JPH0973088A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPH0973088A JPH0973088A JP22952695A JP22952695A JPH0973088A JP H0973088 A JPH0973088 A JP H0973088A JP 22952695 A JP22952695 A JP 22952695A JP 22952695 A JP22952695 A JP 22952695A JP H0973088 A JPH0973088 A JP H0973088A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示素子における柱状スペーサの導入に
よってラビング処理において生じる配向の乱れを防止し
て、表示性能が低下することを防止する。 【解決手段】 液晶表示素子の液晶を挟持する２つの絶
縁基板間の隙間を確保する柱状スペーサの形状を、ラビ
ング布の毛足が当る部分が頂部となり、かつテーパを有
するような形状として、毛足が受ける抵抗を減ずる。
よってラビング処理において生じる配向の乱れを防止し
て、表示性能が低下することを防止する。 【解決手段】 液晶表示素子の液晶を挟持する２つの絶
縁基板間の隙間を確保する柱状スペーサの形状を、ラビ
ング布の毛足が当る部分が頂部となり、かつテーパを有
するような形状として、毛足が受ける抵抗を減ずる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関
し、特に、液晶表示素子において液晶を封止する２つの
基板間の距離を一定に保つ為に導入された柱状スペーサ
に関連する改良に関する。
し、特に、液晶表示素子において液晶を封止する２つの
基板間の距離を一定に保つ為に導入された柱状スペーサ
に関連する改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、一般的に用いられている液晶表示
素子は、電極を有する２枚のガラス基板を対向させて、
その２枚の基板の周囲が液晶封入口を除いて接着剤で固
定され、２枚の基板間に液晶が挟持され、液晶封入口が
封止剤で封止された構成となっている。この２枚の基板
間の距離を一定に保つためのスペーサとして粒径の均一
なプラスティックビーズ等を基板間に散在させている。
素子は、電極を有する２枚のガラス基板を対向させて、
その２枚の基板の周囲が液晶封入口を除いて接着剤で固
定され、２枚の基板間に液晶が挟持され、液晶封入口が
封止剤で封止された構成となっている。この２枚の基板
間の距離を一定に保つためのスペーサとして粒径の均一
なプラスティックビーズ等を基板間に散在させている。
【０００３】カラー表示用の液晶表示素子を構成する２
枚のガラス基板のうちの１枚に、ＲＧＢの着色層のつい
たカラーフィルタが形成してある。例えば、単純マトリ
クス駆動のカラー型ドットマトリクス液晶表示素子にお
いては、横（Ｙ）方向に帯状にパターニングされたＹ電
極を有するＹ基板と縦（Ｘ）方向に帯状にパターニング
されたＸ電極の下に着色層を有するＸ基板とを、Ｙ電極
とＸ電極がほぼ直交するように対向設置し、その間に液
晶組成物を挟持した構成を持っている。液晶表示素子の
表示方式としては、例えばＴＮ（Twisted Nematic ）
形、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic ）形、ＧＨ（Gues
t Host）形、あるいはＥＣＢ（Electrically Controlle
d Birefringence ）形や強誘電性液晶などが用いられ
る。封止剤としては、例えば熱または紫外線硬化型のア
クリル系またはエポキシ系の接着剤などが用いられる。
枚のガラス基板のうちの１枚に、ＲＧＢの着色層のつい
たカラーフィルタが形成してある。例えば、単純マトリ
クス駆動のカラー型ドットマトリクス液晶表示素子にお
いては、横（Ｙ）方向に帯状にパターニングされたＹ電
極を有するＹ基板と縦（Ｘ）方向に帯状にパターニング
されたＸ電極の下に着色層を有するＸ基板とを、Ｙ電極
とＸ電極がほぼ直交するように対向設置し、その間に液
晶組成物を挟持した構成を持っている。液晶表示素子の
表示方式としては、例えばＴＮ（Twisted Nematic ）
形、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic ）形、ＧＨ（Gues
t Host）形、あるいはＥＣＢ（Electrically Controlle
d Birefringence ）形や強誘電性液晶などが用いられ
る。封止剤としては、例えば熱または紫外線硬化型のア
クリル系またはエポキシ系の接着剤などが用いられる。
【０００４】また、カラー型アクティブマトリクス駆動
液晶表示素子においては、スイッチング素子、例えばア
モルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を半導体層とした薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）とそれに接続された画素電極と
信号線電極、ゲート電極が形成されたアクティブマトリ
クス基板であるＴＦＴアレイ基板とそれに対向設置され
た対向電極を有し、ＲＧＢカラーフィルタを対向基板上
に形成し、アクティブマトリクス基板上から対向基板へ
電圧を印加する電極転移材（トランスファー）として銀
ペースト等を画面周辺部に配置し、この電極転移材で２
枚の基板を電気的に接続し、この２枚の間に液晶組成物
を挟持した構成をしている。さらに、この２枚の基板の
両側に偏光板を挟持し、この偏光板光をカラー画像を表
示する際の表示シャッタとしている。
液晶表示素子においては、スイッチング素子、例えばア
モルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を半導体層とした薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）とそれに接続された画素電極と
信号線電極、ゲート電極が形成されたアクティブマトリ
クス基板であるＴＦＴアレイ基板とそれに対向設置され
た対向電極を有し、ＲＧＢカラーフィルタを対向基板上
に形成し、アクティブマトリクス基板上から対向基板へ
電圧を印加する電極転移材（トランスファー）として銀
ペースト等を画面周辺部に配置し、この電極転移材で２
枚の基板を電気的に接続し、この２枚の間に液晶組成物
を挟持した構成をしている。さらに、この２枚の基板の
両側に偏光板を挟持し、この偏光板光をカラー画像を表
示する際の表示シャッタとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これらの液晶表示素子
では、２枚の基板間に散在させたスペーサ周辺の液晶の
配向が乱れ、スペーサ周辺部から光が漏れコントラスト
が低下する傾向がある。また、スペーサを均一に分散さ
せることは困難であり、スペーサを基板上に散在させる
工程でスペーサが不均一に配置されると、表示不良を引
き起し、製品の歩留まりの低下を招く。
では、２枚の基板間に散在させたスペーサ周辺の液晶の
配向が乱れ、スペーサ周辺部から光が漏れコントラスト
が低下する傾向がある。また、スペーサを均一に分散さ
せることは困難であり、スペーサを基板上に散在させる
工程でスペーサが不均一に配置されると、表示不良を引
き起し、製品の歩留まりの低下を招く。
【０００６】その対策として、表示領域以外の位置にス
ペーサをカラーフィルタの着色層を重ねて形成したり、
フォトレジスト等で柱状のスペーサを形成することを、
例えば、特願平７−２１２１９２号によって提案した。
ペーサをカラーフィルタの着色層を重ねて形成したり、
フォトレジスト等で柱状のスペーサを形成することを、
例えば、特願平７−２１２１９２号によって提案した。
【０００７】ところが、その後、主に２つの改善すべき
点が見出された。それはラビングによる配向処理と、柱
状スペーサの機械的強度と、に関するものである。
点が見出された。それはラビングによる配向処理と、柱
状スペーサの機械的強度と、に関するものである。
【０００８】まず、柱状スペーサ形成後に配向膜を形成
し、配向膜全体にラビング布によって一方向に多数の微
細な溝を形成するラビング処理を行う場合、柱状スペー
サにラビング布が当る。柱状スペーサの形状が四角形や
丸形のためラビング布に比較的に大きなストレス（摩擦
抵抗）がかかり、ラビング布の毛足を曲げたり、ラビン
グ布の毛足を痛める。このような毛足に異常のあるラビ
ング布を引続き使用すると不均一なラビング処理を行う
ことになり、表示不良の原因となる。
し、配向膜全体にラビング布によって一方向に多数の微
細な溝を形成するラビング処理を行う場合、柱状スペー
サにラビング布が当る。柱状スペーサの形状が四角形や
丸形のためラビング布に比較的に大きなストレス（摩擦
抵抗）がかかり、ラビング布の毛足を曲げたり、ラビン
グ布の毛足を痛める。このような毛足に異常のあるラビ
ング布を引続き使用すると不均一なラビング処理を行う
ことになり、表示不良の原因となる。
【０００９】また、柱状スペーサによってラビング布の
毛足が一時的に曲げられることによって、ラビング布の
毛足が元に戻るまでの間に不均一な微細溝群が部分的に
形成され、柱状スペーサの近傍に部分的なラビング不良
が発生し、表示不良の原因となる。
毛足が一時的に曲げられることによって、ラビング布の
毛足が元に戻るまでの間に不均一な微細溝群が部分的に
形成され、柱状スペーサの近傍に部分的なラビング不良
が発生し、表示不良の原因となる。
【００１０】柱状スペーサは樹脂や感光性樹脂を用いて
基板に直接形成される。樹脂や感光性樹脂は高分子材料
であるため、硬度や付着力等の機械的強度が十分でな
く、スペーサの剥がれ、変形等が起こり易い。そのた
め、液晶表示装置の信頼性が低下するという不具合が生
じる。
基板に直接形成される。樹脂や感光性樹脂は高分子材料
であるため、硬度や付着力等の機械的強度が十分でな
く、スペーサの剥がれ、変形等が起こり易い。そのた
め、液晶表示装置の信頼性が低下するという不具合が生
じる。
【００１１】また、基板間距離が２μｍ程度と非常に狭
く、液晶を注入する際に柱状スペーサが液晶の流入の妨
げとなる。特に、強誘電性液晶では液晶の注入が困難に
なる。
く、液晶を注入する際に柱状スペーサが液晶の流入の妨
げとなる。特に、強誘電性液晶では液晶の注入が困難に
なる。
【００１２】よって、本発明は、柱状スペーサの導入に
よってラビング処理において生じる配向の乱れを防止し
て、表示性能が低下することを防止することを目的とす
る。
よってラビング処理において生じる配向の乱れを防止し
て、表示性能が低下することを防止することを目的とす
る。
【００１３】また、本発明は、樹脂等によって形成され
る柱状スペーサの機械的強度を確保することを他の目的
とする。
る柱状スペーサの機械的強度を確保することを他の目的
とする。
【００１４】また、本発明は、液晶表示素子への液晶の
注入を容易にした液晶表示素子を提供することを目的と
する。
注入を容易にした液晶表示素子を提供することを目的と
する。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、第１の発明の液晶表示素子は、一主面上に互いに交
差するように配列された複数の走査線及び複数の信号線
と、上記走査線及び上記信号線の交差部毎に形成され、
当該走査線及び信号線に接続された複数のスイッチング
素子と、複数のスイッチング素子に夫々接続される複数
の画素電極と、上記複数の画素電極上に形成されて表面
にラビング処理が施される第１の配向膜と、を有するア
クティブマトリクス基板と、共通電極と、格子状に形成
されてマトリクス状に配列された複数の画素領域を開口
する遮光層と、上記画素領域に配置され着色層よりなる
複数のカラーフィルタと、上記遮光層上に形成される柱
状突起をなす複数のスペーサと、これ等の上に形成され
て表面にラビング処理が施される第２の配向膜と、を一
主面上に有する対向基板と、上記アクティブマトリクス
基板及び上記対向基板が対向するように上記複数のスペ
ーサを介して両基板を当接させて、両基板間に挟持され
る液晶組成物と、を備える液晶表示素子であって、上記
対向基板と平行な面による上記複数のスペーサの断面形
状の頂部が上記対向基板のラビング処理による配向方向
の上流に向って存在する、ことを特徴とする。
め、第１の発明の液晶表示素子は、一主面上に互いに交
差するように配列された複数の走査線及び複数の信号線
と、上記走査線及び上記信号線の交差部毎に形成され、
当該走査線及び信号線に接続された複数のスイッチング
素子と、複数のスイッチング素子に夫々接続される複数
の画素電極と、上記複数の画素電極上に形成されて表面
にラビング処理が施される第１の配向膜と、を有するア
クティブマトリクス基板と、共通電極と、格子状に形成
されてマトリクス状に配列された複数の画素領域を開口
する遮光層と、上記画素領域に配置され着色層よりなる
複数のカラーフィルタと、上記遮光層上に形成される柱
状突起をなす複数のスペーサと、これ等の上に形成され
て表面にラビング処理が施される第２の配向膜と、を一
主面上に有する対向基板と、上記アクティブマトリクス
基板及び上記対向基板が対向するように上記複数のスペ
ーサを介して両基板を当接させて、両基板間に挟持され
る液晶組成物と、を備える液晶表示素子であって、上記
対向基板と平行な面による上記複数のスペーサの断面形
状の頂部が上記対向基板のラビング処理による配向方向
の上流に向って存在する、ことを特徴とする。
【００１６】第２の発明の液晶表示素子は、互いに対向
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板の
間に、複数の画素領域をマトリクス状あるいはストライ
プ状に開口する遮光層と、上記開口した部分に配置され
るカラーフィルタ層と、上記２つの絶縁性基板間の隙間
を確保するスペーサと、上記液晶に特定方向の配向を与
える配向処理が施される配向膜と、を少なくとも有する
液晶表示素子であって、上記スペーサは、上記遮光層上
の開口近傍に配置されかつ上記特定方向の上流側に位置
するようになされて、上記スペーサを起点として発生し
た配向不良領域が上記画素領域内に入らないようになさ
れる、ことを特徴とする。
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板の
間に、複数の画素領域をマトリクス状あるいはストライ
プ状に開口する遮光層と、上記開口した部分に配置され
るカラーフィルタ層と、上記２つの絶縁性基板間の隙間
を確保するスペーサと、上記液晶に特定方向の配向を与
える配向処理が施される配向膜と、を少なくとも有する
液晶表示素子であって、上記スペーサは、上記遮光層上
の開口近傍に配置されかつ上記特定方向の上流側に位置
するようになされて、上記スペーサを起点として発生し
た配向不良領域が上記画素領域内に入らないようになさ
れる、ことを特徴とする。
【００１７】第３の発明の液晶表示素子は、互いに対向
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板の
間に、複数の画素領域をマトリクス状あるいはストライ
プ状に開口する遮光層と、上記開口した部分に配置され
るカラーフィルタ層と、上記２つの絶縁性基板間の隙間
を確保するスペーサと、上記液晶に特定方向の配向を与
える配向処理が施される配向膜と、を少なくとも有する
液晶表示素子であって、上記スペーサは、上記遮光層上
の開口近傍に位置し、かつ、この位置から上記特定方向
の下流側で緑色のカラーフィルタに隣接しない位置に配
置される、ことを特徴とする。
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板の
間に、複数の画素領域をマトリクス状あるいはストライ
プ状に開口する遮光層と、上記開口した部分に配置され
るカラーフィルタ層と、上記２つの絶縁性基板間の隙間
を確保するスペーサと、上記液晶に特定方向の配向を与
える配向処理が施される配向膜と、を少なくとも有する
液晶表示素子であって、上記スペーサは、上記遮光層上
の開口近傍に位置し、かつ、この位置から上記特定方向
の下流側で緑色のカラーフィルタに隣接しない位置に配
置される、ことを特徴とする。
【００１８】第４の発明の液晶表示素子は、互いに対向
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板
と、上記絶縁性基板の何れか一方の内向する面に設けら
れる、格子状に形成されてマトリクス状に配列された複
数の画素領域を開口する遮光層、上記複数の画素領域に
配置される複数の画素電極、上記複数の画素電極を夫々
駆動する複数のスイッチング素子、上記２つの絶縁性基
板の距離を一定に保つためのスペーサ、及び上記画素電
極上に形成される配向膜を少なくとも有するアクティブ
マトリックス型液晶表示素子であって、上記スペーサの
形状は楕円柱状であり、かつ、スペーサの高さをＨ（μ
ｍ）、スペーサの長径をａ（μｍ）、スペーサの短径を
ｂ（μｍ）、上記遮光層の幅をＤ（μｍ）とした場合、
（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）の条件を満た
す形状に形成される、ことを特徴とする。
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板
と、上記絶縁性基板の何れか一方の内向する面に設けら
れる、格子状に形成されてマトリクス状に配列された複
数の画素領域を開口する遮光層、上記複数の画素領域に
配置される複数の画素電極、上記複数の画素電極を夫々
駆動する複数のスイッチング素子、上記２つの絶縁性基
板の距離を一定に保つためのスペーサ、及び上記画素電
極上に形成される配向膜を少なくとも有するアクティブ
マトリックス型液晶表示素子であって、上記スペーサの
形状は楕円柱状であり、かつ、スペーサの高さをＨ（μ
ｍ）、スペーサの長径をａ（μｍ）、スペーサの短径を
ｂ（μｍ）、上記遮光層の幅をＤ（μｍ）とした場合、
（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）の条件を満た
す形状に形成される、ことを特徴とする。
【００１９】第５の発明の液晶表示素子は、互いに対向
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板
と、ストライプ状に配置された複数の電極の一群が上記
２つの絶縁性基板各々の内向する面に夫々設けられ、か
つ、両電極群同士の電極の延在方向が互いに交差するよ
うに配置される表示電極と、上記絶縁基板間の距離を一
定に保つためのスペーサと、上記表示電極上に形成され
る配向膜と、を少なくとも有する単純マトリックス型液
晶表示素子であって、上記スペーサの形状が楕円柱状で
あり、スペーサの高さをＨ（μｍ）、スペーサの長径を
ａ（μｍ）、スペーサの短径をｂ（μｍ）、上記表示電
極間の同一基板上での間隔をＷ（μｍ）とした場合、
（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ）の条件を満た
す形状に形成する、ことを特徴とする液晶表示素子。
して配置されて間に液晶を挟持する２つの絶縁性基板
と、ストライプ状に配置された複数の電極の一群が上記
２つの絶縁性基板各々の内向する面に夫々設けられ、か
つ、両電極群同士の電極の延在方向が互いに交差するよ
うに配置される表示電極と、上記絶縁基板間の距離を一
定に保つためのスペーサと、上記表示電極上に形成され
る配向膜と、を少なくとも有する単純マトリックス型液
晶表示素子であって、上記スペーサの形状が楕円柱状で
あり、スペーサの高さをＨ（μｍ）、スペーサの長径を
ａ（μｍ）、スペーサの短径をｂ（μｍ）、上記表示電
極間の同一基板上での間隔をＷ（μｍ）とした場合、
（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ）の条件を満た
す形状に形成する、ことを特徴とする液晶表示素子。
【００２０】第６の発明の液晶表示素子は、液晶を介し
て対向配置される２枚の絶縁性基板の間に液晶を挟持
し、上記基板の何れか一方の上記液晶側の面に、透明電
極と、遮光層と、カラーフィルタと、上記２枚の基板間
の距離を一定に保つためのスペーサと、を少なくとも有
する液晶表示素子であって、上記スペーサの形状が、上
記スペーサの高さをＨ（μｍ）、上記スペーサの最大幅
をａ（μｍ）、上記スペーサの最小幅をｂ（μｍ）、上
記遮光層の幅をＤ（μｍ）とした場合、Ｈ≦ｂ≦Ｄ＜ａ
の条件を満たす用に形成される、ことを特徴とする。
て対向配置される２枚の絶縁性基板の間に液晶を挟持
し、上記基板の何れか一方の上記液晶側の面に、透明電
極と、遮光層と、カラーフィルタと、上記２枚の基板間
の距離を一定に保つためのスペーサと、を少なくとも有
する液晶表示素子であって、上記スペーサの形状が、上
記スペーサの高さをＨ（μｍ）、上記スペーサの最大幅
をａ（μｍ）、上記スペーサの最小幅をｂ（μｍ）、上
記遮光層の幅をＤ（μｍ）とした場合、Ｈ≦ｂ≦Ｄ＜ａ
の条件を満たす用に形成される、ことを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態のいく
つかについて図面を参照して説明する。
つかについて図面を参照して説明する。
【００２２】まず、ラビング処理における不具合を解消
せんとする第１の発明にあっては、一方向になされるラ
ビング処理において、ラビング布の毛足が当る柱状スペ
ーサの面をラビング布の毛足にとってダメージ（抵抗）
が少ない形状となるようにする。
せんとする第１の発明にあっては、一方向になされるラ
ビング処理において、ラビング布の毛足が当る柱状スペ
ーサの面をラビング布の毛足にとってダメージ（抵抗）
が少ない形状となるようにする。
【００２３】すなわち、ラビング布の毛足が当る柱状ス
ペーサの面にテーパを形成し、毛先に対する抵抗を減ら
す。また、最初にラビング布の毛足が当る柱状スペーサ
の部分（前端部）の該ラビング方向と直角に交差する方
向における幅（基板と平行な平面による柱状スペーサの
断面の幅）を、この部分よりもラビング方向において後
方にある部分（中央部や後端部）における同様の幅より
も狭い形状とする。角錐、円錐、角錐台、円錐台等はこ
の範疇にはいる。後に述べるように、更に柱状スペーサ
の機械的強度を考慮する場合には、好ましくはスペーサ
を担う基板に平行な平面によるスペーサの断面形状が長
軸をラビング方向とする楕円となるようにする。
ペーサの面にテーパを形成し、毛先に対する抵抗を減ら
す。また、最初にラビング布の毛足が当る柱状スペーサ
の部分（前端部）の該ラビング方向と直角に交差する方
向における幅（基板と平行な平面による柱状スペーサの
断面の幅）を、この部分よりもラビング方向において後
方にある部分（中央部や後端部）における同様の幅より
も狭い形状とする。角錐、円錐、角錐台、円錐台等はこ
の範疇にはいる。後に述べるように、更に柱状スペーサ
の機械的強度を考慮する場合には、好ましくはスペーサ
を担う基板に平行な平面によるスペーサの断面形状が長
軸をラビング方向とする楕円となるようにする。
【００２４】例えば、柱状スペーサの形状を略２等辺三
角形状、ひし形状とする。柱状スペーサのラビング開始
側を略二等辺三角形状もしくはひし形状の頂点とするこ
とにより、ラビング布の毛足の引っかかりを減らして、
毛足がスペーサの側面にスムースに回り込むようにし、
毛足が受けるストレスを減少させる。更に、スペーサ形
状をスペーサの高さがラビング開始側が低くなるように
テーパを持つ形状に形成することで、ラビング布に対す
るストレスをより減少させることができる。
角形状、ひし形状とする。柱状スペーサのラビング開始
側を略二等辺三角形状もしくはひし形状の頂点とするこ
とにより、ラビング布の毛足の引っかかりを減らして、
毛足がスペーサの側面にスムースに回り込むようにし、
毛足が受けるストレスを減少させる。更に、スペーサ形
状をスペーサの高さがラビング開始側が低くなるように
テーパを持つ形状に形成することで、ラビング布に対す
るストレスをより減少させることができる。
【００２５】この結果、ラビング布の毛足の曲がりによ
る表示不良の発生を防ぐことが可能となり、表示性能の
高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが出来る。
る表示不良の発生を防ぐことが可能となり、表示性能の
高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが出来る。
【００２６】図１は、本発明による実施の一形態にかか
るアクティブマトリクス液晶素子の断面図である。この
液晶表示素子は、アクティブマトリクス基板１と対向基
板２とが対向配置され、それらの間に液晶組成物２８が
封入されている。
るアクティブマトリクス液晶素子の断面図である。この
液晶表示素子は、アクティブマトリクス基板１と対向基
板２とが対向配置され、それらの間に液晶組成物２８が
封入されている。
【００２７】図２は、アクティブマトリクス基板１の構
成を詳しく示す断面図であり、このアクティブマトリク
ス基板はＴＦＴ部が逆スタガ型と称される構造となって
いる。ガラス基板１１の主面側のＴＦＴ部にはゲート電
極１４が、配線部には走査線１ｆがそれぞれ配設され、
これらの上には絶縁膜１ａが堆積されている。この絶縁
膜１ａ上でゲート電極１４の上方にはアモルファスシリ
コンよりなる半導体膜１ｂが形成され、この半導体膜１
ｂおよび絶縁膜１ａにまたがるようにソース１ｃおよび
ドレイン１ｄが半導体膜１ｂの中央部に所定の距離を隔
てて対向するように形成されている。ドレイン１ｄには
信号線１３が連結されて形成され、ソース１ｃには画素
電極１５が連結形成されている。そして、ＴＦＴ部およ
び配線部の全面に保護膜１ｅが形成され、画素部の全面
には配向膜１６が形成されている。なお、図１において
は図２と同じ要素には同じ参照番号を付してあるが、発
明をよりわかりやすくするため、一部形状を変えてあ
る。
成を詳しく示す断面図であり、このアクティブマトリク
ス基板はＴＦＴ部が逆スタガ型と称される構造となって
いる。ガラス基板１１の主面側のＴＦＴ部にはゲート電
極１４が、配線部には走査線１ｆがそれぞれ配設され、
これらの上には絶縁膜１ａが堆積されている。この絶縁
膜１ａ上でゲート電極１４の上方にはアモルファスシリ
コンよりなる半導体膜１ｂが形成され、この半導体膜１
ｂおよび絶縁膜１ａにまたがるようにソース１ｃおよび
ドレイン１ｄが半導体膜１ｂの中央部に所定の距離を隔
てて対向するように形成されている。ドレイン１ｄには
信号線１３が連結されて形成され、ソース１ｃには画素
電極１５が連結形成されている。そして、ＴＦＴ部およ
び配線部の全面に保護膜１ｅが形成され、画素部の全面
には配向膜１６が形成されている。なお、図１において
は図２と同じ要素には同じ参照番号を付してあるが、発
明をよりわかりやすくするため、一部形状を変えてあ
る。
【００２８】再び図１を参照すると、上側の対向基板２
は、ガラス基板２１上に画素位置に合わせて形成された
赤、緑、青のカラーフィルタ２３、２４、２５を有して
いる。また、これらのカラーフィルタ材料が積層され、
柱状のスペーサ３０が形成されている。このスペーサ３
０は樹脂、フォトレジスト等によって形成されている。
そして全面に透明電極膜２６および配向膜２７が堆積さ
れている。
は、ガラス基板２１上に画素位置に合わせて形成された
赤、緑、青のカラーフィルタ２３、２４、２５を有して
いる。また、これらのカラーフィルタ材料が積層され、
柱状のスペーサ３０が形成されている。このスペーサ３
０は樹脂、フォトレジスト等によって形成されている。
そして全面に透明電極膜２６および配向膜２７が堆積さ
れている。
【００２９】両基板は対向され、対向基板２のスペーサ
３０はアクティブマトリクス基板１の遮光領域とされ
る、ＴＦＴ部あるいは配線部において当接するようにさ
れている。図２からわかるように、最下層である走査線
の上には２層の絶縁層が存在し、スペーサ３０が当接し
ても絶縁性が損なわれてショート等の欠陥が発生するこ
とはきわめて少ない。勿論、図１に示すようにＴＦＴ部
上で当接しても良い。この場合には、基板の山の部分を
利用するのでスペーサ３０の膜厚（高さ）を相対的に薄
く形成することが可能となる。そして、両基板の間には
液晶組成物２８が充填封入されている。
３０はアクティブマトリクス基板１の遮光領域とされ
る、ＴＦＴ部あるいは配線部において当接するようにさ
れている。図２からわかるように、最下層である走査線
の上には２層の絶縁層が存在し、スペーサ３０が当接し
ても絶縁性が損なわれてショート等の欠陥が発生するこ
とはきわめて少ない。勿論、図１に示すようにＴＦＴ部
上で当接しても良い。この場合には、基板の山の部分を
利用するのでスペーサ３０の膜厚（高さ）を相対的に薄
く形成することが可能となる。そして、両基板の間には
液晶組成物２８が充填封入されている。
【００３０】図３は、柱状スペーサ３０の形状の例を示
している。同図（ａ）は柱状スペーサ３０の斜視図、同
図（ｂ）は側面図である。この例では、柱状スペーサ３
０は三角錐に形成され、ラビング方向において、ラビン
グ布の毛足を抵抗少なく分けるように、底面が頂角ある
いは頂となる部分（頂部）が最初にラビング布の毛足に
当るように考慮されている。また、同図（ｂ）に示すよ
うに、柱状スペーサ３０は徐々に高さが増すように、テ
ーパを有する形状となっており、摩擦抵抗や引っかかり
を減らして、ラビング布の毛足にダメージを与えないよ
うに配慮されている。なお、図３においては、スペーサ
の底面が基板２１側となる（後述のスペーサの他の形状
の例においても同様である）。
している。同図（ａ）は柱状スペーサ３０の斜視図、同
図（ｂ）は側面図である。この例では、柱状スペーサ３
０は三角錐に形成され、ラビング方向において、ラビン
グ布の毛足を抵抗少なく分けるように、底面が頂角ある
いは頂となる部分（頂部）が最初にラビング布の毛足に
当るように考慮されている。また、同図（ｂ）に示すよ
うに、柱状スペーサ３０は徐々に高さが増すように、テ
ーパを有する形状となっており、摩擦抵抗や引っかかり
を減らして、ラビング布の毛足にダメージを与えないよ
うに配慮されている。なお、図３においては、スペーサ
の底面が基板２１側となる（後述のスペーサの他の形状
の例においても同様である）。
【００３１】次に、このような液晶表示素子の製造方法
について説明する。
について説明する。
【００３２】まず、知られている薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）を形成するプロセスと同様に、厚さ１．１ｍｍの
ガラス基板（例えば、コーニング社製、＃７０５９）１
１上に成膜とパターニングを繰り返し、アモルファスシ
リコンからなる薄膜トランジスタ１２とＩＴＯからなる
画素電極１５がマトリクス状に配列され、トランジスタ
１２を介して各画素電極１２に所定電圧を印加する複数
の信号線１３及びトランジスタ１２の導通を制御する複
数のゲート線１４が、マトリクス状に配置された複数の
画素電極に沿って格子状に形成され、アレイ基板を形成
する。その後配向膜材料としてＡＬ−１０５１（日本合
成ゴム（株）製）を全面に５００オングストローム塗布
し、ラビング処理を行い、配向膜１６を形成する。
ＦＴ）を形成するプロセスと同様に、厚さ１．１ｍｍの
ガラス基板（例えば、コーニング社製、＃７０５９）１
１上に成膜とパターニングを繰り返し、アモルファスシ
リコンからなる薄膜トランジスタ１２とＩＴＯからなる
画素電極１５がマトリクス状に配列され、トランジスタ
１２を介して各画素電極１２に所定電圧を印加する複数
の信号線１３及びトランジスタ１２の導通を制御する複
数のゲート線１４が、マトリクス状に配置された複数の
画素電極に沿って格子状に形成され、アレイ基板を形成
する。その後配向膜材料としてＡＬ−１０５１（日本合
成ゴム（株）製）を全面に５００オングストローム塗布
し、ラビング処理を行い、配向膜１６を形成する。
【００３３】次に、厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、遮光層のパターンのフォトマスクを用いて
３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露
光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像し、
２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光層２
２を形成する。
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、遮光層のパターンのフォトマスクを用いて
３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で露
光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像し、
２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光層２
２を形成する。
【００３４】赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アク
リル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士ハントテクノロ
ジー（株）製）をスピンナーにて全面塗布し、赤を着色
したい部分に光が照射される赤フィルタ形成用のフォト
マスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2 照
射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着色
層２３を形成する。
リル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士ハントテクノロ
ジー（株）製）をスピンナーにて全面塗布し、赤を着色
したい部分に光が照射される赤フィルタ形成用のフォト
マスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2 照
射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着色
層２３を形成する。
【００３５】同様の工程を繰返して、緑、青の着色層２
４，２５を形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
４，２５を形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
【００３６】次に、顔料の入ってない紫外線硬化型アク
リル樹脂レジストをスピンナーにて全面塗布し、スペー
サを形成したい遮光層上の所望の位置に光が照射される
ようなフォトマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像
し、スペーサ３０を形成する。
リル樹脂レジストをスピンナーにて全面塗布し、スペー
サを形成したい遮光層上の所望の位置に光が照射される
ようなフォトマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像
し、スペーサ３０を形成する。
【００３７】このときの膜厚は４μｍで、略二等辺三角
形になるように現像を強めにした。こうして略三角形の
スペーサ３０が得られた。その後、透明電極２６として
ＩＴＯ膜をスパッタ法にて１５００オングストローム成
膜し、その上に同様の配向膜材料を形成した後ラビング
処理を行い、配向膜２７を形成した。なお、透明電極２
６の形成前にスペーサ３０を形成することでスペーサ３
０の密着力が得られる。
形になるように現像を強めにした。こうして略三角形の
スペーサ３０が得られた。その後、透明電極２６として
ＩＴＯ膜をスパッタ法にて１５００オングストローム成
膜し、その上に同様の配向膜材料を形成した後ラビング
処理を行い、配向膜２７を形成した。なお、透明電極２
６の形成前にスペーサ３０を形成することでスペーサ３
０の密着力が得られる。
【００３８】この後、ガラス基板２１上の配向膜２７の
周辺に沿って接着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷
し、アクティブマトリクス基板から対向電極に電圧を印
加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極
上に形成した。次に、配向膜２７，１６が対向し、ま
た、それぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１
１，２１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わ
せた。次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９
として、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１
１を０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口
を紫外線硬化樹脂で封止した。
周辺に沿って接着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷
し、アクティブマトリクス基板から対向電極に電圧を印
加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極
上に形成した。次に、配向膜２７，１６が対向し、ま
た、それぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１
１，２１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わ
せた。次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９
として、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１
１を０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口
を紫外線硬化樹脂で封止した。
【００３９】こうして形成したカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、ラビング布に対するストレ
スが少なく、ラビング布の毛足が曲がることもないの
で、ラビングに起因する表示不良も防ぐことが出来、表
示性能の高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが
可能となった。
マトリクス液晶表示素子は、ラビング布に対するストレ
スが少なく、ラビング布の毛足が曲がることもないの
で、ラビングに起因する表示不良も防ぐことが出来、表
示性能の高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが
可能となった。
【００４０】図５は、本発明の他の実施の形態を示して
おり、図１と対応する部分には同一符号を付し、かかる
部分の説明は省略する。また、図６は、この実施の形態
によるスペーサ３０の概略図である。
おり、図１と対応する部分には同一符号を付し、かかる
部分の説明は省略する。また、図６は、この実施の形態
によるスペーサ３０の概略図である。
【００４１】この実施の形態では、スペーサ３０は、図
６に示すように、ラビング方向を座標軸とすればこの軸
を含む平面による断面形状がひし形状となる形状をして
いる。このような、スペーサ３０の形状も、頂角がラビ
ング布の毛足が最初に当る位置にあり、テーパ面を有す
るので、ラビング布に対するストレスが少なく、ラビン
グ布の毛足が無理に曲がることもないので、ラビングに
起因する表示不良も防ぐことが可能となる。他の構成
は、図１に示す実施の形態と同様である。
６に示すように、ラビング方向を座標軸とすればこの軸
を含む平面による断面形状がひし形状となる形状をして
いる。このような、スペーサ３０の形状も、頂角がラビ
ング布の毛足が最初に当る位置にあり、テーパ面を有す
るので、ラビング布に対するストレスが少なく、ラビン
グ布の毛足が無理に曲がることもないので、ラビングに
起因する表示不良も防ぐことが可能となる。他の構成
は、図１に示す実施の形態と同様である。
【００４２】この実施の形態による液晶表示素子の製造
法について説明する。
法について説明する。
【００４３】知られているＴＦＴを形成するプロセスと
同様に厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の＃７０５９ガ
ラス基板１１上に成膜とパターンニングを繰り返し、ア
モルファスシリコンからなる薄膜トランジスタ１２と信
号線１３、ゲート線１４、ＩＴＯからなる表示電極１５
を形成したアレイ基板を形成する。その後配向膜材料と
してＡＬ−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面に
５００オングストローム塗布し、ラビング処理を行い、
配向膜１６を形成した。
同様に厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の＃７０５９ガ
ラス基板１１上に成膜とパターンニングを繰り返し、ア
モルファスシリコンからなる薄膜トランジスタ１２と信
号線１３、ゲート線１４、ＩＴＯからなる表示電極１５
を形成したアレイ基板を形成する。その後配向膜材料と
してＡＬ−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面に
５００オングストローム塗布し、ラビング処理を行い、
配向膜１６を形成した。
【００４４】次に、厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、所定のパターン形状のフォトマスクを用い
て３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で
露光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像
し、２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光
層２２を形成する。次いで、赤色の顔料を分散させた紫
外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士
ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗
布し、赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着
色層２３を形成する。同様に緑、青の着色層２４，２５
を繰り返し形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、所定のパターン形状のフォトマスクを用い
て３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で
露光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像
し、２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光
層２２を形成する。次いで、赤色の顔料を分散させた紫
外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士
ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗
布し、赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着
色層２３を形成する。同様に緑、青の着色層２４，２５
を繰り返し形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
【００４５】次に、顔料の入ってない紫外線硬化型アク
リル樹脂レジストをスピンナーにて同じ厚みに全面に塗
布した。１回目のエッチングは、スペーサ３０を形成し
たい遮光層上の所望の位置に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像した。更
に、２回目のエッチングは、スペーサ３０がサイドエッ
チ量の多い逆テーパー形状になるように行った。このと
きの膜厚は４μｍで、強度なテーパー形状になるように
現像を強めにした。こうして、ひし形状のスペーサ３０
が得られた。
リル樹脂レジストをスピンナーにて同じ厚みに全面に塗
布した。１回目のエッチングは、スペーサ３０を形成し
たい遮光層上の所望の位置に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像した。更
に、２回目のエッチングは、スペーサ３０がサイドエッ
チ量の多い逆テーパー形状になるように行った。このと
きの膜厚は４μｍで、強度なテーパー形状になるように
現像を強めにした。こうして、ひし形状のスペーサ３０
が得られた。
【００４６】その後、透明電極２６としてＩＴＯ膜を１
５００オングストロームスパッタ法にて成膜し、その上
に同様の配向膜材料を形成した後、ラビング処理を行
い、配向膜２７を形成した。
５００オングストロームスパッタ法にて成膜し、その上
に同様の配向膜材料を形成した後、ラビング処理を行
い、配向膜２７を形成した。
【００４７】なお、図１に示す実施の形態と同様に、透
明電極２６の形成前にスペーサ３０を形成することでス
ペーサの密着力が得られる。
明電極２６の形成前にスペーサ３０を形成することでス
ペーサの密着力が得られる。
【００４８】この後、ガラス基板２１上の配向膜２７の
周辺に沿って接着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷
し、アクティブマトリクス基板から対向電極に電圧を印
加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極
上に形成した。次に、配向膜２７，１６が対向し、また
それぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１１，
２１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わせ
た。次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９と
して、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１
を０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口を
紫外線硬化樹脂で封止した。
周辺に沿って接着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷
し、アクティブマトリクス基板から対向電極に電圧を印
加するための電極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極
上に形成した。次に、配向膜２７，１６が対向し、また
それぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１１，
２１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わせ
た。次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９と
して、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１
を０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口を
紫外線硬化樹脂で封止した。
【００４９】こうして形成したカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、ラビング布に対するストレ
スが少なく、ラビング布の毛足が曲がることもないの
で、ラビングによる表示不良も防ぐことが出来、表示性
能の高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが出来
た。
マトリクス液晶表示素子は、ラビング布に対するストレ
スが少なく、ラビング布の毛足が曲がることもないの
で、ラビングによる表示不良も防ぐことが出来、表示性
能の高い、信頼性のある液晶表示素子を得ることが出来
た。
【００５０】図６は、本発明の他の実施の形態を示して
おり、図１と対応する部分には同一符号を付し、かかる
部分の説明は省略する。また、図７は、この実施の形態
によるスペーサ３０の概略図である。
おり、図１と対応する部分には同一符号を付し、かかる
部分の説明は省略する。また、図７は、この実施の形態
によるスペーサ３０の概略図である。
【００５１】この実施の形態では、スペーサ３０は、図
７に示すように、三角柱の上部を断面が三角形となるよ
うに削った形状をしており、ラビング方向を座標軸とす
ればこの軸を含む平面による断面形状が台形形状となる
形状をしている。このような、スペーサ３０の形状も、
頂角がラビング布の毛足が最初に当る位置にあり、テー
パ面を有するので、ラビング布に対するストレスが少な
く、ラビング布の毛足が無理に曲がることもないので、
ラビングに起因する表示不良も防ぐことが可能となる。
他の構成は、図１に示す実施の形態と同様である。
７に示すように、三角柱の上部を断面が三角形となるよ
うに削った形状をしており、ラビング方向を座標軸とす
ればこの軸を含む平面による断面形状が台形形状となる
形状をしている。このような、スペーサ３０の形状も、
頂角がラビング布の毛足が最初に当る位置にあり、テー
パ面を有するので、ラビング布に対するストレスが少な
く、ラビング布の毛足が無理に曲がることもないので、
ラビングに起因する表示不良も防ぐことが可能となる。
他の構成は、図１に示す実施の形態と同様である。
【００５２】この実施の形態による液晶表示素子の製造
法について説明する。
法について説明する。
【００５３】通常のＴＦＴを形成するプロセスと同様に
厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の＃７０５９ガラス基
板１１上に成膜とパターンニングを繰り返し、アモルフ
ァスシリコンからなる薄膜トランジスタ１２と信号線１
３、ゲート線１４、ＩＴＯからなる表示電極１５を形成
したアレイ基板を形成する。その後、配向膜材料として
ＡＬ−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面に５０
０オングストローム塗布し、ラビング処理を行い、配向
膜１６が形成される。
厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の＃７０５９ガラス基
板１１上に成膜とパターンニングを繰り返し、アモルフ
ァスシリコンからなる薄膜トランジスタ１２と信号線１
３、ゲート線１４、ＩＴＯからなる表示電極１５を形成
したアレイ基板を形成する。その後、配向膜材料として
ＡＬ−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面に５０
０オングストローム塗布し、ラビング処理を行い、配向
膜１６が形成される。
【００５４】次に、厚さ１．１ｍｍのコーニング社製の
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、所定のパターン形状のフォトマスクを用い
て３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で
露光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像
し、２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光
層２２を形成する。ついで、赤色の顔料を分散させた紫
外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士
ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗
布し、赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着
色層２３を形成する。同様に緑、青の着色層２４，２５
を繰り返し形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
＃７０５９ガラス基板２１からなる対向基板上に、感光
性の黒色樹脂ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー
（株）製）をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０
分の乾燥後、所定のパターン形状のフォトマスクを用い
て３６５ｎｍの波長で、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で
露光したあとｐＨ１１．５のアルカリ水溶液にて現像
し、２００℃、６０分の焼成にて膜厚２．０μｍの遮光
層２２を形成する。ついで、赤色の顔料を分散させた紫
外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士
ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗
布し、赤を着色したい部分に光が照射されるようなフォ
トマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2
照射し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、赤の着
色層２３を形成する。同様に緑、青の着色層２４，２５
を繰り返し形成し、最終的に２３０℃で１時間焼成す
る。ここでは緑の着色材料は、ＣＧ−２０００（富士ハ
ントテクノロジー（株）製）、青の着色材はＣＢ−２０
００（富士ハントテクノロジー（株）製）を用いた。こ
のときのＲ，Ｇ，Ｂの膜厚はそれぞれ１．５μｍとし
た。
【００５５】次に、顔料の入ってない紫外線硬化型アク
リル樹脂レジストをスピンナーにて全面塗布し、スペー
サを形成したい遮光層上の所望の位置に光が照射される
ようなフォトマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像
した。このときの膜厚は４μｍである。
リル樹脂レジストをスピンナーにて全面塗布し、スペー
サを形成したい遮光層上の所望の位置に光が照射される
ようなフォトマスクを介し３６５ｎｍの波長で１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％水溶液で３０秒間現像
した。このときの膜厚は４μｍである。
【００５６】次に、階調マスクを用いて、同様に３６５
ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％
水溶液で３０秒間現像することにより、一片の高さのみ
低くなっているスペーサ３０を形成した。
ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ2 照射し、ＫＯＨの１％
水溶液で３０秒間現像することにより、一片の高さのみ
低くなっているスペーサ３０を形成した。
【００５７】その後、透明電極２６としてＩＴＯ膜を１
５００オングストロームスパッタ法にて成膜し、その上
に同様の配向膜材料を形成した後ラビング処理を行い、
配向膜２７を形成した。なお、透明電極形成前にスペー
サを形成することでスペーサの密着力が得られる。
５００オングストロームスパッタ法にて成膜し、その上
に同様の配向膜材料を形成した後ラビング処理を行い、
配向膜２７を形成した。なお、透明電極形成前にスペー
サを形成することでスペーサの密着力が得られる。
【００５８】基板２１上の配向膜２７の周辺に沿って接
着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷し、アクティブ
マトリクス基板から対向電極に電圧を印加するための電
極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極上に形成した。
着剤を注入口（図示せず）を除いて印刷し、アクティブ
マトリクス基板から対向電極に電圧を印加するための電
極転移材を接着剤の周辺の電極転移電極上に形成した。
【００５９】次に、配向膜２７，１６が対向し、またそ
れぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１１，２
１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わせた。
次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９とし
て、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１を
０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口を紫
外線硬化樹脂で封止した。
れぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１１，２
１を配置し、加熱して接着剤を硬化させ貼り合わせた。
次に通常の方法により注入口より液晶組成物２９とし
て、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１を
０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口を紫
外線硬化樹脂で封止した。
【００６０】こうして形成したカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、実施例１、２よりもラビン
グ布に対するストレスが少なく、ラビング布の毛足が曲
がることもないので、ラビングによる表示不良も防ぐこ
とが出来、表示性能の高い、信頼性のある液晶表示素子
を得ることが出来た。
マトリクス液晶表示素子は、実施例１、２よりもラビン
グ布に対するストレスが少なく、ラビング布の毛足が曲
がることもないので、ラビングによる表示不良も防ぐこ
とが出来、表示性能の高い、信頼性のある液晶表示素子
を得ることが出来た。
【００６１】なお、本発明の実施例で述べた着色順は一
例でありこれに限定されるものではない。
例でありこれに限定されるものではない。
【００６２】図８は、本発明に係る形状のスペーサ３０
をラビング方向に向けて整列し、基板２１上に配置した
例を示している。このように、スペーサをラビング方向
に整えて配列すると、ラビング方向を考慮せずに配置し
た場合よりもラビング布の毛足が受ける抵抗が減少す
る。その結果、ラビング布の寿命を延し、ラビング処理
の不具合を減少することが可能となる。
をラビング方向に向けて整列し、基板２１上に配置した
例を示している。このように、スペーサをラビング方向
に整えて配列すると、ラビング方向を考慮せずに配置し
た場合よりもラビング布の毛足が受ける抵抗が減少す
る。その結果、ラビング布の寿命を延し、ラビング処理
の不具合を減少することが可能となる。
【００６３】以上述べたように、柱状スペーサの形状を
略二等辺三角形状もしくはひし形状とし、ラビング開始
側を略二等辺三角形状もしくはひし形状の頂点とするこ
とにより、ラビング布に対するストレスが減少する。更
に、スペーサの高さをラビング開始側が低くなるように
形成することで、ラビング布に対するストレスをより減
少させることができる。また、このように形成されたス
ペーサをラビング方向に整列することにより、全体とし
てラビング布が受ける抵抗を減少することが可能とな
る。
略二等辺三角形状もしくはひし形状とし、ラビング開始
側を略二等辺三角形状もしくはひし形状の頂点とするこ
とにより、ラビング布に対するストレスが減少する。更
に、スペーサの高さをラビング開始側が低くなるように
形成することで、ラビング布に対するストレスをより減
少させることができる。また、このように形成されたス
ペーサをラビング方向に整列することにより、全体とし
てラビング布が受ける抵抗を減少することが可能とな
る。
【００６４】次に、第２の発明の実施の形態について図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００６５】まず、この第２の発明によれば、ラビング
布の毛足がスペーサ当って微細溝が乱れることによって
生ずる、スペーサを起点とした配向不良領域が画素内に
到達しない位置にスペーサを配置してあるため、表示品
位の低下を防止することができる。
布の毛足がスペーサ当って微細溝が乱れることによって
生ずる、スペーサを起点とした配向不良領域が画素内に
到達しない位置にスペーサを配置してあるため、表示品
位の低下を防止することができる。
【００６６】また、人間の視覚特性に着目すると、光の
３原色である赤、青、緑を比べた場合、配向不良領域が
比較的目の感度の良い緑色画素領域には極力生じないよ
うにすれば、赤色画素領域若しくは青色画素領域、ある
いは、赤色画素領域と青色画素領域の両領域、に多少配
向不良領域が生じたとしても視覚特性上目立たない。そ
こで、青色画素領域に隣接しないようにスペーサの配置
を定めることによって表示品位の低下を可及的に抑制す
ることが可能となる。
３原色である赤、青、緑を比べた場合、配向不良領域が
比較的目の感度の良い緑色画素領域には極力生じないよ
うにすれば、赤色画素領域若しくは青色画素領域、ある
いは、赤色画素領域と青色画素領域の両領域、に多少配
向不良領域が生じたとしても視覚特性上目立たない。そ
こで、青色画素領域に隣接しないようにスペーサの配置
を定めることによって表示品位の低下を可及的に抑制す
ることが可能となる。
【００６７】この場合には、スペーサの形状を特殊な形
状にせずに済むので、例えば、特願平７−２１２１９２
号によって提案しているような、スペーサをカラー液晶
表示装置の構成材料であるカラーフィルタと同一材料、
かつ、同時に形成することで工程を増やさずスペーサを
配置することができる。
状にせずに済むので、例えば、特願平７−２１２１９２
号によって提案しているような、スペーサをカラー液晶
表示装置の構成材料であるカラーフィルタと同一材料、
かつ、同時に形成することで工程を増やさずスペーサを
配置することができる。
【００６８】図９は第２の発明を説明するための、液晶
表示素子の断面図であり、同図において図１と対応する
部分には同一符号を付し、かかる部分の説明は省略す
る。この液晶表示素子においては、スペーサ３０が着色
層（赤）２３、着色層（緑）２４、着色層（青）２５の
積層によって略円柱状に構成されている。このため、図
１に示した例のように、別途スペーサ３０を形成する工
程を必要としない。そして、この実施の形態では、特
に、スペーサ３０の配置場所が工夫されており、ＴＦＴ
の遮光領域に配置される。
表示素子の断面図であり、同図において図１と対応する
部分には同一符号を付し、かかる部分の説明は省略す
る。この液晶表示素子においては、スペーサ３０が着色
層（赤）２３、着色層（緑）２４、着色層（青）２５の
積層によって略円柱状に構成されている。このため、図
１に示した例のように、別途スペーサ３０を形成する工
程を必要としない。そして、この実施の形態では、特
に、スペーサ３０の配置場所が工夫されており、ＴＦＴ
の遮光領域に配置される。
【００６９】図１０は、図９に示される液晶表示素子の
スペーサ３０の配置場所と配向不良領域４１との関係を
概略的に説明する図である。同図より判るように、対向
基板２１のスペーサ３によってラビング布の毛足が乱れ
るため、スペーサ３０を起点とした配向むら４１がラビ
ング方向の下流側に発生する。ここで、ラビング方向
は、左右方向の視野−角度表示特性を対称とするため
に、液晶表示素子の縦又は横方向に対して４５度の方向
としている。スペーサ３０の配置場所をＴＦＴ遮光領域
３１のラビング方向において上流側とすることによっ
て、ＴＦＴ遮光領域３１及び遮光層２２を活用して画素
に影響しない部分内に配向むら４１を収めることが可能
となる。この結果、画像から配向むらの影響が除かれ
る。
スペーサ３０の配置場所と配向不良領域４１との関係を
概略的に説明する図である。同図より判るように、対向
基板２１のスペーサ３によってラビング布の毛足が乱れ
るため、スペーサ３０を起点とした配向むら４１がラビ
ング方向の下流側に発生する。ここで、ラビング方向
は、左右方向の視野−角度表示特性を対称とするため
に、液晶表示素子の縦又は横方向に対して４５度の方向
としている。スペーサ３０の配置場所をＴＦＴ遮光領域
３１のラビング方向において上流側とすることによっ
て、ＴＦＴ遮光領域３１及び遮光層２２を活用して画素
に影響しない部分内に配向むら４１を収めることが可能
となる。この結果、画像から配向むらの影響が除かれ
る。
【００７０】この実施の形態による液晶表示素子の製造
法について説明する。まず、この対向基板２１は次のよ
うにして作製した。ガラス基板２１上に、感光性の黒色
樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０分間乾
燥後、遮光層５の幅が３０（μｍ）のパターン形状とな
るフォトマスクを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2
の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶
液で現像し、２００℃、６０分焼成することにより膜厚
２．０（μｍ）の遮光層２２を形成する。
法について説明する。まず、この対向基板２１は次のよ
うにして作製した。ガラス基板２１上に、感光性の黒色
樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０℃、１０分間乾
燥後、遮光層５の幅が３０（μｍ）のパターン形状とな
るフォトマスクを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2
の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶
液で現像し、２００℃、６０分焼成することにより膜厚
２．０（μｍ）の遮光層２２を形成する。
【００７１】赤色の顔料を分散させた感光性レジストＣ
Ｒ−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布し、９０
℃、１０分の乾燥後、スペーサ３０を起点とした配向む
ら４１が、ＴＦＴ１２の遮光領域４１でマスクされるよ
うな位置へのスペーサ３０の形成を含め、赤色の着色層
を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォト
マスクを介し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように
露光を行った。次に、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で
２０秒間現像を行い、２００℃、６０分焼成することに
より赤色の着色層を形成した。
Ｒ−２０００（富士ハントエレクトロニクステクノロジ
ー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布し、９０
℃、１０分の乾燥後、スペーサ３０を起点とした配向む
ら４１が、ＴＦＴ１２の遮光領域４１でマスクされるよ
うな位置へのスペーサ３０の形成を含め、赤色の着色層
を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォト
マスクを介し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように
露光を行った。次に、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で
２０秒間現像を行い、２００℃、６０分焼成することに
より赤色の着色層を形成した。
【００７２】同様に、緑、青の着色層をスペーサの形成
を含め、繰り返し形成することにより各着色層の膜厚が
１．５（μｍ）であるカラーフィルタ４と、遮光層５上
に３色の着色層が重畳したスペーサ３０が得られた。こ
こで、緑の着色材料には、ＣＧ−２０００（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー（株）製）、青の着色材
料にはＣＢ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）を用いた。
を含め、繰り返し形成することにより各着色層の膜厚が
１．５（μｍ）であるカラーフィルタ４と、遮光層５上
に３色の着色層が重畳したスペーサ３０が得られた。こ
こで、緑の着色材料には、ＣＧ−２０００（富士ハント
エレクトロニクステクノロジー（株）製）、青の着色材
料にはＣＢ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）を用いた。
【００７３】対向電極２６としてのＩＴＯ膜をスパッタ
法にて１５００オングストロームの厚さに成膜し、対向
電極２６の全面を覆うようポリイミドを塗布後ラビング
処理することにより配向膜２７を形成した。
法にて１５００オングストロームの厚さに成膜し、対向
電極２６の全面を覆うようポリイミドを塗布後ラビング
処理することにより配向膜２７を形成した。
【００７４】アレイ基板１１は次のようにして作製し
た。公知の技術を用いて通常のＴＦＴ７を形成するプロ
セスと同様に成膜とパターニングを繰り返し、アレイ基
板１１を形成した。その後、ＩＴＯ膜をスパッタ法を用
いて１０００オングストロームの厚さに成膜し、フォト
リソグラフィー工程を用いて、パターニングを行い、画
素電極１５を形成し、画素電極１５を覆うようポリイミ
ドを塗布後ラビング処理することにより配向膜１６を形
成した。
た。公知の技術を用いて通常のＴＦＴ７を形成するプロ
セスと同様に成膜とパターニングを繰り返し、アレイ基
板１１を形成した。その後、ＩＴＯ膜をスパッタ法を用
いて１０００オングストロームの厚さに成膜し、フォト
リソグラフィー工程を用いて、パターニングを行い、画
素電極１５を形成し、画素電極１５を覆うようポリイミ
ドを塗布後ラビング処理することにより配向膜１６を形
成した。
【００７５】続いて、対向基板２１とアレイ基板１１と
を張り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側
の面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして
ＴＦＴ基板１１の偏光板側外部には、この液晶表示装置
のバックライトとしての光源（図示省略）を配設した。
を張り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側
の面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして
ＴＦＴ基板１１の偏光板側外部には、この液晶表示装置
のバックライトとしての光源（図示省略）を配設した。
【００７６】液晶組成物２８は、上記の対向基板２１と
ＴＦＴ基板１１との間隙（セルギャップ）に挟持される
液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイストネ
マティック）型のものである。
ＴＦＴ基板１１との間隙（セルギャップ）に挟持される
液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイストネ
マティック）型のものである。
【００７７】本発明の液晶表示素子では、スペーサ３０
による配向不良領域４１がＴＦＴ１２を遮光するための
遮光層２２上となるため、スペーサ３０に起因する液晶
の配向むら４１を見えなくすることができ、光漏れなど
によるコントラストの低下のない、均一な表示が実現さ
れる。
による配向不良領域４１がＴＦＴ１２を遮光するための
遮光層２２上となるため、スペーサ３０に起因する液晶
の配向むら４１を見えなくすることができ、光漏れなど
によるコントラストの低下のない、均一な表示が実現さ
れる。
【００７８】また、本実施の形態では、対向基板２１に
遮光層２２、カラーフィルタ２３，２４，２５、スペー
サ３０が配置されているが、アレイ基板１１に配設して
もよく、アレイ基板１１に遮光層２２、カラーフィルタ
２３，２４，２５、スペーサ３０を配置した場合は、対
向基板２１とアレイ基板１１の位置合わせが不要とな
り、高品位な液晶表示装置を安価に作ることができる。
遮光層２２、カラーフィルタ２３，２４，２５、スペー
サ３０が配置されているが、アレイ基板１１に配設して
もよく、アレイ基板１１に遮光層２２、カラーフィルタ
２３，２４，２５、スペーサ３０を配置した場合は、対
向基板２１とアレイ基板１１の位置合わせが不要とな
り、高品位な液晶表示装置を安価に作ることができる。
【００７９】第３の発明について図１１及び図１２を参
照して説明する。
照して説明する。
【００８０】図１１は第３の発明を説明するための、液
晶表示素子の断面図であり、同図において図１と対応す
る部分には同一符号を付し、かかる部分の説明は省略す
る。この液晶表示素子は、表示電極１５ａ、遮光層２
２、赤着色層２３、緑着色層２４、青着色層２５、配向
膜２２、スペーサ３０、等をガラス基板２１上に有する
カラーフィルタ基板３と、表示電極２６ａ、配向膜１６
等をガラス基板１１上に有し、上記カラーフィルタ基板
３と対向するように配設された対向基板２ａと、これら
２枚の基板間隙に挟持される液晶組成物２８とからその
主要部が構成されている。
晶表示素子の断面図であり、同図において図１と対応す
る部分には同一符号を付し、かかる部分の説明は省略す
る。この液晶表示素子は、表示電極１５ａ、遮光層２
２、赤着色層２３、緑着色層２４、青着色層２５、配向
膜２２、スペーサ３０、等をガラス基板２１上に有する
カラーフィルタ基板３と、表示電極２６ａ、配向膜１６
等をガラス基板１１上に有し、上記カラーフィルタ基板
３と対向するように配設された対向基板２ａと、これら
２枚の基板間隙に挟持される液晶組成物２８とからその
主要部が構成されている。
【００８１】この実施の形態においては、スペーサ３０
が着色層（赤）２３、着色層（緑）２４、着色層（青）
２５の積層によって略円柱状に構成されている。このた
め、図１に示した例のように、別途スペーサ３０を形成
する工程を必要としない。そして、この実施の形態で
は、特に、スペーサ３０の配置場所が工夫されており、
スペーサ３０の配置場所は、緑の着色層２４内にスペー
サ３０による配向不良領域４１が入込まないようにする
ために、ラビング方向においてスペーサ３０の下流に緑
の着色層２４が隣接しないようにしている。人の視覚の
色感度特性は緑に対して高く、青及び赤に対しては相対
的に低いので、緑の着色層２４以外の着色層、すなわ
ち、赤領域２３若しくは青領域２５、あるいは赤領域及
び青領域に配向不良が生ずるようにして、可及的に配向
不良による表示の不具合が目立たないようにする。
が着色層（赤）２３、着色層（緑）２４、着色層（青）
２５の積層によって略円柱状に構成されている。このた
め、図１に示した例のように、別途スペーサ３０を形成
する工程を必要としない。そして、この実施の形態で
は、特に、スペーサ３０の配置場所が工夫されており、
スペーサ３０の配置場所は、緑の着色層２４内にスペー
サ３０による配向不良領域４１が入込まないようにする
ために、ラビング方向においてスペーサ３０の下流に緑
の着色層２４が隣接しないようにしている。人の視覚の
色感度特性は緑に対して高く、青及び赤に対しては相対
的に低いので、緑の着色層２４以外の着色層、すなわ
ち、赤領域２３若しくは青領域２５、あるいは赤領域及
び青領域に配向不良が生ずるようにして、可及的に配向
不良による表示の不具合が目立たないようにする。
【００８２】図１２は、図１１に示される液晶表示素子
のスペーサ３０の配置場所と配向不良領域４１との関係
を概略的に説明する平面図である。同図より判るよう
に、カラーフィルタ基板３のスペーサ３０によってラビ
ング布の毛足が乱れるため、スペーサ３０を起点とした
配向むら４１がラビング方向の下流側に発生する。ここ
で、ラビング方向は、左右方向の視野−角度表示特性を
対称とするために、液晶表示素子の縦又は横方向に対し
て４５度の方向としている。
のスペーサ３０の配置場所と配向不良領域４１との関係
を概略的に説明する平面図である。同図より判るよう
に、カラーフィルタ基板３のスペーサ３０によってラビ
ング布の毛足が乱れるため、スペーサ３０を起点とした
配向むら４１がラビング方向の下流側に発生する。ここ
で、ラビング方向は、左右方向の視野−角度表示特性を
対称とするために、液晶表示素子の縦又は横方向に対し
て４５度の方向としている。
【００８３】そこで、スペーサ３０の配置場所をラビン
グ方向において緑の着色層２４の上流側に隣接しない位
置とする。この結果、表示画像から配向むらの影響が可
及的に除かれる。これは、遮光領域２２が構造上比較的
に狭く、遮光領域内に配向不良領域を収めることが難し
い場合に有効である。
グ方向において緑の着色層２４の上流側に隣接しない位
置とする。この結果、表示画像から配向むらの影響が可
及的に除かれる。これは、遮光領域２２が構造上比較的
に狭く、遮光領域内に配向不良領域を収めることが難し
い場合に有効である。
【００８４】この実施の形態による液晶表示素子の製造
法について説明する。まず、カラーフィルタ基板３は、
次のようにして作製される。
法について説明する。まず、カラーフィルタ基板３は、
次のようにして作製される。
【００８５】公知のフォトリソグラフィー工程を用いて
ガラス基板２１上に、遮光層２２、カラーフィルタ２３
〜２５、スペーサ３０を形成した。
ガラス基板２１上に、遮光層２２、カラーフィルタ２３
〜２５、スペーサ３０を形成した。
【００８６】具体的に述べると、ガラス基板２１上に、
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、所定のパターン形状のフォトマス
クを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照
射した後ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像し、
２００℃、６０分焼成することにより膜厚１．５（μ
ｍ）の遮光層２２を形成した。続いて、赤色の顔料を分
散させた感光性レジストＣＲ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）をスピンナーを
用いて全面塗布し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ
３０を起点とする配向むら４１が青色画素領域のみとな
るようなスペーサ３０の形成を含め、赤色の着色層２３
を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォト
マスクを介し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように
露光を行った。水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒
間現像を行い、２００℃、６０分焼成することにより赤
色の着色層を形成した。
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、所定のパターン形状のフォトマス
クを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照
射した後ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像し、
２００℃、６０分焼成することにより膜厚１．５（μ
ｍ）の遮光層２２を形成した。続いて、赤色の顔料を分
散させた感光性レジストＣＲ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）をスピンナーを
用いて全面塗布し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ
３０を起点とする配向むら４１が青色画素領域のみとな
るようなスペーサ３０の形成を含め、赤色の着色層２３
を形成する部分のみに紫外線が照射されるようなフォト
マスクを介し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように
露光を行った。水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒
間現像を行い、２００℃、６０分焼成することにより赤
色の着色層を形成した。
【００８７】同様に、緑、青の着色層を繰り返し形成す
ることにより各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカ
ラーフィルタを形成したが、緑と青の着色層では、スペ
ーサ３０は形成せず、遮光層２２上には赤色の着色層の
みからなるスペーサ３０が得られた。
ることにより各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカ
ラーフィルタを形成したが、緑と青の着色層では、スペ
ーサ３０は形成せず、遮光層２２上には赤色の着色層の
みからなるスペーサ３０が得られた。
【００８８】ここで、緑の着色材料には、ＣＧ−２００
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
【００８９】その後、表示電極１５ａとしてＩＴＯ膜を
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、公知のフォトリソグラフィー工程を用いて線幅８０
（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状
にパターニングした。次に、表示電極１５ａの全面を覆
うようポリイミドを塗布後ラビング処理することにより
配向膜２７を形成した。
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、公知のフォトリソグラフィー工程を用いて線幅８０
（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状
にパターニングした。次に、表示電極１５ａの全面を覆
うようポリイミドを塗布後ラビング処理することにより
配向膜２７を形成した。
【００９０】対向基板２ａは次のようにして作製した。
ガラス基板１１上に、表示電極２６ａとしてＩＴＯ膜を
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、公知のフォトリソグラフィー法を用いて線幅８０
（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状
にパターニングした。次に、表示電極２６ａの全面を覆
うようポリイミドを塗布後ラビング処理することにより
配向膜１６を形成した。
ガラス基板１１上に、表示電極２６ａとしてＩＴＯ膜を
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、公知のフォトリソグラフィー法を用いて線幅８０
（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状
にパターニングした。次に、表示電極２６ａの全面を覆
うようポリイミドを塗布後ラビング処理することにより
配向膜１６を形成した。
【００９１】カラーフィルタ基板３と対向基板２ａを張
り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の面
に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして、カ
ラーフィルタ基板３の偏光板側外部には、この液晶表示
素子のバックライトとしての光源（図示省略）を配設し
た。
り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の面
に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして、カ
ラーフィルタ基板３の偏光板側外部には、この液晶表示
素子のバックライトとしての光源（図示省略）を配設し
た。
【００９２】液晶組成物２８は、カラーフィルタ基板３
と対向基板２ａとの間隙（セルギャップ）に挟持される
液晶であって、強誘電性液晶を用いている。
と対向基板２ａとの間隙（セルギャップ）に挟持される
液晶であって、強誘電性液晶を用いている。
【００９３】本発明の液晶表示素子では、スペーサ３0
による配向不良領域が青色画素領域のみであるため、ス
ペーサに起因する液晶の配向むら４１は、目視では目立
たない高品位な表示が得られた。
による配向不良領域が青色画素領域のみであるため、ス
ペーサに起因する液晶の配向むら４１は、目視では目立
たない高品位な表示が得られた。
【００９４】次に、スペーサの機械的強度を保つ本発明
の実施の形態について説明する。
の実施の形態について説明する。
【００９５】図１９に示す表は、楕円スペーサの機械的
強度を確認するために、スペーサに最も機械的強度が要
求されるラビング処理を行い、スペーサの欠損状態を確
認したものである。
強度を確認するために、スペーサに最も機械的強度が要
求されるラビング処理を行い、スペーサの欠損状態を確
認したものである。
【００９６】ＴＦＴ−液晶表示素子のスペーサの高さＨ
を５μｍ、遮光層の幅Ｄを２５μｍとし、長径ａ、短径
ｂ、を種々の値に設定して欠損状態を観察した。表中の
○は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損がないも
の、△は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損が生じ
たもの、×は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損が
生じたものを示している。なお、表中の二重の枠線外の
○は長径と短径の大きさが逆になる部分である。
を５μｍ、遮光層の幅Ｄを２５μｍとし、長径ａ、短径
ｂ、を種々の値に設定して欠損状態を観察した。表中の
○は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損がないも
の、△は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損が生じ
たもの、×は、ラビング後、スペーサに明らかな欠損が
生じたものを示している。なお、表中の二重の枠線外の
○は長径と短径の大きさが逆になる部分である。
【００９７】この結果、スペーサの短径ｂが（２×Ｈ）
より小さいと、ラビング工程でスペーサの欠落が認めら
れた。また、長径ａと短径ｂとはａ＞ｂである。スペー
サの長径ａの方向がラビング方向と同じ（平行）角度４
５度であるので、遮光層幅Ｄのルート２倍の長さスペー
サを配置することができるから、遮光層幅Ｄから画素領
域内にはみ出さない限度はａ＜（（２）1/2 ×Ｄ）とな
る。
より小さいと、ラビング工程でスペーサの欠落が認めら
れた。また、長径ａと短径ｂとはａ＞ｂである。スペー
サの長径ａの方向がラビング方向と同じ（平行）角度４
５度であるので、遮光層幅Ｄのルート２倍の長さスペー
サを配置することができるから、遮光層幅Ｄから画素領
域内にはみ出さない限度はａ＜（（２）1/2 ×Ｄ）とな
る。
【００９８】従って、楕円状スペーサの形状条件は、ア
クティブ型マトリクス液晶素子の場合には、 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ） 単純マトリックス型液晶表示素子の場合には、（２×
Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ） となる。ここ
で、Ｗは、表示電極間の間隔である。
クティブ型マトリクス液晶素子の場合には、 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ） 単純マトリックス型液晶表示素子の場合には、（２×
Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ） となる。ここ
で、Ｗは、表示電極間の間隔である。
【００９９】アクティブマトリックス型液晶表示素子に
ついての第４の発明及び単純マトリックス型液晶表示素
子についての第５の発明によれば、スペーサに最も機械
的強度が要求される配向膜に配向性を付与するラビング
工程においても、スペーサの形状が楕円柱であり、スペ
ーサの長径方向が配向膜の配向方向と平行であるため、
スペーサの強度を保ち、かつ、スペーサに加わる負荷を
最小限にすることができるが、スペーサの短径は、スペ
ーサの高さの２倍以上でないと、スペーサの機械的強度
が不足となり、アクティブマトリックス型液晶表示素子
では遮光層の幅より、単純マトリックス型液晶表示素子
では、表示電極の間隔より大きくなると、スペーサが画
素内に入り込むため、表示品位が低下する。
ついての第４の発明及び単純マトリックス型液晶表示素
子についての第５の発明によれば、スペーサに最も機械
的強度が要求される配向膜に配向性を付与するラビング
工程においても、スペーサの形状が楕円柱であり、スペ
ーサの長径方向が配向膜の配向方向と平行であるため、
スペーサの強度を保ち、かつ、スペーサに加わる負荷を
最小限にすることができるが、スペーサの短径は、スペ
ーサの高さの２倍以上でないと、スペーサの機械的強度
が不足となり、アクティブマトリックス型液晶表示素子
では遮光層の幅より、単純マトリックス型液晶表示素子
では、表示電極の間隔より大きくなると、スペーサが画
素内に入り込むため、表示品位が低下する。
【０１００】また、２枚の基板間の距離を正確に制御す
るには、スペーサの基板上での分布密度も重要な因子と
なる。通常の液晶表示装置に要求される基板間距離１〜
１０（μｍ）程度を実現するには、スペーサの１平方ミ
リメートル当たりに占める、上記基板と平行な面におけ
る断面積の合計が、０．０００１平方ミリメートルを越
え、０．００２平方ミリメートル未満であることが必要
である。１平方ミリメートル当たり０．０００１平方ミ
リメートル以下では、スペーサとしての機械的強度が不
足となり、２枚の基板間距離を画面内で均一精密制御す
ることが困難となる。また、１平方ミリメートル当たり
０．００２平方ミリメートル以上では、液晶表示装置を
低温にした場合に発生するいわゆる「低温発泡」（液晶
の熱膨張率が液晶表示装置の熱膨張率より大きいため真
空領域が発生し、泡に見える）が発生し易くなり、ま
た、液晶の注入が困難となる、表示品位が低下する等の
弊害が生ずる。
るには、スペーサの基板上での分布密度も重要な因子と
なる。通常の液晶表示装置に要求される基板間距離１〜
１０（μｍ）程度を実現するには、スペーサの１平方ミ
リメートル当たりに占める、上記基板と平行な面におけ
る断面積の合計が、０．０００１平方ミリメートルを越
え、０．００２平方ミリメートル未満であることが必要
である。１平方ミリメートル当たり０．０００１平方ミ
リメートル以下では、スペーサとしての機械的強度が不
足となり、２枚の基板間距離を画面内で均一精密制御す
ることが困難となる。また、１平方ミリメートル当たり
０．００２平方ミリメートル以上では、液晶表示装置を
低温にした場合に発生するいわゆる「低温発泡」（液晶
の熱膨張率が液晶表示装置の熱膨張率より大きいため真
空領域が発生し、泡に見える）が発生し易くなり、ま
た、液晶の注入が困難となる、表示品位が低下する等の
弊害が生ずる。
【０１０１】さらに、スペーサをカラー液晶表示装置の
構成材料であるカラーフィルタと同一材料、かつ、同時
に形成することで工程を増やさずスペーサを配置するこ
とができ、かつ、従来の液晶表示装置で必要であったス
ペーサ（ビーズ）の分散散布工程をなすくことができ
る。
構成材料であるカラーフィルタと同一材料、かつ、同時
に形成することで工程を増やさずスペーサを配置するこ
とができ、かつ、従来の液晶表示装置で必要であったス
ペーサ（ビーズ）の分散散布工程をなすくことができ
る。
【０１０２】また、スペーサの長径方向が、液晶表示装
置全面に液晶を均一に注入し易い方向に向いているた
め、液晶の注入を容易にすることができる。
置全面に液晶を均一に注入し易い方向に向いているた
め、液晶の注入を容易にすることができる。
【０１０３】図１３は、第４の発明のアクティブマトリ
ックス型液晶表示素子の断面図であり、図９と同じ構成
であるので、対応する部分に同一符号を付し、説明を省
略する。図１３中に示されるＤは遮光層２２の幅を表し
ている。
ックス型液晶表示素子の断面図であり、図９と同じ構成
であるので、対応する部分に同一符号を付し、説明を省
略する。図１３中に示されるＤは遮光層２２の幅を表し
ている。
【０１０４】図１５は、スペーサ３０の形状を示してお
り、スペーサ３０は、長径ａ、短径ｂ、高さＨの楕円形
状である。そして、スペーサ３０は、（２×Ｈ）≦ｂ＜
ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）となるように形成される。ここ
で、遮光層の幅Ｄよりもスペーサの長径ａが（２）1/2
倍大きく許容されるのは、スペーサの長径方向４３が配
向方向４２と同じ４５度の方向を向いて斜めに遮光層内
に配置されるからである。
り、スペーサ３０は、長径ａ、短径ｂ、高さＨの楕円形
状である。そして、スペーサ３０は、（２×Ｈ）≦ｂ＜
ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）となるように形成される。ここ
で、遮光層の幅Ｄよりもスペーサの長径ａが（２）1/2
倍大きく許容されるのは、スペーサの長径方向４３が配
向方向４２と同じ４５度の方向を向いて斜めに遮光層内
に配置されるからである。
【０１０５】図１６は、更に、ラビング布のダメージを
軽減することを考慮したものであり、楕円柱のラビング
布が最初に当る部分が頂角を持ち、かつ、テーパ面を有
するようになされている。
軽減することを考慮したものであり、楕円柱のラビング
布が最初に当る部分が頂角を持ち、かつ、テーパ面を有
するようになされている。
【０１０６】図１４は、図１３の対向基板２のスペーサ
３０の長径の向き４３と配向方向（ラビング方向）４２
を示した平面図である。スペーサ３０の長径の向き４３
は、配向方向（ラビング方向）４２と同じに設定されて
いる。
３０の長径の向き４３と配向方向（ラビング方向）４２
を示した平面図である。スペーサ３０の長径の向き４３
は、配向方向（ラビング方向）４２と同じに設定されて
いる。
【０１０７】この実施の形態に係る液晶表示素子の製造
法について説明する。まず、対向基板２は次のようにし
て作製した。公知のフォトリソグラフィー工程を用いて
遮光層２２、赤、緑、青のカラーフィルタ２３〜３５、
スペーサ３０を形成した。
法について説明する。まず、対向基板２は次のようにし
て作製した。公知のフォトリソグラフィー工程を用いて
遮光層２２、赤、緑、青のカラーフィルタ２３〜３５、
スペーサ３０を形成した。
【０１０８】具体的に述べると、ガラス基板２１上に、
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、遮光層２２の幅が３０（μｍ）の
パターン形状となるフォトマスクを介して紫外線を、３
００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５
のアルカリ性水溶液で現像し、２００℃、６０分焼成す
ることにより膜厚２．０（μｍ）の遮光層５を形成し
た。
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、遮光層２２の幅が３０（μｍ）の
パターン形状となるフォトマスクを介して紫外線を、３
００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５
のアルカリ性水溶液で現像し、２００℃、６０分焼成す
ることにより膜厚２．０（μｍ）の遮光層５を形成し
た。
【０１０９】続いて、赤色の顔料を分散させた感光性レ
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３の大きさが短
径１５（μｍ）、長径２５（μｍ）、かつ、スペーサ３
の長径の向きが配向膜６の配向方向と平行となり、か
つ、スペーサ３が１平方ミリメートル当たりに占める断
面積の合計が、０．０００９平方ミリメートルとなるよ
うなスペーサ３の形成を含め、赤色の着色層を形成する
部分のみに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介
し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように露光を行っ
た。次に、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒間現
像を行い、２００℃、６０分焼成することにより赤色の
着色層を形成した。
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３の大きさが短
径１５（μｍ）、長径２５（μｍ）、かつ、スペーサ３
の長径の向きが配向膜６の配向方向と平行となり、か
つ、スペーサ３が１平方ミリメートル当たりに占める断
面積の合計が、０．０００９平方ミリメートルとなるよ
うなスペーサ３の形成を含め、赤色の着色層を形成する
部分のみに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介
し露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように露光を行っ
た。次に、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒間現
像を行い、２００℃、６０分焼成することにより赤色の
着色層を形成した。
【０１１０】同様に、緑、青の着色層をスペーサの形成
を含め、繰り返し形成することにより各着色層の膜厚が
１．５（μｍ）であるカラーフィルタ２３〜２５と、遮
光層２２上に３色の着色層が重畳したスペーサ３０が得
られた。
を含め、繰り返し形成することにより各着色層の膜厚が
１．５（μｍ）であるカラーフィルタ２３〜２５と、遮
光層２２上に３色の着色層が重畳したスペーサ３０が得
られた。
【０１１１】ここで、緑の着色材料には、ＣＧ−２００
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
【０１１２】その後、対向電極２６としてのＩＴＯ膜を
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、対向電極２６の全面を覆うようポリイミドを塗布後
ラビング処理することにより配向膜２７を形成した。
スパッタ法にて１５００オングストロームの厚さに成膜
し、対向電極２６の全面を覆うようポリイミドを塗布後
ラビング処理することにより配向膜２７を形成した。
【０１１３】アクティブマトリクス基板１は次のように
して作製した。公知の技術を用いて通常のＴＦＴ１２を
形成するプロセスと同様に成膜とパターニングを繰り返
し、アクティブマトリクス基板１を形成した。ＩＴＯ膜
をスパッタ法を用いて１０００オングストロームの厚さ
に成膜し、公知のフォトリソグラフィー工程を用いて、
パターニングを行い、画素電極１５を形成する。画素電
極１５を覆うポリイミドを塗布後ラビング処理すること
により配向１６を形成した。
して作製した。公知の技術を用いて通常のＴＦＴ１２を
形成するプロセスと同様に成膜とパターニングを繰り返
し、アクティブマトリクス基板１を形成した。ＩＴＯ膜
をスパッタ法を用いて１０００オングストロームの厚さ
に成膜し、公知のフォトリソグラフィー工程を用いて、
パターニングを行い、画素電極１５を形成する。画素電
極１５を覆うポリイミドを塗布後ラビング処理すること
により配向１６を形成した。
【０１１４】アクティブマトリクス基板１と対向基板２
を張合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の
面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして、
アクティブマトリクス基板１の偏光板側外部には、この
液晶表示装置のバックライトとしての光源（図示省略）
を配設した。
を張合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の
面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。そして、
アクティブマトリクス基板１の偏光板側外部には、この
液晶表示装置のバックライトとしての光源（図示省略）
を配設した。
【０１１５】液晶組成物２８は、アクティブマトリクス
基板１と対向基板２との間隙（セルギャップ）に挟持さ
れる液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイス
トネマティック）型のものである。
基板１と対向基板２との間隙（セルギャップ）に挟持さ
れる液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイス
トネマティック）型のものである。
【０１１６】本発明の液晶表示装置のセルギャップは平
均値４．７０（μｍ）で、最大値４．８０（μｍ）、最
小値４．６０（μｍ）と高精度に制御されていた。
均値４．７０（μｍ）で、最大値４．８０（μｍ）、最
小値４．６０（μｍ）と高精度に制御されていた。
【０１１７】また、スペーサの欠損は、認められず、コ
ントラスト比が高く、高品位の表示が得られた。
ントラスト比が高く、高品位の表示が得られた。
【０１１８】また、本実施例では、対向基板２に遮光層
２２、カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０が配置
されているが、アクティブマトリクス基板１に配設して
もよく、アクティブマトリクス基板１に、遮光層２２、
カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０を配置した場
合は、アクティブマトリクス基板１と対向基板２の位置
合わせが不要となり、高品位な液晶表示装置を安価に作
ることができる。
２２、カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０が配置
されているが、アクティブマトリクス基板１に配設して
もよく、アクティブマトリクス基板１に、遮光層２２、
カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０を配置した場
合は、アクティブマトリクス基板１と対向基板２の位置
合わせが不要となり、高品位な液晶表示装置を安価に作
ることができる。
【０１１９】第５発明の実施の形態について説明する。
【０１２０】図１７は、単純マトリクス型の液晶表示素
子の断面図を示しており、図１１と対応する部分には同
一符号を付し、かかる部分の説明は省略する。図１７に
おいて、液晶表示素子は、表示電極１５ａ、遮光層２
２、カラーフィルタ２３〜２５、配向膜２７、楕円柱状
のスペーサ３０、等を有するカラーフィルタ基板３と、
表示電極２６ａ、配向膜１６等を有し、上記カラーフィ
ルタ基板３と対向するように配設された対向基板２ａ
と、これら２枚の基板の間隙に挟持される液晶組成物２
８とからその主要部が構成されている。ここで、図中に
示されるＷは、同一基板上における表示電極間の間隔を
表しており、図１４中の遮光層の幅Ｄに相当するもので
ある。
子の断面図を示しており、図１１と対応する部分には同
一符号を付し、かかる部分の説明は省略する。図１７に
おいて、液晶表示素子は、表示電極１５ａ、遮光層２
２、カラーフィルタ２３〜２５、配向膜２７、楕円柱状
のスペーサ３０、等を有するカラーフィルタ基板３と、
表示電極２６ａ、配向膜１６等を有し、上記カラーフィ
ルタ基板３と対向するように配設された対向基板２ａ
と、これら２枚の基板の間隙に挟持される液晶組成物２
８とからその主要部が構成されている。ここで、図中に
示されるＷは、同一基板上における表示電極間の間隔を
表しており、図１４中の遮光層の幅Ｄに相当するもので
ある。
【０１２１】スペーサ３０は、（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦
（（２）1/2 ×Ｗ）となるように楕円柱状に形成され
る。前述したように、Ｈはスペーサの高さ、ａはスペー
サ（楕円）の長径、ｂはスペーサの短径、である。ここ
で、表示電極間の間隔Ｗよりもスペーサの長径ａが
（２）1/2 倍大きく許容されるのは、スペーサの長径方
向４３が配向方向４２と同じ４５度の方向を向いて斜め
に表示電極間に配置されるからである。但し、後述する
ようにスペーサの長径方向４３が配向方向４２とは異な
る方向に向けられる場合がある。
（（２）1/2 ×Ｗ）となるように楕円柱状に形成され
る。前述したように、Ｈはスペーサの高さ、ａはスペー
サ（楕円）の長径、ｂはスペーサの短径、である。ここ
で、表示電極間の間隔Ｗよりもスペーサの長径ａが
（２）1/2 倍大きく許容されるのは、スペーサの長径方
向４３が配向方向４２と同じ４５度の方向を向いて斜め
に表示電極間に配置されるからである。但し、後述する
ようにスペーサの長径方向４３が配向方向４２とは異な
る方向に向けられる場合がある。
【０１２２】図１８は、上記液晶表示素子のカラーフィ
ルタ基板３のスペーサ３０の長径の向き４３と液晶注入
口の位置４４を示した平面図である。この例では、基板
間の隙間が特に狭い場合に、液晶組成物がよりスムース
に２つの基板間に注入されることを重視したものであ
る。
ルタ基板３のスペーサ３０の長径の向き４３と液晶注入
口の位置４４を示した平面図である。この例では、基板
間の隙間が特に狭い場合に、液晶組成物がよりスムース
に２つの基板間に注入されることを重視したものであ
る。
【０１２３】このため、全てのスペーサ３０を配向方向
４２に揃えて整列するのではなく、個々のスペーサ３０
の長径の方向４３を液晶注入口４４から注入される液晶
組成物２８の流入の方向に沿って定めている。より簡便
には、スペーサ３０の向き４３を液晶注入口４４に向け
る。
４２に揃えて整列するのではなく、個々のスペーサ３０
の長径の方向４３を液晶注入口４４から注入される液晶
組成物２８の流入の方向に沿って定めている。より簡便
には、スペーサ３０の向き４３を液晶注入口４４に向け
る。
【０１２４】また、応用例として、注入される液晶組成
物２８のスムースな流入を妨げる一部の複数のスペーサ
３０の長径の方向４３を液晶注入口４４から注入される
液晶組成物２８の流入の方向（あるいは液晶注入口４４
の位置する方向）に沿って定め、他の液晶組成物２８の
スムースな流入を妨げない複数のスペーサ３０の長径の
方向４３を配向方向等に適宜に揃えるものである。
物２８のスムースな流入を妨げる一部の複数のスペーサ
３０の長径の方向４３を液晶注入口４４から注入される
液晶組成物２８の流入の方向（あるいは液晶注入口４４
の位置する方向）に沿って定め、他の液晶組成物２８の
スムースな流入を妨げない複数のスペーサ３０の長径の
方向４３を配向方向等に適宜に揃えるものである。
【０１２５】この場合、スペーサ３０の長径の角度θは
マトリクスの縦方向あるいは横方向に対して０度〜４５
度の状態となるので、この角度範囲内において上述した
個々のスペーサ３０の形状の寸法条件は、 アクティブ型液晶表示素子の場合 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（１／cos θ）×Ｄ） 単純マトリクス型の場合 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（１／cos θ）×Ｗ） とな
る。
マトリクスの縦方向あるいは横方向に対して０度〜４５
度の状態となるので、この角度範囲内において上述した
個々のスペーサ３０の形状の寸法条件は、 アクティブ型液晶表示素子の場合 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（１／cos θ）×Ｄ） 単純マトリクス型の場合 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（１／cos θ）×Ｗ） とな
る。
【０１２６】例えば、θ＝０度の場合、 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦Ｗ θ＝４５度の場合、（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2
×Ｗ） となる。この実施の形態に係る液晶表示素子の
製造法について説明する。まず、カラーフィルタ基板３
は、次のようにして作製した。
×Ｗ） となる。この実施の形態に係る液晶表示素子の
製造法について説明する。まず、カラーフィルタ基板３
は、次のようにして作製した。
【０１２７】公知のフォトリソグラフィー工程を用いて
遮光層２２、カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０
を形成した。具体的に述べると、ガラス基板２１上に、
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、所定のパターン形状のフォトマス
クを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照
射した後、ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像
し、２００℃、６０分焼成することにより膜厚１．５
（μｍ）の遮光層２２を形成した。
遮光層２２、カラーフィルタ２３〜２５、スペーサ３０
を形成した。具体的に述べると、ガラス基板２１上に、
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、所定のパターン形状のフォトマス
クを介して紫外線を、３００ｍＪ／ｃｍ2 の露光量で照
射した後、ｐＨ＝１１．５のアルカリ性水溶液で現像
し、２００℃、６０分焼成することにより膜厚１．５
（μｍ）の遮光層２２を形成した。
【０１２８】続いて、赤色の顔料を分散させた感光性レ
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３０の大きさが
短径９（μｍ）、長径１８（μｍ）、かつ、スペーサ３
０の長径の向きが液晶注入口４４に向き、かつ、スペー
サ３０が１平方ミリメートル当たりに占める断面積の合
計が、０．０００７平方ミリメートルとなるようなスペ
ーサ３０の形成を含め、赤色の着色層を形成する部分の
みに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介し露光
量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように露光を行った。そ
の後、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒間現像を
行い、２００℃、６０分焼成することにより赤色の着色
層を形成した。
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３０の大きさが
短径９（μｍ）、長径１８（μｍ）、かつ、スペーサ３
０の長径の向きが液晶注入口４４に向き、かつ、スペー
サ３０が１平方ミリメートル当たりに占める断面積の合
計が、０．０００７平方ミリメートルとなるようなスペ
ーサ３０の形成を含め、赤色の着色層を形成する部分の
みに紫外線が照射されるようなフォトマスクを介し露光
量が１００ｍＪ／ｃｍ2 となるように露光を行った。そ
の後、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２０秒間現像を
行い、２００℃、６０分焼成することにより赤色の着色
層を形成した。
【０１２９】同様に、緑、青の着色層を繰り返し形成す
ることにより各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカ
ラーフィルタ２３〜２５を形成したが、基板間の隙間を
比較的に狭く形成するために緑と青の着色層ではスペー
サ３０は形成せず、遮光層２２上には赤色の着色層のみ
からなるスペーサ３０を形成した。ここで、緑の着色材
料には、ＣＧ−２０００（富士ハントエレクトロニクス
テクノロジー（株）製）、青の着色材料にはＣＢ−２０
００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）を用いた。
ることにより各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカ
ラーフィルタ２３〜２５を形成したが、基板間の隙間を
比較的に狭く形成するために緑と青の着色層ではスペー
サ３０は形成せず、遮光層２２上には赤色の着色層のみ
からなるスペーサ３０を形成した。ここで、緑の着色材
料には、ＣＧ−２０００（富士ハントエレクトロニクス
テクノロジー（株）製）、青の着色材料にはＣＢ−２０
００（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）を用いた。
【０１３０】表示電極１５ａとしてＩＴＯ膜をスパッタ
法にて１５００オングストロームの厚さに成膜し、公知
のフォトリソグラフィー工程を用いて線幅８０（μ
ｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状にパ
ターニングした。次に、表示電極１５ａの全面を覆うよ
うポリイミドを塗布後ラビング処理することにより配向
膜２７を形成した。
法にて１５００オングストロームの厚さに成膜し、公知
のフォトリソグラフィー工程を用いて線幅８０（μ
ｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにストライプ状にパ
ターニングした。次に、表示電極１５ａの全面を覆うよ
うポリイミドを塗布後ラビング処理することにより配向
膜２７を形成した。
【０１３１】対向基板２ａは次のようにして作製した。
【０１３２】ガラス基板１１上に、表示電極２６ａとし
てＩＴＯ膜をスパッタ法にて１５００オングストローム
の厚さに成膜し、公知のフォトリソグラフィー法を用い
て線幅８０（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにス
トライプ状にパターニングした。次に、表示電極２６ａ
の全面を覆うようポリイミドを塗布後ラビング処理する
ことにより配向膜１６を形成した。
てＩＴＯ膜をスパッタ法にて１５００オングストローム
の厚さに成膜し、公知のフォトリソグラフィー法を用い
て線幅８０（μｍ）、間隔２０（μｍ）となるようにス
トライプ状にパターニングした。次に、表示電極２６ａ
の全面を覆うようポリイミドを塗布後ラビング処理する
ことにより配向膜１６を形成した。
【０１３３】カラーフィルタ基板３と対向基板２ａを張
り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の面
に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。
り合わせた後、両基板の液晶と接する面とは反対側の面
に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省略）。
【０１３４】そして、カラーフィルタ基板３の偏光板側
外部には、この液晶表示素子のバックライトとしての光
源（図示省略）を配設した。
外部には、この液晶表示素子のバックライトとしての光
源（図示省略）を配設した。
【０１３５】液晶組成物２８は、上記のカラーフィルタ
基板３と対向基板２ａとの間隙（セルギャップ）に挟持
される液晶であって、強誘電性液晶を用いた。
基板３と対向基板２ａとの間隙（セルギャップ）に挟持
される液晶であって、強誘電性液晶を用いた。
【０１３６】本実施の形態の液晶表示素子のセルギャッ
プは、平均１．７（μｍ）で、最大値１．７２（μ
ｍ）、最小値１．６８（μｍ）と高精度に制御されてい
た。また、スペーサ３０の長径の向きは、配向膜２７の
配向方向と平行でないがスペーサの高さが低いため、ラ
ビング処理の際にスペーサ３に加わる負荷が少ないた
め、スペーサの欠損は認められず、コントラスト比が高
く、高品位の表示が得られた。
プは、平均１．７（μｍ）で、最大値１．７２（μ
ｍ）、最小値１．６８（μｍ）と高精度に制御されてい
た。また、スペーサ３０の長径の向きは、配向膜２７の
配向方向と平行でないがスペーサの高さが低いため、ラ
ビング処理の際にスペーサ３に加わる負荷が少ないた
め、スペーサの欠損は認められず、コントラスト比が高
く、高品位の表示が得られた。
【０１３７】また、本実施の形態では、強誘電性液晶を
使用したため、セルギャップは、平均１．７（μｍ）と
非常に狭いにも係わらず、短時間で、かつ、均一に液晶
材料を注入することができた。
使用したため、セルギャップは、平均１．７（μｍ）と
非常に狭いにも係わらず、短時間で、かつ、均一に液晶
材料を注入することができた。
【０１３８】また、本実施の形態では、スペーサ３０の
長径の向き４３を全て１個の液晶注入口４４に向けた
が、液晶表示装置全面に均一に注入できればよく、注入
口の複数化、流体力学的に最も流動抵抗が小さくなるよ
うな適当な配置にすることができる。
長径の向き４３を全て１個の液晶注入口４４に向けた
が、液晶表示装置全面に均一に注入できればよく、注入
口の複数化、流体力学的に最も流動抵抗が小さくなるよ
うな適当な配置にすることができる。
【０１３９】第６の発明について図面を参照して説明す
る。図２０に示す表は、高さ、最大幅、最小幅で特定さ
れるスペーサの機械的強度を確認するために、スペーサ
に最も機械的強度が要求されるラビング処理を行い、ス
ペーサの欠損状態を確認したものである。この例では、
長手のスペーサの使用を考慮しているため、スペーサの
最大幅の方向がラビング方向と一致することを前提とし
ていない。ここで、スペーサの最大幅とは、基板表面と
平行な面におけるスペーサ断面の最大幅をいうものとす
る。スペーサの最小幅とは、基板表面と平行な面におけ
るスペーサ断面の最小幅をいうものとする。
る。図２０に示す表は、高さ、最大幅、最小幅で特定さ
れるスペーサの機械的強度を確認するために、スペーサ
に最も機械的強度が要求されるラビング処理を行い、ス
ペーサの欠損状態を確認したものである。この例では、
長手のスペーサの使用を考慮しているため、スペーサの
最大幅の方向がラビング方向と一致することを前提とし
ていない。ここで、スペーサの最大幅とは、基板表面と
平行な面におけるスペーサ断面の最大幅をいうものとす
る。スペーサの最小幅とは、基板表面と平行な面におけ
るスペーサ断面の最小幅をいうものとする。
【０１４０】ＴＦＴ−液晶表示素子のスペーサの高さＨ
を５μｍ、遮光層の幅Ｄを３０μｍとし、最大幅ａ、最
小幅ｂ、を種々の値に設定してスペーサの欠損状態を観
察した。表中の○は、ラビング後、スペーサに明らかな
欠損がないもの、△は、ラビング後、スペーサに明らか
な欠損が生じたもの、×は、ラビング後、スペーサに明
らかな欠損が生じたものを示している。
を５μｍ、遮光層の幅Ｄを３０μｍとし、最大幅ａ、最
小幅ｂ、を種々の値に設定してスペーサの欠損状態を観
察した。表中の○は、ラビング後、スペーサに明らかな
欠損がないもの、△は、ラビング後、スペーサに明らか
な欠損が生じたもの、×は、ラビング後、スペーサに明
らかな欠損が生じたものを示している。
【０１４１】この結果、スペーサの最小幅ｂがスペーサ
の高さＨより小さく、スペーサの最大幅が遮光層幅より
小さいと、ラビング工程でスペーサの欠落が認められ
た。従って、長手形状のスペーサの形状条件は、まず、
Ｈ≦ｂ、Ｄ＜ａとなる。更に、最大幅・最小幅の関係よ
り、ｂ＜ａ、スペーサが画素領域にはみ出さないように
するためにはｂ≦Ｄであることが必要であるから、長手
形状のスペーサの形状条件は、アクティブ型マトリクス
液晶素子の場合には、 Ｈ≦ｂ＜Ｄ≦ａ 単純マトリックス型液晶表示素子の場合には、Ｈ≦ｂ＜
Ｗ≦ａ となる。ここで、Ｗは、図１７に示す表示電
極間の間隔である。
の高さＨより小さく、スペーサの最大幅が遮光層幅より
小さいと、ラビング工程でスペーサの欠落が認められ
た。従って、長手形状のスペーサの形状条件は、まず、
Ｈ≦ｂ、Ｄ＜ａとなる。更に、最大幅・最小幅の関係よ
り、ｂ＜ａ、スペーサが画素領域にはみ出さないように
するためにはｂ≦Ｄであることが必要であるから、長手
形状のスペーサの形状条件は、アクティブ型マトリクス
液晶素子の場合には、 Ｈ≦ｂ＜Ｄ≦ａ 単純マトリックス型液晶表示素子の場合には、Ｈ≦ｂ＜
Ｗ≦ａ となる。ここで、Ｗは、図１７に示す表示電
極間の間隔である。
【０１４２】この発明によれば、スペーサの最小幅が、
スペーサの高さ以上、かつ、スペーサの最大幅が遮光層
の幅より大きいため、スペーサ機能としての機械的強度
が十分得られ、スペーサに最も機械的強度が要求される
配向膜の配向処理としてのラビング処理などにおいても
スペーサの欠け、剥がれの発生しない十分な強度が得ら
れる。
スペーサの高さ以上、かつ、スペーサの最大幅が遮光層
の幅より大きいため、スペーサ機能としての機械的強度
が十分得られ、スペーサに最も機械的強度が要求される
配向膜の配向処理としてのラビング処理などにおいても
スペーサの欠け、剥がれの発生しない十分な強度が得ら
れる。
【０１４３】これに対し、スペーサの最小幅が、スペー
サの高さ未満、かつ、スペーサの最大幅が遮光層の幅よ
り小さい場合は、スペーサ機能としての機械的強度が不
足となり、配向膜のラビング処理などでスペーサの欠
け、剥がれ等が発生する。
サの高さ未満、かつ、スペーサの最大幅が遮光層の幅よ
り小さい場合は、スペーサ機能としての機械的強度が不
足となり、配向膜のラビング処理などでスペーサの欠
け、剥がれ等が発生する。
【０１４４】また、スペーサの最小幅が遮光層の幅より
小さいため、スペーサが画素内に入り込まず、表示品位
が低下することがない。
小さいため、スペーサが画素内に入り込まず、表示品位
が低下することがない。
【０１４５】スペーサをカラー液晶表示素子の構成材料
であるカラーフィルタと同一材料、かつ、同時に形成す
ることで工程を増やさずスペーサを配置することができ
る。従来の液晶表示素子で必要であったスペーサ（粒
子）の分散散布工程をなくすことができる。
であるカラーフィルタと同一材料、かつ、同時に形成す
ることで工程を増やさずスペーサを配置することができ
る。従来の液晶表示素子で必要であったスペーサ（粒
子）の分散散布工程をなくすことができる。
【０１４６】第６の発明の実施の形態について図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【０１４７】図２１は、この発明に係る液晶表示素子の
断面図であり、対向電極２６、スペーサ３０、カラーフ
ィルタ２３〜２５、遮光層２２、配向膜２６等を有する
対向基板２１と、スイッチング素子としてのＴＦＴ（薄
膜トランジスタ）１２、走査線１ｆ、透明電極としての
画素電極１５、配向膜１６等を有し、上記対向基板２と
対向するように配設されたアクティブマトリクス基板１
と、これら２枚の基板間隙に挟持される液晶組成物２８
とからその主要部が構成されている。
断面図であり、対向電極２６、スペーサ３０、カラーフ
ィルタ２３〜２５、遮光層２２、配向膜２６等を有する
対向基板２１と、スイッチング素子としてのＴＦＴ（薄
膜トランジスタ）１２、走査線１ｆ、透明電極としての
画素電極１５、配向膜１６等を有し、上記対向基板２と
対向するように配設されたアクティブマトリクス基板１
と、これら２枚の基板間隙に挟持される液晶組成物２８
とからその主要部が構成されている。
【０１４８】図２２は、本発明の対向基板２のスペーサ
３０の位置を示した平面図である。スペーサ３０は長手
の形状をしており、図示の例では長方形である。スペー
サの最大幅ａ、最小幅ｂ、スペーサの高さＨ、遮光層幅
Ｄは、Ｈ≦ｂ＜Ｄ≦ａとなるように形成されている。
３０の位置を示した平面図である。スペーサ３０は長手
の形状をしており、図示の例では長方形である。スペー
サの最大幅ａ、最小幅ｂ、スペーサの高さＨ、遮光層幅
Ｄは、Ｈ≦ｂ＜Ｄ≦ａとなるように形成されている。
【０１４９】この実施の形態に示される液晶表示素子は
以下の製造法によって得ることができる。まず、この対
向基板２１は次のようにして作製した。公知のフォトリ
ソグラフィー工程を用いて遮光層２２、カラーフィルタ
２３〜２５、スペーサ３０を形成した。
以下の製造法によって得ることができる。まず、この対
向基板２１は次のようにして作製した。公知のフォトリ
ソグラフィー工程を用いて遮光層２２、カラーフィルタ
２３〜２５、スペーサ３０を形成した。
【０１５０】具体的に述べると、ガラス基板２１上に、
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、遮光層５の幅が２５（μｍ）のパ
ターン形状となるフォトマスクを介して紫外線を、３０
０mJ／cm2 の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５のアル
カリ性水溶液で現像し、２００℃、６０分間焼成するこ
とにより膜厚２．０（μｍ）の遮光層５を形成した。
感光性の黒色樹脂をスピンナーを用いて塗布し、９０
℃、１０分間乾燥後、遮光層５の幅が２５（μｍ）のパ
ターン形状となるフォトマスクを介して紫外線を、３０
０mJ／cm2 の露光量で照射した後ｐＨ＝１１．５のアル
カリ性水溶液で現像し、２００℃、６０分間焼成するこ
とにより膜厚２．０（μｍ）の遮光層５を形成した。
【０１５１】続いて、赤色の顔料を分散させた感光性レ
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３の断面形状の
最小幅１５（μｍ）、最大幅４０（μｍ）となり、スペ
ーサ３０の位置が遮光層２２上となるスペーサ３０の形
成を含め、赤色の着色層を形成する部分のみに紫外線が
照射されるようなフォトマスクを介し露光量が１００mJ
／cm2 となるように露光を行った。
ジストＣＲ−２０００（富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー（株）製）をスピンナーを用いて全面塗布
し、９０℃、１０分の乾燥後、スペーサ３の断面形状の
最小幅１５（μｍ）、最大幅４０（μｍ）となり、スペ
ーサ３０の位置が遮光層２２上となるスペーサ３０の形
成を含め、赤色の着色層を形成する部分のみに紫外線が
照射されるようなフォトマスクを介し露光量が１００mJ
／cm2 となるように露光を行った。
【０１５２】次に、水酸化カリウム１ｗｔ％水溶液で２
０秒間現像を行い、２００℃、６０分焼成することによ
り赤色の着色層を形成した。同様に、緑、青の着色層を
スペーサ３の形成を含め、繰り返し形成することにより
各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカラーフィルタ
２３〜２５と、遮光層２２上に３色の着色層が重畳した
スペーサ３０が得られた。スペーサ３０の基板表面から
の高さは６．３（μｍ）であった。
０秒間現像を行い、２００℃、６０分焼成することによ
り赤色の着色層を形成した。同様に、緑、青の着色層を
スペーサ３の形成を含め、繰り返し形成することにより
各着色層の膜厚が１．５（μｍ）であるカラーフィルタ
２３〜２５と、遮光層２２上に３色の着色層が重畳した
スペーサ３０が得られた。スペーサ３０の基板表面から
の高さは６．３（μｍ）であった。
【０１５３】ここで、緑の着色材料には、ＣＧ−２００
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
０（富士ハントエレクトロニクステクノロジー（株）
製）、青の着色材料にはＣＢ−２０００（富士ハントエ
レクトロニクステクノロジー（株）製）を用いた。
【０１５４】その後、対向電極２６としてのＩＴＯ膜を
スパッタ法にて１５００Ａの厚さに成膜し、対向電極２
６の全面を覆うようにポリイミドを塗布後、ラビング処
理することにより配向膜２６を形成した。
スパッタ法にて１５００Ａの厚さに成膜し、対向電極２
６の全面を覆うようにポリイミドを塗布後、ラビング処
理することにより配向膜２６を形成した。
【０１５５】アクティブマトリクス基板１は次のように
して作製した。ガラス基板１１上に、公知の技術を用い
て通常のＴＦＴ１２を形成するプロセスと同様に成膜と
パターニングを繰り返し、アレイ基板を形成した。次
に、酸化珪素膜をスパッタ法を用いて２０００Ａ（オン
グストローム）の厚さに成膜し、公知のフォトリソグラ
フィー工程を用いて、パターニングを行い、保護膜１ｅ
を形成し、ＩＴＯ膜をスパッタ法を用いて１０００Ａの
厚さに成膜し、公知のフォトリソグラフィー工程を用い
て、パターニングを行い、画素電極１５を形成し、画素
電極１５を覆うようポリイミドを塗布後ラビング処理す
ることにより配向膜１６を形成した。
して作製した。ガラス基板１１上に、公知の技術を用い
て通常のＴＦＴ１２を形成するプロセスと同様に成膜と
パターニングを繰り返し、アレイ基板を形成した。次
に、酸化珪素膜をスパッタ法を用いて２０００Ａ（オン
グストローム）の厚さに成膜し、公知のフォトリソグラ
フィー工程を用いて、パターニングを行い、保護膜１ｅ
を形成し、ＩＴＯ膜をスパッタ法を用いて１０００Ａの
厚さに成膜し、公知のフォトリソグラフィー工程を用い
て、パターニングを行い、画素電極１５を形成し、画素
電極１５を覆うようポリイミドを塗布後ラビング処理す
ることにより配向膜１６を形成した。
【０１５６】次に、アクティブマトリクス基板１と対向
基板２とを張り合わせた後、両基板の液晶と接する面と
は反対側の面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省
略）。そして、アクティブマトリクス基板１の偏光板側
外部には、この液晶表示素子のバックライトとしての光
源（図示省略）を配設した。
基板２とを張り合わせた後、両基板の液晶と接する面と
は反対側の面に偏光板をそれぞれ貼設した（図示省
略）。そして、アクティブマトリクス基板１の偏光板側
外部には、この液晶表示素子のバックライトとしての光
源（図示省略）を配設した。
【０１５７】液晶組成物２８は、アクティブマトリクス
基板１と対向基板２との間隙（セルギャップ）に挟持さ
れる液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイス
トネマティック）型のものである。
基板１と対向基板２との間隙（セルギャップ）に挟持さ
れる液晶であって、その組成は、一般的なＴＮ（ツイス
トネマティック）型のものである。
【０１５８】本発明の液晶表示装置のセルギャップは平
均値４．７０（μｍ）で、最大値４．８０（μｍ）、最
小値４．６０（μｍ）と高精度に制御されていた。ま
た、スペーサの欠損は、認められず、コントラスト比が
高く、高品位の表示が得られた。
均値４．７０（μｍ）で、最大値４．８０（μｍ）、最
小値４．６０（μｍ）と高精度に制御されていた。ま
た、スペーサの欠損は、認められず、コントラスト比が
高く、高品位の表示が得られた。
【０１５９】なお、上述の実施の形態では、 （１）スペーサ３０の断面形状が長方形であったが、図
２３に示すように、楕円、菱形、三角形、台形等のいず
れの長手形状のものであっもよい。
２３に示すように、楕円、菱形、三角形、台形等のいず
れの長手形状のものであっもよい。
【０１６０】（２）対向基板２に遮光層２２、カラーフ
ィルタ２３〜２５、スペーサ３０が配置されているが、
これ等をアクティブマトリクス基板１に配設してもよ
い。こうした場合は、アクティブマトリクス基板１と対
向基板２との位置合わせが不要となり、高品位な液晶表
示装置を安価に作ることが可能となる。
ィルタ２３〜２５、スペーサ３０が配置されているが、
これ等をアクティブマトリクス基板１に配設してもよ
い。こうした場合は、アクティブマトリクス基板１と対
向基板２との位置合わせが不要となり、高品位な液晶表
示装置を安価に作ることが可能となる。
【０１６１】（３）カラーフィルタの材料として顔料を
分散させた感光性レジストを用いたが、感光性レジスト
によらず、顔料を分散させた着色樹脂を、公知のフォト
リソグラフィー工程を用いて、エッチングによりパター
ニングしても良い。
分散させた感光性レジストを用いたが、感光性レジスト
によらず、顔料を分散させた着色樹脂を、公知のフォト
リソグラフィー工程を用いて、エッチングによりパター
ニングしても良い。
【０１６２】（４）遮光層２２の材料として顔料を分散
させた感光性レジストを用いたが、感光性レジストによ
らず、顔料を分散させた着色樹脂を、公知のフォトリソ
グラフィー工程を用いて、エッチングによりパターニン
グしても良い。また、金属クロム（Ｃｒ）、酸化クロム
（ＣｒＯ）等の樹脂以外でも良い。
させた感光性レジストを用いたが、感光性レジストによ
らず、顔料を分散させた着色樹脂を、公知のフォトリソ
グラフィー工程を用いて、エッチングによりパターニン
グしても良い。また、金属クロム（Ｃｒ）、酸化クロム
（ＣｒＯ）等の樹脂以外でも良い。
【０１６３】遮光層２２を設けずに、非遮光性部材が遮
光層としての機能を兼ねるようにしても良く、非透光性
部材上にスペーサ３０を設けても、本発明と同様の効果
が得られる。
光層としての機能を兼ねるようにしても良く、非透光性
部材上にスペーサ３０を設けても、本発明と同様の効果
が得られる。
【０１６４】（５）アクティブマトリックス型液晶表示
素子で記述したが、単純マトリックス型液晶表示素子な
どでも良い。
素子で記述したが、単純マトリックス型液晶表示素子な
どでも良い。
【０１６５】（６）３色の着色層を重ねてスペーサ３を
形成したが、２色や１色でも、所望のセルギャップが得
られれば良い。
形成したが、２色や１色でも、所望のセルギャップが得
られれば良い。
【０１６６】
【発明の効果】第１の発明によれば、スペーサの頂角部
分が最初にラビング布の毛足に当るようにして毛足がス
ペーサをスムースに回り込むようにし、また、テーパを
付けることによってラビング布の毛足が受ける抵抗を減
らしているので、ラビング布の毛足の曲がりに起因する
表示不良を防ぐことが可能となり、表示性能の高く、信
頼性のある液晶表示素子を得ることが出来る。また、ス
ペーサの全体の配置をラビング方向に整列させることに
よってラビング布へのダメージを全体的に軽減すること
が可能となる。
分が最初にラビング布の毛足に当るようにして毛足がス
ペーサをスムースに回り込むようにし、また、テーパを
付けることによってラビング布の毛足が受ける抵抗を減
らしているので、ラビング布の毛足の曲がりに起因する
表示不良を防ぐことが可能となり、表示性能の高く、信
頼性のある液晶表示素子を得ることが出来る。また、ス
ペーサの全体の配置をラビング方向に整列させることに
よってラビング布へのダメージを全体的に軽減すること
が可能となる。
【０１６７】第２の発明によれば、スペーサを起点とし
たラビングなどによる配向処理で発生する配向不良領域
が画素内に到達しない位置にスペーサを配置してあるた
め、表示品位の低下を防止することができる。
たラビングなどによる配向処理で発生する配向不良領域
が画素内に到達しない位置にスペーサを配置してあるた
め、表示品位の低下を防止することができる。
【０１６８】第３の発明によれば、スペーサを起点とし
た、ラビングなどによる配向処理で発生する配向不良領
域が、人間の視覚特性において、比較的感度の良い緑色
画素領域には入り込まないようにスペーサを配置したた
め、表示品位の低下を可及的に抑制することが可能とな
る。
た、ラビングなどによる配向処理で発生する配向不良領
域が、人間の視覚特性において、比較的感度の良い緑色
画素領域には入り込まないようにスペーサを配置したた
め、表示品位の低下を可及的に抑制することが可能とな
る。
【０１６９】なお、第２及び第３の発明によれば、第１
の発明のようにスペーサを特殊な形状に形成するもので
はないので、カラー液晶表示装置の構成材料であるカラ
ーフィルタと同一材料により、フィルタと同時に形成す
ることができ、工程を増やさずスペーサを配置すること
ができる。
の発明のようにスペーサを特殊な形状に形成するもので
はないので、カラー液晶表示装置の構成材料であるカラ
ーフィルタと同一材料により、フィルタと同時に形成す
ることができ、工程を増やさずスペーサを配置すること
ができる。
【０１７０】第４及び第５の発明によれば、スペーサに
最も機械的強度が要求される配向膜に配向性を付与する
ラビング工程においても、スペーサの形状が楕円柱であ
り、スペーサの高さＨ、スペーサの長径ａ、スペーサの
短径ｂ、遮光層の幅Ｄ、表示電極間の同一基板上での間
隔Ｗとしたとき、アクティブマトリックス型液晶表示装
置では（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）の条件
を満たし、単純マトリックス型液晶表示装置では（２×
Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ）の条件を満たし、か
つ、スペーサの長径方向を配向膜の配向方向と同方向と
することにより、スペーサの強度を保ち、かつ、スペー
サに加わる負荷を最小限にすることができる。
最も機械的強度が要求される配向膜に配向性を付与する
ラビング工程においても、スペーサの形状が楕円柱であ
り、スペーサの高さＨ、スペーサの長径ａ、スペーサの
短径ｂ、遮光層の幅Ｄ、表示電極間の同一基板上での間
隔Ｗとしたとき、アクティブマトリックス型液晶表示装
置では（２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ）の条件
を満たし、単純マトリックス型液晶表示装置では（２×
Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ）の条件を満たし、か
つ、スペーサの長径方向を配向膜の配向方向と同方向と
することにより、スペーサの強度を保ち、かつ、スペー
サに加わる負荷を最小限にすることができる。
【０１７１】また、通常の液晶表示装置に要求される基
板間距離１〜１０（μｍ）程度を均一に実現するため
に、スペーサが１平方ミリメートル当たりに占める、上
記基板と平行な面における断面積の合計が、０．０００
１平方ミリメートルを越え、０．００２平方ミリメート
ル未満であるようにしたので、２枚の基板間距離を画面
内で均一精密制御することができる。
板間距離１〜１０（μｍ）程度を均一に実現するため
に、スペーサが１平方ミリメートル当たりに占める、上
記基板と平行な面における断面積の合計が、０．０００
１平方ミリメートルを越え、０．００２平方ミリメート
ル未満であるようにしたので、２枚の基板間距離を画面
内で均一精密制御することができる。
【０１７２】スペーサの長径方向を２つの基板の隙間内
の液晶の流入方向に沿って定め、抵抗を軽減することに
より、スペーサとしての機械的強度を保ちつつ、液晶の
注入を容易にするとが可能となる。
の液晶の流入方向に沿って定め、抵抗を軽減することに
より、スペーサとしての機械的強度を保ちつつ、液晶の
注入を容易にするとが可能となる。
【０１７３】第６の発明の液晶表示素子は、スペーサの
高さＨ≦スペーサの最小幅ｂ≦遮光層幅Ｄ＜スペーサの
最大幅ａとなるように、スペーサの形状を定めたので、
スペーサ機能としての機械的強度が十分得られ、スペー
サに最も機械的強度が要求される配向膜の配向処理とし
てのラビング処理などにおいてもスペーサの欠け、剥が
れの発生しない十分な強度が得られる。
高さＨ≦スペーサの最小幅ｂ≦遮光層幅Ｄ＜スペーサの
最大幅ａとなるように、スペーサの形状を定めたので、
スペーサ機能としての機械的強度が十分得られ、スペー
サに最も機械的強度が要求される配向膜の配向処理とし
てのラビング処理などにおいてもスペーサの欠け、剥が
れの発生しない十分な強度が得られる。
【０１７４】また、スペーサの最小幅が遮光層の幅より
小さいため、スペーサが画素内に入り込まないため、表
示品位が低下することがない。
小さいため、スペーサが画素内に入り込まないため、表
示品位が低下することがない。
【図１】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面図
である。
である。
【図２】アクティブマトリクス基板１の構成を説明する
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の液晶表示素子におけるスペーサ形状の
概略を説明する説明図である。
概略を説明する説明図である。
【図４】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面図
である。
である。
【図５】本発明の液晶表示素子におけるスペーサ形状の
概略を説明する説明図である。
概略を説明する説明図である。
【図６】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面図
である。
である。
【図７】本発明の液晶表示素子におけるスペーサ形状の
概略を説明する説明図である。
概略を説明する説明図である。
【図８】本発明の液晶表示素子におけるスペーサの配列
の例を説明する説明図である。
の例を説明する説明図である。
【図９】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面図
である。
である。
【図１０】本発明の液晶表示素子におけるスペーサの配
置場所を説明する説明図である。
置場所を説明する説明図である。
【図１１】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面
図である。
図である。
【図１２】本発明の液晶表示素子におけるスペーサの配
置場所を説明する説明図である。
置場所を説明する説明図である。
【図１３】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面
図である。
図である。
【図１４】本発明の液晶表示素子における楕円柱状スペ
ーサの配置場所及び方向を説明する説明図である。
ーサの配置場所及び方向を説明する説明図である。
【図１５】楕円柱状スペーサの例を説明する斜視図であ
る。
る。
【図１６】楕円柱状スペーサの他の例を説明する斜視図
である。
である。
【図１７】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面
図である。
図である。
【図１８】本発明の液晶表示素子におけるスペーサの配
置場所及び方向を説明する説明図である。
置場所及び方向を説明する説明図である。
【図１９】ラビング方向と同じ方向に長径方向が配置さ
れた楕円柱スペーサがラビング処理によって受けるダメ
ージの実験結果を示す図である。
れた楕円柱スペーサがラビング処理によって受けるダメ
ージの実験結果を示す図である。
【図２０】ラビング方向とは無関係な方向に長手方向が
配置された長手のスペーサがラビング処理によって受け
るダメージの実験結果を示す図である。
配置された長手のスペーサがラビング処理によって受け
るダメージの実験結果を示す図である。
【図２１】本発明の液晶表示素子の概略を説明する断面
図である。
図である。
【図２２】本発明の液晶表示素子における長手スペーサ
の配置場所及び方向を説明する説明図である。
の配置場所及び方向を説明する説明図である。
【図２３】長手スペーサの例を説明をする説明図であ
る。
る。
１ アクティブマトリクス基板 ２ 対向基板 ３ カラーフィルタ基板 １１，２１ ガラス基板 １２ 能動素子（ＴＦＴ） １５ 画素電極、 １５ａ 表示電極 １４ ゲート線 １３ 信号線 １６，２７ 配向膜 ２２ 遮光層 ２３ 着色層（Ｒ） ２４ 着色層（Ｇ） ２５ 着色層（Ｂ） ２６ 共通電極 ２６ａ 表示電極 ２８ 液晶組成物 ３０ スペーサ ３１ ＴＦＴ遮光領域 ４１ 配向不良領域 ４２ 配向方向（ラビング方向） ４３ スペーサの長径方向 ４４ 液晶注入口
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年１０月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図１５】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１６】
【図２３】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
フロントページの続き (72)発明者 倉 内 昭 一 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 羽 藤 仁 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 上 埜 亜希子 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番地 株 式会社東芝横浜事業所内
Claims (18)
- 【請求項１】一主面上に互いに交差するように配列され
た複数の走査線及び複数の信号線と、前記走査線及び前
記信号線の交差部毎に形成され、当該走査線及び信号線
に接続された複数のスイッチング素子と、複数のスイッ
チング素子に夫々接続される複数の画素電極と、前記複
数の画素電極上に形成されて表面にラビング処理が施さ
れる第１の配向膜と、を有するアクティブマトリクス基
板と、 共通電極と、格子状に形成されてマトリクス状に配列さ
れた複数の画素領域を開口する遮光層と、前記画素領域
に配置され着色層よりなる複数のカラーフィルタと、前
記遮光層上に形成される柱状突起をなす複数のスペーサ
と、これ等の上に形成されて表面にラビング処理が施さ
れる第２の配向膜と、を一主面上に有する対向基板と、 前記アクティブマトリクス基板及び前記対向基板が対向
するように前記複数のスペーサを介して両基板を当接さ
せて、両基板間に挟持される液晶組成物と、 を備える液晶表示素子であって、 前記対向基板と平行な面による前記複数のスペーサの断
面形状の頂部が前記対向基板のラビング処理による配向
方向の上流に向って存在する、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項２】前記スペーサの断面形状が多角形状又は楕
円形状であり、前記断面形状の長手方向が前記配向方向
に位置する、 ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。 - 【請求項３】前記多角形が三角形状又はひし形状であ
る、 ことを特徴とする請求項２記載の液晶表示素子。 - 【請求項４】前記スペーサの形状の少なくとも一部が前
記配向方向の上流側から下流側に向って高くなるテーパ
面を有する、 ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の液
晶表示素子。 - 【請求項５】前記複数のスペーサが前記配向方向に整列
している、 ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の液
晶素子。 - 【請求項６】互いに対向して配置されて間に液晶を挟持
する２つの絶縁性基板の間に、複数の画素領域をマトリ
クス状あるいはストライプ状に開口する遮光層と、前記
開口した部分に配置されるカラーフィルタ層と、前記２
つの絶縁性基板間の隙間を確保するスペーサと、前記液
晶に特定方向の配向を与える配向処理が施される配向膜
と、を少なくとも有する液晶表示素子であって、 前記スペーサは、前記遮光層上の開口近傍に配置されか
つ前記特定方向の上流側に位置するようになされて、前
記スペーサを起点として発生した配向不良領域が前記画
素領域内に入らないようになされる、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項７】互いに対向して配置されて間に液晶を挟持
する２つの絶縁性基板の間に、複数の画素領域をマトリ
クス状あるいはストライプ状に開口する遮光層と、前記
開口した部分に配置されるカラーフィルタ層と、前記２
つの絶縁性基板間の隙間を確保するスペーサと、前記液
晶に特定方向の配向を与える配向処理が施される配向膜
と、を少なくとも有する液晶表示素子であって、 前記スペーサは、前記遮光層上の開口近傍に位置し、か
つ、この位置から前記特定方向の下流側で緑色のカラー
フィルタに隣接しない位置に配置される、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項８】前記スペーサが、赤色フィルタ領域、青色
フィルタ領域、または、赤色フィルタと青色フィルタの
両領域に隣接して配置される、 ことを特徴とする請求項７記載の液晶表示素子。 - 【請求項９】前記スペーサが、カラーフィルタと同一材
料、かつ、同時に形成されたものであることを特徴とす
る請求項７又は８記載の液晶表示素子。 - 【請求項１０】互いに対向して配置されて間に液晶を挟
持する２つの絶縁性基板と、 前記絶縁性基板の何れか一方の内向する面に設けられ
る、格子状に形成されてマトリクス状に配列された複数
の画素領域を開口する遮光層、前記複数の画素領域に配
置される複数の画素電極、前記複数の画素電極を夫々駆
動する複数のスイッチング素子、前記２つの絶縁性基板
の距離を一定に保つためのスペーサ、及び前記画素電極
上に形成される配向膜を少なくとも有するアクティブマ
トリックス型液晶表示素子であって、 前記スペーサの形状は楕円柱状であり、かつ、スペーサ
の高さをＨ（μｍ）、スペーサの長径をａ（μｍ）、ス
ペーサの短径をｂ（μｍ）、前記遮光層の幅をＤ（μ
ｍ）とした場合、 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｄ） の条件を満たす形状に形成される、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項１１】互いに対向して配置されて間に液晶を挟
持する２つの絶縁性基板と、 ストライプ状に配置された複数の電極の一群が前記２つ
の絶縁性基板各々の内向する面に夫々設けられ、かつ、
両電極群同士の電極の延在方向が互いに交差するように
配置される表示電極と、 前記絶縁基板間の距離を一定に保つためのスペーサと、 前記表示電極上に形成される配向膜と、を少なくとも有
する単純マトリックス型液晶表示素子であって、 前記スペーサの形状が楕円柱状であり、スペーサの高さ
をＨ（μｍ）、スペーサの長径をａ（μｍ）、スペーサ
の短径をｂ（μｍ）、前記表示電極間の同一基板上での
間隔をＷ（μｍ）とした場合、 （２×Ｈ）≦ｂ＜ａ≦（（２）1/2 ×Ｗ） の条件を満たす形状に形成される、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項１２】前記スペーサの長径方向が、前記配向膜
の配向処理方向と略同方向である、 ことを特徴とする請求項１０又は１１記載の液晶表示素
子。 - 【請求項１３】前記スペーサの長径方向が、液晶表示素
子の液晶注入口から液晶表示素子内に流入する液晶の流
れの方向に沿って定められる、 ことを特徴とする請求項１０又は１１記載の液晶表示素
子。 - 【請求項１４】前記スペーサの長径方向が、液晶表示素
子の液晶注入口の位置する方向を向くように定められ
る、 ことを特徴とする請求項１０又は１１記載の液晶表示素
子。 - 【請求項１５】前記スペーサが前記絶縁基板上の１平方
ミリメートル当たりに占める、前記絶縁基板と平行な面
における断面積の合計が、０．０００１平方ミリメート
ルを越え、０．００２平方ミリメートル未満である、 ことを特徴とする請求項１０乃至１４のいずれかに記載
の液晶表示素子。 - 【請求項１６】前記スペーサが、カラーフィルタと同一
材料、かつ、同時に形成されたものであることを特徴と
する請求項１０乃至１５のいずれかに記載の液晶表示素
子。 - 【請求項１７】液晶を介して対向配置される２枚の絶縁
性基板の間に液晶を挟持し、前記基板の何れか一方の前
記液晶側の面に、透明電極と、遮光層と、カラーフィル
タと、前記２枚の基板間の距離を一定に保つためのスペ
ーサと、を少なくとも有する液晶表示素子であって、 前記スペーサの形状が、前記スペーサの高さをＨ（μ
ｍ）、前記スペーサの最大幅をａ（μｍ）、前記スペー
サの最小幅をｂ（μｍ）、前記遮光層の幅をＤ（μｍ）
とした場合、 Ｈ≦ｂ≦Ｄ＜ａ の条件を満たす用に形成される、 ことを特徴とする液晶表示素子。 - 【請求項１８】前記スペーサが、カラーフィルタと同一
材料、かつ、同時に形成される、 ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22952695A JP3638346B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 液晶表示素子 |
| TW085110746A TW373098B (en) | 1995-09-06 | 1996-09-03 | Liquid crystal exposure component and its fabricating method |
| US08/708,485 US5978061A (en) | 1995-09-06 | 1996-09-05 | Liquid crystal display device |
| KR1019960039204A KR100227692B1 (ko) | 1995-09-06 | 1996-09-06 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
| US09/388,945 US6445437B1 (en) | 1995-09-06 | 1999-09-02 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22952695A JP3638346B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 液晶表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0973088A true JPH0973088A (ja) | 1997-03-18 |
| JP3638346B2 JP3638346B2 (ja) | 2005-04-13 |
Family
ID=16893557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22952695A Expired - Lifetime JP3638346B2 (ja) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
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- 1995-09-06 JP JP22952695A patent/JP3638346B2/ja not_active Expired - Lifetime
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