣ低減率（％）及び脱離Ｈ
Ｃ浄化量（ｇ）を表２に示す。但し、ＨＣ低減率は、０
〜４０秒区間での排出ＨＣ量のうちどれだけ吸着能によ
り低減できたかを示す。また、脱離ＨＣ浄化量は、上述
した吸着ＨＣを昇温・脱離時にどれだけ浄化できたかを
示す。
【００６２】
【表２】
【００６３】また、実施例８〜１４及び比較例２で得ら
れた各排気ガス浄化触媒の耐久後のＮＯｘ浄化率を表３
に示す。
れた各排気ガス浄化触媒の耐久後のＮＯｘ浄化率を表３
に示す。
【００６４】
【表３】
【００６５】表２より、実施例１〜７で得られた排気ガ
ス浄化触媒は、本発明の好適範囲内であり、ＨＣ吸着触
媒として、比較例１で得られた排気ガス触媒に比べて、
ＨＣの低減率、脱離ＨＣ浄化量が優れていることがわか
る。また、表３より、実施例８〜１４で得られた排気ガ
ス浄化触媒は、本発明の好適範囲内であり、リーンＮＯ
ｘ触媒として、比較例２で得られた排気ガス触媒に比べ
て、ＮＯｘの浄化率が良好であることがわかる。
ス浄化触媒は、本発明の好適範囲内であり、ＨＣ吸着触
媒として、比較例１で得られた排気ガス触媒に比べて、
ＨＣの低減率、脱離ＨＣ浄化量が優れていることがわか
る。また、表３より、実施例８〜１４で得られた排気ガ
ス浄化触媒は、本発明の好適範囲内であり、リーンＮＯ
ｘ触媒として、比較例２で得られた排気ガス触媒に比べ
て、ＮＯｘの浄化率が良好であることがわかる。
【００６６】以上、本発明を好適実施例により、詳細に
説明したが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨の範囲内において、種々の変形が
可能である。例えば、本発明の排気ガス浄化触媒は、下
層（第１層）に触媒金属を含有したコート層とすること
もできる。また、本排気ガス浄化装置は、図１に示す装
置に限られるものではなく、エンジンごとに、三元触媒
の貴金属量とエンジンアウトエミッション低減状況を把
握することにより、適宜適切な貴金属量の三元触媒を選
ぶことができる。また、本発明の排気ガス浄化触媒は、
一体構造型担体に担持して用いることができ、かかる一
体構造型担体としては、耐熱性材料から成るモノリス担
体やメタル担体などを挙げることができる。特に、自動
車の排気ガス浄化装置においては、ハニカム状担体にコ
ートすることにより、触媒と排気ガスとの接触面積を大
きくでき、圧力損失も制御できるため、より有効とな
る。なお、このハニカム状担体としては、一般にセラミ
ック等のコージェライト質のものが多く用いられるが、
フェライト系ステンレス等の金属材料からなるハニカム
材料を用いることも可能であり、更には触媒成分粉末そ
のものをハニカム状に成形してもよい。
説明したが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨の範囲内において、種々の変形が
可能である。例えば、本発明の排気ガス浄化触媒は、下
層（第１層）に触媒金属を含有したコート層とすること
もできる。また、本排気ガス浄化装置は、図１に示す装
置に限られるものではなく、エンジンごとに、三元触媒
の貴金属量とエンジンアウトエミッション低減状況を把
握することにより、適宜適切な貴金属量の三元触媒を選
ぶことができる。また、本発明の排気ガス浄化触媒は、
一体構造型担体に担持して用いることができ、かかる一
体構造型担体としては、耐熱性材料から成るモノリス担
体やメタル担体などを挙げることができる。特に、自動
車の排気ガス浄化装置においては、ハニカム状担体にコ
ートすることにより、触媒と排気ガスとの接触面積を大
きくでき、圧力損失も制御できるため、より有効とな
る。なお、このハニカム状担体としては、一般にセラミ
ック等のコージェライト質のものが多く用いられるが、
フェライト系ステンレス等の金属材料からなるハニカム
材料を用いることも可能であり、更には触媒成分粉末そ
のものをハニカム状に成形してもよい。
【００６７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ＨＣ吸着層上に排気ガス成分の拡散性に優れたコート層
を配設することとしたため、コールドＨＣに対する吸着
効率に優れ、ＨＣ浄化性能及びＮＯｘ浄化性能に優れた
排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置を
提供することができる。
ＨＣ吸着層上に排気ガス成分の拡散性に優れたコート層
を配設することとしたため、コールドＨＣに対する吸着
効率に優れ、ＨＣ浄化性能及びＮＯｘ浄化性能に優れた
排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置を
提供することができる。
【図１】本発明の排気ガス浄化装置の一例を示す概略図
である。
である。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ０１Ｎ 3/24 Ｂ０１Ｄ 53/36 １０４Ａ
Ｆターム(参考） 3G091 AA02 AA12 AA17 AB01 AB03
AB05 AB10 BA03 BA14 BA15
GB03W GB05W GB06W GB07W
GB09Y GB10Y GB17X HA08
HA19
4D048 AA06 AA13 AA18 AB05 BA03X
BA06X BA07X BA08X BA10X
BA11X BA15X BA19X BA30X
BA31X BA33X BA41X BA42X
BB02 BB17 EA04
4G069 AA03 AA12 BA01A BA01B
BA02A BA02B BA05A BA05B
BA07A BA07B BA13B BB02A
BB02B BB04A BB04B BC13A
BC13B BC50A BC50B BC71A
BC71B BC72A BC72B BC75A
BC75B CA02 CA03 CA09
EA19 EB12Y EC14X EC14Y
EC15X EC15Y EC19 EC29
ED06 EE06 ZA19A ZA19B
ZA33A ZA33B ZA35A ZA35B
ZA37A ZA37B
Claims (5)
- 【請求項１】 担体上に設けたＨＣ吸着層が多孔体を含
むＨＣ透過触媒層に被覆されて成ることを特徴とする排
気ガス浄化触媒。 - 【請求項２】 上記ＨＣ透過触媒層が、多孔体を当該Ｈ
Ｃ透過触媒層の総量に対して２０〜８０％の割合で含
み、この多孔体は平均細孔径がメソポア域である貫通孔
を有することを特徴とする請求項１に記載の排気ガス浄
化触媒。 - 【請求項３】 上記多孔体が４０〜２００Åに細孔径分
布のピークを有することを特徴とする請求項１又は２に
記載の排気ガス浄化触媒。 - 【請求項４】 上記多孔体が、メソポーラスシリカ、メ
ソポーラスアルミノシリケート及びメソポーラスメタロ
シリケートから成る群より選ばれた少なくとも１種のも
のであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つ
の項に記載の排気ガス浄化触媒。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１つの項に記載
の排気ガス浄化触媒を用いた排気ガス浄化装置であっ
て、 内燃機関の排気ガス通路の内燃機関側に三元触媒を配設
し、この下流側に当該排気ガス浄化触媒を配設して成る
ことを特徴とする排気ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002126680A JP2003320256A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002126680A JP2003320256A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003320256A true JP2003320256A (ja) | 2003-11-11 |
Family
ID=29541021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002126680A Pending JP2003320256A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 排気ガス浄化触媒及びこれを用いた排気ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003320256A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200652A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Asahi Kasei Corp | 新規排ガス浄化用触媒 |
| JP2010000445A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Asahi Kasei Corp | リーンバーン自動車排ガス浄化用触媒 |
| GB2503243A (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-25 | Johnson Matthey Plc | Combined particulate filter and hydrocarbon trap |
| WO2018155432A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | メソポーラス触媒体及びそれを用いたガス処理装置 |
-
2002
- 2002-04-26 JP JP2002126680A patent/JP2003320256A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200652A (ja) * | 2007-02-22 | 2008-09-04 | Asahi Kasei Corp | 新規排ガス浄化用触媒 |
| JP2010000445A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Asahi Kasei Corp | リーンバーン自動車排ガス浄化用触媒 |
| GB2503243A (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-25 | Johnson Matthey Plc | Combined particulate filter and hydrocarbon trap |
| WO2018155432A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | メソポーラス触媒体及びそれを用いたガス処理装置 |
| JPWO2018155432A1 (ja) * | 2017-02-23 | 2019-12-12 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | メソポーラス触媒体及びそれを用いたガス処理装置 |
| TWI746806B (zh) * | 2017-02-23 | 2021-11-21 | 日商Ｎｂｃ紗網技術股份有限公司 | 中孔洞觸媒體、氣體處理裝置及中孔洞觸媒體之製造方法 |
| JP7082376B2 (ja) | 2017-02-23 | 2022-06-08 | 株式会社Ｎｂｃメッシュテック | メソポーラス触媒体及びそれを用いたガス処理装置 |
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