JPH0978121A - 真空精錬装置及びその運転方法 - Google Patents
真空精錬装置及びその運転方法Info
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- JPH0978121A JPH0978121A JP26216195A JP26216195A JPH0978121A JP H0978121 A JPH0978121 A JP H0978121A JP 26216195 A JP26216195 A JP 26216195A JP 26216195 A JP26216195 A JP 26216195A JP H0978121 A JPH0978121 A JP H0978121A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】脱ガス、脱炭等の真空精錬処理の効率を良くす
る。 【解決手段】排気ポンプを真空槽１０に接続する連結ダ
クト１５に排気遮断弁１７を設け、バイパス管２０によ
り真空槽１０をスターティング・エジェクターＳＥに直
接接続する。真空精錬処理の開始前に、排気遮断弁１７
を閉じた状態で、排気遮断弁１７よりも排気ポンプ側の
排気系のみを事前排気する。排気系が所定の真空度に達
した時、この排気系の排気と並行して、通常は停止する
スターティング・エジェクターＳＥを用い、バイパス管
２０を介して真空槽１０を直接排気する。この時、真空
精錬処理を開始する。真空槽１０が所定の真空度に達し
た時、均圧弁１９を開き、真空槽１０と排気系とを均圧
化する。しかる後、排気遮断弁１７を開き、連結ダクト
１５を介して真空槽１０と排気系とを同時に排気する。
る。 【解決手段】排気ポンプを真空槽１０に接続する連結ダ
クト１５に排気遮断弁１７を設け、バイパス管２０によ
り真空槽１０をスターティング・エジェクターＳＥに直
接接続する。真空精錬処理の開始前に、排気遮断弁１７
を閉じた状態で、排気遮断弁１７よりも排気ポンプ側の
排気系のみを事前排気する。排気系が所定の真空度に達
した時、この排気系の排気と並行して、通常は停止する
スターティング・エジェクターＳＥを用い、バイパス管
２０を介して真空槽１０を直接排気する。この時、真空
精錬処理を開始する。真空槽１０が所定の真空度に達し
た時、均圧弁１９を開き、真空槽１０と排気系とを均圧
化する。しかる後、排気遮断弁１７を開き、連結ダクト
１５を介して真空槽１０と排気系とを同時に排気する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は真空精錬装置及びそ
の運転方法に関し、例えば、溶鋼の脱ガス処理や合金添
加処理等の真空精錬を行う場合に適用して特に好適なも
のである。
の運転方法に関し、例えば、溶鋼の脱ガス処理や合金添
加処理等の真空精錬を行う場合に適用して特に好適なも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、溶鋼中の水素、酸素、窒素等のガ
ス成分や溶鋼中の炭素を除去する方法として、減圧下で
溶鋼を処理する真空精錬法が用いられている。また、そ
の真空精錬時に、溶鋼の成分調整のための合金添加処理
が行われるのが一般的である。
ス成分や溶鋼中の炭素を除去する方法として、減圧下で
溶鋼を処理する真空精錬法が用いられている。また、そ
の真空精錬時に、溶鋼の成分調整のための合金添加処理
が行われるのが一般的である。
【０００３】図９に、環流式真空脱ガス法又は循環脱ガ
ス法と呼ばれるＲＨ真空精錬法を実施するための従来の
装置を示す。
ス法と呼ばれるＲＨ真空精錬法を実施するための従来の
装置を示す。
【０００４】このＲＨ真空精錬法では、図示の如く、２
本の浸漬管１０ａ、１０ｂを備えた真空槽１０を用い、
この真空槽１０の２本の浸漬管１０ａ、１０ｂを取鍋１
１内の溶鋼１２に浸漬する。そして、真空槽１０の内部
を真空排気し、浸漬管１０ａ、１０ｂを介して真空槽１
０内を循環する溶鋼の脱ガスを行う。
本の浸漬管１０ａ、１０ｂを備えた真空槽１０を用い、
この真空槽１０の２本の浸漬管１０ａ、１０ｂを取鍋１
１内の溶鋼１２に浸漬する。そして、真空槽１０の内部
を真空排気し、浸漬管１０ａ、１０ｂを介して真空槽１
０内を循環する溶鋼の脱ガスを行う。
【０００５】真空槽１０は、ガスクーラー１４及び連結
ダクト１５を介して排気ポンプに接続している。排気ポ
ンプは、一般に、多段エジェクターを備えたスチーム・
エジェクター・ポンプで構成される。
ダクト１５を介して排気ポンプに接続している。排気ポ
ンプは、一般に、多段エジェクターを備えたスチーム・
エジェクター・ポンプで構成される。
【０００６】本例の場合には、連結ダクト１５が３段の
ブースター１Ｂ〜３Ｂを介してコンデンサー１Ｃに接続
され、コンデンサー１Ｃとコンデンサー２Ｃとの間に遮
断弁である吸入弁４ＥＶを介してエジェクター４Ｅが設
けられている。また、コンデンサー２Ｃとコンデンサー
３Ｃとの間には、並列に２本のエジェクター５ＥA 、５
ＥB が設けられ、エジェクター５ＥB に吸入弁５ＥＶB
が設けられている。エジェクター５ＥA には吸入弁が設
けられていない。更に、コンデンサー３Ｃとアフター・
コンデンサーＡＣ1 との間には、やはり並列に２本のエ
ジェクター６ＥA 、６ＥB が吸入弁６ＥＶA 、６ＥＶB
を夫々介して設けられている。更に、コンデンサー１Ｃ
とアフター・コンデンサーＡＣ2 との間に吸入弁ＳＥＶ
を介してスターティング・エジェクターＳＥが設けられ
ている。コンデンサー１Ｃ〜３Ｃ及びアフター・コンデ
ンサーＡＣ1 、ＡＣ2 で凝縮された水蒸気はシールタン
クＳＬＴに集められる。
ブースター１Ｂ〜３Ｂを介してコンデンサー１Ｃに接続
され、コンデンサー１Ｃとコンデンサー２Ｃとの間に遮
断弁である吸入弁４ＥＶを介してエジェクター４Ｅが設
けられている。また、コンデンサー２Ｃとコンデンサー
３Ｃとの間には、並列に２本のエジェクター５ＥA 、５
ＥB が設けられ、エジェクター５ＥB に吸入弁５ＥＶB
が設けられている。エジェクター５ＥA には吸入弁が設
けられていない。更に、コンデンサー３Ｃとアフター・
コンデンサーＡＣ1 との間には、やはり並列に２本のエ
ジェクター６ＥA 、６ＥB が吸入弁６ＥＶA 、６ＥＶB
を夫々介して設けられている。更に、コンデンサー１Ｃ
とアフター・コンデンサーＡＣ2 との間に吸入弁ＳＥＶ
を介してスターティング・エジェクターＳＥが設けられ
ている。コンデンサー１Ｃ〜３Ｃ及びアフター・コンデ
ンサーＡＣ1 、ＡＣ2 で凝縮された水蒸気はシールタン
クＳＬＴに集められる。
【０００７】次に、この真空精錬装置の運転方法を説明
する。
する。
【０００８】まず、真空槽１０の浸漬管１０ａ、１０ｂ
を溶鋼１２に浸漬した後、排気ポンプを駆動して、真空
槽１０の内部を排気する。この時、図示は省略したが、
浸漬管１０ａ、１０ｂの一方にアルゴンガスを導入し、
エアー・リフト・ポンプの原理によって溶鋼を吸い上げ
る。これにより、溶鋼は真空槽１０の内部に流入飛散
し、脱ガスされた後、他方の浸漬管から自重により排出
される。
を溶鋼１２に浸漬した後、排気ポンプを駆動して、真空
槽１０の内部を排気する。この時、図示は省略したが、
浸漬管１０ａ、１０ｂの一方にアルゴンガスを導入し、
エアー・リフト・ポンプの原理によって溶鋼を吸い上げ
る。これにより、溶鋼は真空槽１０の内部に流入飛散
し、脱ガスされた後、他方の浸漬管から自重により排出
される。
【０００９】排気ポンプの駆動方法は、図３（ｂ）に示
すように、大気圧７６０Torrから１８０Torrの間は、ス
ターティング・エジェクターＳＥとエジェクター６
ＥA 、６ＥB のみを作動させ、真空度が１８０Torrにな
った時に、吸入弁ＳＥＶを閉じてスターティング・エジ
ェクターＳＥを停止し、新たにエジェクター５ＥA 、５
ＥB を作動させる。そして、真空度が１１５Torrになっ
た時に、エジェクター４Ｅを作動させ、更に、真空度が
５５Torrになった時に、エジェクター５ＥB 、６ＥB を
停止し、ブースター３Ｂを作動させる。この時、エジェ
クター５ＥB の吸入弁５ＥＶB は閉じるが、エジェクタ
ー６ＥB の吸入弁６ＥＶB は開けたままとする。更に、
真空度が５Torrになった時に、ブースター２Ｂを作動さ
せ、真空度が２Torrになった時に、ブースター１Ｂを作
動させる。
すように、大気圧７６０Torrから１８０Torrの間は、ス
ターティング・エジェクターＳＥとエジェクター６
ＥA 、６ＥB のみを作動させ、真空度が１８０Torrにな
った時に、吸入弁ＳＥＶを閉じてスターティング・エジ
ェクターＳＥを停止し、新たにエジェクター５ＥA 、５
ＥB を作動させる。そして、真空度が１１５Torrになっ
た時に、エジェクター４Ｅを作動させ、更に、真空度が
５５Torrになった時に、エジェクター５ＥB 、６ＥB を
停止し、ブースター３Ｂを作動させる。この時、エジェ
クター５ＥB の吸入弁５ＥＶB は閉じるが、エジェクタ
ー６ＥB の吸入弁６ＥＶB は開けたままとする。更に、
真空度が５Torrになった時に、ブースター２Ｂを作動さ
せ、真空度が２Torrになった時に、ブースター１Ｂを作
動させる。
【００１０】以上に説明したのはＲＨ真空精錬法の場合
であるが、真空精錬法には、この他に、１本の浸漬管を
備えた真空槽を上下動させながら真空精錬を行うＤＨ真
空精錬法や、取鍋全体を真空槽の中に入れて真空精錬を
行う取鍋真空精錬法が良く知られている。これらの真空
精錬法でも、排気系は、上述した例とほぼ同様の構成で
ある。
であるが、真空精錬法には、この他に、１本の浸漬管を
備えた真空槽を上下動させながら真空精錬を行うＤＨ真
空精錬法や、取鍋全体を真空槽の中に入れて真空精錬を
行う取鍋真空精錬法が良く知られている。これらの真空
精錬法でも、排気系は、上述した例とほぼ同様の構成で
ある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上に説明したような
従来の真空精錬装置では、真空精錬の開始時に真空槽と
排気系とを同時に排気する構成であるため、真空槽内が
脱ガスや脱炭に特に有効な例えば１０Torr以下の真空度
に達するまでの時間が比較的長く、その結果、脱ガスや
脱炭の効率が悪かった。
従来の真空精錬装置では、真空精錬の開始時に真空槽と
排気系とを同時に排気する構成であるため、真空槽内が
脱ガスや脱炭に特に有効な例えば１０Torr以下の真空度
に達するまでの時間が比較的長く、その結果、脱ガスや
脱炭の効率が悪かった。
【００１２】そこで、本発明の目的は、真空槽内を比較
的短時間で所望の高真空にすることができて脱ガスや脱
炭の効率の良い真空精錬装置及びその運転方法を提供す
ることである。
的短時間で所望の高真空にすることができて脱ガスや脱
炭の効率の良い真空精錬装置及びその運転方法を提供す
ることである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
本発明の真空精錬装置は、真空槽と、多段エジェクター
を備えた排気ポンプと、前記排気ポンプを前記真空槽に
連結する連結ダクトと、前記連結ダクトと前記真空槽と
の間に設けられた第１の遮断弁と、前記排気ポンプの所
定のエジェクターを前記連結ダクト及び前記第１の遮断
弁を迂回して前記真空槽に連結する第１のバイパス管
と、前記第１のバイパス管に設けられた第２の遮断弁と
を有する。
本発明の真空精錬装置は、真空槽と、多段エジェクター
を備えた排気ポンプと、前記排気ポンプを前記真空槽に
連結する連結ダクトと、前記連結ダクトと前記真空槽と
の間に設けられた第１の遮断弁と、前記排気ポンプの所
定のエジェクターを前記連結ダクト及び前記第１の遮断
弁を迂回して前記真空槽に連結する第１のバイパス管
と、前記第１のバイパス管に設けられた第２の遮断弁と
を有する。
【００１４】本発明の一態様では、前記第１の遮断弁を
迂回して前記連結ダクトと前記真空槽とを互いに連結す
る第２のバイパス管と、前記第２のバイパス管に設けら
れた第３の遮断弁とを有する。
迂回して前記連結ダクトと前記真空槽とを互いに連結す
る第２のバイパス管と、前記第２のバイパス管に設けら
れた第３の遮断弁とを有する。
【００１５】また、本発明の真空精錬装置の運転方法
は、前記第１及び第２の遮断弁を閉じた状態で前記排気
ポンプを駆動して、前記第１の遮断弁よりも前記排気ポ
ンプ側の排気系を排気する第１の工程と、前記第２の遮
断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを並行して排
気する第２の工程と、前記第２の遮断弁を閉じ、前記第
１の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを同時
に排気する第３の工程とを有する。
は、前記第１及び第２の遮断弁を閉じた状態で前記排気
ポンプを駆動して、前記第１の遮断弁よりも前記排気ポ
ンプ側の排気系を排気する第１の工程と、前記第２の遮
断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを並行して排
気する第２の工程と、前記第２の遮断弁を閉じ、前記第
１の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを同時
に排気する第３の工程とを有する。
【００１６】本発明の一態様による真空精錬装置の運転
方法は、前記第１、第２及び第３の遮断弁を閉じた状態
で前記排気ポンプを駆動して、前記第１の遮断弁よりも
前記排気ポンプ側の排気系を排気する第１の工程と、前
記第２の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを
並行して排気する第２の工程と、前記第２の遮断弁を閉
じ、前記第３の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空
槽とを互いに均圧化する第３の工程と、前記第１の遮断
弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを同時に排気す
る第４の工程とを有する。
方法は、前記第１、第２及び第３の遮断弁を閉じた状態
で前記排気ポンプを駆動して、前記第１の遮断弁よりも
前記排気ポンプ側の排気系を排気する第１の工程と、前
記第２の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを
並行して排気する第２の工程と、前記第２の遮断弁を閉
じ、前記第３の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空
槽とを互いに均圧化する第３の工程と、前記第１の遮断
弁を開いて、前記排気系と前記真空槽とを同時に排気す
る第４の工程とを有する。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を好ましい実施の形
態に従って具体的に説明する。
態に従って具体的に説明する。
【００１８】図１に、本発明の第１の実施の形態による
真空精錬装置を示す。
真空精錬装置を示す。
【００１９】図１に示すように、この第１の実施の形態
においては、図９に示したと同様のＲＨ真空精錬法を実
施するための真空槽１０に接続されたガスクーラー１４
と連結ダクト１５との間に排気遮断弁ボックス１６が設
けられている。この排気遮断弁ボックス１６の中には排
気遮断弁１７が設けられ、この排気遮断弁１７により連
結ダクト１５が排気遮断弁ボックス１６の内部から遮断
されるようになっている。連結ダクト１５と排気遮断弁
ボックス１６の内部とは均圧用バイパス管１８で互いに
連絡しており、この均圧用バイパス管１８に遮断弁であ
る均圧弁１９が設けられている。
においては、図９に示したと同様のＲＨ真空精錬法を実
施するための真空槽１０に接続されたガスクーラー１４
と連結ダクト１５との間に排気遮断弁ボックス１６が設
けられている。この排気遮断弁ボックス１６の中には排
気遮断弁１７が設けられ、この排気遮断弁１７により連
結ダクト１５が排気遮断弁ボックス１６の内部から遮断
されるようになっている。連結ダクト１５と排気遮断弁
ボックス１６の内部とは均圧用バイパス管１８で互いに
連絡しており、この均圧用バイパス管１８に遮断弁であ
る均圧弁１９が設けられている。
【００２０】また、排気ポンプのスターティング・エジ
ェクターＳＥと排気遮断弁ボックス１６との間に排気用
バイパス管２０が設けられている。この排気用バイパス
管２０には、２か所に遮断弁である吸入弁ＳＥＶ2 、Ｓ
ＥＶ3 が設けられ、排気ポンプのコンデンサー１Ｃとス
ターティング・エジェクターＳＥとの間に遮断弁である
吸入弁ＳＥＶ1 が設けられている。
ェクターＳＥと排気遮断弁ボックス１６との間に排気用
バイパス管２０が設けられている。この排気用バイパス
管２０には、２か所に遮断弁である吸入弁ＳＥＶ2 、Ｓ
ＥＶ3 が設けられ、排気ポンプのコンデンサー１Ｃとス
ターティング・エジェクターＳＥとの間に遮断弁である
吸入弁ＳＥＶ1 が設けられている。
【００２１】更に、真空槽１０とガスクーラー１４との
間に、真空槽１０を大気圧に復圧するための復圧用エア
ーリーク弁１３が設けられている。また、真空槽１０に
は槽内真空計２１が設けられ、排気ポンプのブースター
１Ｂの直前の連結ダクト１５にはブースター前真空計２
２が設けられている。
間に、真空槽１０を大気圧に復圧するための復圧用エア
ーリーク弁１３が設けられている。また、真空槽１０に
は槽内真空計２１が設けられ、排気ポンプのブースター
１Ｂの直前の連結ダクト１５にはブースター前真空計２
２が設けられている。
【００２２】その他の構成は、図９に示した従来の装置
と同様であり、図９に示した装置と対応する部分には同
一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
と同様であり、図９に示した装置と対応する部分には同
一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００２３】次に、この第１の実施の形態による真空精
錬装置の運転方法を図２のフローチャートに従い説明す
る。また、図３（ａ）に、この第１の実施の形態による
真空精錬装置の運転時の排気ポンプ各部の駆動状態を、
図４に、主要工程の概略図を夫々示す。
錬装置の運転方法を図２のフローチャートに従い説明す
る。また、図３（ａ）に、この第１の実施の形態による
真空精錬装置の運転時の排気ポンプ各部の駆動状態を、
図４に、主要工程の概略図を夫々示す。
【００２４】まず、ステップＳ１において、真空槽１０
の浸漬管１０ａ、１０ｂを溶鋼１２に浸漬する。
の浸漬管１０ａ、１０ｂを溶鋼１２に浸漬する。
【００２５】次に、ステップＳ２において、真空精錬を
開始する前に、吸入弁ＳＥＶ1 、４ＥＶ、５ＥＶB 、６
ＥＶA 、６ＥＶB を夫々開にし、排気遮断弁１７、均圧
弁１９及び吸入弁ＳＥＶ2 、ＳＥＶ3 を夫々閉じた状態
で、スターティング・エジェクターＳＥ及びエジェクタ
ー６ＥA 、６ＥB を夫々作動させ、図４（ａ）に示すよ
うに、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系のみを
事前排気する。
開始する前に、吸入弁ＳＥＶ1 、４ＥＶ、５ＥＶB 、６
ＥＶA 、６ＥＶB を夫々開にし、排気遮断弁１７、均圧
弁１９及び吸入弁ＳＥＶ2 、ＳＥＶ3 を夫々閉じた状態
で、スターティング・エジェクターＳＥ及びエジェクタ
ー６ＥA 、６ＥB を夫々作動させ、図４（ａ）に示すよ
うに、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系のみを
事前排気する。
【００２６】次に、ステップＳ３において、ブースター
前真空計２２により、ブースター１Ｂの直前の真空度が
１８０Torrに達したか否かを検出し、１８０Torrに達し
た時点で、次のステップＳ４に進む。
前真空計２２により、ブースター１Ｂの直前の真空度が
１８０Torrに達したか否かを検出し、１８０Torrに達し
た時点で、次のステップＳ４に進む。
【００２７】ステップＳ４では、吸入弁ＳＥＶ1 を閉
じ、次いで、ステップＳ５において、吸入弁ＳＥＶ2 、
ＳＥＶ3 を夫々開にし、エジェクター５ＥA 、５ＥB を
夫々作動させる。これにより、図４（ｂ）に示すよう
に、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系と真空槽
１０とが並行して排気される。即ち、真空槽１０がスタ
ーティング・エジェクターＳＥにより排気用バイパス管
２０を介して排気され、一方、排気系がエジェクター５
ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB により連結ダクト１５を
介して排気される。そして、この時、真空精錬が開始さ
れ、溶鋼の脱ガス及び脱炭が行われる。
じ、次いで、ステップＳ５において、吸入弁ＳＥＶ2 、
ＳＥＶ3 を夫々開にし、エジェクター５ＥA 、５ＥB を
夫々作動させる。これにより、図４（ｂ）に示すよう
に、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系と真空槽
１０とが並行して排気される。即ち、真空槽１０がスタ
ーティング・エジェクターＳＥにより排気用バイパス管
２０を介して排気され、一方、排気系がエジェクター５
ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB により連結ダクト１５を
介して排気される。そして、この時、真空精錬が開始さ
れ、溶鋼の脱ガス及び脱炭が行われる。
【００２８】次に、ステップＳ６において、槽内真空計
２１により、真空槽１０内の真空度が１８０Torrに達し
たか否かを検出し、１８０Torrに達した時点で、次のス
テップＳ７に進む。
２１により、真空槽１０内の真空度が１８０Torrに達し
たか否かを検出し、１８０Torrに達した時点で、次のス
テップＳ７に進む。
【００２９】ステップＳ７では、吸入弁ＳＥＶ2 、ＳＥ
Ｖ3 を夫々閉じ、次いで、ステップＳ８において、均圧
弁１８を開にし、吸入弁４ＥＶを閉じて、図４（ｃ）に
示すように、真空槽１０と排気系との均圧処理を開始す
る。また、スターティング・エジェクターＳＥを停止す
る。
Ｖ3 を夫々閉じ、次いで、ステップＳ８において、均圧
弁１８を開にし、吸入弁４ＥＶを閉じて、図４（ｃ）に
示すように、真空槽１０と排気系との均圧処理を開始す
る。また、スターティング・エジェクターＳＥを停止す
る。
【００３０】次のステップＳ９では、真空槽１０と排気
系との圧力差が５０Torr以下になったか否かを検出し、
圧力差が５０Torr以下になった時点で、次のステップＳ
１０に進む。
系との圧力差が５０Torr以下になったか否かを検出し、
圧力差が５０Torr以下になった時点で、次のステップＳ
１０に進む。
【００３１】ステップＳ１０では、排気遮断弁１７を開
にし、次いで、ステップＳ１１において、吸入弁４ＥＶ
を開にし、エジェクター４Ｅを作動させる。これによ
り、真空槽１０と排気系とがエジェクター４Ｅ、５
ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB により連結ダクト１５を
介して同時に排気される。
にし、次いで、ステップＳ１１において、吸入弁４ＥＶ
を開にし、エジェクター４Ｅを作動させる。これによ
り、真空槽１０と排気系とがエジェクター４Ｅ、５
ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB により連結ダクト１５を
介して同時に排気される。
【００３２】以下は、ステップＳ１２において、従来と
ほぼ同様に真空精錬を続行し、真空度が５５Torrになっ
た時点で、エジェクター５ＥB 、６ＥB を停止し、ブー
スター３Ｂを作動させる。この時、エジェクター５ＥB
の吸入弁５ＥＶB は閉じるが、エジェクター６ＥB の吸
入弁６ＥＶB は開けたままとする。更に、真空度が５To
rrになった時点で、ブースター２Ｂを作動させ、真空度
が２Torrになった時に、ブースター１Ｂを作動させる。
ほぼ同様に真空精錬を続行し、真空度が５５Torrになっ
た時点で、エジェクター５ＥB 、６ＥB を停止し、ブー
スター３Ｂを作動させる。この時、エジェクター５ＥB
の吸入弁５ＥＶB は閉じるが、エジェクター６ＥB の吸
入弁６ＥＶB は開けたままとする。更に、真空度が５To
rrになった時点で、ブースター２Ｂを作動させ、真空度
が２Torrになった時に、ブースター１Ｂを作動させる。
【００３３】そして、ステップＳ１３では、真空精錬が
終了した時点で、均圧弁１８及び排気遮断弁１７を夫々
閉じ、排気系を真空保持した状態で処理を終了する。
終了した時点で、均圧弁１８及び排気遮断弁１７を夫々
閉じ、排気系を真空保持した状態で処理を終了する。
【００３４】従って、連続操業時の２回目以降の真空精
錬では、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系が或
る程度の減圧状態から排気を始められるので、排気の時
間を短縮することができる。
錬では、排気遮断弁１７より排気ポンプ側の排気系が或
る程度の減圧状態から排気を始められるので、排気の時
間を短縮することができる。
【００３５】図５に、上に説明した運転時の時間と真空
度との関係を示す。
度との関係を示す。
【００３６】まず、の段階では、真空精錬開始前に排
気系のみを事前排気する。そして、排気系の真空度が１
８０Torrに達した時点で、の段階に移り、真空精錬を
開始するとともに、排気系と真空槽とを並行して排気す
る。そして、真空槽の真空度が１８０Torrに達した時点
で、の段階に移り、排気系と真空槽とを均圧化する。
の時点で均圧化が達成された後は、排気系と真空槽と
を同時に排気しながら真空精錬を続行する。
気系のみを事前排気する。そして、排気系の真空度が１
８０Torrに達した時点で、の段階に移り、真空精錬を
開始するとともに、排気系と真空槽とを並行して排気す
る。そして、真空槽の真空度が１８０Torrに達した時点
で、の段階に移り、排気系と真空槽とを均圧化する。
の時点で均圧化が達成された後は、排気系と真空槽と
を同時に排気しながら真空精錬を続行する。
【００３７】図９において説明した従来の真空精錬装置
の運転時の排気ポンプ各部の駆動状態を図３（ｂ）に、
また、運転時間と真空度との関係を図５に併せて夫々示
すが、その従来のものと比較して、本発明の第１の実施
の形態による真空精錬装置及びその運転方法によれば、
排気ポンプ各部の駆動状態は殆ど変わっていないにもか
かわらず、例えば１０Torr以下の所望の真空度に達する
までの時間が大幅に短縮されていることが分かる。即
ち、真空槽内が所望の真空度に達するまでの時間は、排
気系のみを事前排気する段階から計っても大幅に短縮さ
れている。
の運転時の排気ポンプ各部の駆動状態を図３（ｂ）に、
また、運転時間と真空度との関係を図５に併せて夫々示
すが、その従来のものと比較して、本発明の第１の実施
の形態による真空精錬装置及びその運転方法によれば、
排気ポンプ各部の駆動状態は殆ど変わっていないにもか
かわらず、例えば１０Torr以下の所望の真空度に達する
までの時間が大幅に短縮されていることが分かる。即
ち、真空槽内が所望の真空度に達するまでの時間は、排
気系のみを事前排気する段階から計っても大幅に短縮さ
れている。
【００３８】図６に、真空精錬による溶鋼中の炭素濃度
の経時変化を示す。図６において、横軸は処理時間
（分）、縦軸は炭素濃度（ｐｐｍ）を夫々示す。この図
６から分かるように、○で示す本発明の第１の実施の形
態による真空精錬では、実線で示す従来の真空精錬に比
べて、炭素濃度が急激に低下し、且つ、より低いレベル
にまで達している。即ち、本発明の構成により、短時間
での極低炭素鋼の安定溶製の可能となることが分かる。
の経時変化を示す。図６において、横軸は処理時間
（分）、縦軸は炭素濃度（ｐｐｍ）を夫々示す。この図
６から分かるように、○で示す本発明の第１の実施の形
態による真空精錬では、実線で示す従来の真空精錬に比
べて、炭素濃度が急激に低下し、且つ、より低いレベル
にまで達している。即ち、本発明の構成により、短時間
での極低炭素鋼の安定溶製の可能となることが分かる。
【００３９】以上に説明した本発明の第１の実施の形態
によれば、主として連結ダクト１５からなる排気系と真
空槽１０との間に排気遮断弁１７を設け、且つ、排気用
バイパス管２０により排気ポンプのスターティング・エ
ジェクターＳＥと真空槽１０とを連結して真空槽１０を
直接排気可能としている。そして、真空精錬開始前に、
排気系のみを事前排気し、排気系が所定の真空度に達し
た時点で、通常は停止するスターティング・エジェクタ
ーＳＥにより真空槽１０を直接排気し、これにより、排
気系と真空槽１０とを並行して排気する。更に、真空槽
１０が所定の真空度に達した時点で、連結ダクト１５と
排気遮断弁ボックス１６との間に設けた均圧弁１９を介
し、排気系と真空槽１０とを均圧化する。しかる後、排
気遮断弁１７を開け、排気系と真空槽１０とを同時に排
気する。
によれば、主として連結ダクト１５からなる排気系と真
空槽１０との間に排気遮断弁１７を設け、且つ、排気用
バイパス管２０により排気ポンプのスターティング・エ
ジェクターＳＥと真空槽１０とを連結して真空槽１０を
直接排気可能としている。そして、真空精錬開始前に、
排気系のみを事前排気し、排気系が所定の真空度に達し
た時点で、通常は停止するスターティング・エジェクタ
ーＳＥにより真空槽１０を直接排気し、これにより、排
気系と真空槽１０とを並行して排気する。更に、真空槽
１０が所定の真空度に達した時点で、連結ダクト１５と
排気遮断弁ボックス１６との間に設けた均圧弁１９を介
し、排気系と真空槽１０とを均圧化する。しかる後、排
気遮断弁１７を開け、排気系と真空槽１０とを同時に排
気する。
【００４０】このような構成により、真空槽１０内を従
来よりも短時間で例えば１０Torr以下の所望の真空度に
することができ、脱ガス及び脱炭の効率を向上させるこ
とができて、例えば、短時間での極低炭素鋼の安定溶製
が可能となる。
来よりも短時間で例えば１０Torr以下の所望の真空度に
することができ、脱ガス及び脱炭の効率を向上させるこ
とができて、例えば、短時間での極低炭素鋼の安定溶製
が可能となる。
【００４１】また、以上に説明した本発明の第１の実施
の形態においては、１回目の真空精錬終了後に、遮断弁
１７から吸入弁４ＥＶまでの間の排気系を高真空下で密
閉することができる。更に、排気用バイパス管２０内の
吸入弁ＳＥＶ2 とＳＥＶ3 との間を密閉することができ
る。従って、２回目以降の真空精錬時に、遮断弁１７以
降の排気系及び真空槽１０内を排気する時間を短縮でき
るという利点がある。
の形態においては、１回目の真空精錬終了後に、遮断弁
１７から吸入弁４ＥＶまでの間の排気系を高真空下で密
閉することができる。更に、排気用バイパス管２０内の
吸入弁ＳＥＶ2 とＳＥＶ3 との間を密閉することができ
る。従って、２回目以降の真空精錬時に、遮断弁１７以
降の排気系及び真空槽１０内を排気する時間を短縮でき
るという利点がある。
【００４２】次に、図７及び図８を参照して、本発明の
第２の実施の形態による真空精錬装置及びその運転方法
説明する。
第２の実施の形態による真空精錬装置及びその運転方法
説明する。
【００４３】図７に示すように、この第２の実施の形態
による真空精錬装置は、均圧用バイパス管１８及び均圧
弁１９を設けていない以外は、図１で説明した第１の実
施の形態による真空精錬装置と実質的に同じ構成であ
る。従って、図１で説明した第１の実施の形態による真
空精錬装置と対応する部分には同一の符号を付してその
詳細な説明を省略する。
による真空精錬装置は、均圧用バイパス管１８及び均圧
弁１９を設けていない以外は、図１で説明した第１の実
施の形態による真空精錬装置と実質的に同じ構成であ
る。従って、図１で説明した第１の実施の形態による真
空精錬装置と対応する部分には同一の符号を付してその
詳細な説明を省略する。
【００４４】この第２の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法を、図８のフローチャートに従い説明する。
の運転方法を、図８のフローチャートに従い説明する。
【００４５】図８のフローチャートにおいて、ステップ
Ｓ１〜Ｓ７までは、図２で説明した第１の実施の形態に
よる運転方法のステップＳ１〜Ｓ７と同一であり、従っ
て、その詳細な説明を省略する。
Ｓ１〜Ｓ７までは、図２で説明した第１の実施の形態に
よる運転方法のステップＳ１〜Ｓ７と同一であり、従っ
て、その詳細な説明を省略する。
【００４６】この第２の実施の形態においては、均圧用
バイパス管及び均圧弁を設けていないため、排気系と真
空槽１０との均圧処理は不要となる。即ち、並行排気に
よって真空槽１０内の真空度が１８０Torrになった時点
で、吸入弁ＳＥＶ2 、ＳＥＶ3 を閉じる（ステップＳ
７）。
バイパス管及び均圧弁を設けていないため、排気系と真
空槽１０との均圧処理は不要となる。即ち、並行排気に
よって真空槽１０内の真空度が１８０Torrになった時点
で、吸入弁ＳＥＶ2 、ＳＥＶ3 を閉じる（ステップＳ
７）。
【００４７】次いで、スターティング・エジェクターＳ
Ｅを停止するとともに、排気遮断弁１７を開にし、エジ
ェクター４Ｅを作動させて、真空槽１０と排気系とをエ
ジェクター４Ｅ、５ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB によ
り連結ダクト１５を介して同時に排気する（ステップＳ
８′）。
Ｅを停止するとともに、排気遮断弁１７を開にし、エジ
ェクター４Ｅを作動させて、真空槽１０と排気系とをエ
ジェクター４Ｅ、５ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB によ
り連結ダクト１５を介して同時に排気する（ステップＳ
８′）。
【００４８】以下は、ステップＳ９′において、第１の
実施の形態と同様に真空精錬を続行し、次いで、ステッ
プＳ１０′において、真空精錬が終了した時点で、排気
遮断弁１７を閉じ、排気系を真空保持した状態で処理を
終了する。
実施の形態と同様に真空精錬を続行し、次いで、ステッ
プＳ１０′において、真空精錬が終了した時点で、排気
遮断弁１７を閉じ、排気系を真空保持した状態で処理を
終了する。
【００４９】この第２の実施の形態においては、排気系
と真空槽１０との差圧が大きな状態で排気遮断弁１７を
開くため、排気遮断弁１７として、大きな推力を持った
遮断弁装置が必要となる。従って、上述した第１の実施
の形態の場合と比較して、排気遮断弁１７の設備費は高
くなるが、均圧処理を行わない分、処理時間を短縮でき
る（例えば、２０秒程度）という利点がある。
と真空槽１０との差圧が大きな状態で排気遮断弁１７を
開くため、排気遮断弁１７として、大きな推力を持った
遮断弁装置が必要となる。従って、上述した第１の実施
の形態の場合と比較して、排気遮断弁１７の設備費は高
くなるが、均圧処理を行わない分、処理時間を短縮でき
る（例えば、２０秒程度）という利点がある。
【００５０】以上、本発明をＲＨ真空精錬法に適用した
例を説明したが、本発明は、ＤＨ真空精錬法や取鍋真空
精錬法の場合にも殆ど同様にして適用が可能である。
例を説明したが、本発明は、ＤＨ真空精錬法や取鍋真空
精錬法の場合にも殆ど同様にして適用が可能である。
【００５１】
【発明の効果】本発明によれば、真空槽を所望の真空度
にするまでの時間が従来よりも短縮し、従って、脱ガス
や脱炭等の真空精錬の効率及び能力が向上する。しか
も、排気ポンプ自体の運転方法は、大きく変更する必要
がない。
にするまでの時間が従来よりも短縮し、従って、脱ガス
や脱炭等の真空精錬の効率及び能力が向上する。しか
も、排気ポンプ自体の運転方法は、大きく変更する必要
がない。
【図１】本発明の第１の実施の形態による真空精錬装置
の構成を示す概略図である。
の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法を示すフローチャートである。
の運転方法を示すフローチャートである。
【図３】本発明の第１の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法及び従来の排気ポンプの運転パターンを示す
図である。
の運転方法及び従来の排気ポンプの運転パターンを示す
図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法における主要工程を示す概略図である。
の運転方法における主要工程を示す概略図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法及び従来の運転時間と真空度との関係を示す
グラフである。
の運転方法及び従来の運転時間と真空度との関係を示す
グラフである。
【図６】本発明及び従来の脱ガス処理における溶鋼中の
炭素濃度変化を示すグラフである。
炭素濃度変化を示すグラフである。
【図７】本発明の第２の実施の形態による真空精錬装置
の構成を示す概略図である。
の構成を示す概略図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態による真空精錬装置
の運転方法を示すフローチャートである。
の運転方法を示すフローチャートである。
【図９】従来の真空精錬装置の構成を示す概略図であ
る。
る。
１０ 真空槽 １１ 取鍋 １２ 溶鋼 １３ 復圧用エアーリーク弁 １４ ガスクーラー １５ 連結ダクト １６ 排気遮断弁ボックス １７ 排気遮断弁 １８ 均圧用バイパス管 １９ 均圧弁 ２０ 排気用バイパス管 ２１ 槽内真空計 ２２ ブースター前真空計 １Ｂ〜３Ｂ ブースター ４Ｅ、５ＥA 、５ＥB 、６ＥA 、６ＥB エジェクター ＳＥ スターティング・エジェクター ４ＥＶ、５ＥＶB 、６ＥＶA 、６ＥＶB 、ＳＥＶ1 〜Ｓ
ＥＶ3 吸入弁 １Ｃ〜３Ｃ コンデンサー ＡＣ1 、ＡＣ2 アフター・コンデンサー ＳＬＴ シールタンク
ＥＶ3 吸入弁 １Ｃ〜３Ｃ コンデンサー ＡＣ1 、ＡＣ2 アフター・コンデンサー ＳＬＴ シールタンク
Claims (4)
- 【請求項１】 真空槽と、 多段エジェクターを備えた排気ポンプと、 前記排気ポンプを前記真空槽に連結する連結ダクトと、 前記連結ダクトと前記真空槽との間に設けられた第１の
遮断弁と、 前記排気ポンプの所定のエジェクターを前記連結ダクト
及び前記第１の遮断弁を迂回して前記真空槽に連結する
第１のバイパス管と、 前記第１のバイパス管に設けられた第２の遮断弁とを有
することを特徴とする真空精錬装置。 - 【請求項２】 前記第１の遮断弁を迂回して前記連結ダ
クトと前記真空槽とを互いに連結する第２のバイパス管
と、前記第２のバイパス管に設けられた第３の遮断弁と
を有することを特徴とする請求項１に記載の真空精錬装
置。 - 【請求項３】 請求項１に記載した真空精錬装置の運転
方法において、 前記第１及び第２の遮断弁を閉じた状態で前記排気ポン
プを駆動して、前記第１の遮断弁よりも前記排気ポンプ
側の排気系を排気する第１の工程と、 前記第２の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽と
を並行して排気する第２の工程と、 前記第２の遮断弁を閉じ、前記第１の遮断弁を開いて、
前記排気系と前記真空槽とを同時に排気する第３の工程
とを有することを特徴とする真空精錬装置の運転方法。 - 【請求項４】 請求項２に記載した真空精錬装置の運転
方法において、 前記第１、第２及び第３の遮断弁を閉じた状態で前記排
気ポンプを駆動して、前記第１の遮断弁よりも前記排気
ポンプ側の排気系を排気する第１の工程と、 前記第２の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽と
を並行して排気する第２の工程と、 前記第２の遮断弁を閉じ、前記第３の遮断弁を開いて、
前記排気系と前記真空槽とを互いに均圧化する第３の工
程と、 前記第１の遮断弁を開いて、前記排気系と前記真空槽と
を同時に排気する第４の工程とを有することを特徴とす
る真空精錬装置の運転方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26216195A JP3376185B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 真空精錬装置及びその運転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26216195A JP3376185B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 真空精錬装置及びその運転方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0978121A true JPH0978121A (ja) | 1997-03-25 |
| JP3376185B2 JP3376185B2 (ja) | 2003-02-10 |
Family
ID=17371917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26216195A Expired - Lifetime JP3376185B2 (ja) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | 真空精錬装置及びその運転方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3376185B2 (ja) |
-
1995
- 1995-09-14 JP JP26216195A patent/JP3376185B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3376185B2 (ja) | 2003-02-10 |
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