JPH08283827A - 低真空度精錬炉用真空排気設備 - Google Patents

低真空度精錬炉用真空排気設備

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JPH08283827A
JPH08283827A JP8403395A JP8403395A JPH08283827A JP H08283827 A JPH08283827 A JP H08283827A JP 8403395 A JP8403395 A JP 8403395A JP 8403395 A JP8403395 A JP 8403395A JP H08283827 A JPH08283827 A JP H08283827A
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JP
Japan
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vacuum
dust
furnace
exhaust
refining
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Withdrawn
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JP8403395A
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English (en)
Inventor
Masaru Sadachika
優 貞近
Kensuke Shimomura
健介 下村
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空AOD炉等を用いる低真空度要求のプロ
セスに応じた、設備的に簡素で低コストですみ、ランニ
ングコストの安価な、しかもダスト処理も容易な真空排
気設備を提供することを目的とする。 【構成】 低真空度で真空精錬を行う精錬炉に、真空主
弁及びダスト捕集装置を介して接続する炉内を真空化す
るための真空排気設備において、前記ダスト捕集装置の
下流側に、排気ガス中のダストをドライで処理するため
の乾式集塵装置を設置すると共に、該集塵装置の下流側
に、1個又は2個の蒸気エジェクターと複数個の機械式
真空ポンプとからなる真空排気部を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空精錬を行う精錬炉
用真空排気設備、特に、真空AOD炉やVOB炉等の低
真空度の精錬炉に適した真空排気設備に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、溶鋼の清浄化や成分調整等の目
的で真空精錬が実施されるが、この過程で一般的に採用
されるDH法やRH法に基づく真空脱ガスプロセスで
は、かなりの高真空度(1Torr以下程度)が要求される
ため、脱ガスプロセスに接続する真空排気設備として
も、それに対応する規模のものが必要とされる。図3に
一般的な脱ガスプロセスにおける真空排気系統の構成例
を示す。
【0003】図3において、溶鋼精錬容器に接続する脱
ガス部21の排気ダクトの下流側には、ダストを捕集す
るダストキャッチャー22、多段のブースター23A,
23B,23C,多段のエジェクター24A,24B,
24Cを順次設置して構成した真空排気設備が設けられ
ている。炉内発生ガスは、この真空排気設備で吸引され
ることになり、そのため炉内は要求される高真空度(1
Torr以下、もしくは0.5Torr以下)領域に保たれる。
【0004】なお、図3において、25は第1番目のエ
ジェクター24Aの前に設けるブースターコンデンサ
ー、26A,26B,26Cは各エジェクター24A,
24B,24Cの後位にそれぞれ設けられるコンデンサ
ー、27は各コンデンサーから排出される冷却水を集め
るシールタンク、28は集水槽、29は集塵水処理装
置、30は冷却塔である。これらシールタンク27、集
水槽28、集塵水処理装置29及び冷却塔30のそれぞ
れ出側にはポンプが設けられている。また、各ブースタ
ー23とエジェクター24には駆動用の蒸気供給配管3
1が接続され、また、ダストキャッチャー22と各コン
デンサー26には冷却水供給配管32が接続されてい
る。なお、冷却水は循環使用されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この従来の真空排気設
備では高真空度が要求されるため、多段のブースター2
3A,23B,23C及びエジェクター24A,24
B,24Cが必要とされ、その結果、駆動用に多量の高
価な蒸気を使用し、この蒸気の凝縮冷却に多量の冷却水
が必要となる。また、ダストキャッチャー22を通過す
る未捕集のダストが必然的に冷却水に混入するため、通
常の循環水冷却装置に加えて、冷却水中のダスト処理を
行う汚泥水処理の関連装置も必要となり、設備投資規模
が大きく、ランニングコストが高くなる問題があった。
しかも、湿式のダスト処理であるため、ダストの性状次
第では、処理後の汚水・汚泥処理のために、さらなる環
境対策と処理設備が必要となる事態も考えられる。
【0006】しかしながら、本発明が対象とする真空A
OD炉或いはVOB炉等の低真空度の精錬炉用の排気系
統では、上記した高真空度は要求されず、低真空度(3
0〜100Torr程度)で十分であることから、そのまま
図3に示すような通常の排気系統を用いる必要はない。
【0007】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、真空AOD炉等を用いる低真空度要求のプロセス
に応じた、設備的に簡素で低コストですみ、ランニング
コストの安価な、しかもダスト処理も容易な真空排気設
備を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明に係る低真空度精錬炉用真空排気設備は、低真
空度で真空精錬を行う精錬炉に、真空主弁及びダスト捕
集装置を介して接続する炉内を真空化するための真空排
気設備において、前記ダスト捕集装置の下流側に、排気
ガス中のダストをドライで処理するための乾式集塵装置
を設置すると共に、該集塵装置の下流側に、1個又は2
個の蒸気エジェクターと複数個の機械式真空ポンプとか
らなる真空排気部を配置したことを特徴とする。また、
上記の設備において、真空主弁を挟んで、その上流側と
下流側を流量調節弁付きのバイパスダクトで連結し、炉
の真空精錬開始時の真空度を調節するように構成するこ
とが好ましい。
【0009】
【作用】AOD炉の如き低真空度の炉にて真空精錬を行
う場合に、まず、真空排気系の複数個の機械式真空ポン
プ(例えば、水封ポンプ)を使用することによって大気
圧〜200Torr程度までの真空度を達成し、次に、それ
以下の目標とする真空度までを、1個もしくは2個の蒸
気エジェクターを用いて達成する。
【0010】また、実際の真空処理時の真空排気装置自
体の負荷を軽減(装置容量の低減)させるために、真空
主弁の下流側の真空排気容積を、真空処理前から予め真
空排気(プレバキューム)してできるだけ減らす機能を
持たせることが望ましい。これにより真空排気系統の負
荷軽減と共に実際の真空排気時間の短縮にもなる。
【0011】更に、真空容器内の処理対象物内に含まれ
る化学成分の濃度と真空吸引速度次第で発生する、対象
物の突沸現象に対処するための、主ダクトの真空主弁を
挟んだ上流側と下流側の箇所を連絡するバイパスダクト
を配設し、このバイパスダクトに流量調節弁を設けて、
初期真空吸引速度を調整し、前記の突沸現象を回避する
機能をも持たせることが好ましい。
【0012】このように本発明においては、低真空度を
精錬炉を対象とし、真空排気系を、排ガス中のダストを
ドライで捕集する乾式集塵機と、最小限の蒸気エジェク
ターと機械式真空ポンプで構成する簡易な真空排気装置
で構成することとの組み合わせにより、小規模の蒸気供
給設備で事足り、また湿式ダスト処理設備が不要とな
る。
【0013】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
説明する。図1において、1はAOD炉等の低真空度で
操業することが可能な精錬炉、2は精錬炉からの排気ガ
ス中のダストを捕集するダストキャッチャー、3はそれ
に続く乾式集塵機、4は集塵機の後に設置される1個の
エジェクター、5は該エジェクター4の駆動に用いる蒸
気を処理するためのコンデンサー、6a,6b,6cは
コンデンサー5に続くラインに配置される3個の機械式
真空ポンプ、7はシールタンク、8は集水槽、9は冷却
塔である。
【0014】実際には上記した炉からダストキャッチャ
ー、集塵機及びその後の真空排気系統を構成する各機器
部材間は、適宜のダクトなどで連結接続されており、ま
た、エジェクター4には蒸気供給配管10が、ダストキ
ャッチャー2、コンデンサー5、各機械式真空ポンプ6
のそれぞれには冷却水供給配管11が接続されている。
更に、コンデンサー5及び各機械式真空ポンプ6a,6
b,6cの冷却水排出側は、シールタンク7に連結して
おり、また、ダストキャッチャー2の排出側は直接冷却
塔9に連絡している。なお、各機械式真空ポンプ6a,
6b,6cの後位は清浄化された排気ガスが排出される
ように排気ダクトに連結している。
【0015】真空精錬時において、真空排気部の真空ポ
ンプ6a,6b,6cを運転し、その後ある程度の真空
度に到達したら、蒸気エジェクター4を駆動させること
により、真空吸引作業を開始する。これにより精錬炉1
の出側に吸引されて排気ダクトを通った排気ガスは、開
状態の真空主弁を通ってダストキャッチャー2に送られ
そこでダストを捕集されるが、ここで未捕集のダストは
次の乾式集塵機3にてほぼ完全に捕集される。ダストを
除去された排気ガスは、エジェクター4、コンデンサー
5及び真空ポンプ6を経てポンプ出側の排気ダクトから
排出される。なお、ダストキャッチャー2、コンデンサ
ー5及び真空ポンプ6には冷却水供給配管11から冷却
水が送り込まれ、高温の排気ガスの冷却を行うが、コン
デンサー5及び真空ポンプ6から出る冷却水はシールタ
ンク7に集められてから集水槽8へ送られ、さらに冷却
塔9にて所望の温度に冷却されて、再び冷却水供給配管
11へ循環するようになっている。ダストキャッチャー
2からの冷却水は直接冷却塔9に送り込まれる。
【0016】また、真空処理時の真空排気装置の負荷を
軽減させるため、処理前に予めプレバキュームする場合
には、真空主弁を閉にした状態で真空ポンプ6の単独稼
働または真空ポンプとエジェクターを同時に稼働させて
事前に真空排気しておく。
【0017】更に、図2に示す如く、精錬炉1からの排
気ガスダクト12に設けた真空主弁13を挟んだ上流側
と下流側のダクト部分をバイパス配管14で直接連結
し、このバイパス配管14に流量調節弁15を設けてお
き、これら主弁と流量調節弁とを適切に関連させてコン
トロールすることにより、真空処理開始時における真空
吸引速度を突沸現象を生じない最適範囲内に調整する。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明の真空排気設
備によれば、低真空用の排気プロセスに最適なもので、
しかも、設備面及びランニングコスト(蒸気+電力コス
ト)面でも従来に比較して格段に安価であり、排ガスダ
スト処理もドライであるので簡易で済む利点がある。本
発明者等の実験によると、本発明を採用することによ
り、従来の図3タイプの全エジェクター方式に比し、設
備投資額で約30%の節減になり、ランニングコストで
も1/3になったことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る真空排気設備の1実施例を示すブ
ロック系統図。
【図2】本発明の真空主弁部分に設けたバイパス配管を
示す説明図。
【図3】従来の真空排気設備のブロック系統図。
【符号の説明】
1 低真空度の精錬炉 2 ダストキャッチャー 3 乾式集塵機 4 エジェクター 5 コンデンサー 6 機械式真空ポンプ 7 シールタンク 8 集水槽 9 冷却塔 10 蒸気供給配管 11 冷却水供給配管 12 排気ガスダクト 13 真空主弁 14 バイパス配管 15 流量調節弁

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 低真空度で真空精錬を行う精錬炉に、真
    空主弁及びダスト捕集装置を介して接続する炉内を真空
    化するための真空排気設備において、前記ダスト捕集装
    置の下流側に、排気ガス中のダストをドライで処理する
    ための乾式集塵装置を設置すると共に、該集塵装置の下
    流側に、1個又は2個の蒸気エジェクターと複数個の機
    械式真空ポンプとからなる真空排気部を配置したことを
    特徴とする低真空度精錬炉用真空排気設備。
  2. 【請求項2】 真空主弁を挟んで、その上流側と下流側
    を流量調節弁付きのバイパスダクトで連結し、炉の真空
    精錬開始時の真空度を調節するようにした請求項1記載
    の低真空度精錬炉用真空排気設備。
JP8403395A 1995-04-10 1995-04-10 低真空度精錬炉用真空排気設備 Withdrawn JPH08283827A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 20020702